WO2014086539A1 - Systeme optique comportant un filtre optique a masque de phase et/ou d'amplitude a motif periodique - Google Patents

Systeme optique comportant un filtre optique a masque de phase et/ou d'amplitude a motif periodique Download PDF

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WO2014086539A1
WO2014086539A1 PCT/EP2013/073075 EP2013073075W WO2014086539A1 WO 2014086539 A1 WO2014086539 A1 WO 2014086539A1 EP 2013073075 W EP2013073075 W EP 2013073075W WO 2014086539 A1 WO2014086539 A1 WO 2014086539A1
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WO
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phase
pupil
optical system
filter
mesh
Prior art date
Application number
PCT/EP2013/073075
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Inventor
Frédéric DIAZ
Mane-Si Laure Lee-Bouhours
Joël Rollin
Brigitte Loiseaux
Xavier Rejeaunier
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Thales
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0075—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means for altering, e.g. increasing, the depth of field or depth of focus
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
    • G02B2207/125—Wavefront coding
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/32—Holograms used as optical elements

Definitions

  • Optical system comprising an optical filter with phase mask and / or periodic pattern amplitude
  • the field of the invention is that of optical systems called "pupil coding” and comprising a phase and / or amplitude filter.
  • the more particular field of the invention is that of viewing systems for projecting an aerial image to the eye of a user, so-called “ocular” systems.
  • the general principle of pupil coding is to introduce into an optical combination a filter, generally a phase filter, which will facilitate the post-processing of the image.
  • a filter generally a phase filter
  • the uses are numerous. It is thus possible to simplify the optical combination or make it insensitive to certain defects such as defocusing, so as to obtain either an image with a large depth of field or a system insensitive to environmental variations.
  • FIGS. 1 and 2 There are two main modes of using pupil coding. These modes are shown in FIGS. 1 and 2.
  • the first mode illustrated in FIG. 1 is called "conventional pupil-encoded hybrid imaging".
  • An optical system S forms an object f an image f on the photosensitive surface of a camera C.
  • the object f is an aircraft.
  • the system S has at its pupil a pupil-coded optical filter L.
  • the image f is digitally processed by a computer T and displayed on a display screen E.
  • the operating principle of the filter L is to realize the deconvolution by the percussional response of optics S or "PSF", an acronym for "Point Spread Function".
  • p is the response of the system to an infinitely small object. If we know the percussional response p of an optics, knowing an object f, the image f of f given by optics S is:
  • the second mode illustrated in FIG. 2 is called "inverse pupil-coded hybrid imaging". He is next to the previous one.
  • a first optical system S ' makes the image f of an object f on the photosensitive surface of a camera C. This image f is digitally processed by a computer T to give an image f ". This image f" is displayed on a display A.
  • a second optical system S "having a filter L gives this image f" a collimated image f "perceived by an observer.
  • phase ⁇ ( ⁇ , y) is represented in the orthonormal frame (x, y) in the form of a grid sheet;
  • phase variation of the phase filter is a polynomial in x and y.
  • the phase variation of the phase filter is a polynomial in r, where r represents the distance at the center of the filter;
  • the correction filter may also comprise an amplitude function, that is to say that it comprises, in addition to the phase function, zones with variable optical transmission.
  • FIG. 4 represents a phase L filter.
  • the phase variations are represented by equiphase C 0 level curves represented by lines in fine lines.
  • FIG. 5 shows the variation of the zone Z selected on the phase filter L by an eye Y when it moves perpendicularly to the optical axis of an optical system S comprising this phase filter.
  • Z the selected zone on the axis and Z 'the off-axis zone.
  • These zones Z and Z ' are represented by a circle in bold line in FIG. 4.
  • the phase variation selected in the zones Z and Z' varies considerably with the movements of the eye.
  • the image quality also depends on the diameter of the eye pupil. Thus, at low illuminations, it increases and the aberrations of the ocular recovery system are amplified. On the other hand, depending on the position on the optical axis of the filter disposed either in the pupil or outside the pupil with respect to the optical system, it is advisable to make a choice of the type of mask that one wants use, the masks not being similarly sensitive to the positions of the eye in the eye box.
  • the phase mask according to the invention does not have these disadvantages. It comprises a phase profile consisting of an elementary phase pattern repeated periodically according to a predetermined mesh. It is therefore much less sensitive to the movements of the eye of the user.
  • the subject of the invention is a pupil-coded optical system comprising a phase mask and / or amplitude optical filter, characterized in that the phase and / or amplitude profile of said mask mask filter phase is at least constituted by a mesh comprising a plurality of substantially identical elementary meshes, each mesh having a substantially identical phase pattern from one mesh to the other.
  • the elementary mesh is a square or a rectangle, the mesh of the filter being matrix.
  • the elementary mesh is a hexagon, the mesh of the filter being honeycomb.
  • the elementary mesh is a circular sector centered on the center of the filter.
  • the surface of the elementary mesh is between a few square millimeters and a few square centimeters.
  • the phase profile further comprises a linearly variable phase in a predetermined direction.
  • phase and / or amplitude profile of the elementary phase pattern is of cubic or CPP or trigonometric or annular or polynomial type.
  • the phase mask filter being a thin plate
  • the phase profile is obtained by the variation in thickness of said plate or by the optical index variation of said blade.
  • the optical index variation is obtained by placing on at least one of the faces of the blade of sub-structures wavelength, the optical index being a function of the density and / or the size of said sub-wavelength structures.
  • the optical system is of the objective type or of the ocular type.
  • the phase mask optical filter is disposed in or in the immediate vicinity of the pupil of the optical system.
  • Figure 1 already commented represents a hybrid imaging system with conventional pupil coding
  • Figures 4 and 5 show the variation of the selected area on a phase filter according to the prior art when the eye of the user moves in the pupil of an optical system
  • FIG. 6 represents a first phase profile of a phase filter according to the invention
  • FIG. 7 represents a second phase profile of a phase filter according to the invention.
  • the phase and / or amplitude profile of a phase mask and / or amplitude mask filter according to the invention consists of a mesh comprising a plurality of substantially identical elementary cells, each mesh having a substantially identical phase pattern from one mesh to another.
  • the corresponding selected area on the filter has a substantially identical phase variation irrespective of the displacements of the eye of the user who always perceives a clear and good image both in the center of the pupil and in the periphery.
  • the elementary mesh may have different geometric shapes so as to best cover the surface of the filter.
  • the elementary cell M is a circular sector centered on the center of the filter L.
  • the phase variations are represented by equiphase level curves C 0 represented by lines in fine lines. We see that with one rotation, they are identical from one mesh to another.
  • the elementary mesh M is a square represented in bold lines in FIG. 7.
  • the equiphase contour lines C 0 are identical from one mesh to another.
  • the surface of the elementary mesh M is between a few square millimeters and a few square centimeters.
  • the phase profile may comprise a variable phase linearly in a predetermined direction that is called "tilt" phase.
  • phase and / or amplitude profile of the elementary phase pattern can take all the classical shapes of the phase profiles.
  • this profile can be of cubic or CPP or trigonometric or annular or polynomial type.
  • These masks according to the invention can be manufactured in particular by diamond machining or by magneto-rheological machining when their deformations are not too pronounced, which is generally the case for applications dedicated to applications in the visible spectrum, as it is necessarily the case. case for ocular type applications.
  • various glasses, silica-on-glass layers, moldable materials such as the material known under the trademark "GASIR®” and marketed by the company “Umicore Electro-Optics Materials”
  • plastic materials polymers, titanium dioxide or semiconductor materials such as silicon, germanium, gallium arsenide, zinc sulfide or zinc selenide.
  • phase mask filter is generally a thin strip
  • the phase profile can be obtained by varying the thickness of said strip.
  • Another technical possibility is to code the phase function using a change in the effective index of the blade.
  • index change There are different possibilities for making this index change.
  • subwavelength structures can be arranged on one or both of the interfaces of the phase filter. It is then a question of using small structures at the wavelength scale and of varying locally the size of these structures to synthesize the desired effective index distribution, or their density. Generally, the dimension of these structures is at least an order of magnitude lower than the average wavelength of use.
  • These masks can also be hybrids called "on a level”, that is to say include a first variable height structure associated with second subwavelength structures within the same filter. Indeed, there is an interest in associating slowly variable areas machining machined to sub-wavelength binary zones so as to synthesize areas of rapidly variable phase.
  • phase mask and / or amplitude mask optical filter according to the invention is particularly applicable to ocular-type optical systems in which the pupil is in fact that of the observer which is, for example, nature, mobile in the image field.
  • the filter according to the invention also applies to conventional imaging systems in pupil coding.
  • the use of such masks makes it possible to widen the positioning tolerances of the filter, thus giving more freedom in the design and construction of the optical system.
  • the increase in the latitude offered makes it possible to position the filter outside the pupil of the system, which is a definite advantage when it is not possible to access the pupil of the optical system.

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Abstract

Le domaine général de l'invention est celui des systèmes optiques à codage de pupille comportant un filtre optique (L) à masque de phase. Le profil de phase et /ou d'amplitude du filtre à masque de phase selon l'invention est constitué par un motif de phase élémentaire répété périodiquement selon un maillage prédéterminé (M) qui peut être matriciel ou hexagonal. Cette disposition permet de s'affranchir d'un certain nombre de problèmes de qualité optique liés notamment aux déplacements d'œil dans la pupille du système optique.

Description

Système optique comportant un filtre optique à masque de phase et/ou d'amplitude à motif périodique
Le domaine de l'invention est celui des systèmes optiques dits à « codage de pupille » et comportant un filtre de phase et/ou d'amplitude. Le domaine plus particulier de l'invention est celui des systèmes de visualisation permettant la projection d'une image aérienne vers l'œil d'un utilisateur, systèmes dits « oculaires ».
Le principe général du codage de pupille est d'introduire dans une combinaison optique un filtre, généralement un filtre de phase, qui va faciliter le post-traitement de l'image. Les utilisations sont nombreuses. On peut ainsi simplifier la combinaison optique ou la rendre insensible à certains défauts comme la défocalisation, de façon à obtenir soit une image avec une grande profondeur de champ, soit un système insensible aux variations de l'environnement.
Il existe deux modes principaux d'utilisation du codage de pupille. Ces modes sont représentés en figures 1 et 2. Le premier mode illustré en figure 1 est appelé « Imagerie hybride à codage de pupille classique ». Un système optique S forme d'un objet f une image f sur la surface photosensible d'une caméra C. Sur les différentes figures, l'objet f est un aéronef. Le système S comporte au niveau de sa pupille un filtre optique à codage de pupille L. L'image f est traitée numériquement par un calculateur T et affichée sur un écran de visualisation E. Le principe de fonctionnement du filtre L est de réaliser la déconvolution par la réponse percussionnelle de l'optique S ou « PSF », acronyme de « Point Spread Function ». p est la réponse du système à un objet infiniment petit. Si l'on connaît la réponse percussionnelle p d'une optique, connaissant un objet f, l'image f de f donnée par l'optique S vaut :
f = f ®p ® étant le symbole de la convolution,
Dans l'espace de Fourier, espace des fréquences spatiales, on a : F' = F.P avec F', F et P transformées de Fourier de f, f et p
P est la fonction de transfert de modulation. Pour retrouver parfaitement l'objet f, il faudrait donc, dans cet espace, inverser F = F7P. Malheureusement, cette opération n'est pas toujours possible. Elle est même impossible quand P passe par zéro et est numériquement instable quand P est trop faible. Lorsque l'optique est défocalisée, la fonction P présente plusieurs zéros. Il faut donc la stabiliser pour augmenter la profondeur de champ. Des filtres L de phases spéciaux sont adaptés à cette tâche. Ainsi, cette technique nécessite d'une part un filtre de phase adapté à la fonction que l'on souhaite optimiser et d'autre part un traitement d'image permettant de réaliser l'opération de déconvolution.
Le second mode illustré en figure 2 est appelé « Imagerie hybride à codage de pupille inverse ». Il est voisin du précédent. Un premier système optique S' fait l'image f d'un objet f sur la surface photosensible d'une caméra C. Cette image f est traitée numériquement par un calculateur T pour donner une image f". Cette image f" est affichée sur un afficheur A. Un second système optique S" comportant un filtre L donne de cette image f" une image collimatée f" perçue par un observateur.
Ces techniques ont fait l'objet de différentes publications. Les points essentiels abordés sont les principes physiques permettant la correction des aberrations géométriques ou dynamiques ou la correction des défauts de focalisation et les principes techniques de réalisation des filtres de correction de phase ou d'amplitude. Les applications visées portent sur le domaine infrarouge, la micro-lithographie et plus généralement, le domaine de l'imagerie.
On citera tout particulièrement les brevets de la société CDM
OPTICS déposés par Edward Dowski concernant les principes physiques et en particulier les demandes de brevet WO/2004/090581 , WO/2006/001785, et le brevet US 6 069 738.
On citera également les quatre articles de F.Diaz, F.Goudail, B.Loiseaux et J.P. Huignard intitulés respectivement « Design of a complex filter for depth of focus extension », Optics Letters 34, 1 171 -1 173 (2009) - « Increase in depth of field taking into account déconvolution by optimization of pupil mask », Optics Letters 34, 2970-2972 (2009) - « Comparison between a new holographically generated complex filter and the binary phase filter for depth of field extension », SPIE, vol. 7329 (2009) - « Optimization of hybrid imaging Systems including digital deconvolution in the présence of noise » in Imaging Systems, OSA technical Digest, paper IMD4 (201 0).
Plusieurs types de filtres sont possibles, le plus simple étant constitué d'un saut de phase unique, proche d'une différence de phase valant π entre deux zones constituant l'une des surfaces du filtre. Le ratio entre les deux surfaces est optimisé pour obtenir le meilleur compromis possible entre le rapport signal à bruit noté S/B et la correction des défocalisations, pour obtenir des résolutions géométriques optimales.
D'autres filtres plus complexes peuvent être mis en œuvre et les géométries des masques décrites dans la littérature de l'art antérieur restent applicables à la correction des défocalisations:
Les masques dits cubiques dont la fonction de phase Φ(χ, y) dans un repère orthonormé (x, y) vaut : φ{χ, y) = .(x3 + y3 ) . Un tel type de filtre est représenté en vue tridimensionnelle en figure 3. Sur cette figure, la phase Φ(χ, y) est représentée dans le repère orthonormé (x, y) sous la forme d'une nappe quadrillée ;
Les masques dits CPP pour « Constant Profil Path » ;
Les masques dont la fonction de phase est une fonction trigonométrique ;
Les masques simplifiés annulaires composés d'anneaux concentriques, chaque anneau introduisant une phase constante et différente selon l'anneau ;
Les masques dits polynomiaux, le filtre étant référencé dans un repère (x, y), la variation de phase du filtre de phase est un polynôme en x et en y. Lorsque le masque est à symétrie radiale, la variation de phase du filtre de phase est un polynôme en r, r représentant la distance au centre du filtre ;
Les masques asymétriques ;
- Les masques dits semi-circulaires dont la variation de phase
Φ(χ, y) du filtre de phase vérifie l'équation ci-dessous, le filtre étant référencé dans un repère (x, y) en coordonnées cartésiennes ou (r, Θ) en notations polaires : ^x, y, r) = .sign(x).rfi OU (χ, γ, τ) = .sign{n.6).rp , a et β étant des constantes et la fonction sign(x) valant 1 lorsque x est positif et -1 lorsque x est négatif.
Le filtre de correction peut comporter également une fonction d'amplitude, c'est-à-dire qu'il comporte, outre la fonction de phase, des zones à transmission optique variable.
Ces types de masques associés à du prétraitement fonctionnent bien pour la projection oculaire lorsque l'œil occupe une position nominale sur l'axe optique du système optique. Cependant, la qualité de l'image dépend de la position de l'œil, c'est-à-dire que, lorsque l'œil se déplace à l'intérieur de la boite à œil correspondant à l'espace définissant les positions d'observation possibles définies pour un système de visualisation donné, la qualité de l'image varie et se dégrade car la portion du masque vu à différentes positions de l'œil ne correspond plus au masque nominal qui n'est optimal que sur l'axe optique.
Ce problème est illustré sur les figures 4 et 5. La figure 4 représente un filtre de phase L. Les variations de phase sont représentées par des courbes de niveau équiphase C0 représentées par des lignes en traits fins. La figure 5 représente la variation de la zone Z sélectionnée sur le filtre de phase L par un œil Y lorsqu'il se déplace perpendiculairement à l'axe optique d'un système optique S comportant ce filtre de phase. On appelle Z la zone sélectionnée sur l'axe et Z' la zone hors d'axe. Ces zones Z et Z' sont représentées par un cercle en trait gras sur la figure 4. Comme on le voit par l'allure des courbes de niveau, la variation de phase sélectionnée dans les zones Z et Z' varie de façon importante avec les déplacements de l'œil.
La qualité d'image dépend également du diamètre de la pupille d'œil. Ainsi, aux faibles éclairements, celui-ci augmente et les aberrations du système de reprise oculaire s'en trouvent amplifiées. D'autre part, en fonction de la position sur l'axe optique du filtre disposé soit dans la pupille, soit hors de la pupille par rapport au système optique, il est judicieux de faire un choix du type de masque que l'on veut utiliser, les masques n'étant pas sensibles de la même façon aux positions de l'œil dans la boîte à œil.
Ce défaut n'est pas acceptable et est même rédhibitoire pour l'utilisation du codage de pupille inverse dans le cas d'un système de projection oculaire. Il serait possible de faire des optimisations en prenant en compte les différentes positions de l'œil dans la boite à œil puis de moyenner de façon pondérée le masque. Cependant les masques adaptés à chaque position de l'œil étant généralement très différents, la technique d'optimisation n'est pas bien adaptée.
Le masque de phase selon l'invention ne présente pas ces inconvénients. Il comporte un profil de phase constitué par un motif de phase élémentaire répété périodiquement selon un maillage prédéterminé. Il est donc beaucoup moins sensible aux déplacements de l'œil de l'utilisateur.
Plus précisément, l'invention a pour objet un système optique à codage de pupille comportant un filtre optique à masque de phase et /ou d'amplitude, caractérisé en ce que le profil de phase et /ou d'amplitude dudit filtre à masque de phase est au moins constitué par un maillage comportant une pluralité de mailles élémentaires sensiblement identiques, chaque maille comportant un motif de phase sensiblement identique d'une maille à l'autre.
Avantageusement, la maille élémentaire est un carré ou un rectangle, le maillage du filtre étant matriciel.
Avantageusement, la maille élémentaire est un hexagone, le maillage du filtre étant en nid d'abeille.
Avantageusement, la maille élémentaire est un secteur circulaire centré sur le centre du filtre.
Avantageusement, la surface de la maille élémentaire est comprise entre quelques millimètres carrés et quelques centimètres carrés.
Avantageusement, le profil de phase comporte de plus une phase variable linéairement selon une direction prédéterminée.
Avantageusement, le profil de phase et/ou d'amplitude du motif de phase élémentaire est de type cubique ou CPP ou trigonométrique ou annulaire ou polynomial.
Avantageusement, le filtre à masque de phase étant une lame mince, le profil de phase est obtenu par la variation d'épaisseur de ladite lame ou par la variation d'indice optique de la dite lame.
Avantageusement, la variation d'indice optique est obtenue par la mise en place sur au moins l'une des faces de la lame de structures sub- longueur d'onde, l'indice optique étant une fonction de la densité et/ou de la taille des dites structures sub-longueur d'onde.
Avantageusement, le système optique est du type objectif ou du type oculaire.
Avantageusement, le filtre optique à masque de phase est disposé dans ou au voisinage immédiat de la pupille du système optique.
L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre donnée à titre non limitatif et grâce aux figures annexées parmi lesquelles :
La figure 1 déjà commentée représente un système à imagerie hybride à codage de pupille classique ;
La figure 2 déjà commentée représente un système à imagerie hybride à codage de pupille inverse ;
La figure 3 déjà commentée représente un filtre de phase à codage cubique selon l'art antérieur ;
Les figures 4 et 5 représentent la variation de la zone sélectionnée sur un filtre de phase selon l'art antérieur lorsque l'œil de l'utilisateur se déplace dans la pupille d'un système optique ;
La figure 6 représente un premier profil de phase d'un filtre de phase selon l'invention ;
La figure 7 représente un second profil de phase d'un filtre de phase selon l'invention. Pour pallier les difficultés précédentes, le profil de phase et/ou d'amplitude d'un filtre à masque de phase et/ou d'amplitude selon l'invention est constitué par un maillage comportant une pluralité de mailles élémentaires sensiblement identiques, chaque maille comportant un motif de phase sensiblement identique d'une maille à l'autre.
On comprend que, dans ce cas, lorsque l'œil de l'utilisateur se déplace dans la pupille, la zone sélectionnée correspondante sur le filtre comporte une variation de phase sensiblement identique quels que soient les déplacements de l'œil de l'utilisateur qui perçoit toujours une image nette et de bonne qualité aussi bien au centre de la pupille qu'en périphérie. La maille élémentaire peut avoir différentes formes géométriques de façon à couvrir au mieux la surface du filtre. Dans un premier exemple illustré en figure 6, la maille élémentaire M est un secteur circulaire centré sur le centre du filtre L. Sur cette figure comme sur la suivante, les variations de phase sont représentées par des courbes de niveau équiphase C0 représentées par des lignes en traits fins. On voit qu'à une rotation près, elles sont identiques d'une maille à l'autre.
Dans un second exemple illustré en figure 7, la maille élémentaire M est un carré représenté en traits gras sur la figure 7. Là encore, les courbes de niveau équiphase C0 sont identiques d'une maille à l'autre. Dans une autre version, on peut utiliser une maille hexagonale, en lieu et place de la maille carrée de la figure 7.
Généralement, la surface de la maille élémentaire M est comprise entre quelques millimètres carrés et quelques centimètres carrés.
Le profil de phase peut comporter une phase variable linéairement selon une direction prédéterminée que l'on appelle « tilt » de phase.
Le profil de phase et/ou d'amplitude du motif de phase élémentaire peut prendre toutes les formes classiques des profils de phase. A titre d'exemples, ce profil peut être de type cubique ou CPP ou trigonométrique ou annulaire ou polynomial.
Ces masques selon l'invention peuvent être fabriqués notamment par usinage diamant ou par usinage magnéto rhéologiques quand leurs déformées ne sont pas trop prononcées, ce qui est généralement le cas pour les applications dédiées aux applications dans le spectre visible, comme c'est nécessairement le cas pour les applications de type oculaire.
Différents matériaux sont envisageables pour la réalisation des masques. A titre non exhaustif, on peut citer différents verres, des couches de silice sur verre, des matériaux moulables comme le matériau connu sous la marque « GASIR® » et commercialisé par la société « Umicore Electro- Optics Materials », des matériaux plastiques, des polymères, le dioxyde de titane ou encore des matériaux semi-conducteurs comme le silicium, le germanium, l'arséniure de gallium, le sulfure de zinc ou le séléniure de zinc.
Le filtre à masque de phase étant généralement une lame mince, le profil de phase peut être est obtenu par la variation d'épaisseur de ladite lame. Une autre possibilité technique consiste à coder la fonction de phase en utilisant un changement de l'indice effectif de la lame. Il existe différentes possibilités pour réaliser ce changement d'indice. Ainsi, on peut disposer des structures sub-longueur d'onde sur l'une des interfaces du filtre de phase ou sur les deux. Il s'agit alors d'utiliser des structures petites à l'échelle de la longueur d'onde et de faire varier localement soit la taille de ces structures pour synthétiser la distribution d'indice effectif désirée, soit leur densité. Généralement, la dimension de ces structures est au moins un ordre de grandeur inférieur à la longueur d'onde moyenne d'utilisation.
Ces masques peuvent aussi être hybrides dits « sur un niveau », c'est-à-dire comporter une première structure à hauteur variable associée à des secondes structures sub-longueur d'onde à l'intérieur du même filtre. En effet, il y a un intérêt à associer des zones de hauteur lentement variable fabriquées par usinage à des zones binaires sub-longueur d'onde de façon à synthétiser des zones à phase rapidement variable.
Ces masques peuvent aussi être hybrides dits « sur deux niveaux
», c'est-à-dire comporter une première structure à hauteur variable associée à des secondes et troisièmes structures sub-longueur d'onde. Cette dernière structure hybride présente un intérêt dans le cas où il est difficile d'obtenir un bon traitement antireflet sur le filtre par les moyens de couches minces classiques. Ces masques présentent plusieurs niveaux de structures sublongueur d'onde permettant d'associer la fonction de phase du masque destinée à assurer une correction de l'image avec cette fonction antireflet.
Comme il a été dit, le filtre optique à masque de phase et /ou d'amplitude selon l'invention s'applique tout particulièrement aux systèmes optiques de type oculaire dans lesquels la pupille est en fait celle de l'observateur qui est, par nature, mobile dans le champ image.
Cependant, le filtre selon l'invention s'applique également aux systèmes d'imagerie classique en codage de pupille. L'utilisation de tels masques permet d'élargir les tolérances de positionnement du filtre, donnant ainsi plus de liberté dans la conception et la réalisation du système optique.
L'augmentation de la latitude offerte permet de positionner le filtre en dehors de la pupille du système, ce qui constitue un avantage certain lorsqu'il n'est pas possible d'accéder à la pupille du système optique.

Claims

REVENDICATIONS
1 . Système optique à codage de pupille comportant un filtre optique (L) à masque de phase et /ou d'amplitude, caractérisé en ce que le profil de phase et/ou d'amplitude dudit filtre à masque de phase et /ou d'amplitude est au moins constitué par un maillage comportant une pluralité de mailles élémentaires (M) sensiblement identiques, chaque maille comportant un motif de phase sensiblement identique d'une maille à l'autre, le profil de phase et/ou d'amplitude comportant de plus une phase variable linéairement selon une direction prédéterminée.
2. Système optique à codage de pupille selon la revendication 1 , caractérisé en ce que la maille élémentaire (M) est un carré ou un rectangle, le maillage du filtre étant matriciel.
3. Système optique à codage de pupille selon la revendication 1 , caractérisé en ce que la maille élémentaire (M) est un hexagone, le maillage du filtre étant en nid d'abeille.
4. Système optique à codage de pupille selon la revendication 1 , caractérisé en ce que la maille élémentaire (M) est un secteur circulaire centré sur le centre du filtre.
5. Système optique à codage de pupille selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la surface de la maille élémentaire est comprise entre quelques millimètres carrés et quelques centimètres carrés.
6. Système optique à codage de pupille selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le profil de phase et/ou d'amplitude du motif de phase élémentaire est de type cubique ou CPP ou trigonométrique ou annulaire ou polynomial.
7. Système optique à codage de pupille selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que, le filtre à masque de phase étant une lame mince, le profil de phase est obtenu par la variation d'épaisseur de ladite lame.
8. Système optique à codage de pupille selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que, le filtre à masque de phase étant une lame mince, le profil de phase est obtenu par la variation d'indice optique de la dite lame.
9. Système optique à codage de pupille selon la revendication 8, caractérisé en ce que la variation d'indice optique est obtenue par la mise en place sur au moins l'une des faces de la lame de structures sub-longueur d'onde, l'indice optique étant une fonction de la densité et/ou de la taille des dites structures sub-longueur d'onde.
10. Système optique à codage de pupille selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le système optique est du type objectif.
1 1 . Système optique à codage de pupille selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que le système optique est du type oculaire.
12. Système optique à codage de pupille selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que le filtre optique à masque de phase est disposé dans ou au voisinage immédiat de la pupille du système optique.
PCT/EP2013/073075 2012-12-07 2013-11-05 Systeme optique comportant un filtre optique a masque de phase et/ou d'amplitude a motif periodique WO2014086539A1 (fr)

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