WO2014038816A1 - Electrode body for measuring brain waves in which length and direction of electrodes vary, and apparatus for measuring brain waves using same - Google Patents

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김영환
홍혁기
손재기
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전자부품연구원
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    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
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    • A61B5/24Detecting, measuring or recording bioelectric or biomagnetic signals of the body or parts thereof
    • A61B5/25Bioelectric electrodes therefor
    • A61B5/279Bioelectric electrodes therefor specially adapted for particular uses
    • A61B5/291Bioelectric electrodes therefor specially adapted for particular uses for electroencephalography [EEG]

Abstract

Provides are an electrode body for measuring brain waves in which the length and direction of electrodes vary, and an apparatus for measuring brain waves using the same. According to one embodiment of the present invention, the electrode body for measuring brain waves comprises: electrodes of which one end comes in contact with the scalp and of which the length vary; and a combining body into which the electrodes are combined. Therefore, since it is possible to uniformly maintain the pressure of the electrodes applied to the scalp, a more accurate measurement of brain waves is enabled.

Description

전극의 길이와 방향이 가변되는 뇌파 측정용 전극체 및 이를 이용한 뇌파 측정 장치Electrode body for measuring EEG with variable length and direction of electrode and EEG measuring device using same
본 발명은 뇌파 측정용 전극체 및 이를 적용한 뇌파 측정 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 뇌파 측정을 위해 사람의 두피에 접촉시키는 전극체 및 이를 이용한 뇌파 측정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electrode body for measuring EEG and an EEG measuring apparatus using the same, and more particularly to an electrode body for contacting the human scalp for EEG measurement and an EEG measuring apparatus using the same.
뇌파 측정을 위한 전극은, 습식 전극과 건식 전극으로 분류된다. 습식 전극은 젤을 이용하여 두피에 수분을 공급함으로서 피부 임피던스를 낮출 수 있고 노이즈 발생이 작아 정확한 뇌파 측정이 가능하다.Electrodes for EEG measurement are classified into a wet electrode and a dry electrode. Wet electrodes use a gel to moisturize the scalp to lower skin impedance and reduce noise to enable accurate EEG measurements.
하지만, 습식 전극 방식은 두피에 젤이 발라지기 때문에 불쾌감을 유발하고, 뇌파 측정을 위한 준비과정이 길며, 경우에 따라서는 두발을 제거해야 하기도 한다.However, the wet electrode method causes discomfort because the gel is applied to the scalp, the preparation process for measuring EEG is long, and in some cases the hair needs to be removed.
이와 같은 습식 전극의 불편을 해소시키기 위해 금속 재질의 건식 전극이 개발되었다. 건식 전극에 의해 습식 전극으로 인해 발생하는 불편함은 해소될 수 있었다.In order to alleviate the inconvenience of the wet electrode, a metal dry electrode has been developed. Discomfort caused by the wet electrode by the dry electrode could be eliminated.
하지만, 건식 전극은 두피에 가하는 압력이 각기 다르다. 이는, 두상이 평면이 아닌 매우 불규칙한 곡면임에 기인한다. 건식 전극은 위치에 따라 두피에 강하게 밀착되어 접촉할 수도 있고 약하게 밀착되어 접촉할 수도 있는데, 이로 인해 뇌파 측정의 정확도가 떨어지게 된다.However, dry electrodes have different pressures on the scalp. This is due to the fact that the two phases are very irregular curved surfaces rather than planes. The dry electrode may be in close contact with the scalp, or may be in close contact with the scalp, depending on the location, which reduces the accuracy of EEG measurement.
또한, 건식 전극의 경우 두피에 수분공급을 하지 않으므로 피부 임피던스가 높게 나타나고, 습식 전극과 같이 두피에 고정되지 않으므로 두상의 움직임에 따라 노이즈가 심하게 발생한다는 문제가 있다.In addition, the dry electrode does not supply moisture to the scalp, so the skin impedance is high, and as the wet electrode is not fixed to the scalp, there is a problem that noise is severely generated by movement of the head.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 보다 정확한 뇌파 측정을 위해, 전극들이 두피에 가하는 압력들을 균일한 전극의 길이와 방향이 가변되는 뇌파 측정용 전극체 및 이를 이용한 뇌파 측정 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention, the electrode body for measuring the EEG for varying the length and direction of the uniform electrode pressure applied to the scalp for more accurate EEG measurement And to provide an EEG measurement device using the same.
또한, 본 발명의 다른 목적은, 건식 전극을 이용함으로 인해 발생하는 높은 임피던스와 많은 노이즈를 감쇄시키기 위한 방안으로, 건식 전극의 특징과 습식 전극의 특징을 결합한 하이브리드 전극을 이용한 뇌파 측정용 전극체 및 이를 이용한 뇌파 측정 장치를 제공함에 있다.In addition, another object of the present invention is to reduce the high impedance and a lot of noise generated by using a dry electrode, an electrode body for measuring EEG using a hybrid electrode combining the characteristics of the dry electrode and the wet electrode and It is to provide an EEG measuring apparatus using the same.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른, 뇌파 측정용 전극체는, 일단이 두피에 접촉하며, 길이가 가변되는 전극; 및 상기 전극들이 결합된 결합체;를 포함한다.According to an embodiment of the present invention for achieving the above object, the electrode body for measuring brain waves, one end of the electrode in contact with the scalp, the length is variable; And a combination of the electrodes coupled thereto.
그리고, 상기 전극은, 전극 몸체; 전극 몸체 수납부; 및 상기 전극 몸체 수납부 내에 마련되고, 일단이 상기 결합체에 마련된 지지판에 접촉하고, 타단이 상기 전극 몸체에 접촉하는 전극 스프링;를 포함하고, 상기 전극 몸체가 상기 전극 몸체 수납부에 수납되는 정도에 따라, 상기 전극의 길이가 결정될 수 있다.And, the electrode, the electrode body; An electrode body accommodating portion; And an electrode spring provided in the electrode body accommodating part, one end of which is in contact with the support plate provided in the assembly, and the other end of which is in contact with the electrode body. Accordingly, the length of the electrode can be determined.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 뇌파 측정용 전극체는, 일측이 프레임에 고정되고, 타측이 상기 결합체에 결합되며, 길이가 가변하는 지지대;를 더 포함할 수 있다.In addition, the EEG measuring electrode body according to an embodiment of the present invention, one side is fixed to the frame, the other side is coupled to the combination, the support length is variable; may further include a.
그리고, 상기 지지대는, 지지대 몸체; 지지대 몸체 수납부; 및 상기 지지대 몸체 수납부 내에 마련되고, 일단이 상기 프레임에 상기 지지대를 고정시키는 고정기에 접촉하고, 상기 지지대 몸체에 타단이 접촉하는 지지대 스프링;를 포함하고, 상기 지지대 몸체가 상기 지지대 몸체 수납부에 수납되는 정도에 따라, 상기 지지대의 길이가 결정될 수 있다.And, the support, support body; Support body receiving portion; And a support spring provided in the support body accommodating portion, one end of which is in contact with a fixture for fixing the support to the frame, and the other end of which is in contact with the support body. Depending on the degree of storage, the length of the support may be determined.
또한, 상기 결합체는, 상기 지지대의 타측에 마련된 볼을 수납하는 방식으로 상기 지지대와 결합되어, 상기 지지대를 중심으로 볼-회전 운동하여 상기 전극의 방향을 가변시킬 수 있다.In addition, the combination is coupled to the support in a manner that accommodates the ball provided on the other side of the support, it is possible to change the direction of the electrode by ball-rotating around the support.
그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 뇌파 측정용 전극체는, 상기 전극의 두피 접촉 부위에 결합된 젤;을 더 포함할 수 있다.The electrode body for measuring brain waves according to an embodiment of the present invention may further include a gel coupled to the scalp contact portion of the electrode.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 뇌파 측정용 전극체에서 전극의 길이 및/또는 방향이 가변되므로, 전극들이 두피에 가하는 압력들을 균일하게 유지시킬 수 있어, 보다 정확한 뇌파 측정이 가능해진다.As described above, according to the present invention, since the length and / or direction of the electrode in the electrode body for measuring EEG is variable, the pressures applied to the scalp by the electrodes can be maintained uniformly, thereby enabling more accurate EEG measurement.
또한, 본 발명에 따르면, 건식 전극의 특징과 습식 전극의 특징을 결합한 하이브리드 전극을 이용할 수 있게 되어, 불쾌감 없이 간편한 뇌파 측정이 가능한 건식 전극의 장점과 임피던스와 노이즈 감쇄에 효과적인 습식 전극의 장점을 결합하여 운용할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, it is possible to use a hybrid electrode that combines the characteristics of the dry electrode and the characteristics of the wet electrode, combining the advantages of the dry electrode that can be easily measured EEG without discomfort and the advantage of the wet electrode effective for impedance and noise attenuation Can be operated.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 뇌파 측정 장치의 사시도,1 is a perspective view of an EEG measuring apparatus according to a preferred embodiment of the present invention,
도 2는 도 1에 도시된 뇌파 측정 장치의 정면도,2 is a front view of the EEG measuring apparatus shown in FIG.
도 3은 도 1에 도시된 뇌파 측정 장치의 평면도,3 is a plan view of the EEG measuring apparatus shown in FIG.
도 4는 도 1에 도시된 뇌파 측정 장치의 배면도,4 is a rear view of the EEG measuring apparatus shown in FIG. 1,
도 5는 전극 결합체의 방향 가변의 설명에 제공되는 도면,5 is a view provided to explain the change of orientation of the electrode assembly;
도 6은 지지대의 단면도,6 is a cross-sectional view of the support,
도 7은 전극 결합체의 단면도, 그리고,7 is a cross-sectional view of the electrode assembly, and
도 8 및 도 9는 하이브리드 전극의 설명에 제공되는 도면이다.8 and 9 are diagrams provided for the description of the hybrid electrode.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the drawings will be described the present invention in more detail.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 뇌파 측정 장치의 사시도이다. 그리고, 도 2에는 도 1에 도시된 뇌파 측정 장치의 정면도를, 도 3에는 도 1에 도시된 뇌파 측정 장치의 평면도를, 도 4에는 도 1에 도시된 뇌파 측정 장치의 배면도를, 각각 도시하였다.1 is a perspective view of an EEG measuring apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. 2 illustrates a front view of the EEG measuring apparatus shown in FIG. 1, a plan view of the EEG measuring apparatus illustrated in FIG. 1, and a rear view of the EEG measuring apparatus illustrated in FIG. 1, respectively. It was.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 뇌파 측정 장치는, 프레임(110), 고정기(120) 및 다수의 전극체(130)를 구비한다.1 to 4, the EEG measuring apparatus according to the preferred embodiment of the present invention includes a frame 110, a fixture 120, and a plurality of electrode bodies 130.
프레임(110)에는 뇌파 측정을 위한 다수의 전극체(130)가 설치되는데, 전극체(130)는 고정기(120)에 의해 프레임(110)에 고정된다.The frame 110 is provided with a plurality of electrode body 130 for the EEG measurement, the electrode body 130 is fixed to the frame 110 by the fixing unit 120.
도 1 내지 도 4에서는, 프레임(110)에는 전극체(130)가 2개 구비되는 것을 상정하였으나 개수에 대한 제한은 없다. 3개 이상의 전극체(130)가 구비되는 것도 가능하다.1 to 4, it is assumed that the frame 110 is provided with two electrode bodies 130, but there is no limitation on the number. It is also possible that three or more electrode bodies 130 are provided.
또한, 도 1 내지 도 4에 도시된 직선형의 프레임(110) 역시 설명의 편의를 위한 간단한 예시에 불과하다. 프레임(110)은 곡선형(헤드셋 형태)으로 구현 가능함은 물론 반구형(모자 형태)의 프레임으로 구현가능하다. 반구형 프레임으로 구현하는 경우, 전극체(130)의 개수는 더욱 증가시키는 것이 바람직하다.In addition, the linear frame 110 shown in Figures 1 to 4 is also merely a simple example for convenience of description. The frame 110 may be implemented in a curved (headset form) as well as a hemispherical (hat form) frame. When implemented in a hemispherical frame, it is preferable to further increase the number of the electrode body 130.
전극체(130)는 지지대(140)와 전극 결합체(150)를 구비한다. 지지대(140)는 상측이 프레임(110)에 고정되고, 하측은 전극 결합체(150)에 결합된다. 전극 결합체(150)는 다수의 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)을 물리적으로 하나로 결합시킨 구조체이다.The electrode body 130 includes a support 140 and an electrode assembly 150. The support 140 has an upper side fixed to the frame 110 and a lower side coupled to the electrode assembly 150. The electrode assembly 150 is a structure in which a plurality of electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 are physically combined into one.
여기서, 지지대(140)의 길이는 탄성적으로 가변되고, 전극 결합체(150)의 방향이 가변되며, 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)의 길이가 탄성적으로 가변되는 구조이다.Here, the length of the support 140 is elastically variable, the direction of the electrode assembly 150 is variable, the length of the electrodes 155-1, 155-2 and 155-3 is elastically variable to be.
뇌파 측정 장치를 피측정자의 두상에 밀착시키는 경우, 프레임(110)의 좌측에 마련된 지지대(140)의 길이와 좌측에 마련된 지지대(140)의 길이는 다르게 변할 수 있다. 이는, 전극 결합체(150)가 두피에 가하는 압력이 전극 결합체(150) 마다 일정하도록 하기 위함이다.When the EEG measurement device is in close contact with the head of the person to be measured, the length of the support 140 provided on the left side of the frame 110 and the length of the support 140 provided on the left side may vary. This is to allow the pressure applied to the scalp by the electrode assembly 150 to be constant for each electrode assembly 150.
또한, 뇌파 측정 장치를 피측정자의 두상에 밀착시키는 경우, 프레임(110)의 좌측에 마련된 전극 결합체(150)의 방향과 우측에 마련된 전극 결합체(150)의 방향은 달라질 수 있다. 이는, 전극 결합체(150)에 마련된 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)이 두피에 대체적으로 수직하게 접촉하도록 하기 위함이다.In addition, when the EEG measuring apparatus is in close contact with the head of the subject, the direction of the electrode assembly 150 provided on the left side of the frame 110 and the direction of the electrode assembly 150 provided on the right side may be different. This is to allow the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 provided on the electrode assembly 150 to be generally perpendicular to the scalp.
도 5에는 프레임(110)의 좌측에 마련된 전극 결합체(150)의 방향과 우측에 마련된 전극 결합체(150)의 방향이 각기 다르게 변경된 상태를 예시하였다.5 illustrates a state in which the direction of the electrode assembly 150 provided on the left side of the frame 110 and the direction of the electrode assembly 150 provided on the right side are changed differently.
그리고, 뇌파 측정 장치를 피측정자의 두상에 밀착시키는 경우, 전극 결합체(150)에 마련된 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)의 길이들도 달라지는데, 상호간의 연관 없이 개별적으로 달라질 수 있는 구조이다.In addition, when the EEG measuring apparatus is in close contact with the head of the subject, the lengths of the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 provided in the electrode assembly 150 are also different, and the lengths of the EEG measuring apparatuses are individually changed without interrelation. It is a structure that can be.
이는, 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)이 두피에 가하는 압력이 일정하도록 하기 위함이다. 두피가 곡면임을 고려한다면, 가운데 위치하는 전극의 길이다 양측에 위치하는 전극들 보다 길이가 짧아지게 될 것이다.This is to ensure that the pressure applied to the scalp by the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 is constant. Considering that the scalp is curved, the length of the center electrode will be shorter than the electrodes on both sides.
지지대(140)의 길이 가변 구조는 전극 결합체(150)가 두피에 가하는 압력, 궁극적으로는 전극 결합체(150)에 마련된 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)이 두피에 가하는 압력들을 일괄적이고 포괄적으로 조정하기 위한 수단이다.The variable length structure of the support 140 is a pressure applied by the electrode assembly 150 to the scalp, and ultimately a pressure applied by the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 provided on the electrode assembly 150 to the scalp. It is a means to coordinate them collectively and comprehensively.
그리고, 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)의 길이 가변 구조는 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)이 두피에 가하는 압력들을 개별적이고 미세하게 조정하기 위한 수단이다.And, the variable length structure of the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 is used to individually and finely adjust the pressures applied to the scalp by the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3. Means.
이하에서, 각각의 구조에 대해 상세히 설명한다.In the following, each structure will be described in detail.
도 6은, 도 1 내지 도 5에 도시된 지지대(140)의 단면도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 지지대(140)는 지지대 몸체 수납부(141), 지지대 스프링(142), 지지대 몸체(143) 및 볼-조인트(144)를 구비한다.6 is a cross-sectional view of the support 140 shown in FIGS. 1 to 5. As shown in FIG. 6, the support 140 includes a support body receptacle 141, a support spring 142, a support body 143, and a ball-joint 144.
지지대 몸체 수납부(141)에는 지지대 스프링(142)이 수납되며 지지대 몸체(143) 중 일부분이 수납된다. 지지대 스프링(142)은 상단이 고정기(120)에 접촉되고, 하단이 지지대 몸체(143)에 접촉되어 있다.A support spring 142 is accommodated in the support body accommodating part 141 and a portion of the support body 143 is received. The support spring 142 has an upper end in contact with the fixture 120 and a lower end in contact with the support body 143.
지지대 몸체(143)는 지지대 스프링(142)의 탄성력에 의해 두피 측에 일정한 압력을 제공하게 된다. 또한, 지지대 스프링(142)의 수축 정도에 따라 지지대 몸체 수납부(141)에 대한 지지대 몸체(143)의 수납 길이가 결정되는데, 이 수납 길이에 의해 지지대(140)의 길이가 결정된다. Support body 143 is to provide a constant pressure on the scalp by the elastic force of the support spring (142). In addition, the storage length of the support body 143 relative to the support body accommodating portion 141 is determined according to the degree of contraction of the support spring 142, and the length of the support 140 is determined by the accommodation length.
도 7은, 도 1 내지 도 6에 도시된 전극 결합체(150)의 단면도이다. 도 7에 도시된 바와 같이, 전극 결합체(150)는 커버(151), 하우징(152), 지지판(153), 전극 고정부(154) 및 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)을 구비한다.FIG. 7 is a cross-sectional view of the electrode assembly 150 illustrated in FIGS. 1 to 6. As shown in FIG. 7, the electrode assembly 150 includes a cover 151, a housing 152, a support plate 153, an electrode fixing part 154, and electrodes 155-1, 155-2, and 155-3. ).
하우징(152)에는 지지대 몸체(143)의 하부에 마련된 볼-조인트(144)가 수납되며, 커버(151)에 의해 하우징(152)과 볼-조인트(144)가 볼-회전 가능하도록 결합된다. 이에 의해, 전극 결합체(150)는 지지대(140)를 중심으로 2차원적 볼-회전 운동을 하면서, 궁극적으로 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)의 방향을 가변시킬 수 있다.The housing 152 accommodates the ball joint 144 provided under the support body 143, and the housing 152 and the ball joint 144 are coupled to the ball rotator by the cover 151. As a result, the electrode assembly 150 may change the directions of the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 while ultimately performing a two-dimensional ball-rotation movement around the support 140. .
한편, 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)은, 전극 고정부(154)에 의해 하우징(152)에서 각각의 위치에 고정된다. 도 7의 단면도에 도시된 바와 같이, 전극(155-1, 155-2 및 155-3)은 전극 몸체 수납부(155-11), 전극 스프링(155-12) 및 전극 몸체(155-13)를 구비한다.Meanwhile, the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 are fixed at respective positions in the housing 152 by the electrode fixing part 154. As shown in the cross-sectional view of FIG. 7, the electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 include an electrode body accommodating part 155-11, an electrode spring 155-12, and an electrode body 155-13. It is provided.
전극 몸체 수납부(155-11)에는 전극 스프링(155-12)이 수납되며 전극 몸체(155-13) 중 일부분이 수납된다. 전극 스프링(155-12)은 상단이 지지판(153)에 접촉되고, 하단이 전극 몸체(155-13)에 접촉되어 있다.The electrode spring 155-12 is accommodated in the electrode body accommodating part 155-11, and a portion of the electrode body 155-13 is accommodated. The upper end of the electrode spring 155-12 is in contact with the support plate 153, and the lower end is in contact with the electrode bodies 155-13.
전극 몸체(155-13)는 전극 스프링(155-12)의 탄성력에 의해 두피 측에 일정한 압력을 제공하게 된다. 또한, 전극 스프링(155-12)의 수축 정도에 따라 전극 몸체 수납부(155-11)에 대한 전극 몸체(155-13)의 수납 길이가 결정되는데, 이 수납 길이에 의해 전극(155-1, 155-2 및 155-3)의 길이가 결정된다.The electrode bodies 155-13 provide a constant pressure to the scalp side by the elastic force of the electrode springs 155-12. In addition, the storage length of the electrode body 155-13 with respect to the electrode body accommodating portion 155-11 is determined according to the degree of contraction of the electrode spring 155-12. 155-2 and 155-3) are determined.
도 8 및 도 9는 하이브리드 전극의 설명에 제공되는 도면이다. 하이브리드 전극은, 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이 두피가 접촉되는 부위인 전극 몸체(155-13)의 종단에 젤(156)이 결합된 구조의 전극이다.8 and 9 are diagrams provided for the description of the hybrid electrode. As shown in FIGS. 8 and 9, the hybrid electrode is an electrode having a structure in which a gel 156 is coupled to an end of the electrode body 155-13, which is a portion where the scalp is in contact.
이를 위해, 전극 몸체(155-13)의 종단에 홈을 형성하고, 형성된 홈에 젤(156)을 부착하는 방식으로, 전극에 젤(156)을 결합시킬 수 있다.To this end, a groove may be formed at the end of the electrode bodies 155-13, and the gel 156 may be coupled to the electrode by attaching the gel 156 to the formed groove.
지금까지, 지지대(140)의 길이, 전극 결합체(150)의 방향 및 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)의 길이가 가변되는 구조의 뇌파 측정용 전극체 및 이를 이용한 뇌파 측정 장치에 대해 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였다.Up to now, the length of the support 140, the direction of the electrode assembly 150 and the length of the electrodes 155-1, 155-2 and 155-3 variable electrode structure for measuring the electroencephalogram and EEG measurement using the same The device has been described in detail with reference to preferred embodiments.
위 구조는 바람직한 실시예로 제시한 것이므로, 가변 구조 중의 일부만을 채택하여 뇌파 측정용 전극체와 뇌파 측정 장치를 구현하는 경우도 본 발명의 범주에 포함된다.Since the above structure is presented as a preferred embodiment, a case of implementing an electrode body and an EEG measuring device using only a part of the variable structure is included in the scope of the present invention.
또한, 위 실시예에서 전극 결합체(150)에는 3개의 전극들(155-1, 155-2 및 155-3)이 마련되는 것으로 도시하고 설명하였으나, 설명의 편의를 위한 예시적인 것에 불과하다. 전극 결합체(150)에 마련되는 전극의 개수는 4개 이상은 물론 2개 이하로도 구현가능하다.In addition, although the electrode assembly 150 is illustrated and described as having three electrodes 155-1, 155-2, and 155-3 in the above embodiment, it is merely an example for convenience of description. The number of electrodes provided in the electrode assembly 150 may be implemented as four or more but two or less.
또한, 이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다.In addition, although the preferred embodiment of the present invention has been shown and described above, the present invention is not limited to the specific embodiments described above, but the technical field to which the invention belongs without departing from the spirit of the invention claimed in the claims. Of course, various modifications can be made by those skilled in the art, and these modifications should not be individually understood from the technical spirit or the prospect of the present invention.

Claims (6)

  1. 일단이 두피에 접촉하며, 길이가 가변되는 전극; 및An electrode whose one end contacts the scalp and whose length is variable; And
    상기 전극이 다수개가 결합된 결합체;를 포함하는 것을 특징으로 하는 뇌파 측정용 전극체.Electrode for measuring EEG comprising a; a plurality of electrodes are coupled to the combined body.
  2. 제 1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 전극은,The electrode,
    전극 몸체;Electrode body;
    전극 몸체 수납부; 및An electrode body accommodating portion; And
    상기 전극 몸체 수납부 내에 마련되고, 일단이 상기 결합체에 마련된 지지판에 접촉하고, 타단이 상기 전극 몸체에 접촉하는 전극 스프링;를 포함하고,An electrode spring provided in the electrode body accommodating part, one end of which is in contact with a support plate provided in the assembly, and the other end of which is in contact with the electrode body;
    상기 전극 몸체가 상기 전극 몸체 수납부에 수납되는 정도에 따라, 상기 전극의 길이가 결정되는 것을 특징으로 하는 뇌파 측정용 전극체.The electrode body for measuring brain waves, characterized in that the length of the electrode is determined according to the degree of the electrode body is accommodated in the electrode body accommodating portion.
  3. 제 1항에 있어서,The method of claim 1,
    일측이 프레임에 고정되고, 타측이 상기 결합체에 결합되며, 길이가 가변하는 지지대;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 뇌파 측정용 전극체.One side is fixed to the frame, the other side is coupled to the assembly, the length of the support for the variable; electroencephalogram electrode body characterized in that it further comprises.
  4. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein
    상기 지지대는,The support is,
    지지대 몸체;Support body;
    지지대 몸체 수납부; 및Support body receiving portion; And
    상기 지지대 몸체 수납부 내에 마련되고, 일단이 상기 프레임에 상기 지지대를 고정시키는 고정기에 접촉하고, 상기 지지대 몸체에 타단이 접촉하는 지지대 스프링;를 포함하고,And a support spring provided in the support body accommodating portion, one end of which is in contact with a fixture for fixing the support to the frame, and the other end of which is in contact with the support body.
    상기 지지대 몸체가 상기 지지대 몸체 수납부에 수납되는 정도에 따라, 상기 지지대의 길이가 결정되는 것을 특징으로 하는 뇌파 측정용 전극체.Electrode for electroencephalogram measurement, characterized in that the length of the support is determined according to the degree that the support body is accommodated in the support body receiving portion.
  5. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein
    상기 결합체는,The combination is,
    상기 지지대의 타측에 마련된 볼을 수납하는 방식으로 상기 지지대와 결합되어, 상기 지지대를 중심으로 볼-회전 운동하여 상기 전극의 방향을 가변시키는 것을 특징으로 하는 뇌파 측정용 전극체.Electrode for measuring EEG is coupled to the support in a manner that accommodates the ball provided on the other side of the support, the ball-rotating movement around the support to change the direction of the electrode.
  6. 제 1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 전극의 두피 접촉 부위에 결합된 젤;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 뇌파 측정용 전극체.Electrode for measuring EEG, further comprising a gel coupled to the scalp contact portion of the electrode.
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