WO2015174686A1 - Touch panel - Google Patents

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WO2015174686A1
WO2015174686A1 PCT/KR2015/004581 KR2015004581W WO2015174686A1 WO 2015174686 A1 WO2015174686 A1 WO 2015174686A1 KR 2015004581 W KR2015004581 W KR 2015004581W WO 2015174686 A1 WO2015174686 A1 WO 2015174686A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
trace
pattern
touch panel
sensing pattern
metal
Prior art date
Application number
PCT/KR2015/004581
Other languages
French (fr)
Korean (ko)
Inventor
안기환
백성호
임정구
Original Assignee
동우화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the present invention relates to a touch panel.
  • the touch panel is a screen panel equipped with a special input device that receives a position when touched by hand.
  • These touch panels can receive input data directly from the screen so that when a person's hand or object touches a character or a specific location on the screen without using a keyboard, the location can be detected and processed by the stored software.
  • it is configured to be laminated in multiple layers.
  • the use of the transparent sensing electrode is essential, and typically, a transparent sensing electrode formed in a predetermined pattern is used.
  • Various transparent sensing electrode structures used in the touch panel have been introduced, and examples thereof include glass-ITO film-ITO film (GFF), glass-ITO film (G1F), and glass-only (G2) structures. .
  • a structure shown in FIG. 1 may be cited as a conventional transparent sensing electrode structure.
  • the transparent sensing electrode may be formed of the first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20.
  • the first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20 are disposed in different directions to provide information about the X and Y coordinates of the touched point. Specifically, when a person's hand or an object comes into contact with the transparent substrate, a change in capacitance according to the contact position is caused to the driving circuit via the first sensing pattern 10, the second sensing pattern 20, and the position detecting line. Delivered. Then, the contact position is grasped by the change of the capacitance converted into an electrical signal by the X and Y input processing circuit (not shown) or the like.
  • the first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20 are formed on the same substrate, and each pattern must be electrically connected to sense a touched point.
  • the second sensing patterns 20 are connected to each other, but the first sensing patterns 10 are separated in an island form, a separate connection is required to electrically connect the first sensing patterns 10.
  • An electrode (bridge) 50 is required.
  • connection electrode 50 should not be electrically connected to the second sensing pattern 20, the connection electrode 50 should be formed on a different layer from the second sensing pattern 20.
  • FIG. 2 an enlarged view of a portion where the connection electrode 50 is formed in the A-A 'cross section of FIG. 1 is shown in FIG. 2.
  • the first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20 are electrically insulated from each other by the insulating layer 30 formed thereon. As described above, since the first sensing pattern 10 needs to be electrically connected, the first sensing pattern 10 may be electrically connected using the connection electrode 50.
  • connection electrode 50 In order to connect the first sensing pattern 10 separated in an island form with the connection electrode 50 while being electrically disconnected from the second sensing pattern 20, a contact hole 40 is formed on the insulating layer 30. Afterwards, it is necessary to go through the step of forming a separate connection electrode (50).
  • the transparent sensing electrode having the connection electrode 50 separately requires a separate process for forming the contact hole 40 and the connection electrode 50, and the first sensing pattern 10 and the 2 may cause a problem that the sensing pattern 20 is electrically shorted, there is a problem that the electrical conductivity is reduced due to the contact resistance between the connection electrode and the sensing pattern.
  • Korean Laid-Open Patent Publication No. 2010-84263 proposes a structure in which an insulating layer and a contact hole are formed after forming a connection electrode on a substrate first, and then a first sensing pattern and a second sensing pattern are formed. To solve this problem, the number of masks and the complexity of the process were solved.
  • Korean Patent Publication No. 2010-84263 also has to provide a separate connection electrode, it does not fundamentally solve the above problems.
  • Patent Document 1 Korean Patent Publication No. 2010-84263
  • An object of the present invention is to provide a touch panel having a high electrical conductivity.
  • Another object of the present invention is to provide a touch panel with low visibility according to the difference in reflectance for each location.
  • a touch panel disposed on the viewer side of the display panel
  • a sensing pattern formed on one side of the viewer's side of the substrate is formed on one side of the viewer's side of the substrate
  • the touch panel of claim 1 wherein the display panel comprises a first black matrix layer defining an inter pixel boundary.
  • the sensing pattern is disposed spaced apart into a plurality of unit sensing patterns
  • the trace extends from each unit sensing pattern to the nearest bezel portion to connect the sensing pattern with the pad portion on the bezel portion.
  • the touch panel of claim 1 further comprising a second black matrix layer disposed adjacent to a trace and a sensing pattern on an upper side of the inter-pixel boundary corresponding area of the one surface.
  • the sensing pattern and the trace independently of each other indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO) and cadmium tin oxide (CTO) Touch panel formed of at least one material selected from the group consisting of.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • ZnO zinc oxide
  • IZTO indium zinc oxide
  • CTO cadmium tin oxide
  • the touch panel of claim 1 wherein the sensing pattern and the trace have a thickness of 10 to 150 nm independently of each other.
  • the metal auxiliary pattern is formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or alloys thereof, the touch panel.
  • the touch panel is a third black matrix layer or a metal oxide layer.
  • the metal oxide is an oxide of at least one metal selected from the group consisting of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, and niobium.
  • the touch panel 10. In the above 8, wherein the metal oxide layer has a refractive index of 1.0 to 3.1, the touch panel.
  • the touch panel 11. In the above 8, wherein the metal oxide layer has a thickness of 15 to 100nm, the touch panel.
  • the sensing pattern is formed to be spaced apart from the plurality of unit sensing patterns,
  • the trace extends from each unit sensing pattern to a nearest bezel portion to connect the sensing pattern with a driving circuit on the bezel portion.
  • the sensing pattern and the trace are indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO) and cadmium tin oxide (CTO), respectively Forming from at least one material selected from the group consisting of, the manufacturing method of the touch panel.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • ZnO zinc oxide
  • IZTO indium zinc oxide
  • CTO cadmium tin oxide
  • the metal auxiliary pattern is formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or alloys thereof, the method of manufacturing a touch panel.
  • the light blocking layer is an oxide of one or more metals selected from the group consisting of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium and niobium on the metal auxiliary pattern
  • the touch panel of the present invention may be provided with a metal auxiliary pattern to increase the electrical conductivity of the sensing pattern to implement improved touch sensitivity.
  • the touch panel of the present invention exhibits a markedly improved transmittance by arranging the metal auxiliary pattern on the black matrix on the pixel portion.
  • the touch panel of the present invention can minimize the visibility problem according to the difference in reflectance for each position.
  • 1 is a schematic plan view of a conventional transparent sensing electrode.
  • FIG. 2 is a schematic vertical cross-sectional view of a conventional transparent sensing electrode.
  • FIG 3 is a schematic vertical cross-sectional view of a touch panel according to an embodiment of the present invention disposed on one surface of a display panel.
  • FIG. 4 is a plan view schematically illustrating an arrangement of a metal auxiliary pattern and a sensing pattern in a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic vertical cross-sectional view of a touch panel according to an embodiment of the present invention disposed on one surface of a display panel.
  • FIG. 6 is a schematic vertical cross-sectional view of the laminate of Preparation Examples 1 to 4.
  • FIG. 6 is a schematic vertical cross-sectional view of the laminate of Preparation Examples 1 to 4.
  • FIG. 7 is a schematic vertical cross-sectional view of the laminate of Preparation Example 5.
  • the present invention is a touch panel disposed on the viewer side of the display panel, the sensing pattern formed on one surface of the viewer side of the substrate, disposed above the boundary corresponding area between pixels of the display panel on the one surface, and connecting the sensing pattern to the pad unit.
  • the present invention relates to a touch panel that can exhibit improved touch sensitivity and excellent transmittance as well as minimize visibility problems.
  • FIG. 3 and 5 are schematic vertical cross-sectional views of a touch panel according to an embodiment of the present invention disposed on one surface of a display panel
  • FIG. 4 schematically illustrates the arrangement of a metal auxiliary pattern and a sensing pattern in a touch panel according to an embodiment. It is a top view shown by.
  • the touch panel 200 of the present invention is disposed on the viewer side of the display panel 100.
  • the display panel 100 is not particularly limited and may be a liquid crystal panel, an OLED panel, or the like commonly used in the art.
  • the OLED panel may be an RGB OLED panel having red, green, or blue light emitting diodes or a WHITE OLED panel having a white light emitting diode.
  • the display panel 100 When the display panel 100 is a liquid crystal panel or a white OLED panel, the display panel 100 includes a color filter having a color pattern, and the red, green, and blue color patterns are arranged to correspond to the red, green, and blue sub-pixels, respectively, to implement colors. have.
  • red, green, and blue light emitting diodes are disposed to correspond to red, green, and blue sub-pixels, respectively, to implement colors.
  • the display panel 100 may include a first black matrix layer (not shown) that defines a boundary between pixels.
  • the first black matrix layer defines a boundary between each pixel and each sub-pixel, and improves contrast.
  • the display panel 100 according to the present invention may further include a configuration that is commonly used in the art.
  • the touch panel 200 includes a sensing pattern 220 formed on one side of the viewer side of the substrate 210.
  • the sensing pattern 220 provides information about the X coordinate and the Y coordinate of the touched point. Specifically, when a person's hand or an object comes into contact, a change in capacitance depending on the contact position is transmitted to the driving circuit via the sensing pattern 220, the trace 230, and a pad unit (not shown). Then, the contact position is grasped by the change of the capacitance converted into an electrical signal by the X and Y input processing circuit (not shown) or the like.
  • the pad part may be positioned on one side of the viewer side of the substrate 210 and include one or more pads (not shown) connected to each trace 230 and a flexible circuit board (not shown).
  • the sensing pattern 220 may be applied to a transparent electrode material known in the art without limitation.
  • a transparent electrode material known in the art without limitation.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • ZnO zinc oxide
  • IZTO indium zinc tin oxide
  • CTO cadmium tin oxide
  • PEDOT poly (3,4-ethylenedioxythiophene)
  • Carbon nanotubes CNT
  • graphene grapheme
  • the thickness of the sensing pattern 220 is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 150 nm independently of each other. If the thickness is less than 10nm, the resistance may be high and the touch sensitivity may be lowered. If the thickness is greater than 150nm, the transmittance may be lowered to increase power consumption.
  • the substrate 210 may be a material that is commonly used in the art without limitation, for example, glass, polyethersulphone (PES), polyacrylate (PAR, polyacrylate), polyether imide (PEI, polyetherimide, polyethylene naphthalate (PEN, polyethyelenen napthalate), polyethylene terephthalate (PET, polyethyelene terepthalate), polyphenylene sulfide (PPS), polyallylate, polyimide, polycarbonate ( PC, polycarbonate), cellulose tri acetate (TAC), cellulose acetate propionate (CAP), and the like.
  • PES polyethersulphone
  • PAR polyacrylate
  • PEI polyether imide
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PET polyethyelene terepthalate
  • PPS polyphenylene sulfide
  • PC polycarbonate
  • TAC cellulose tri acetate
  • CAP cellulose acetate propionate
  • the substrate 210 may be one surface of the viewer side of the display panel 100.
  • the trace 230 is disposed above the boundary corresponding area between pixels of the display panel 100 on the one surface, and connects the sensing pattern 220 to the driving circuit.
  • a metal auxiliary pattern 240 which will be described later, is formed on the trace 230.
  • the metal may reflect internal light from a light source of the display device to reduce transmittance of the display device.
  • the trace 230 according to the present invention is disposed above the inter-pixel boundary corresponding region of the display panel 100, and the inter-pixel boundary corresponding region of the display panel 100 is the first black matrix layer (not shown).
  • the transmittance decrease problem caused by the metal auxiliary pattern 240 does not occur.
  • the arrangement between the unit sensing patterns 220 and the arrangement or direction of the traces 230 connecting the unit sensing patterns 220 to the pad unit are not particularly limited, and are considered in consideration of sheet resistance, touch sensitivity, and the like. May be appropriately selected.
  • the sensing pattern 220 is disposed to be spaced apart from the plurality of unit sensing patterns 220, and the trace 230 extends from each unit sensing pattern 220 to the nearest bezel part, so that the sensing part is detected on the bezel part.
  • the pattern 220 may be connected to the driving circuit.
  • the touch panel 200 When the touch panel 200 is applied to an image display device, the touch panel 200 is divided into a display unit, which is an area where an image is displayed, and a bezel unit, which is an edge area where an image is not displayed. ) Is formed in the display portion, and a circuit or the like is formed in the bezel portion.
  • the trace 230 extends from each unit sensing pattern 220 to the nearest bezel portion, the length of the trace formed on the display portion is shortened, thereby lowering the resistance, thereby improving touch sensitivity.
  • the uppermost row of the sensing patterns 220 are illustrated as extending the metal wires to the left and right bezel portions. However, when the upper bezel portions are closer to each other than the bezel portions on the left and right sides, The wiring may extend to the upper bezel portion.
  • the touch panel according to the present invention is adjacent to the trace 230 and the sensing pattern 220 above the boundary corresponding area between the pixels of the display panel 100 on one side of the viewer 210 of the viewer 210. It may further include a second black matrix layer 260 disposed.
  • the second black matrix layer 260 may be selectively included with the first black matrix layer (not shown) of the display panel 100. Like the first black matrix layer (not shown), the second black matrix layer 260 serves to improve contrast.
  • the trace 230 may be applied to a transparent electrode material known in the art without limitation.
  • a transparent electrode material known in the art without limitation.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • ZnO zinc oxide
  • IZTO indium zinc tin oxide
  • CTO cadmium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • the thickness of the trace 230 is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 150 nm. If the thickness is less than 10nm, the resistance may be high and the touch sensitivity may be lowered. If the thickness is greater than 150nm, the transmittance may be lowered to increase power consumption.
  • a metal auxiliary pattern 240 is formed on the trace 230.
  • ITO Indium tin oxide
  • the touch panel 200 of the present invention may be provided with the metal auxiliary pattern 240 to implement excellent electrical conductivity.
  • the thickness of the metal auxiliary pattern 240 is not particularly limited, and may be, for example, 10 nm to 1,000 nm. If the thickness is less than 10 nm, the resistance may be high, and if it is more than 1,000 nm, the manufacturing cost may increase.
  • the metal auxiliary pattern 240 according to the present invention is formed of a metal material.
  • a metal material for example, molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or alloys thereof.
  • the transmittance of the touch panel may be reduced by reflecting light from the light source.
  • the trace 230 is disposed above the boundary correspondence region between the pixels of the display panel, the metal auxiliary pattern The problem of lowering transmittance by 240 does not occur.
  • the touch sensitivity may be improved by lowering the resistance.
  • the light blocking layer 250 is formed on the metal auxiliary pattern 240.
  • the metal auxiliary pattern 240 When the metal auxiliary pattern 240 is disposed on the trace 230, since the metal has a high reflectance, the metal auxiliary pattern 240 may be recognized by reflecting light from the outside.
  • the touch panel according to the present invention may be a metal auxiliary pattern.
  • the light blocking layer 250 is formed on the pattern 240 to minimize the visibility problem of the metal auxiliary pattern 240.
  • the light blocking layer 250 may be a third black matrix layer or a metal oxide layer.
  • the light blocking layer 250 is a third black matrix layer, it is used for forming a black matrix layer including colorants, alkali-soluble resin binders, polyfunctional monomers, photopolymerization initiators, surfactants, solvents, and other additives commonly used in the art.
  • the composition may be formed by applying and curing the composition on the metal auxiliary pattern 240.
  • the light blocking layer 250 is a metal oxide layer
  • it may be formed of a metal oxide known in the art, for example, made of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, and niobium. It may be formed of an oxide of one or more metals selected from the group.
  • the metal oxide layer preferably has a refractive index of 1.0 to 3.1 in terms of minimizing the visibility of the metal auxiliary pattern 240. In such a case, even when a transparent metal oxide other than black is used, the visibility of the metal auxiliary pattern 240 may be minimized regardless of the color.
  • the thickness of the light blocking layer 250 is not particularly limited.
  • the thickness of the light blocking layer 250 may be 10 to 100 nm. If the thickness of the metal oxide layer is less than 10 nm or more than 100 nm, the metal auxiliary pattern 240 may be viewed due to high reflectance.
  • the light blocking layer 250 may have a thickness of about 10 nm to about 5,000 nm. If the thickness of the black matrix layer is less than 10 nm, the metal auxiliary pattern 240 may be visually recognized. If the thickness of the black matrix layer is greater than 5,000 nm, the thickness and the production cost of the touch panel may increase.
  • the metal auxiliary pattern 240 may be formed on the sensing pattern 220. Even in such a case, the metal auxiliary pattern 240 may be disposed above the boundary corresponding area between pixels of the display panel, and may be formed in the above-described material and thickness range. Similarly, the light blocking layer 250 is also formed on the metal auxiliary pattern 240 in the above-described material and thickness range.
  • the touch sensitivity may be further improved, and when connected to the metal auxiliary pattern 240 formed on the trace 230, the touch sensitivity may be improved. Can be maximized.
  • the present invention also provides a method for manufacturing a touch panel.
  • the sensing pattern 220 is formed on one surface of the viewer 210 of the viewer 210.
  • the material of the substrate 210 is not particularly limited, and may be, for example, the substrate 210 formed of a material within the aforementioned range.
  • the method of forming the sensing pattern 220 is not particularly limited, and a method known in the art may be applied.
  • various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) may be used. It can be formed by. For example, it may be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition. Or it may be formed using a photolithography method.
  • the sensing pattern 220 may be applied to a transparent electrode material known in the art without limitation.
  • a transparent electrode material known in the art without limitation.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • ZnO zinc oxide
  • IZTO indium zinc tin oxide
  • CTO cadmium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • the thickness of the sensing pattern 220 is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 150 nm. If the thickness of the sensing pattern 220 is less than 10 nm, the resistance may be high, and thus the touch sensitivity may be lowered. If the thickness of the sensing pattern 220 is greater than 150 nm, the transmittance may be decreased to increase power consumption.
  • a trace 230 for connecting the sensing pattern 220 to the pad part is formed on the one surface.
  • the sensing pattern 220 is formed to be spaced apart from the plurality of unit sensing patterns 220, and the traces 230 are adjacent to the bezel part from each unit sensing pattern 220. It may extend to connect the sensing pattern 220 to the driving circuit on the bezel. In such a case, the length of the trace formed on the display portion is shortened, thereby lowering the resistance, thereby improving touch sensitivity.
  • the trace 230 may be formed of the same material as the sensing pattern 220, and in such a case, may be simultaneously formed in one process.
  • a metal auxiliary pattern 240 is formed on the trace 230.
  • ITO Indium tin oxide
  • the touch panel of the present invention may be provided with the metal auxiliary pattern 240 to implement excellent electrical conductivity.
  • the method of forming the metal auxiliary pattern 240 is not particularly limited, and a method known in the art may be applied.
  • various thin film deposition methods such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) may be performed.
  • PVD physical vapor deposition
  • CVD chemical vapor deposition
  • it may be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition.
  • it may be formed using a photolithography method.
  • the thickness of the metal auxiliary pattern 240 is not particularly limited, and may be, for example, 10 nm to 1,000 nm. If the thickness is less than 10nm, the resistance is high, the touch sensitivity may be lowered, and if it is more than 1,000nm, the manufacturing cost may increase.
  • the light blocking layer 250 is formed on the metal auxiliary pattern 240.
  • the metal auxiliary pattern 240 When the metal auxiliary pattern 240 is disposed on the sensing pattern 220, since the metal has a high reflectance, the metal auxiliary pattern 240 may be recognized by reflecting light from the outside, but the touch panel according to the present invention may be made of metal. By forming the light blocking layer 250 on the auxiliary pattern 240, the visibility problem of the metal auxiliary pattern 240 may be minimized.
  • the light blocking layer 250 may be a third black matrix layer or a metal oxide layer.
  • the light blocking layer 250 is a third black matrix layer, it is used for forming a black matrix layer including colorants, alkali-soluble resin binders, polyfunctional monomers, photopolymerization initiators, surfactants, solvents, and other additives commonly used in the art.
  • the composition may be formed by applying and curing the metal auxiliary pattern 240, but is not limited thereto.
  • the light blocking layer 250 is a metal oxide layer, it may be formed by depositing a metal oxide on the metal auxiliary pattern 240 or by oxidizing the surface of the metal auxiliary pattern 240, but is not limited thereto.
  • the light blocking layer 250 is a metal oxide layer
  • a metal oxide known in the art may be used, and for example, molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, and niobium may be used.
  • the oxide of the 1 or more types of metal chosen from is mentioned.
  • the metal oxide layer preferably has a refractive index of 1.0 to 3.1 in terms of minimizing the visibility of the metal auxiliary pattern 240. In such a case, even when a transparent metal oxide other than black is used, the visibility of the metal auxiliary pattern 240 may be minimized regardless of the color.
  • the thickness of the light blocking layer 250 is not particularly limited.
  • the light blocking layer 250 when the light blocking layer 250 is a metal oxide layer, the light blocking layer 250 may be 15 to 100 nm. If the thickness of the metal oxide layer is less than 15 nm or more than 100 nm, the metal auxiliary pattern 240 may be viewed.
  • the thickness may be 20 to 5,000 nm.
  • the auxiliary metal pattern 240 may be visually recognized. If the thickness of the black matrix layer is greater than 5,000 nm, the thickness and the production cost of the touch panel may increase.
  • the touch panel 200 manufactured by including the above steps is disposed such that the traces 230 are positioned above the boundary corresponding area between pixels of the display panel 100.
  • the transmittance of the display device may be reduced by reflecting the internal light from the light source of the display device.
  • the touch panel 200 is disposed on one side of the viewer side of the display panel 100 such that the trace 230 is positioned above the inter-pixel boundary corresponding area of the display panel 100.
  • the region corresponding to the boundary between pixels of the display panel 100 is a region where the internal light is not transmitted through the first black matrix layer (not shown) or the second black matrix layer 260 described later. ), There is no problem of a decrease in transmittance.
  • the present invention may further include forming a second black matrix layer 260 in contact with the trace 230 and the sensing pattern 220 above the inter-pixel boundary corresponding area of the display panel 100.
  • the second black matrix layer 260 may be selectively included with the first black matrix layer (not shown). Like the first black matrix layer (not shown), the second black matrix layer 260 serves to improve contrast.
  • the second black matrix layer 260 and the third black matrix layer may be formed in the same process.
  • the process efficiency is remarkably increased by simultaneously forming them in one process. It can be improved.
  • the specific method is not particularly limited and may be, for example, a method of applying the composition for forming the black matrix layer on the upper side of the inter-pixel boundary corresponding region and the metal auxiliary pattern of the display panel.
  • touch panel may be formed through additional processes known in the art.
  • the sensing pattern 220 is formed on one side of the viewer side of the display panel 100.
  • the sensing pattern 220 may be formed by the same method as described above, and may be formed of a thickness and a material in the above-described range.
  • the display panel 100 may further include a separate substrate 210 on one side of the viewer.
  • the substrate 210 may be a substrate 210 having a material in the above range.
  • a trace 230 for connecting the sensing pattern 220 to the pad part is formed on an upper side of the pixel corresponding area between the pixels of the display panel 100.
  • the trace 230 may be formed by the same method as described above, and may be formed of a thickness and a material in the aforementioned range.
  • the trace 230 may be formed of the same material as the sensing pattern 220, and in this case, the sensing pattern 220 and the trace 230 may be simultaneously formed in one process.
  • the metal auxiliary pattern 240 is formed on the trace 230.
  • the metal auxiliary pattern 240 may be formed using a method, a thickness, and a material in the above-described range.
  • the light blocking layer 250 is formed on the metal auxiliary pattern 240.
  • the light blocking layer 250 is a third black matrix layer or a metal oxide layer, and may be formed using a method, a thickness, and a material in the above-described range.
  • the method may further include forming a second black matrix layer 260 in contact with the trace 230 and the sensing pattern 220 above the inter-pixel boundary corresponding area of the display panel 100.
  • the second black matrix layer 260 may be selectively included with the first black matrix layer (not shown). Like the first black matrix layer (not shown), the second black matrix layer 260 serves to improve contrast.
  • the second black matrix layer 260 and the third black matrix layer may be formed in the same process.
  • the process efficiency is remarkably increased by simultaneously forming them in one process. It can be improved.
  • touch panel may be formed through additional processes known in the art.
  • a pattern was formed of 35 nm thick indium tin oxide (ITO) (refractive index 1.89) on a glass substrate (refractive index: 1.51), and a metal pattern of 300 nm thick was formed on moltendenum (refractive index 3.78) on the ITO pattern. Thereafter, a light blocking layer was formed of niobium oxide (Nb 2 O 5 , a refractive index of 2.28) on the metal pattern to prepare a laminate shown in FIG. 6.
  • ITO indium tin oxide
  • a pattern was formed of 35 nm thick indium tin oxide (ITO) (refractive index 1.89) on a glass substrate (refractive index 1.51), and a metal pattern of 300 nm thick was formed on moltendenum (refractive index 3.78) on the ITO pattern.
  • ITO indium tin oxide
  • a laminate shown in FIG. 6 was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, except that the light blocking layer was formed of Al 2 O 3 to Al 2 O 5 (refractive index 1.66).
  • a laminate shown in FIG. 6 was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, except that the light blocking layer was formed of Cu 2 O to Cu 4 O (refractive index 3.10).
  • a laminate as shown in FIG. 7 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the light blocking layer was not formed.
  • Reference Examples 1 to 15 were prepared to measure the resistance of the ITO pattern.
  • the laminate was deposited on a glass substrate with an ITO pattern having a thickness of 5 cm x 30 ⁇ m, and a molybdenum pattern was deposited with a thickness as shown in Table 1 below.
  • the reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm at the A position shown in FIGS. 6 and 7 was measured by ST-4000 (KMAC).
  • the laminate of Production Example 5 had a very high reflectance at the A position.
  • trace 240 metal auxiliary pattern

Landscapes

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Abstract

The present invention relates to a touch panel and, more particularly, to a touch panel arranged on the visible side of a display panel, the touch panel comprising: a sensing pattern formed on one surface on the visible side of a substrate; a trace arranged on the one surface above an area, which corresponds to an inter-pixel boundary of the display panel, so as to connect the sensing pattern with a pad portion; a metal auxiliary pattern formed on the trace; and a light shielding layer formed on the metal auxiliary pattern, the touch panel thereby not only exhibiting improved touch sensitivity and excellent transmittance, but also being able to minimize the problem of visibility.

Description

터치 패널Touch panel
본 발명은 터치 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel.
통상적으로 터치 패널은 손으로 접촉(touch)하면 그 위치를 입력 받도록 하는 특수한 입력장치를 장착한 스크린 패널이다. 이러한 터치 패널은 키보드를 사용하지 않고 스크린에 나타난 문자나 특정 위치에 사람의 손 또는 물체가 닿으면, 그 위치를 파악하여 저장된 소프트웨어에 의해 특정 처리를 할 수 있도록, 화면에서 직접 입력자료를 받을 수 있게 한 것으로 다층으로 적층되어 구성된다.Typically, the touch panel is a screen panel equipped with a special input device that receives a position when touched by hand. These touch panels can receive input data directly from the screen so that when a person's hand or object touches a character or a specific location on the screen without using a keyboard, the location can be detected and processed by the stored software. In this case, it is configured to be laminated in multiple layers.
스크린에 표시되는 영상의 시인성을 저하시키지 않으면서 터치된 부분을 인식하기 위해서는 투명 감지 전극의 사용이 필수적이며, 통상적으로 소정의 패턴으로 형성된 투명 감지 전극이 사용된다.In order to recognize the touched portion without degrading the visibility of the image displayed on the screen, the use of the transparent sensing electrode is essential, and typically, a transparent sensing electrode formed in a predetermined pattern is used.
터치 패널에 사용되는 투명 감지 전극 구조에는 여러가지가 소개되어 있으며, 예를 들면, GFF(Glass-ITO film-ITO film), G1F(Glass-ITO film), G2(Glass only) 구조 등을 들 수 있다.Various transparent sensing electrode structures used in the touch panel have been introduced, and examples thereof include glass-ITO film-ITO film (GFF), glass-ITO film (G1F), and glass-only (G2) structures. .
예를 들면, 종래 투명 감지 전극 구조로 도 1에 도시된 구조를 들 수 있다.For example, a structure shown in FIG. 1 may be cited as a conventional transparent sensing electrode structure.
투명 감지 전극은 제1 감지 패턴(10)과 제2 감지 패턴(20)으로 형성될 수 있다. 제1 감지 패턴(10)과 제2 감지 패턴(20)은 서로 다른 방향으로 배치되어, 터치되는 지점의 X 좌표 및 Y 좌표에 대한 정보를 제공하게 된다. 구체적으로는, 사람의 손 또는 물체가 투명 기판에 접촉되면, 제1 감지 패턴(10), 제2 감지 패턴(20) 및 위치 검출라인을 경유하여 구동회로 측으로 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달된다. 그리고, X 및 Y 입력처리회로(미도시) 등에 의해 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 의해 접촉위치가 파악된다.The transparent sensing electrode may be formed of the first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20. The first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20 are disposed in different directions to provide information about the X and Y coordinates of the touched point. Specifically, when a person's hand or an object comes into contact with the transparent substrate, a change in capacitance according to the contact position is caused to the driving circuit via the first sensing pattern 10, the second sensing pattern 20, and the position detecting line. Delivered. Then, the contact position is grasped by the change of the capacitance converted into an electrical signal by the X and Y input processing circuit (not shown) or the like.
이와 관련하여, 제1 감지 패턴(10) 및 제2 감지 패턴(20)은 동일한 기판 상에 형성되며, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는 각 패턴들은 전기적으로 연결되어야 한다. 그런데, 제2 감지 패턴(20)은 서로 연결된 형태이지만 제1 감지 패턴(10)은 섬(island) 형태로 분리된 구조로 되어 있으므로 제1 감지 패턴(10)을 전기적으로 연결하기 위해서는 별도의 연결 전극(브릿지)(50)이 필요하다. In this regard, the first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20 are formed on the same substrate, and each pattern must be electrically connected to sense a touched point. However, since the second sensing patterns 20 are connected to each other, but the first sensing patterns 10 are separated in an island form, a separate connection is required to electrically connect the first sensing patterns 10. An electrode (bridge) 50 is required.
하지만, 상기 연결 전극(50)은 제2 감지 패턴(20)과 전기적으로 연결되어서는 안되므로, 제2 감지 패턴(20)과는 다른 층에 형성되어야 한다. 이러한 구조를 나타내기 위해, 도 1의 A-A' 단면 중 연결 전극(50)이 형성된 부분의 확대도를 도 2에 도시하였다.However, since the connection electrode 50 should not be electrically connected to the second sensing pattern 20, the connection electrode 50 should be formed on a different layer from the second sensing pattern 20. In order to show such a structure, an enlarged view of a portion where the connection electrode 50 is formed in the A-A 'cross section of FIG. 1 is shown in FIG. 2.
도 2를 참고하면, 제1 감지 패턴(10)과 제2 감지 패턴(20)은 그 위에 형성된 절연막(30)으로 서로 전기적으로 절연되어 있는 상태이다. 그리고, 전술한 바와 같이 제1 감지 패턴(10)은 전기적으로 연결될 필요가 있으므로, 연결 전극(50)을 사용하여 전기적으로 연결된다.Referring to FIG. 2, the first sensing pattern 10 and the second sensing pattern 20 are electrically insulated from each other by the insulating layer 30 formed thereon. As described above, since the first sensing pattern 10 needs to be electrically connected, the first sensing pattern 10 may be electrically connected using the connection electrode 50.
섬 형태로 분리된 제1 감지 패턴(10)을 제2 감지 패턴(20)과는 전기적으로 차단되면서도 연결 전극(50)으로 연결하기 위해서는, 절연막(30) 상에 콘택홀(40)을 형성한 후에, 별도의 연결 전극(50)을 형성하는 단계를 거칠 필요가 있다. In order to connect the first sensing pattern 10 separated in an island form with the connection electrode 50 while being electrically disconnected from the second sensing pattern 20, a contact hole 40 is formed on the insulating layer 30. Afterwards, it is necessary to go through the step of forming a separate connection electrode (50).
이와 같이 연결 전극(50)을 별도로 구비하는 투명 감지 전극은, 콘택홀(40) 및 연결 전극(50)을 형성하기 위한 별도의 공정이 필요하고, 제조 공정 중에 제1 감지 패턴(10) 및 제2 감지 패턴(20)이 전기적으로 단락되는 문제가 발생할 수도 있으며, 연결 전극과 감지 패턴 간의 콘택 저항으로 인해 전기 전도도가 저하되는 문제가 있다.As such, the transparent sensing electrode having the connection electrode 50 separately requires a separate process for forming the contact hole 40 and the connection electrode 50, and the first sensing pattern 10 and the 2 may cause a problem that the sensing pattern 20 is electrically shorted, there is a problem that the electrical conductivity is reduced due to the contact resistance between the connection electrode and the sensing pattern.
이러한 문제를 해결하기 위해, 한국공개특허 제2010-84263호는 또는 기판 상에 연결 전극을 먼저 형성한 후에 절연막 및 콘택홀을 형성하고 제1 감지 패턴 및 제2 감지 패턴을 형성하는 구조를 제안하여, 마스크 수 및 공정의 복잡성을 해결하고자 하였다. In order to solve this problem, Korean Laid-Open Patent Publication No. 2010-84263 proposes a structure in which an insulating layer and a contact hole are formed after forming a connection electrode on a substrate first, and then a first sensing pattern and a second sensing pattern are formed. To solve this problem, the number of masks and the complexity of the process were solved.
그러나, 한국공개특허 제2010-84263호 역시 별도의 연결 전극을 구비해야 하므로, 전술한 문제점을 근본적으로 해결하지는 못한다.However, Korean Patent Publication No. 2010-84263 also has to provide a separate connection electrode, it does not fundamentally solve the above problems.
[선행기술문헌][Preceding technical literature]
[특허문헌][Patent Documents]
(특허문헌 1) 한국공개특허 제2010-84263호(Patent Document 1) Korean Patent Publication No. 2010-84263
본 발명은 높은 전기 전도도를 갖는 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a touch panel having a high electrical conductivity.
또한, 본 발명은 개선된 투과율을 갖는 터치 패널을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a touch panel having an improved transmittance.
또한, 본 발명은 위치별 반사율 차이에 따른 시인성이 적은 터치 패널을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.In addition, another object of the present invention is to provide a touch panel with low visibility according to the difference in reflectance for each location.
1. 디스플레이 패널의 시인측에 배치되는 터치 패널로서,1. A touch panel disposed on the viewer side of the display panel,
기판의 시인측 일면에 형성된 감지 패턴,A sensing pattern formed on one side of the viewer's side of the substrate,
상기 일면에서 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 배치되며, 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는 트레이스,A trace disposed on an upper side of a boundary correspondence region between pixels of the display panel and connecting the sensing pattern to a pad part;
상기 트레이스 상에 형성된 금속 보조 패턴, 및A metal auxiliary pattern formed on the trace, and
상기 금속 보조 패턴 상에 형성된 광차단층을 포함하는, 터치 패널.And a light blocking layer formed on the metal auxiliary pattern.
2. 위 1에 있어서, 상기 디스플레이 패널은 화소간 경계를 정의하는 제1 블랙매트릭스층을 포함하는, 터치 패널.2. The touch panel of claim 1, wherein the display panel comprises a first black matrix layer defining an inter pixel boundary.
3. 위 1에 있어서, 3. In the above 1,
상기 감지 패턴은 복수개의 단위 감지 패턴으로 이격되어 배치되고,The sensing pattern is disposed spaced apart into a plurality of unit sensing patterns,
상기 트레이스는 각 단위 감지 패턴으로부터 최근접한 베젤부로 연장되어, 상기 베젤부 상에서 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는, 터치 패널.The trace extends from each unit sensing pattern to the nearest bezel portion to connect the sensing pattern with the pad portion on the bezel portion.
4. 위 1에 있어서, 상기 일면의 화소간 경계 대응 영역 상측에 트레이스 및 감지 패턴에 인접하여 배치되는 제2 블랙매트릭스층을 더 포함하는, 터치 패널.4. The touch panel of claim 1, further comprising a second black matrix layer disposed adjacent to a trace and a sensing pattern on an upper side of the inter-pixel boundary corresponding area of the one surface.
5. 위 1에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 서로 독립적으로 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO) 및 카드뮴주석산화물(CTO)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 소재로 형성된, 터치 패널.5. In the above 1, the sensing pattern and the trace independently of each other indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO) and cadmium tin oxide (CTO) Touch panel formed of at least one material selected from the group consisting of.
6. 위 1에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 서로 독립적으로 두께가 10 내지 150nm인, 터치 패널.6. The touch panel of claim 1, wherein the sensing pattern and the trace have a thickness of 10 to 150 nm independently of each other.
7. 위 1에 있어서, 상기 금속 보조 패턴은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이들의 합금 소재로 형성된, 터치 패널.7. In the above 1, wherein the metal auxiliary pattern is formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or alloys thereof, the touch panel.
8. 위 1에 있어서, 상기 광차단층은 제3 블랙매트릭스층 또는 금속산화물층인, 터치 패널.8. In the above 1, wherein the light blocking layer is a third black matrix layer or a metal oxide layer, the touch panel.
9. 위 8에 있어서, 상기 금속산화물은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 및 니오븀으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 금속의 산화물인, 터치 패널.9. The touch panel of claim 8, wherein the metal oxide is an oxide of at least one metal selected from the group consisting of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, and niobium.
10. 위 8에 있어서, 상기 금속산화물층은 굴절률이 1.0 내지 3.1인, 터치 패널.10. In the above 8, wherein the metal oxide layer has a refractive index of 1.0 to 3.1, the touch panel.
11. 위 8에 있어서, 상기 금속산화물층은 두께가 15 내지 100nm인, 터치 패널.11. In the above 8, wherein the metal oxide layer has a thickness of 15 to 100nm, the touch panel.
12. 위 8에 있어서, 상기 제3 블랙매트릭스층은 두께가 20 내지 5,000nm인, 터치 패널.12. The touch panel of claim 8, wherein the third black matrix layer has a thickness of 20 to 5,000 nm.
13. 기판의 시인측 일면에 감지 패턴을 형성하는 단계,13. forming a sensing pattern on one surface of the viewer on the viewer's side;
상기 일면에 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는 트레이스를 형성하는 단계,Forming a trace connecting the sensing pattern to a pad part on the one surface;
상기 트레이스 상에 금속 보조 패턴을 형성하는 단계, 및Forming a metal auxiliary pattern on the trace, and
상기 금속 보조 패턴 상에 광차단층을 형성하는 단계를 포함하며,Forming a light blocking layer on the metal auxiliary pattern;
상기 트레이스가 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 위치하도록 배치되는, 터치 패널의 제조 방법.And wherein the trace is disposed above the boundary correspondence region between the pixels of the display panel.
14. 디스플레이 패널의 시인측 일면에 감지 패턴을 형성하는 단계;14. forming a sensing pattern on one surface of the viewer side of the display panel;
상기 일면에서 상기 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는 트레이스를 형성하는 단계;Forming a trace on the surface of the display panel, the trace connecting the sensing pattern to a pad unit above the pixel-corresponding region of the display panel;
상기 트레이스 상에 금속 보조 패턴을 형성하는 단계; 및Forming a metal auxiliary pattern on the trace; And
상기 금속 보조 패턴 상에 광차단층을 형성하는 단계;를 포함하는, 터치 패널의 제조 방법.And forming a light blocking layer on the metal auxiliary pattern.
15. 위 13 또는 14에 있어서,15. The above 13 or 14,
상기 감지 패턴은 복수개의 단위 감지 패턴으로 이격되어 배치되도록 형성하고,The sensing pattern is formed to be spaced apart from the plurality of unit sensing patterns,
상기 트레이스는 각 단위 감지 패턴으로부터 최근접한 베젤부로 연장되어, 상기 베젤부 상에서 상기 감지 패턴을 구동 회로와 연결하도록 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.Wherein the trace extends from each unit sensing pattern to a nearest bezel portion to connect the sensing pattern with a driving circuit on the bezel portion.
16. 위 13 또는 14에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 각각 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO) 및 카드뮴주석산화물(CTO)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 소재로 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.16. In the above 13 or 14, the sensing pattern and the trace are indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO) and cadmium tin oxide (CTO), respectively Forming from at least one material selected from the group consisting of, the manufacturing method of the touch panel.
17. 위 13 또는 14에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 서로 독립적으로 두께가 10 내지 150nm인, 터치 패널의 제조 방법.17. The method of manufacturing the touch panel of 13 or 14, wherein the sensing pattern and the trace have a thickness of 10 to 150 nm independently of each other.
18. 위 13 또는 14에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 한 공정 내에서 동시에 형성되는, 터치 패널의 제조 방법.18. The method of manufacturing the touch panel of 13 or 14, wherein the sensing pattern and the trace are simultaneously formed in one process.
19. 위 13 또는 14에 있어서, 상기 금속 보조 패턴은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이들의 합금 소재로 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.19. The method according to the above 13 or 14, wherein the metal auxiliary pattern is formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or alloys thereof, the method of manufacturing a touch panel.
20. 위 13 또는 14에 있어서, 상기 일면의 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 트레이스 및 감지 패턴에 접하도록 배치되는 제2 블랙매트릭스층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 터치 패널의 제조 방법.20. The method according to the above 13 or 14, further comprising the step of forming a second black matrix layer disposed in contact with the trace and the sensing pattern on the upper side of the inter-pixel boundary of the display panel of the one surface, the manufacturing method of the touch panel .
21. 위 20에 있어서, 상기 광차단층은 제3 블랙매트릭스층으로서,21. In the above 20, wherein the light blocking layer is a third black matrix layer,
상기 일면의 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측 및 금속 보조패턴 상에 블랙매트릭스층 형성용 조성물을 도포하여,Applying the composition for forming a black matrix layer on the upper side of the inter-pixel boundary region and the metal auxiliary pattern of the display panel of one surface,
상기 제2 블랙매트릭스층과 제3 블랙매트릭스층을 동일 공정 내에서 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.And forming the second black matrix layer and the third black matrix layer in the same process.
22. 위 13 또는 14에 있어서, 상기 광차단층은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 및 니오븀으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 금속의 산화물을 금속 보조 패턴 상에 증착시켜 형성되는, 터치 패널의 제조 방법.22. The method of claim 13 or 14, wherein the light blocking layer is an oxide of one or more metals selected from the group consisting of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium and niobium on the metal auxiliary pattern A method of manufacturing a touch panel, which is formed by vapor deposition on a substrate.
23. 위 22에 있어서, 상기 금속산화물은 굴절률이 1 내지 3.1인, 터치 패널의 제조 방법.23. The method of manufacturing the above 22, wherein the metal oxide has a refractive index of 1 to 3.1.
24. 위 13 또는 14에 있어서, 상기 광차단층은 금속 보조 패턴의 시인측 표면을 산화시켜 형성되는, 터치 패널의 제조 방법.24. The method according to the above 13 or 14, wherein the light blocking layer is formed by oxidizing the viewing side surface of the metal auxiliary pattern.
본 발명의 터치 패널은 금속 보조 패턴을 구비하여 감지 패턴의 전기 전도도를 높임으로써 개선된 터치 감도를 구현할 수 있다.The touch panel of the present invention may be provided with a metal auxiliary pattern to increase the electrical conductivity of the sensing pattern to implement improved touch sensitivity.
또한, 본 발명의 터치 패널은 금속 보조 패턴을 화소부의 블랙매트릭스 상부에 배열시켜 현저히 개선된 투과율을 나타낸다.In addition, the touch panel of the present invention exhibits a markedly improved transmittance by arranging the metal auxiliary pattern on the black matrix on the pixel portion.
또한, 본 발명의 터치 패널은 위치별 반사율 차이에 따른 시인성 문제를 최소화 할 수 있다.In addition, the touch panel of the present invention can minimize the visibility problem according to the difference in reflectance for each position.
도 1은 종래 투명 감지 전극의 개략적인 평면도이다.1 is a schematic plan view of a conventional transparent sensing electrode.
도 2는 종래 투명 감지 전극의 개략적인 수직 단면도이다.2 is a schematic vertical cross-sectional view of a conventional transparent sensing electrode.
도 3은 디스플레이 패널 일면에 배치된 본 발명의 일 구현예에 따른 터치 패널의 개략적인 수직 단면도이다.3 is a schematic vertical cross-sectional view of a touch panel according to an embodiment of the present invention disposed on one surface of a display panel.
도 4는 본 발명의 일 구현예에 따른 터치 패널에서 금속 보조 패턴 및 감지 패턴의 배치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.4 is a plan view schematically illustrating an arrangement of a metal auxiliary pattern and a sensing pattern in a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5는 디스플레이 패널 일면에 배치된 본 발명의 일 구현예에 따른 터치 패널의 개략적인 수직 단면도이다.5 is a schematic vertical cross-sectional view of a touch panel according to an embodiment of the present invention disposed on one surface of a display panel.
도 6는 제조예 1 내지 4의 적층체의 개략적인 수직 단면도이다.6 is a schematic vertical cross-sectional view of the laminate of Preparation Examples 1 to 4. FIG.
도 7은 제조예 5의 적층체의 개략적인 수직 단면도이다.7 is a schematic vertical cross-sectional view of the laminate of Preparation Example 5. FIG.
본 발명은 디스플레이 패널의 시인측에 배치되는 터치 패널로서, 기판의 시인측 일면에 형성된 감지 패턴, 상기 일면에서 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 배치되며, 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는 트레이스, 상기 트레이스 상에 형성된 금속 보조 패턴, 및 상기 금속 보조 패턴 상에 형성된 광차단층을 포함함으로써, 개선된 터치 감도 및 우수한 투과율을 나타낼 뿐만 아니라, 시인성 문제도 최소화할 수 있는 터치 패널에 관한 것이다.The present invention is a touch panel disposed on the viewer side of the display panel, the sensing pattern formed on one surface of the viewer side of the substrate, disposed above the boundary corresponding area between pixels of the display panel on the one surface, and connecting the sensing pattern to the pad unit. By including a trace, a metal auxiliary pattern formed on the trace, and a light blocking layer formed on the metal auxiliary pattern, the present invention relates to a touch panel that can exhibit improved touch sensitivity and excellent transmittance as well as minimize visibility problems.
[터치 패널]Touch panel
도 3 및 5는 디스플레이 패널의 일면에 배치된 본 발명의 일 구현예에 따른 터치 패널의 개략적인 수직 단면도이고, 도 4는 일 구현예에 따른 터치 패널에서 금속 보조 패턴 및 감지 패턴의 배치를 개략으로 나타낸 평면도이다. 이하 도면을 참고하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.3 and 5 are schematic vertical cross-sectional views of a touch panel according to an embodiment of the present invention disposed on one surface of a display panel, and FIG. 4 schematically illustrates the arrangement of a metal auxiliary pattern and a sensing pattern in a touch panel according to an embodiment. It is a top view shown by. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following drawings attached to the present specification are intended to illustrate preferred embodiments of the present invention, and together with the contents of the present invention serves to further understand the technical spirit of the present invention, the present invention described in such drawings It should not be construed as limited to matters.
본 발명의 터치 패널(200)은 디스플레이 패널(100)의 시인측에 배치된다.The touch panel 200 of the present invention is disposed on the viewer side of the display panel 100.
디스플레이 패널(100)은 특별히 한정되지 않고 당 분야에 통상적으로 사용되는 액정 패널, OLED 패널 등일 수 있다. OLED 패널은 적, 녹, 청의 발광 다이오드를 갖는 RGB OLED 패널 또는 백색 발광 다이오드를 갖는 WHITE OLED 패널일 수 있다.The display panel 100 is not particularly limited and may be a liquid crystal panel, an OLED panel, or the like commonly used in the art. The OLED panel may be an RGB OLED panel having red, green, or blue light emitting diodes or a WHITE OLED panel having a white light emitting diode.
디스플레이 패널(100)이 액정 패널 또는 WHITE OLED 패널인 경우 색상 패턴을 갖는 컬러필터를 구비하고, 적, 녹, 청의 색상 패턴이 각각 적, 녹, 청의 서브 화소에 대응되도록 배치되어, 색상을 구현할 수 있다.When the display panel 100 is a liquid crystal panel or a white OLED panel, the display panel 100 includes a color filter having a color pattern, and the red, green, and blue color patterns are arranged to correspond to the red, green, and blue sub-pixels, respectively, to implement colors. have.
디스플레이 패널(100)이 RGB OLED 패널인 경우, 적, 녹, 청의 발광 다이오드가 각각 적, 녹, 청의 서브 화소에 대응되도록 배치되어, 색상을 구현할 수 있다.When the display panel 100 is an RGB OLED panel, red, green, and blue light emitting diodes are disposed to correspond to red, green, and blue sub-pixels, respectively, to implement colors.
디스플레이 패널(100)은 화소간 경계를 정의하는 제1 블랙매트릭스층(미도시)을 포함할 수 있다. 제1 블랙매트릭스층은 각 화소간, 그리고 각 서브 화소간 경계를 정의하며, 콘트라스트를 개선한다.The display panel 100 may include a first black matrix layer (not shown) that defines a boundary between pixels. The first black matrix layer defines a boundary between each pixel and each sub-pixel, and improves contrast.
본 발명에 따른 디스플레이 패널(100)은 그 외에도 당 분야에 통상적으로 사용되는 구성을 더 포함할 수 있다.The display panel 100 according to the present invention may further include a configuration that is commonly used in the art.
본 발명에 따른 터치 패널(200)은 기판(210)의 시인측 일면에 형성된 감지 패턴(220)을 포함한다.The touch panel 200 according to the present invention includes a sensing pattern 220 formed on one side of the viewer side of the substrate 210.
감지 패턴(220)은 터치되는 지점의 X 좌표 및 Y 좌표에 대한 정보를 제공하게 된다. 구체적으로는, 사람의 손 또는 물체가 접촉되면, 감지 패턴(220), 트레이스(230) 및 패드부(미도시)를 경유하여 구동 회로 측으로 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달된다. 그리고, X 및 Y 입력처리회로(미도시) 등에 의해 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 의해 접촉위치가 파악된다.The sensing pattern 220 provides information about the X coordinate and the Y coordinate of the touched point. Specifically, when a person's hand or an object comes into contact, a change in capacitance depending on the contact position is transmitted to the driving circuit via the sensing pattern 220, the trace 230, and a pad unit (not shown). Then, the contact position is grasped by the change of the capacitance converted into an electrical signal by the X and Y input processing circuit (not shown) or the like.
패드부(미도시)는 기판(210)의 시인측 일면에 베젤부에 위치하여, 각 트레이스(230) 및 연성회로기판(미도시)과 연결되는 1개 이상의 패드(미도시)를 포함한다.The pad part (not shown) may be positioned on one side of the viewer side of the substrate 210 and include one or more pads (not shown) connected to each trace 230 and a flexible circuit board (not shown).
감지 패턴(220)은 당 분야에 알려진 투명 전극 소재가 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(grapheme), 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 인듐주석산화물(ITO)이 사용될 수 있다.The sensing pattern 220 may be applied to a transparent electrode material known in the art without limitation. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)) , Carbon nanotubes (CNT), graphene (grapheme), and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Preferably indium tin oxide (ITO) may be used.
감지 패턴(220)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 서로 독립적으로 10 내지 150nm일 수 있다. 두께가 10nm 미만이면 저항이 높아 터치 민감도가 저하될 수 있고, 150nm 초과이면 투과율이 저하되어 소비 전력이 증가 할 수 있다.The thickness of the sensing pattern 220 is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 150 nm independently of each other. If the thickness is less than 10nm, the resistance may be high and the touch sensitivity may be lowered. If the thickness is greater than 150nm, the transmittance may be lowered to increase power consumption.
기판(210)은 당 분야에서 통상적으로 사용되는 소재가 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 유리, 폴리에테르술폰(PES, polyethersulphone), 폴리아크릴레이트(PAR, polyacrylate), 폴리에테르 이미드(PEI, polyetherimide), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN, polyethyelenen napthalate), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET, polyethyelene terepthalate), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide: PPS), 폴리아릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(polyimide), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propionate,CAP) 등을 들 수 있다.The substrate 210 may be a material that is commonly used in the art without limitation, for example, glass, polyethersulphone (PES), polyacrylate (PAR, polyacrylate), polyether imide (PEI, polyetherimide, polyethylene naphthalate (PEN, polyethyelenen napthalate), polyethylene terephthalate (PET, polyethyelene terepthalate), polyphenylene sulfide (PPS), polyallylate, polyimide, polycarbonate ( PC, polycarbonate), cellulose tri acetate (TAC), cellulose acetate propionate (CAP), and the like.
또한, 상기 기판(210)은 디스플레이 패널(100)의 시인측 일면일 수도 있다.In addition, the substrate 210 may be one surface of the viewer side of the display panel 100.
트레이스(230)는 상기 일면에서 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에 배치되며, 상기 감지 패턴(220)을 구동 회로와 연결한다.The trace 230 is disposed above the boundary corresponding area between pixels of the display panel 100 on the one surface, and connects the sensing pattern 220 to the driving circuit.
후술할 금속 보조 패턴(240)이 트레이스(230) 상에 형성되는데, 금속은 반사율이 높아 화상 표시 장치에 적용되었을 때 표시 장치의 광원으로부터 오는 내광을 반사하여 표시 장치의 투과율이 저하될 수 있다.A metal auxiliary pattern 240, which will be described later, is formed on the trace 230. When the metal has a high reflectance, the metal may reflect internal light from a light source of the display device to reduce transmittance of the display device.
그러나, 본 발명에 따른 트레이스(230)는 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에 배치되고, 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역은 전술한 제1 블랙매트릭스층(미도시) 또는 후술할 제2 블랙매트릭스층(260)에 의해 근본적으로 내광이 투과되지 않는 영역이므로 금속 보조 패턴(240)에 의한 투과율 저하 문제가 발생하지 않는다.However, the trace 230 according to the present invention is disposed above the inter-pixel boundary corresponding region of the display panel 100, and the inter-pixel boundary corresponding region of the display panel 100 is the first black matrix layer (not shown). Alternatively, since the internal light is not fundamentally transmitted by the second black matrix layer 260 which will be described later, the transmittance decrease problem caused by the metal auxiliary pattern 240 does not occur.
본 발명에 있어서, 단위 감지 패턴(220)간 배열, 각 단위 감지 패턴(220)을 패드부와 연결하는 상기 트레이스(230)의 배열이나 방향 등은 특별히 한정되지 않고 면저항, 터치 감도 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.In the present invention, the arrangement between the unit sensing patterns 220 and the arrangement or direction of the traces 230 connecting the unit sensing patterns 220 to the pad unit are not particularly limited, and are considered in consideration of sheet resistance, touch sensitivity, and the like. May be appropriately selected.
예를 들면, 감지 패턴(220)은 복수개의 단위 감지 패턴(220)으로 이격되어 배치되고, 상기 트레이스(230)는 각 단위 감지 패턴(220)으로부터 최근접한 베젤부로 연장되어, 베젤부 상에서 상기 감지 패턴(220)을 구동 회로와 연결할 수 있다.For example, the sensing pattern 220 is disposed to be spaced apart from the plurality of unit sensing patterns 220, and the trace 230 extends from each unit sensing pattern 220 to the nearest bezel part, so that the sensing part is detected on the bezel part. The pattern 220 may be connected to the driving circuit.
터치 패널(200)은 화상 표시 장치에 적용되었을 때, 화상이 표시되는 부위인 표시부와 화상이 표시되지 않는 테두리 부위인 베젤부로 나뉘는데, 표시부에만 화상이 표시되고 터치가 이루어지므로 통상적으로 감지 패턴(220)은 표시부에 형성되고, 베젤부에는 회로 등이 형성된다.When the touch panel 200 is applied to an image display device, the touch panel 200 is divided into a display unit, which is an area where an image is displayed, and a bezel unit, which is an edge area where an image is not displayed. ) Is formed in the display portion, and a circuit or the like is formed in the bezel portion.
도 4에 예시된 바와 같이 트레이스(230)가 각 단위 감지 패턴(220)으로부터 최근접한 베젤부로 연장되는 경우에 표시부에 형성되는 트레이스의 길이가 짧아져서 저항이 낮아져 터치 민감도가 향상 될 수 있다.As illustrated in FIG. 4, when the trace 230 extends from each unit sensing pattern 220 to the nearest bezel portion, the length of the trace formed on the display portion is shortened, thereby lowering the resistance, thereby improving touch sensitivity.
도 4에서 최상단 행의 감지 패턴(220)들의 경우 금속 배선이 각각 좌우측의 베젤부로 연장되는 것으로 도시되어 있으나, 각 단위 감지 패턴(220)으로부터 좌우측의 베젤부보다 상단의 베젤부가 더 근접한 경우, 금속 배선은 상단의 베젤부로 연장되어도 무방하다.In FIG. 4, the uppermost row of the sensing patterns 220 are illustrated as extending the metal wires to the left and right bezel portions. However, when the upper bezel portions are closer to each other than the bezel portions on the left and right sides, The wiring may extend to the upper bezel portion.
본 발명에 따른 터치 패널은 도 5에 예시된 바와 같이, 상기 기판(210)의 시인측 일면의 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에 트레이스(230) 및 감지 패턴(220)에 인접하여 배치된 제2 블랙매트릭스층(260)을 더 포함할 수 있다.As illustrated in FIG. 5, the touch panel according to the present invention is adjacent to the trace 230 and the sensing pattern 220 above the boundary corresponding area between the pixels of the display panel 100 on one side of the viewer 210 of the viewer 210. It may further include a second black matrix layer 260 disposed.
제2 블랙매트릭스층(260)은 디스플레이 패널(100)의 제1 블랙매트릭스층(미도시)과 선택적으로 포함될 수 있다. 제2 블랙매트릭스층(260)은 제1 블랙매트릭스층(미도시)과 마찬가지로 콘트라스트를 개선하는 역할을 한다.The second black matrix layer 260 may be selectively included with the first black matrix layer (not shown) of the display panel 100. Like the first black matrix layer (not shown), the second black matrix layer 260 serves to improve contrast.
트레이스(230)는 당 분야에 알려진 투명 전극 소재가 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO) 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 인듐주석산화물(ITO)이 사용될 수 있다.The trace 230 may be applied to a transparent electrode material known in the art without limitation. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), etc. are mentioned, These are single or 2 types or more. It can be mixed and used. Preferably indium tin oxide (ITO) may be used.
트레이스(230)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 10 내지 150nm일 수 있다. 두께가 10nm 미만이면 저항이 높아 터치 민감도가 저하될 수 있고, 150nm 초과이면 투과율이 저하되어 소비전력이 증가 할 수 있다.The thickness of the trace 230 is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 150 nm. If the thickness is less than 10nm, the resistance may be high and the touch sensitivity may be lowered. If the thickness is greater than 150nm, the transmittance may be lowered to increase power consumption.
금속 보조 패턴(240)은 상기 트레이스(230) 상에 형성된다.A metal auxiliary pattern 240 is formed on the trace 230.
통상의 터치 패널에서 감지 패턴(220)의 재료로 사용되는 인듐주석산화물(ITO)은 투명성은 우수하나 전기 전도도가 금속보다는 낮다. 이에 본 발명의 터치 패널(200)은 금속 보조 패턴(240)을 구비하여 우수한 전기 전도도를 구현할 수 있다.Indium tin oxide (ITO), which is used as a material of the sensing pattern 220 in a typical touch panel, has excellent transparency but lower electrical conductivity than metal. Accordingly, the touch panel 200 of the present invention may be provided with the metal auxiliary pattern 240 to implement excellent electrical conductivity.
금속 보조 패턴(240)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 10 내지 1,000nm 일 수 있다. 두께가 10nm 미만이면 저항이 높을 수 있고, 1,000nm 초과이면 제조 비용이 증가할 수 있다.The thickness of the metal auxiliary pattern 240 is not particularly limited, and may be, for example, 10 nm to 1,000 nm. If the thickness is less than 10 nm, the resistance may be high, and if it is more than 1,000 nm, the manufacturing cost may increase.
본 발명에 따른 금속 보조 패턴(240)은 금속 소재로 형성된다. 예를 들면 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이들의 합금일 수 있다.The metal auxiliary pattern 240 according to the present invention is formed of a metal material. For example, molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or alloys thereof.
다만, 금속은 반사율이 높으므로 광원으로부터 오는 빛을 반사하여 터치 패널의 투과율이 저하시킬 수 있으나, 전술한 바와 같이 트레이스(230)가 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 배치되므로, 금속 보조 패턴(240)에 의한 투과율 저하 문제가 발생하지 않는다.However, since the metal has a high reflectance, the transmittance of the touch panel may be reduced by reflecting light from the light source. However, as described above, since the trace 230 is disposed above the boundary correspondence region between the pixels of the display panel, the metal auxiliary pattern The problem of lowering transmittance by 240 does not occur.
또한, 금속 보조 패턴(240)이 상기 트레이스(230) 상에 형성되므로, 저항이 낮아져서 터치 민감도가 향상될 수 있다.In addition, since the metal auxiliary pattern 240 is formed on the trace 230, the touch sensitivity may be improved by lowering the resistance.
광차단층(250)은 금속 보조 패턴(240) 상에 형성된다.The light blocking layer 250 is formed on the metal auxiliary pattern 240.
금속 보조 패턴(240)이 트레이스(230) 상에 배치되면, 금속은 반사율이 높으므로 외부로부터 오는 빛을 반사하여 금속 보조 패턴(240)이 시인될 수 있으나, 본 발명에 따른 터치 패널은 금속 보조 패턴(240) 상에 광차단층(250)이 형성됨으로써 상기 금속 보조 패턴(240)의 시인성 문제를 최소화 할 수 있다.When the metal auxiliary pattern 240 is disposed on the trace 230, since the metal has a high reflectance, the metal auxiliary pattern 240 may be recognized by reflecting light from the outside. However, the touch panel according to the present invention may be a metal auxiliary pattern. The light blocking layer 250 is formed on the pattern 240 to minimize the visibility problem of the metal auxiliary pattern 240.
본 발명에 따른 광차단층(250)은 제3 블랙메트릭스층 또는 금속산화물층일 수 있다.The light blocking layer 250 according to the present invention may be a third black matrix layer or a metal oxide layer.
광차단층(250)이 제3 블랙매트릭스층인 경우 이는 당 분야에서 통상적으로 사용되는 착색제, 알칼리 가용성 수지 바인더, 다관능성 모노머, 광중합 개시제, 계면활성제, 용매, 기타 첨가제 등을 포함한 블랙매트릭스층 형성용 조성물을 금속 보조 패턴(240) 상에 도포하고 경화시켜 형성된 것일 수 있다.When the light blocking layer 250 is a third black matrix layer, it is used for forming a black matrix layer including colorants, alkali-soluble resin binders, polyfunctional monomers, photopolymerization initiators, surfactants, solvents, and other additives commonly used in the art. The composition may be formed by applying and curing the composition on the metal auxiliary pattern 240.
광차단층(250)이 금속산화물층인 경우 당 분야에 공지된 금속산화물로 형성될 수 있고, 예를 들면 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 및 니오븀로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 금속의 산화물로 형성될 수 있다.When the light blocking layer 250 is a metal oxide layer, it may be formed of a metal oxide known in the art, for example, made of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, and niobium. It may be formed of an oxide of one or more metals selected from the group.
금속산화물층은 굴절률이 1.0 내지 3.1인 것이 금속 보조 패턴(240)의 시인성을 최소화 할 수 있다는 측면에서 바람직하다. 그러한 경우에는 흑색이 아닌 투명의 금속산화물을 사용하는 경우에도 색상과 무관하게, 금속 보조 패턴(240)의 시인성을 최소화 할 수 있다.The metal oxide layer preferably has a refractive index of 1.0 to 3.1 in terms of minimizing the visibility of the metal auxiliary pattern 240. In such a case, even when a transparent metal oxide other than black is used, the visibility of the metal auxiliary pattern 240 may be minimized regardless of the color.
광차단층(250)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 광차단층(250)이 금속산화물층인 경우 10 내지 100nm일 수 있다. 금속산화물층의 두께가 10nm 미만이거나 100nm 초과이면 반사율이 높아 금속 보조 패턴(240)이 시인될 수 있다.The thickness of the light blocking layer 250 is not particularly limited. For example, when the light blocking layer 250 is a metal oxide layer, the thickness of the light blocking layer 250 may be 10 to 100 nm. If the thickness of the metal oxide layer is less than 10 nm or more than 100 nm, the metal auxiliary pattern 240 may be viewed due to high reflectance.
그리고, 광차단층(250)이 블랙매트릭스층인 경우 두께가 10 내지 5,000nm일 수 있다. 블랙매트릭스층의 두께가 10nm 미만이면 금속 보조 패턴(240)이 시인될 수 있고, 5,000nm 초과이면 터치 패널의 두께 및 생산 비용이 증가하는 문제가 있다.When the light blocking layer 250 is a black matrix layer, the light blocking layer 250 may have a thickness of about 10 nm to about 5,000 nm. If the thickness of the black matrix layer is less than 10 nm, the metal auxiliary pattern 240 may be visually recognized. If the thickness of the black matrix layer is greater than 5,000 nm, the thickness and the production cost of the touch panel may increase.
본 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 금속 보조 패턴(240)은 감지 패턴(220) 상에 형성될 수도 있다. 그러한 경우에도 금속 보조 패턴(240)은 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 배치되고, 전술한 소재 및 두께 범위로 형성될 수 있다. 마찬가지로, 금속 보조 패턴(240) 상에 광차단층(250)도 전술한 소재 및 두께 범위로 형성된다.According to another embodiment of the present invention, the metal auxiliary pattern 240 may be formed on the sensing pattern 220. Even in such a case, the metal auxiliary pattern 240 may be disposed above the boundary corresponding area between pixels of the display panel, and may be formed in the above-described material and thickness range. Similarly, the light blocking layer 250 is also formed on the metal auxiliary pattern 240 in the above-described material and thickness range.
감지 패턴(220) 상에 금속 보조 패턴(240)이 더 형성되는 경우 터치 민감도를 더 개선할 수 있고, 트레이스(230) 상에 형성된 금속 보조 패턴(240)과 연결되는 경우에는 터치 민감도 개선 효과를 극대화 할 수 있다.When the metal auxiliary pattern 240 is further formed on the sensing pattern 220, the touch sensitivity may be further improved, and when connected to the metal auxiliary pattern 240 formed on the trace 230, the touch sensitivity may be improved. Can be maximized.
[터치 패널의 제조 방법][Manufacturing Method of Touch Panel]
또한, 본 발명은 터치 패널의 제조 방법을 제공한다.The present invention also provides a method for manufacturing a touch panel.
이하 본 발명의 일 구현예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described in detail.
먼저, 기판(210)의 시인측 일면에 감지 패턴(220)을 형성한다.First, the sensing pattern 220 is formed on one surface of the viewer 210 of the viewer 210.
기판(210)의 소재는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 전술한 범위 내의 소재로 형성된 기판(210)일 수 있다.The material of the substrate 210 is not particularly limited, and may be, for example, the substrate 210 formed of a material within the aforementioned range.
감지 패턴(220)의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고 당 분야에 공지된 방법이 적용될 수 있으며, 예를 들면 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical VaporDeposition, CVD)등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있다. 또는 포토리소그래피법을 사용하여 형성될 수도 있다.The method of forming the sensing pattern 220 is not particularly limited, and a method known in the art may be applied. For example, various thin film deposition techniques such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) may be used. It can be formed by. For example, it may be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition. Or it may be formed using a photolithography method.
감지 패턴(220)은 당 분야에 알려진 투명 전극 소재가 제한 없이 적용될 수 있다. 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO) 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 인듐주석산화물(ITO)이 사용될 수 있다.The sensing pattern 220 may be applied to a transparent electrode material known in the art without limitation. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), etc. are mentioned, These are single or 2 types or more. It can be mixed and used. Preferably indium tin oxide (ITO) may be used.
감지 패턴(220)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 10 내지 150nm일 수 있다. 감지 패턴(220)의 두께가 10nm 미만이면 저항이 높아 터치 민감도가 저하될 수 있고, 150nm 초과이면 투과율이 저하되어 소비전력이 증가 할 수 있다.The thickness of the sensing pattern 220 is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 150 nm. If the thickness of the sensing pattern 220 is less than 10 nm, the resistance may be high, and thus the touch sensitivity may be lowered. If the thickness of the sensing pattern 220 is greater than 150 nm, the transmittance may be decreased to increase power consumption.
이후에, 상기 일면에 상기 감지 패턴(220)을 패드부와 연결하는 트레이스(230)를 형성한다.Thereafter, a trace 230 for connecting the sensing pattern 220 to the pad part is formed on the one surface.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 감지 패턴(220)은 복수개의 단위 감지 패턴(220)으로 이격되어 배치되도록 형성하고, 상기 트레이스(230)는 각 단위 감지 패턴(220)으로부터 최근접한 베젤부로 연장되어, 상기 베젤부 상에서 상기 감지 패턴(220)을 구동 회로와 연결하도록 형성할 수 있다. 그러한 경우에 표시부에 형성되는 트레이스의 길이가 짧아져서 저항이 낮아져 터치 민감도가 향상 될 수 있다.According to the exemplary embodiment of the present invention, the sensing pattern 220 is formed to be spaced apart from the plurality of unit sensing patterns 220, and the traces 230 are adjacent to the bezel part from each unit sensing pattern 220. It may extend to connect the sensing pattern 220 to the driving circuit on the bezel. In such a case, the length of the trace formed on the display portion is shortened, thereby lowering the resistance, thereby improving touch sensitivity.
트레이스(230)는 감지 패턴(220)과 동일 소재로 형성될 수 있으며, 그러한 경우에 한 공정 내에서 동시에 형성될 수 있다.The trace 230 may be formed of the same material as the sensing pattern 220, and in such a case, may be simultaneously formed in one process.
다음으로, 상기 트레이스(230) 상에 금속 보조 패턴(240)을 형성한다.Next, a metal auxiliary pattern 240 is formed on the trace 230.
통상의 터치 패널에서 감지 패턴(220)의 재료로 사용되는 인듐주석산화물(ITO)은 투명성은 우수하나 전기 전도도가 금속보다는 낮다. 이에 본 발명의 터치 패널은 금속 보조 패턴(240)을 구비하여 우수한 전기 전도도를 구현할 수 있다.Indium tin oxide (ITO), which is used as a material of the sensing pattern 220 in a typical touch panel, has excellent transparency but lower electrical conductivity than metal. Accordingly, the touch panel of the present invention may be provided with the metal auxiliary pattern 240 to implement excellent electrical conductivity.
금속 보조 패턴(240)의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고 당 분야에 공지된 방법이 적용될 수 있으며, 예를 들면 물리적 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 증착법(Chemical VaporDeposition, CVD)등 다양한 박막 증착 기술에 의하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 물리적 증착법의 한 예인 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에 의하여 형성될 수 있다. 또는 포토리소그래피법을 사용하여 형성될 수도 있다.The method of forming the metal auxiliary pattern 240 is not particularly limited, and a method known in the art may be applied. For example, various thin film deposition methods such as physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) may be performed. Can be formed by technology. For example, it may be formed by reactive sputtering, which is an example of physical vapor deposition. Or it may be formed using a photolithography method.
금속 보조 패턴(240)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 10 내지 1,000nm 일 수 있다. 두께가 10nm 미만이면 저항이 높아 터치 민감도가 저하될 수 있고, 1,000nm 초과이면 제조 비용이 증가할 수 있다.The thickness of the metal auxiliary pattern 240 is not particularly limited, and may be, for example, 10 nm to 1,000 nm. If the thickness is less than 10nm, the resistance is high, the touch sensitivity may be lowered, and if it is more than 1,000nm, the manufacturing cost may increase.
이후에, 상기 금속 보조 패턴(240) 상에 광차단층(250)을 형성한다.Thereafter, the light blocking layer 250 is formed on the metal auxiliary pattern 240.
금속 보조 패턴(240)이 감지 패턴(220) 상에 배치되면, 금속은 반사율이 높으므로 외부로부터 오는 빛을 반사하여 금속 보조 패턴(240)이 시인될 수 있으나, 본 발명에 따른 터치 패널은 금속 보조 패턴(240) 상에 광차단층(250)을 형성함으로써 상기 금속 보조 패턴(240)의 시인성 문제를 최소화 할 수 있다.When the metal auxiliary pattern 240 is disposed on the sensing pattern 220, since the metal has a high reflectance, the metal auxiliary pattern 240 may be recognized by reflecting light from the outside, but the touch panel according to the present invention may be made of metal. By forming the light blocking layer 250 on the auxiliary pattern 240, the visibility problem of the metal auxiliary pattern 240 may be minimized.
광차단층(250)은 제3 블랙매트릭스층이거나 금속산화물층일 수 있다.The light blocking layer 250 may be a third black matrix layer or a metal oxide layer.
광차단층(250)이 제3 블랙매트릭스층인 경우 이는 당 분야에서 통상적으로 사용되는 착색제, 알칼리 가용성 수지 바인더, 다관능성 모노머, 광중합 개시제, 계면활성제, 용매, 기타 첨가제 등을 포함한 블랙매트릭스층 형성용 조성물을 금속 보조 패턴(240) 상에 도포하고 경화시켜 형성할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.When the light blocking layer 250 is a third black matrix layer, it is used for forming a black matrix layer including colorants, alkali-soluble resin binders, polyfunctional monomers, photopolymerization initiators, surfactants, solvents, and other additives commonly used in the art. The composition may be formed by applying and curing the metal auxiliary pattern 240, but is not limited thereto.
광차단층(250)이 금속산화물층인 경우, 이는 금속 산화물을 금속 보조 패턴(240) 상에 증착하거나, 금속 보조 패턴(240)의 표면을 산화시켜 형성할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.When the light blocking layer 250 is a metal oxide layer, it may be formed by depositing a metal oxide on the metal auxiliary pattern 240 or by oxidizing the surface of the metal auxiliary pattern 240, but is not limited thereto.
광차단층(250)이 금속산화물층인 경우 당 분야에 공지된 금속 산화물을 사용할 수 있으며, 예를 들면 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 및 니오븀으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 금속의 산화물을 들 수 있다. When the light blocking layer 250 is a metal oxide layer, a metal oxide known in the art may be used, and for example, molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, and niobium may be used. The oxide of the 1 or more types of metal chosen from is mentioned.
금속산화물층은 굴절률이 1.0 내지 3.1인 것이 금속 보조 패턴(240)의 시인성을 최소화 할 수 있다는 측면에서 바람직하다. 그러한 경우에는 흑색이 아닌 투명의 금속산화물을 사용하는 경우에도 색상과 무관하게, 금속 보조 패턴(240)의 시인성을 최소화 할 수 있다.The metal oxide layer preferably has a refractive index of 1.0 to 3.1 in terms of minimizing the visibility of the metal auxiliary pattern 240. In such a case, even when a transparent metal oxide other than black is used, the visibility of the metal auxiliary pattern 240 may be minimized regardless of the color.
광차단층(250)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 광차단층(250)이 금속산화물층인 경우 15 내지 100nm일 수 있다. 금속산화물층의 두께가 15nm 미만이거나 100nm 초과이면 금속 보조 패턴(240)이 시인될 수 있다.The thickness of the light blocking layer 250 is not particularly limited. For example, when the light blocking layer 250 is a metal oxide layer, the light blocking layer 250 may be 15 to 100 nm. If the thickness of the metal oxide layer is less than 15 nm or more than 100 nm, the metal auxiliary pattern 240 may be viewed.
그리고, 광차단층(250)이 블랙매트릭스층인 경우 두께가 20 내지 5,000nm일 수 있다. 블랙매트릭스층의 두께가 20nm 미만이면 금속 보조 패턴(240)이 시인될 수 있고, 5,000nm 초과이면 터치 패널의 두께 및 생산 비용이 증가하는 문제가 있다.In addition, when the light blocking layer 250 is a black matrix layer, the thickness may be 20 to 5,000 nm. When the thickness of the black matrix layer is less than 20 nm, the auxiliary metal pattern 240 may be visually recognized. If the thickness of the black matrix layer is greater than 5,000 nm, the thickness and the production cost of the touch panel may increase.
상기 단계를 포함하여 제조되는 터치 패널(200)은 상기 트레이스(230)가 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에 위치하도록 배치된다.The touch panel 200 manufactured by including the above steps is disposed such that the traces 230 are positioned above the boundary corresponding area between pixels of the display panel 100.
다만, 상기 금속 보조 패턴(240)의 경우, 화상 표시 장치에 적용되었을 때 표시 장치의 광원으로부터 오는 내광을 반사하여 표시 장치의 투과율이 저하될 수 있다. 그러나, 본 발명은 상기 터치 패널(200)을 상기 트레이스(230)가 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에 위치하도록 디스플레이 패널(100)의 시인측 일면에 배치한다.However, in the case of the metal auxiliary pattern 240, when applied to the image display device, the transmittance of the display device may be reduced by reflecting the internal light from the light source of the display device. However, according to the present invention, the touch panel 200 is disposed on one side of the viewer side of the display panel 100 such that the trace 230 is positioned above the inter-pixel boundary corresponding area of the display panel 100.
디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역은 전술한 제1 블랙매트릭스층(미도시) 또는 후술할 제2 블랙매트릭스층(260)에 의해 근본적으로 내광이 투과되지 않는 영역이므로 금속 보조 패턴(240)에 의한 투과율 저하 문제가 발생하지 않는다.The region corresponding to the boundary between pixels of the display panel 100 is a region where the internal light is not transmitted through the first black matrix layer (not shown) or the second black matrix layer 260 described later. ), There is no problem of a decrease in transmittance.
본 발명은 상기 일면의 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에 트레이스(230) 및 감지 패턴(220)에 접하는 제2 블랙매트릭스층(260)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include forming a second black matrix layer 260 in contact with the trace 230 and the sensing pattern 220 above the inter-pixel boundary corresponding area of the display panel 100.
제2 블랙매트릭스층(260)은 제1 블랙매트릭스층(미도시)과 선택적으로 포함될 수 있다. 제2 블랙매트릭스층(260)은 제1 블랙매트릭스층(미도시)과 마찬가지로 콘트라스트를 개선하는 역할을 한다.The second black matrix layer 260 may be selectively included with the first black matrix layer (not shown). Like the first black matrix layer (not shown), the second black matrix layer 260 serves to improve contrast.
광차단층(250)이 제3 블랙매트릭스층인 경우, 상기 제2 블랙매트릭스층(260)과 제3 블랙매트릭스층을 동일 공정 내에서 형성할 수 있다. 그러한 경우에 콘트라스트 개선을 위한 제2 블랙매트릭스층(260)과 금속 보조 패턴(240)의 시인 억제를 위한 제3 블랙매트릭스층을 각각 따로 형성하지 않고, 한 공정 내에서 동시에 형성함으로써 공정 효율을 현저히 개선할 수 있다.When the light blocking layer 250 is the third black matrix layer, the second black matrix layer 260 and the third black matrix layer may be formed in the same process. In such a case, instead of separately forming the second black matrix layer 260 for contrast improvement and the third black matrix layer for suppressing the visibility of the metal auxiliary pattern 240, the process efficiency is remarkably increased by simultaneously forming them in one process. It can be improved.
구체적인 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 상기 일면의 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측 및 금속 보조패턴 상에 블랙매트릭스층 형성용 조성물을 도포하는 방법에 의할 수 있다.The specific method is not particularly limited and may be, for example, a method of applying the composition for forming the black matrix layer on the upper side of the inter-pixel boundary corresponding region and the metal auxiliary pattern of the display panel.
이 외에 당 분야에 공지된 추가 공정을 통해 터치 패널을 형성할 수 있다.In addition, the touch panel may be formed through additional processes known in the art.
또한, 이하 본 발명의 다른 일 구현예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 상세히 설명한다.In addition, the method for manufacturing a touch panel according to another embodiment of the present invention will be described in detail below.
먼저, 디스플레이 패널(100)의 시인측 일면에 감지 패턴(220)을 형성한다.First, the sensing pattern 220 is formed on one side of the viewer side of the display panel 100.
감지 패턴(220)은 전술한 방법과 동일한 방법에 의해 형성할 수 있으며, 전술한 범위의 두께 및 재질로 형성할 수 있다.The sensing pattern 220 may be formed by the same method as described above, and may be formed of a thickness and a material in the above-described range.
디스플레이 패널(100)은 시인측 일면에 별도의 기판(210)을 더 포함하는 것일 수 있다. 기판(210)은 전술한 범위의 재질의 기판(210)일 수 있다.The display panel 100 may further include a separate substrate 210 on one side of the viewer. The substrate 210 may be a substrate 210 having a material in the above range.
이후, 상기 일면에서 상기 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에 상기 감지 패턴(220)을 패드부와 연결하는 트레이스(230)를 형성한다.Subsequently, a trace 230 for connecting the sensing pattern 220 to the pad part is formed on an upper side of the pixel corresponding area between the pixels of the display panel 100.
트레이스(230)는 전술한 방법과 동일한 방법에 의해 형성할 수 있으며, 전술한 범위의 두께 및 재질로 형성할 수 있다.The trace 230 may be formed by the same method as described above, and may be formed of a thickness and a material in the aforementioned range.
전술한 바와 같이 트레이스(230)는 감지 패턴(220)과 동일한 소재로 형성할 수 있으며, 그러한 경우에 감지 패턴(220)과 트레이스(230)를 한 공정 내에서 동시에 형성할 수도 있다.As described above, the trace 230 may be formed of the same material as the sensing pattern 220, and in this case, the sensing pattern 220 and the trace 230 may be simultaneously formed in one process.
이후, 상기 트레이스(230) 상에 금속 보조 패턴(240)을 형성한다.Thereafter, the metal auxiliary pattern 240 is formed on the trace 230.
금속 보조 패턴(240)도 마찬가지로, 전술한 범위의 방법, 두께 및 재질로 형성할 수 있다.Similarly, the metal auxiliary pattern 240 may be formed using a method, a thickness, and a material in the above-described range.
다음으로, 상기 금속 보조 패턴(240) 상에 광차단층(250)을 형성한다.Next, the light blocking layer 250 is formed on the metal auxiliary pattern 240.
광차단층(250)은 제3 블랙매트릭스층 또는 금속산화물층으로서, 전술한 범위의 방법, 두께 및 재질로 형성할 수 있다.The light blocking layer 250 is a third black matrix layer or a metal oxide layer, and may be formed using a method, a thickness, and a material in the above-described range.
본 발명은 상기 일면의 디스플레이 패널(100)의 화소간 경계 대응 영역 상측에서 트레이스(230) 및 감지 패턴(220)에 접하는 제2 블랙매트릭스층(260)을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming a second black matrix layer 260 in contact with the trace 230 and the sensing pattern 220 above the inter-pixel boundary corresponding area of the display panel 100.
제2 블랙매트릭스층(260)은 제1 블랙매트릭스층(미도시)과 선택적으로 포함될 수 있다. 제2 블랙매트릭스층(260)은 제1 블랙매트릭스층(미도시)과 마찬가지로 콘트라스트를 개선하는 역할을 한다.The second black matrix layer 260 may be selectively included with the first black matrix layer (not shown). Like the first black matrix layer (not shown), the second black matrix layer 260 serves to improve contrast.
광차단층(250)이 제3 블랙매트릭스층인 경우, 상기 제2 블랙매트릭스층(260)과 제3 블랙매트릭스층을 동일 공정 내에서 형성할 수 있다. 그러한 경우에 콘트라스트 개선을 위한 제2 블랙매트릭스층(260)과 금속 보조 패턴(240)의 시인 억제를 위한 제3 블랙매트릭스층을 각각 따로 형성하지 않고, 한 공정 내에서 동시에 형성함으로써 공정 효율을 현저히 개선할 수 있다.When the light blocking layer 250 is the third black matrix layer, the second black matrix layer 260 and the third black matrix layer may be formed in the same process. In such a case, instead of separately forming the second black matrix layer 260 for contrast improvement and the third black matrix layer for suppressing the visibility of the metal auxiliary pattern 240, the process efficiency is remarkably increased by simultaneously forming them in one process. It can be improved.
이 외에 당 분야에 공지된 추가 공정을 통해 터치 패널을 형성할 수 있다.In addition, the touch panel may be formed through additional processes known in the art.
제조예 1-1 내지 1-3Preparation Examples 1-1 to 1-3
유리기판(굴절률: 1.51) 상에 두께 35nm의 인듐주석산화물(ITO)(굴절률 1.89)로 패턴을 형성하고, ITO 패턴 상에 몰리브덴(굴절률 3.78)으로 두께 300nm의 금속 패턴을 형성하였다. 이후에 금속 패턴 상에 니오븀산화물(Nb2O5, 굴절률 2.28)로 광차단층을 형성하여, 도 6에 나타난 적층체를 제조하였다.A pattern was formed of 35 nm thick indium tin oxide (ITO) (refractive index 1.89) on a glass substrate (refractive index: 1.51), and a metal pattern of 300 nm thick was formed on moltendenum (refractive index 3.78) on the ITO pattern. Thereafter, a light blocking layer was formed of niobium oxide (Nb 2 O 5 , a refractive index of 2.28) on the metal pattern to prepare a laminate shown in FIG. 6.
제조예 2-1 내지 2-8Preparation Examples 2-1 to 2-8
유리기판(굴절률 1.51) 상에 두께 35nm의 인듐주석산화물(ITO)(굴절률 1.89)로 패턴을 형성하고, ITO 패턴 상에 몰리브덴(굴절률 3.78)으로 두께 300nm의 금속 패턴을 형성하였다.A pattern was formed of 35 nm thick indium tin oxide (ITO) (refractive index 1.89) on a glass substrate (refractive index 1.51), and a metal pattern of 300 nm thick was formed on moltendenum (refractive index 3.78) on the ITO pattern.
이후에 금속 패턴 상에 카본 블랙 110중량부, 알칼리 가용성 수지 바인더로 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산의 공중합체(산가 110KOH㎎/g, 몰비 70/30, Mw = 30,000) 29중량부, 및 벤질(메타)아크릴레이트/(메타)아크릴산의 공중합체에 알릴글리시딜 에테르가 부가된 중합체(산가 80 KOH ㎎/g, Mw = 22,000) 70중량부, 관능성 모노머로 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 50중량부, 광중합 개시제로 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-(4-모폴리노페닐)부틸-1-온 20중량부, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4,5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 10중량부, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논 5중량부, 및 머캅토벤조티아졸 5중량부, 첨가제로 분산제인 폴리에스테르계 분산제 9중량부, 밀착촉진제인 3-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란 0.53중량부, 및 발잉크성을 부여하기 위한 레벨링제로 실리콘계 또는 플루오린계 계면활성제 1중량부, 용매로 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 440중량부, 에톡시에틸 프로피오네이트 290중량부를 혼합하였다. 그 다음, 상기 혼합물을 5시간 동안 교반하여 제조된 착색 잉크로 블랙매트릭스층을 형성하여, 도 6에 나타난 적층체를 제조하였다.Thereafter, 110 parts by weight of carbon black on the metal pattern, a copolymer of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid (acid value 110KOHmg / g, molar ratio 70/30, Mw = 30,000) with an alkali-soluble resin binder And 70 parts by weight of a polymer having an allylglycidyl ether added to the copolymer of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid (acid value 80 KOH mg / g, Mw = 22,000), dipentaerythritol as a functional monomer. 50 parts by weight of hexaacrylate, 20 parts by weight of 2-benzyl-2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butyl-1-one as a photopolymerization initiator, 2,2'-bis (o-chloro Phenyl) -4,4,5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole 10 parts by weight, 4 parts by weight of 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, and mercaptobenzothiazole 5 9 parts by weight of a polyester-based dispersant as a dispersant as an additive, 0.53 part by weight of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane as an adhesion promoter, and a leveling agent for imparting ink repellency. Kongye or fluoro ringye Surfactant 1 parts by weight of a solvent of propylene glycol monomethyl ether acetate 440 parts by weight of ethoxy ethyl propionate 290 parts by weight were mixed. Then, the mixture was stirred for 5 hours to form a black matrix layer with a coloring ink prepared to prepare a laminate shown in FIG.
제조예 3-1 내지 3-3Preparation Examples 3-1 to 3-3
광차단층을 Al2O3 내지 Al2O5(굴절률 1.66)으로 형성한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로, 도 6에 나타난 적층체를 제조하였다.A laminate shown in FIG. 6 was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, except that the light blocking layer was formed of Al 2 O 3 to Al 2 O 5 (refractive index 1.66).
제조예 4-1 내지 4-3Preparation Examples 4-1 to 4-3
광차단층을 Cu2O 내지 Cu4O(굴절률 3.10)로 형성한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 도 6에 나타난 적층체를 제조하였다.A laminate shown in FIG. 6 was manufactured in the same manner as in Preparation Example 1, except that the light blocking layer was formed of Cu 2 O to Cu 4 O (refractive index 3.10).
제조예 5-1 내지 5-6Preparation Examples 5-1 to 5-6
광차단층을 형성하지 않은 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 도 7에 나타난 적층체를 제조하였다.A laminate as shown in FIG. 7 was prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that the light blocking layer was not formed.
실험예Experimental Example
(1) ITO 패턴의 저항 측정(1) resistance measurement of ITO pattern
참고예 1 내지 15의 적층체를 제조하여 ITO 패턴의 저항을 측정하였다.The laminates of Reference Examples 1 to 15 were prepared to measure the resistance of the ITO pattern.
상기 적층체는 유리 기판 상에 하기 표 1에 기재된 두께, 5cm x 30㎛ 면적으로 ITO 패턴을 증착하고, ITO 패턴 상에 몰리브덴 패턴을 하기 표 1에 기재된 두께로 증착하였다.The laminate was deposited on a glass substrate with an ITO pattern having a thickness of 5 cm x 30 μm, and a molybdenum pattern was deposited with a thickness as shown in Table 1 below.
이후에, 멀티미터로 저항을 측정하여 하기 표 1에 상대저항을 기재하였다.Thereafter, the resistance is measured by a multimeter, and the relative resistance is described in Table 1 below.
표 1
Figure PCTKR2015004581-appb-T000001
Table 1
Figure PCTKR2015004581-appb-T000001
상기 표 1을 참조하면, 감지패턴의 두께가 증가할수록, 금속 패턴의 두께가 증가할수록 저항이 낮은 것을 확인할 수 있다.Referring to Table 1, it can be seen that the resistance is lower as the thickness of the sensing pattern is increased and the thickness of the metal pattern is increased.
(2) 반사율 측정(2) reflectance measurement
제조예 1 내지 5의 적층체에서 도 6 및 7에 도시된 A 위치에서의 400nm 내지 700nm의 파장 영역대에서의 반사율을 ST-4000(KMAC)으로 측정하였다.In the laminates of Preparation Examples 1 to 5, the reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm at the A position shown in FIGS. 6 and 7 was measured by ST-4000 (KMAC).
표 2
Figure PCTKR2015004581-appb-T000002
TABLE 2
Figure PCTKR2015004581-appb-T000002
상기 표 2을 참조하면, 제조예 1 내지 4의 적층체는 금속 산화물층 또는 블랙매트릭스층에 의해 금속 패턴이 형성되어 있는 A 위치의 반사율이 낮아졌다.Referring to Table 2, in the laminates of Preparation Examples 1 to 4, the reflectance at the A position where the metal pattern was formed by the metal oxide layer or the black matrix layer was lowered.
그러나, 제조예 5의 적층체는 A 위치의 반사율이 매우 높았다.However, the laminate of Production Example 5 had a very high reflectance at the A position.
[부호의 설명][Description of the code]
100: 디스플레이 패널 200: 터치 패널100: display panel 200: touch panel
210: 기판 220: 감지 패턴210: substrate 220: sensing pattern
230: 트레이스 240: 금속 보조 패턴230: trace 240: metal auxiliary pattern
250: 광차단층 260: 제2 블랙매트릭스층250: light blocking layer 260: second black matrix layer

Claims (24)

  1. 디스플레이 패널의 시인측에 배치되는 터치 패널로서,A touch panel disposed on the viewer side of the display panel,
    기판의 시인측 일면에 형성된 감지 패턴,A sensing pattern formed on one side of the viewer's side of the substrate,
    상기 일면에서 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 배치되며, 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는 트레이스,A trace disposed on an upper side of a boundary correspondence region between pixels of the display panel and connecting the sensing pattern to a pad part;
    상기 트레이스 상에 형성된 금속 보조 패턴, 및A metal auxiliary pattern formed on the trace, and
    상기 금속 보조 패턴 상에 형성된 광차단층을 포함하는, 터치 패널.And a light blocking layer formed on the metal auxiliary pattern.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 디스플레이 패널은 화소간 경계를 정의하는 제1 블랙매트릭스층을 포함하는, 터치 패널.The touch panel of claim 1, wherein the display panel includes a first black matrix layer defining an inter pixel boundary.
  3. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1,
    상기 감지 패턴은 복수개의 단위 감지 패턴으로 이격되어 배치되고,The sensing pattern is disposed spaced apart into a plurality of unit sensing patterns,
    상기 트레이스는 각 단위 감지 패턴으로부터 최근접한 베젤부로 연장되어, 상기 베젤부 상에서 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는, 터치 패널.The trace extends from each unit sensing pattern to the nearest bezel portion to connect the sensing pattern with the pad portion on the bezel portion.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 일면의 화소간 경계 대응 영역 상측에 트레이스 및 감지 패턴에 인접하여 배치되는 제2 블랙매트릭스층을 더 포함하는, 터치 패널.The touch panel as set forth in claim 1, further comprising a second black matrix layer disposed adjacent to the trace and the sensing pattern on the inter-pixel boundary corresponding area of the one surface.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 서로 독립적으로 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO) 및 카드뮴주석산화물(CTO)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 소재로 형성된, 터치 패널.The method of claim 1, wherein the sensing pattern and the trace are independently formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO), and cadmium tin oxide (CTO). A touch panel formed of at least one material selected from the group.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 서로 독립적으로 두께가 10 내지 150nm인, 터치 패널.The touch panel of claim 1, wherein the sensing pattern and the trace are 10 to 150 nm in thickness independently of each other.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 금속 보조 패턴은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이들의 합금 소재로 형성된, 터치 패널.The touch panel of claim 1, wherein the metal auxiliary pattern is formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy thereof.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 광차단층은 제3 블랙매트릭스층 또는 금속산화물층인, 터치 패널.The touch panel as set forth in claim 1, wherein the light blocking layer is a third black matrix layer or a metal oxide layer.
  9. 청구항 8에 있어서, 상기 금속산화물은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 및 니오븀으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 금속의 산화물인, 터치 패널.The touch panel as set forth in claim 8, wherein the metal oxide is an oxide of at least one metal selected from the group consisting of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, and niobium.
  10. 청구항 8에 있어서, 상기 금속산화물층은 굴절률이 1.0 내지 3.1인, 터치 패널.The touch panel as set forth in claim 8, wherein the metal oxide layer has a refractive index of 1.0 to 3.1.
  11. 청구항 8에 있어서, 상기 금속산화물층은 두께가 15 내지 100nm인, 터치 패널.The touch panel as set forth in claim 8, wherein the metal oxide layer has a thickness of 15 to 100 nm.
  12. 청구항 8에 있어서, 상기 제3 블랙매트릭스층은 두께가 20 내지 5,000nm인, 터치 패널.The touch panel of claim 8, wherein the third black matrix layer has a thickness of 20 to 5,000 nm.
  13. 기판의 시인측 일면에 감지 패턴을 형성하는 단계,Forming a sensing pattern on one surface of the viewer at the viewer;
    상기 일면에 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는 트레이스를 형성하는 단계,Forming a trace connecting the sensing pattern to a pad part on the one surface;
    상기 트레이스 상에 금속 보조 패턴을 형성하는 단계, 및Forming a metal auxiliary pattern on the trace, and
    상기 금속 보조 패턴 상에 광차단층을 형성하는 단계를 포함하며,Forming a light blocking layer on the metal auxiliary pattern;
    상기 트레이스가 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 위치하도록 배치되는, 터치 패널의 제조 방법.And wherein the trace is disposed above the boundary correspondence region between the pixels of the display panel.
  14. 디스플레이 패널의 시인측 일면에 감지 패턴을 형성하는 단계;Forming a sensing pattern on one surface of the viewer side of the display panel;
    상기 일면에서 상기 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하는 트레이스를 형성하는 단계;Forming a trace on the surface of the display panel, the trace connecting the sensing pattern to a pad unit above the pixel-corresponding region of the display panel;
    상기 트레이스 상에 금속 보조 패턴을 형성하는 단계; 및Forming a metal auxiliary pattern on the trace; And
    상기 금속 보조 패턴 상에 광차단층을 형성하는 단계;를 포함하는, 터치 패널의 제조 방법.And forming a light blocking layer on the metal auxiliary pattern.
  15. 청구항 13 또는 14에 있어서,The method according to claim 13 or 14,
    상기 감지 패턴은 복수개의 단위 감지 패턴으로 이격되어 배치되도록 형성하고,The sensing pattern is formed to be spaced apart from the plurality of unit sensing patterns,
    상기 트레이스는 각 단위 감지 패턴으로부터 최근접한 베젤부로 연장되어, 상기 베젤부 상에서 상기 감지 패턴을 패드부와 연결하도록 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.And the traces extend from each unit sensing pattern to the nearest bezel portion to connect the sensing pattern with the pad portion on the bezel portion.
  16. 청구항 13 또는 14에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 각각 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO) 및 카드뮴주석산화물(CTO)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 소재로 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.15. The method of claim 13 or 14, wherein the sensing pattern and the trace is made of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO) and cadmium tin oxide (CTO), respectively. A method of manufacturing a touch panel, which is formed of at least one material selected from the group.
  17. 청구항 13 또는 14에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 서로 독립적으로 두께가 10 내지 150nm인, 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 13, wherein the sensing pattern and the trace are 10 to 150 nm in thickness independently of each other.
  18. 청구항 13 또는 14에 있어서, 상기 감지 패턴 및 트레이스는 한 공정 내에서 동시에 형성되는, 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 13, wherein the sensing pattern and the trace are simultaneously formed in one process.
  19. 청구항 13 또는 14에 있어서, 상기 금속 보조 패턴은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이들의 합금 소재로 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 13, wherein the metal auxiliary pattern is formed of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy thereof.
  20. 청구항 13 또는 14에 있어서, 상기 일면의 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측에 트레이스 및 감지 패턴에 접하도록 배치되는 제2 블랙매트릭스층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 13, further comprising forming a second black matrix layer disposed above the inter-pixel boundary corresponding region of the display panel on the one surface to contact the trace and the sensing pattern.
  21. 청구항 20에 있어서, 상기 광차단층은 제3 블랙매트릭스층으로서,The method of claim 20, wherein the light blocking layer is a third black matrix layer,
    상기 일면의 디스플레이 패널의 화소간 경계 대응 영역 상측 및 금속 보조패턴 상에 블랙매트릭스층 형성용 조성물을 도포하여,Applying the composition for forming a black matrix layer on the upper side of the inter-pixel boundary region and the metal auxiliary pattern of the display panel of one surface,
    상기 제2 블랙매트릭스층과 제3 블랙매트릭스층을 동일 공정 내에서 형성하는, 터치 패널의 제조 방법.And forming the second black matrix layer and the third black matrix layer in the same process.
  22. 청구항 13 또는 14에 있어서, 상기 광차단층은 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 및 니오븀으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 금속의 산화물을 금속 보조 패턴 상에 증착시켜 형성되는, 터치 패널의 제조 방법.The method according to claim 13 or 14, wherein the light blocking layer is deposited on the metal auxiliary pattern oxide of at least one metal selected from the group consisting of molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium and niobium. The manufacturing method of a touch panel formed by making a metal.
  23. 청구항 22에 있어서, 상기 금속산화물은 굴절률이 1 내지 3.1인, 터치 패널의 제조 방법.The method of claim 22, wherein the metal oxide has a refractive index of 1 to 3.1.
  24. 청구항 13 또는 14에 있어서, 상기 광차단층은 금속 보조 패턴의 시인측 표면을 산화시켜 형성되는, 터치 패널의 제조 방법.The manufacturing method of a touch panel according to claim 13 or 14, wherein the light blocking layer is formed by oxidizing the viewing side surface of the metal auxiliary pattern.
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