WO2012032816A1 - Radiological image detector - Google Patents

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福田 健太郎
澄人 石津
範明 河口
敏尚 須山
吉川 彰
健之 柳田
有為 横田
秀利 窪
俊介 黒澤
幸次郎 谷上
達 谷森
洋之 関谷
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株式会社トクヤマ
国立大学法人東北大学
国立大学法人京都大学
国立大学法人東京大学
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    • G01T1/20Measuring radiation intensity with scintillation detectors
    • G01T1/205Measuring radiation intensity with scintillation detectors the detector being a gas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

[Problem] The purpose of the present invention is to provide a novel radiological image detector, which can detect radiation, such as hard X-rays and γ-rays, with high sensitivity, and which has excellent position resolution and count rate characteristics. [Solution] Provided is a radiological image detector having combined therein a scintillator, which converts inputted radiation into ultraviolet, and a gas-multiplication ultraviolet image detector, which converts ultraviolet into electrons, multiplies the electrons using gas electron avalanche phenomenon, and detects the electrons. The radiological image detector is characterized in that the scintillator is formed of a LiLuF4 crystal containing at least one kind of emission center element selected from among a group composed of Nd, Er and Tm, and that the gas-multiplication ultraviolet image detector is configured of a photoelectric converter, such as cesium iodide and cesium telluride that convert ultraviolet into electrons, a gas electron multiplier, which multiplies electrons using gas electron avalanche phenomenon, and a pixelated electrode having a multiplication function and a detection function.

Description

放射線画像検出器Radiation image detector
 本発明は、新規な放射線画像検出器に関する。該放射線画像検出器は、陽電子断層撮影(positron emission tomography)、X線CT等の医療分野、各種非破壊検査(nondestructive inspection)等の工業分野、及び放射線モニターや所持品検査等の保安分野において好適に使用できる。 The present invention relates to a novel radiation image detector. The radiation image detector is suitable for medical fields such as positron emission tomography and X-ray CT, industrial fields such as various nondestructive inspections, and security fields such as radiation monitors and personal belongings inspections. Can be used for
 放射線利用技術は、陽電子断層撮影、X線CT等の医療分野、各種非破壊検査等の工業分野、及び放射線モニターや所持品検査等の保安分野など多岐にわたり、現在も目覚しい発展を続けている。
 放射線画像検出器は、放射線利用技術の重要な位置を占める要素技術であって、放射線利用技術の発展に伴い、検出感度、放射線の入射位置に対する位置分解能、或いは計数率(count rate)特性について、より高度な性能が求められている。また、放射線利用技術の普及に伴い、放射線画像検出器の低コスト化、及び有感領域の大面積化も求められている。
Radiation utilization technologies are diverse, including medical fields such as positron emission tomography and X-ray CT, industrial fields such as various non-destructive inspections, and security fields such as radiation monitors and personal belongings inspections.
The radiation image detector is an elemental technology that occupies an important position in radiation utilization technology. With the development of radiation utilization technology, detection sensitivity, position resolution with respect to the incident position of radiation, or count rate characteristics, More advanced performance is required. In addition, with the spread of radiation utilization technology, it is also required to reduce the cost of radiation image detectors and increase the area of sensitive areas.
 上記放射線画像検出器に対する要求に応えるべく、ピクセル型電極(pixelated electrode)によるガス増幅を用いた粒子線画像検出器が開発された(特許文献1参照)。当該粒子線画像検出器は、入射粒子線がガス分子を電離して生成した電子をピクセル型電極で検出するものであり、位置分解能及び計数率特性に優れ、有感領域を容易に大型化でき、かつ安価に製作できるという利点を有する。しかしながら、使用されるガスは原子量が小さいため、硬X線(hard X-ray)やガンマ線のような高いエネルギーをもった光子に対する阻止能に乏しく、従って、これらの光子に対しては検出感度が低いという問題があった。 In order to meet the demand for the radiation image detector, a particle beam image detector using gas amplification by a pixelated electrode has been developed (see Patent Document 1). The particle beam image detector detects electrons generated by ionization of gas molecules by the incident particle beam with a pixel-type electrode, has excellent position resolution and count rate characteristics, and can easily enlarge the sensitive area. And it has the advantage that it can be manufactured at low cost. However, since the gas used has a small atomic weight, it has poor stopping power against photons with high energy such as hard X-rays and gamma rays, and therefore the detection sensitivity for these photons is low. There was a problem of being low.
 かかる問題に鑑みて、本発明者らは既に、原子量の大きい化学物質からなるシンチレーターを用いて入射した放射線を紫外線に変換し、該紫外線を位置分解能を有するガス増幅型検出器(gaseous detector)によって検出する方法を提案した(特許文献2参照)。また、同様の方法によって放射線を検出する試みは、他者においてもなされている(非特許文献1参照)。しかしながら、これらの方法においては、シンチレーターより生じる紫外線がガス分子を電離して生成した電子を検出するため、紫外線の飛程がガス層の厚さ分に相当する拡がりを有する。その結果、放射線画像検出器として用いた際に、位置分解能及び計数率特性が低下するという問題があった。また、化学的に不安定なガス分子を用いる必要があるため、ガス分子そのものが劣化したり、ガス分子が検出器の電極に付着したりする問題があり、長期にわたって安定に動作させることが困難であった(非特許文献2参照)。 In view of such problems, the present inventors have already converted incident radiation into ultraviolet rays using a scintillator made of a chemical substance having a large atomic weight, and the ultraviolet rays are converted by a gas amplification detector having positional resolution. A detection method was proposed (see Patent Document 2). In addition, attempts to detect radiation by the same method have been made by others (see Non-Patent Document 1). However, in these methods, since the ultraviolet rays generated from the scintillator detect electrons generated by ionizing gas molecules, the range of the ultraviolet rays has a spread corresponding to the thickness of the gas layer. As a result, when used as a radiographic image detector, there is a problem that the position resolution and the count rate characteristics are degraded. In addition, it is necessary to use chemically unstable gas molecules, which may cause problems such as deterioration of gas molecules themselves or adhesion of gas molecules to detector electrodes, making it difficult to operate stably over a long period of time. (See Non-Patent Document 2).
 一方、放射線によってシンチレーターから生じる紫外線を検出する際に、光電変換物質(photoelectric converter)を用いて紫外線を電子に変換し、該電子をガス増幅型検出器によって検出する方法が試みられている(非特許文献3参照)。かかる方法によれば、前記位置分解能及び計数率特性の低下や動作の安定性にかかる問題は回避できると考えられるものの、シンチレーターから生じる紫外線がきわめて微弱であり、また、電子をガス増幅型検出器によって増幅する際の増幅率を充分に高めることができていなかった。その結果、シンチレーターより生じるきわめて微弱な紫外線を感度良く検出することができず、かかる光電変換物質を用いる方法によって、放射線画像を検出できる装置を作製しようとする試みは為されていないのが現状であった。 On the other hand, when detecting ultraviolet rays generated from a scintillator by radiation, a method has been attempted in which ultraviolet rays are converted into electrons using a photoelectric converter and the electrons are detected by a gas amplification type detector. (See Patent Document 3). According to such a method, although it is considered that the problems relating to the degradation of the position resolution and the count rate characteristics and the stability of the operation can be avoided, the ultraviolet rays generated from the scintillator are extremely weak, and electrons are detected as gas amplification type detectors. As a result, the amplification factor during amplification could not be sufficiently increased. As a result, extremely weak ultraviolet rays generated from the scintillator cannot be detected with high sensitivity, and no attempt has been made to produce a device capable of detecting a radiation image by a method using such a photoelectric conversion substance. there were.
特許第3354551号公報Japanese Patent No. 3354551 特開2008-202977号公報JP 2008-202977 A
 本発明は、硬X線やγ線等の放射線を高感度で検出することができ、位置分解能及び計数率特性に優れた、入射した放射線を紫外線に変換するシンチレーターと、紫外線を電子に変換し、かかる電子を増幅して検出する新規なガス増幅型紫外線画像検出器とを組み合わせて構成される放射線画像検出器を提供することを目的とする。 The present invention can detect radiation such as hard X-rays and γ-rays with high sensitivity, has excellent position resolution and count rate characteristics, and converts the incident radiation into ultraviolet rays, and converts ultraviolet rays into electrons. Another object of the present invention is to provide a radiation image detector configured by combining with a novel gas amplification type ultraviolet image detector that amplifies and detects such electrons.
 本発明者等は、入射した放射線を紫外線に変換するシンチレーターについて種々検討を重ねた。その結果、ネオジウム(Nd)、エルビウム(Er)及びツリウム(Tm)から選ばれる少なくとも1種の元素を含有するフッ化リチウムルテチウム(Lithium lutetium fluoride;LiLuF)結晶をシンチレーターとして用いることによって、高い発光量(light yield)が得られることを見出した。
 また、本発明者等は、放射線画像検出器を構成するガス増幅型紫外線画像検出器に着目し、シンチレーターより生じる紫外線を感度良く検出する方法について種々検討を重ねた。
 その結果、光電変換物質、ガス電子増幅器(gas electron multiplier;GEM)、及びピクセル型電極より構成されるガス増幅型紫外線画像検出器を用いて、シンチレーターより生じた紫外線を光電変換物質で電子に変換し、次いで当該電子をガス電子増幅器によって増幅した後、ピクセル型電極を用いて検出することにより、放射線を感度良く検出できることを見出した。また、当該シンチレーターとガス増幅型紫外線画像検出器を組み合わせてなる放射線画像検出器によって、放射線画像を取得することに成功し、本発明を完成するに至った。
 即ち、本発明によれば、
入射した放射線を紫外線に変換するシンチレーター、及びガス増幅型紫外線画像検出器を具備してなる放射線画像検出器であって、シンチレーターがNd、Er及びTmから選ばれる少なくとも1種の元素を含有するフッ化リチウムルテチウム(LiLuF)結晶であり、ガス増幅型紫外線画像検出器が、光電変換物質、ガス電子増幅器、及びピクセル型電極より構成されることを特徴とする放射線画像検出器が提供される。
 上記放射線画像検出器の発明において、
(1)フッ化リチウムルテチウム(LiLuF)結晶が、単結晶であること
(2)光電変換物質が、光電変換物質の薄膜状物であること
(3)光電変換物質が、ヨウ化セシウムまたはテルル化セシウムであること
(4)2段又は3段のガス電子増幅器から構成されていること
(5)検出対象の放射線が、硬X線またはγ線であること
が好適である。
The present inventors have made various studies on scintillators that convert incident radiation into ultraviolet rays. As a result, by using a lithium lutetium fluoride (LiLuF 4 ) crystal containing at least one element selected from neodymium (Nd), erbium (Er) and thulium (Tm) as a scintillator, high light emission I found that light yield was obtained.
Further, the present inventors paid attention to the gas amplification type ultraviolet image detector constituting the radiation image detector and conducted various studies on the method for detecting the ultraviolet ray generated from the scintillator with high sensitivity.
As a result, UV light generated from the scintillator is converted into electrons with a photoelectric conversion material using a gas amplification type ultraviolet image detector composed of a photoelectric conversion material, a gas electron multiplier (GEM), and a pixel-type electrode. Then, the present inventors have found that the radiation can be detected with high sensitivity by amplifying the electrons with a gas electron amplifier and then detecting them using a pixel-type electrode. In addition, the present invention has been completed by successfully obtaining a radiographic image by a radiographic image detector comprising a combination of the scintillator and a gas amplification type ultraviolet image detector.
That is, according to the present invention,
A radiation image detector comprising a scintillator that converts incident radiation into ultraviolet light and a gas amplification type ultraviolet image detector, wherein the scintillator contains at least one element selected from Nd, Er, and Tm. A radiation image detector is provided, which is a lithium lutetium fluoride (LiLuF 4 ) crystal, and the gas amplification type ultraviolet image detector includes a photoelectric conversion material, a gas electronic amplifier, and a pixel type electrode.
In the invention of the radiation image detector,
(1) The lithium lutetium fluoride (LiLuF 4 ) crystal is a single crystal. (2) The photoelectric conversion material is a thin film of the photoelectric conversion material. (3) The photoelectric conversion material is cesium iodide or tellurium. (4) It is composed of a two-stage or three-stage gas electronic amplifier. (5) It is preferable that the radiation to be detected is hard X-rays or γ-rays.
 本発明によれば、入射した放射線を紫外線に変換するシンチレーターの発光量が向上し、且つ、シンチレーターより生じる紫外線をガス増幅型紫外線画像検出器によって感度よく検出することができるので、位置分解能及び計数率特性に優れた放射線画像検出器を提供できる。また、本発明の放射線画像検出器は、有感領域を容易に大型化でき、かつ安価に製作できるため、医療、工業、及び保安等の分野において極めて価値が高い。 According to the present invention, the amount of light emitted from the scintillator that converts incident radiation into ultraviolet light is improved, and the ultraviolet light generated from the scintillator can be detected with high sensitivity by the gas amplification type ultraviolet image detector. A radiation image detector having excellent rate characteristics can be provided. In addition, the radiation image detector of the present invention is extremely valuable in fields such as medical, industrial, and security because the sensitive area can be easily enlarged and manufactured at low cost.
本図は、本発明の放射線画像検出器の模式図である。This figure is a schematic diagram of the radiation image detector of the present invention. 本図は、本発明の放射線画像検出器の模式図である。This figure is a schematic diagram of the radiation image detector of the present invention. 本図は、本発明の放射線画像検出器の模式図である。This figure is a schematic diagram of the radiation image detector of the present invention. 本図は、本発明の放射線画像検出器の模式図である。This figure is a schematic diagram of the radiation image detector of the present invention. 本図は、本発明で用いるガス電子増幅器の模式図である。This figure is a schematic diagram of a gas electronic amplifier used in the present invention. 本図は、実施例1で60Coを用いて得られた放射線画像である。This figure is a radiation image obtained by using 60 Co in Example 1. 本図は、実施例1で57Coを用いて得られた放射線画像である。This figure is a radiation image obtained using 57 Co in Example 1. 本図は、実施例1で241Amを用いて得られた放射線画像である。This figure is a radiographic image obtained in Example 1 using 241 Am. 本図は、実施例1で241Amを用いて得られた放射線画像である。This figure is a radiographic image obtained in Example 1 using 241 Am. 本図は、実施例2で得られた放射線画像である。This figure is a radiographic image obtained in Example 2. 本図は、実施例2で得られた放射線画像である。This figure is a radiographic image obtained in Example 2. 本図は、実施例2で得られた放射線画像である。This figure is a radiographic image obtained in Example 2.
〔動作原理〕
 本発明の放射線画像検出器の動作原理について、図1を用いて説明する。まず、入射した放射線をシンチレーター1によって紫外線に変換する。次いで、生じた紫外線を光電変換物質2によって一次電子(primary electron)3に変換する。当該一次電子3を、高電場下(high electric field)におけるガス電子雪崩現象(electron avalanche)による増幅作用を利用したガス電子増幅器4で増幅し、二次電子5を得た後、二次電子5をピクセル型電極6でさらに増幅しながら検出する。このピクセル型電極で検出された電子に基づく信号を外部回路で処理することにより、放射線の入射位置を特定することができ、放射線画像を得ることが可能となる。以下、本発明の放射線画像検出器についてより詳細に説明する。
〔Operating principle〕
The operation principle of the radiation image detector of the present invention will be described with reference to FIG. First, incident radiation is converted into ultraviolet rays by the scintillator 1. Next, the generated ultraviolet rays are converted into primary electrons 3 by the photoelectric conversion material 2. The primary electrons 3 are amplified by a gas electron amplifier 4 using an amplification action by a gas electron avalanche phenomenon in a high electric field to obtain secondary electrons 5, and then secondary electrons 5 are obtained. Is detected while further amplified by the pixel-type electrode 6. By processing a signal based on electrons detected by the pixel-type electrode with an external circuit, the radiation incident position can be specified, and a radiation image can be obtained. Hereinafter, the radiation image detector of the present invention will be described in more detail.
〔シンチレーター〕
 本発明の放射線画像検出器の構成要素であるシンチレーターは、Nd、Er及びTmから選ばれる少なくとも1種の元素を含有するLiLuF結晶(以下、LLF結晶ともいう)である。当該シンチレーターは、高い発光量で紫外線を生じ、且つ、その発光波長が200nm以下の真空紫外領域であるという特徴を有する。かかる真空紫外領域の紫外線を生じるシンチレーターを用いることによって、後述する光電変換物質において、紫外線から電子への光電変換効率を高めることができる。
[Scintillator]
The scintillator that is a constituent element of the radiation image detector of the present invention is a LiLuF 4 crystal (hereinafter also referred to as an LLF crystal) containing at least one element selected from Nd, Er, and Tm. The scintillator is characterized in that it generates ultraviolet light with a high light emission amount and has a light emission wavelength in the vacuum ultraviolet region of 200 nm or less. By using such a scintillator that generates ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet region, it is possible to increase the photoelectric conversion efficiency from ultraviolet rays to electrons in the photoelectric conversion material described later.
 本発明において、シンチレーターに含まれるNd、Er及びTmから選ばれる少なくとも1種の元素(以下、発光中心元素という)は、5d-4f遷移発光によって、真空紫外線を生じるため、本発明において好適に使用される。前記発光中心元素の中でも、Ndは発光寿命が短く、高速応答性を有するため特に好ましい。 In the present invention, at least one element selected from Nd, Er, and Tm contained in the scintillator (hereinafter referred to as an emission center element) generates vacuum ultraviolet rays by 5d-4f transition light emission, and therefore is preferably used in the present invention. Is done. Among the luminescent center elements, Nd is particularly preferable because it has a short emission lifetime and high-speed response.
 上記発光中心元素の含有量は、発光中心元素の種類によって異なるが、0.01~10wt%の範囲とすることが好ましい。添加量を0.01wt%以上とすることによって、シンチレーターの発光の強度を高めることができ、一方、10wt%以下とすることによって、濃度消光に由来するシンチレーターの発光の減衰を抑制することができる。
 なお、LLF結晶は、単結晶及び多結晶のいずれの形態でも良いが、放射線から紫外線への変換効率の観点から、単結晶を使用することが好ましい。
 本発明において、検出対象となる放射線は特に限定されず、X線、α線、β線、γ線、或いは中性子線等の何れの放射線も検出可能であるが、本発明のシンチレーターは有効原子番号(effective atomic number)及び密度が高いため、放射線の中でも、硬X線やγ線等の高エネルギーの光子を特に効率よく検出できる。
The content of the luminescent center element varies depending on the type of the luminescent center element, but is preferably in the range of 0.01 to 10 wt%. By setting the added amount to 0.01 wt% or more, the intensity of light emitted from the scintillator can be increased. On the other hand, by setting the amount to 10 wt% or less, attenuation of light emitted from the scintillator due to concentration quenching can be suppressed. .
The LLF crystal may be either a single crystal or a polycrystal, but it is preferable to use a single crystal from the viewpoint of conversion efficiency from radiation to ultraviolet light.
In the present invention, the radiation to be detected is not particularly limited, and any radiation such as X-rays, α-rays, β-rays, γ-rays, or neutrons can be detected, but the scintillator of the present invention has an effective atomic number. Since the (effective atomic number) and density are high, high energy photons such as hard X-rays and γ-rays can be detected particularly efficiently.
 なお、本発明において、有効原子番号とは、下式〔1〕で定義される指標であって、硬X線やγ線に対する阻止能に影響する。該有効原子番号が大きいほど、硬X線やγ線に対する阻止能が増大し、その結果、シンチレーターの硬X線やγ線に対する感度が向上する。本発明で使用するLLF結晶の有効原子番号は、発光中心元素の種類及び含有量によって異なるが、約63~64であって、従来公知のシンチレーターに比較して充分に大きい。
  有効原子番号=(ΣW 1/4     〔1〕
 (式中、W及びZは、それぞれシンチレーターを構成する元素のうち
  のi番目の元素の質量分率及び原子番号を表す。)
In the present invention, the effective atomic number is an index defined by the following formula [1] and affects the stopping power against hard X-rays and γ-rays. As the effective atomic number is larger, the stopping power against hard X-rays and γ-rays increases, and as a result, the sensitivity of the scintillator to hard X-rays and γ-rays improves. The effective atomic number of the LLF crystal used in the present invention varies depending on the kind and content of the luminescent center element, but is about 63 to 64, which is sufficiently larger than that of conventionally known scintillators.
Effective atomic number = (ΣW i Z i 4 ) 1/4 [1]
(In the formula, W i and Z i represent the mass fraction and atomic number of the i-th element among the elements constituting the scintillator, respectively.)
 シンチレーターの形状は、特に限定されないが、後出のガス増幅型紫外線画像検出器に対向する紫外線出射面(以下、単に紫外線出射面ともいう)を有し、当該紫外線出射面は光学研磨(optical polishing)が施されていることが好ましい。かかる紫外線出射面を有することによって、シンチレーターで生じた紫外線を効率よくガス増幅型紫外線画像検出器に入射できる。
 紫外線出射面の形状は限定されず、一辺の長さが数mm~数百mm角の四角形、直径が数mm~数百mmの円形など、用途に応じた形状を適宜選択することができる。シンチレーターの放射線入射方向に対する厚さは、検出対象とする放射線の種類及びエネルギーによって異なるが、一般に数百μm~数百mmである。
 また、ガス増幅型紫外線画像検出器に対向しない面に、アルミニウム或いはテフロン(登録商標)等からなる紫外線反射膜を施すことは、シンチレーターで生じた紫外線の散逸を防止することができる点で好ましい。更にかかる紫外線反射膜が施されたシンチレーターを多数配列して用いることにより、放射線画像検出器の位置分解能を顕著に高めることができる。
Although the shape of the scintillator is not particularly limited, it has an ultraviolet emitting surface (hereinafter also simply referred to as an ultraviolet emitting surface) facing the gas amplification ultraviolet image detector described later, and the ultraviolet emitting surface is optically polished (optical polishing). ) Is preferably applied. By having such an ultraviolet emission surface, ultraviolet rays generated by the scintillator can be efficiently incident on the gas amplification type ultraviolet image detector.
The shape of the ultraviolet light exit surface is not limited, and a shape according to the application such as a square having a side length of several mm to several hundreds mm square and a circle having a diameter of several mm to several hundred mm can be appropriately selected. The thickness of the scintillator with respect to the radiation incident direction varies depending on the type and energy of the radiation to be detected, but is generally several hundred μm to several hundred mm.
In addition, it is preferable to apply an ultraviolet reflecting film made of aluminum, Teflon (registered trademark), or the like on a surface not facing the gas amplification type ultraviolet image detector in terms of preventing the dissipation of ultraviolet rays generated by the scintillator. Furthermore, the positional resolution of the radiation image detector can be remarkably increased by using a large number of scintillators provided with such an ultraviolet reflecting film.
 シンチレーターの製造方法は特に限定されないが、チョクラルスキー法(Czochralski method)、或いはブリッジマン法(Bridgman method)等の融液成長法(melt growth)によって製造することが好ましい。融液成長法で製造することにより、透明性等の品質に優れたLLF結晶を製造することができ、また、直径が数インチの大型結晶を安価に製造することが可能となる。当該LLF結晶の製造に際して、熱歪(thermal strain)等に起因する結晶欠陥を除去する目的で、結晶の製造後にアニール操作を行っても良い。得られたLLF結晶は良好な加工性を有しており、所望の形状に加工してシンチレーターとして用いる。加工に際しては、公知のブレードソー、ワイヤーソー等の切断機、研削機、或いは研磨盤を何ら制限無く用いる事ができる。 The production method of the scintillator is not particularly limited, but it is preferably produced by a melt growth method such as the Czochralski method or the Bridgman method. By producing by the melt growth method, an LLF crystal excellent in quality such as transparency can be produced, and a large crystal having a diameter of several inches can be produced at a low cost. In the production of the LLF crystal, an annealing operation may be performed after the production of the crystal in order to remove crystal defects caused by thermal strain or the like. The obtained LLF crystal has good processability and is processed into a desired shape and used as a scintillator. In processing, a known cutting machine such as a blade saw or a wire saw, a grinding machine, or a polishing machine can be used without any limitation.
 本発明の放射線画像検出器が具備するガス増幅型紫外線画像検出器は、光電変換物質、ガス電子増幅器、及びピクセル型電極より基本構成される。以下、当該ガス増幅型紫外線画像検出器について、具体的に説明する。 The gas amplification type ultraviolet image detector included in the radiation image detector of the present invention is basically composed of a photoelectric conversion substance, a gas electronic amplifier, and a pixel type electrode. Hereinafter, the gas amplification type ultraviolet image detector will be specifically described.
〔光電変換物質〕
 光電変換物質は、シンチレーターより生じた紫外線を一次電子に変換する働きをなす。この機能を有するものであれば、その種類は特に制限されない。具体的には、ヨウ化セシウム(CsI)、テルル化セシウム(CsTe)などを例示することができる。これらの中でも、紫外線を電子に変換する際の光電変換効率、及び化学的安定性の観点から、ヨウ化セシウムが好ましい。
 光電変換物質は、紫外線から変換された一次電子を効率よく取り出すため、薄膜とすることが好ましい。また、後述するように紫外線入射窓の内面に形成するか、或いは、ガス電子増幅器の紫外線入射窓に対向する面上に形成することが好ましい。
[Photoelectric conversion material]
The photoelectric conversion material functions to convert ultraviolet rays generated from the scintillator into primary electrons. The type is not particularly limited as long as it has this function. Specific examples include cesium iodide (CsI), cesium telluride (CsTe), and the like. Among these, cesium iodide is preferable from the viewpoints of photoelectric conversion efficiency when converting ultraviolet light into electrons, and chemical stability.
The photoelectric conversion material is preferably a thin film in order to efficiently extract primary electrons converted from ultraviolet rays. Further, it is preferably formed on the inner surface of the ultraviolet incident window as will be described later or on the surface of the gas electronic amplifier that faces the ultraviolet incident window.
〔ガス電子増幅器〕
 次いで、上記光電変換物質より生じた一次電子をガス電子増幅器によって増幅する。当該ガス電子増幅器は、1997年にSauliによって開発され、Gas Electron Multiplier(GEM)として知られている。本発明において、当該ガス電子増幅器としては、例えば、特開2006-302844号公報、或いは特開2007-234485号公報に記載の技術が好適に使用できる。以下、本発明で使用するガス電子増幅器について、図5を用いて詳細に説明する。
 ガス電子増幅器は、樹脂製の板状絶縁層12とこの板状絶縁層の両面に被覆された平面状の金属層13とにより構成された板状多層体と、この板状多層体に設けられた、金属層の平面に垂直な内壁を有する貫通孔14により構成される。当該ガス電子増幅器においては、金属層に所定の印加電圧を印加し、貫通孔の内部に電界を発生させることにより、貫通孔構造の内部に侵入した一次電子が加速され、電子雪崩現象を生じて、位置情報を保持したまま、多数の二次電子へと増幅される。板状絶縁層の材質は、加工性及び機械的強度に鑑みて、ポリイミド或いは液晶高分子等であることが好ましい。
[Gas electronic amplifier]
Next, primary electrons generated from the photoelectric conversion material are amplified by a gas electron amplifier. The gas electronic amplifier was developed by Sauli in 1997 and is known as Gas Electron Multiplier (GEM). In the present invention, as the gas electronic amplifier, for example, the technique described in JP-A-2006-302844 or JP-A-2007-234485 can be preferably used. Hereinafter, the gas electronic amplifier used in the present invention will be described in detail with reference to FIG.
The gas electronic amplifier is provided with a plate-like multilayer body composed of a resin-made plate-like insulating layer 12 and a planar metal layer 13 coated on both sides of the plate-like insulating layer, and the plate-like multilayer body. Further, the through hole 14 has an inner wall perpendicular to the plane of the metal layer. In the gas electronic amplifier, by applying a predetermined applied voltage to the metal layer and generating an electric field inside the through hole, primary electrons that have penetrated into the through hole structure are accelerated, causing an electron avalanche phenomenon. Amplified into a large number of secondary electrons while retaining the position information. The material of the plate-like insulating layer is preferably polyimide or liquid crystal polymer in view of processability and mechanical strength.
 板状絶縁層の厚さ(図5中のD)が厚いほど、表面と裏面の金属層の間での放電を抑制することができるため、より高い印加電圧を印加して高い増幅率を得ることができる。しかし、極度に厚い場合には、貫通孔を設ける際の加工が困難となる。したがって、当該板状絶縁層の厚さは、50μm~300μmとすることが好ましい。金属層の材質及び厚さ(図5中のD)は特に制限されないが、例えば、材質を銅、アルミニウム、或いは金とし、厚さを5μm程度とした金属層が好適である。
 貫通孔の直径(図5中のd)は、特に制限されず、貫通孔の内部に生じる電界の強さと加工の容易さ等を考慮して、適宜選択される。かかる直径を具体的に例示すれば、一般に50~100μmである。なお、貫通孔は、生成される電界の一様性を高めるため、板状多層体の全面に所定のピッチ(図5中のP)で設けることが好ましい。当該ピッチは、板状絶縁層の材質や厚さ、及び貫通孔の直径にもよるが、一般には貫通孔の直径の約2倍程度である。また、貫通孔を設ける際には、図5に示すように、正三角形を配列した配置とすることが好ましい。かかる配置とすることによって、板状多層体の面積に対する貫通孔の開口率を高めることができるため、高い増幅率を得ることができ、更に後述するイオンフィードバックを抑制することができる。
As the thickness of the plate-like insulating layer (D i in FIG. 5) is larger, the discharge between the front and back metal layers can be suppressed. Therefore, a higher applied voltage is applied to increase the amplification factor. Obtainable. However, when it is extremely thick, it is difficult to process the through hole. Therefore, the thickness of the plate-like insulating layer is preferably 50 μm to 300 μm. The material and thickness of the metal layer (D m in FIG. 5) are not particularly limited. For example, a metal layer having a thickness of about 5 μm is suitable for the material being copper, aluminum, or gold.
The diameter of the through hole (d in FIG. 5) is not particularly limited, and is appropriately selected in consideration of the strength of the electric field generated in the through hole and the ease of processing. A specific example of such a diameter is generally 50 to 100 μm. The through holes are preferably provided at a predetermined pitch (P in FIG. 5) on the entire surface of the plate-like multilayer body in order to improve the uniformity of the generated electric field. The pitch depends on the material and thickness of the plate-like insulating layer and the diameter of the through hole, but is generally about twice the diameter of the through hole. Moreover, when providing a through-hole, it is preferable to set it as the arrangement | positioning which arranged the equilateral triangle, as shown in FIG. By adopting such an arrangement, the aperture ratio of the through holes with respect to the area of the plate-like multilayer body can be increased, so that a high amplification factor can be obtained and ion feedback described later can be suppressed.
 ガス電子増幅器の動作において、印加電圧が高いほど高い増幅率が得られるが、印加電圧が極端に高い場合には、ガス電子増幅器の表裏の金属層の間で放電が生じて安定動作が困難となる。当該印加電圧の好適な範囲は、板状絶縁層の厚さによって異なるが、一般には200V~1000Vであって、かかる印加電圧において得られる増幅率は、一般に数十~数千である。 In the operation of the gas electronic amplifier, the higher the applied voltage, the higher the amplification factor is obtained. Become. A suitable range of the applied voltage varies depending on the thickness of the plate-like insulating layer, but is generally 200 V to 1000 V, and an amplification factor obtained at the applied voltage is generally several tens to several thousand.
〔ビクセル型電極〕
 ガス電子増幅器によって増幅された二次電子は、ピクセル型電極を用いてさらに増幅されて検出される。ピクセル型電極については、前記特許文献1に詳細に開示されているので、これに開示された技術に準じて作製すればよい。具体的には、ピクセル型電極は、両面基板の裏面に形成される陽極ストリップと、この陽極ストリップに植設されるとともに、その上端面が前記両面基板の表面に露出する円柱状陽極電極と、この円柱状陽極電極の上端面の回りに穴が形成されるストリップ状陰極電極とを具備している。陽極ストリップは200μm~400μmの幅を有することが好ましく、さらに、陽極ストリップが400μm間隔で配置され、ストリップ状陰極電極には、一定間隔で直径200~300μmの穴が形成され、円柱状陽極電極は直径40~60μm、高さ50μm~150μmの形状であることが特に好ましい。
[Bixel electrode]
The secondary electrons amplified by the gas electron amplifier are further amplified and detected using the pixel type electrode. Since the pixel-type electrode is disclosed in detail in the above-mentioned Patent Document 1, it may be manufactured according to the technique disclosed therein. Specifically, the pixel-type electrode includes an anode strip formed on the back surface of the double-sided substrate, and a cylindrical anode electrode that is implanted in the anode strip and whose upper end surface is exposed on the surface of the double-sided substrate; A strip-like cathode electrode having a hole formed around the upper end surface of the cylindrical anode electrode. The anode strip preferably has a width of 200 μm to 400 μm. Further, the anode strips are arranged at intervals of 400 μm, and holes having a diameter of 200 to 300 μm are formed at regular intervals in the strip-like cathode electrode. A shape having a diameter of 40 to 60 μm and a height of 50 to 150 μm is particularly preferable.
 ピクセル型電極の円柱状陽極電極とストリップ状陰極電極の間に所定の印加電圧を印加することにより、円柱状陽極電極の近傍に強い電界が発生する。当該電界によって加速された二次電子は電子雪崩を生じ、増幅された後に円柱状陽極電極より検出される。この過程において陽イオン化したガス分子は、周囲のストリップ状陰極電極へ速やかにドリフトしていく。したがって、円柱状陽極電極とストリップ状陰極電極の両方に、電気回路上で観測可能な電荷が生じることになるので、陽極・陰極のどのストリップでこの増幅現象が起きたかを観測することで、入射粒子線の位置がわかる。信号の読み出し、及び2次元画像を得るための信号処理回路については、従来公知のものを制限なく用いることができる。 A strong electric field is generated in the vicinity of the cylindrical anode electrode by applying a predetermined applied voltage between the cylindrical anode electrode of the pixel electrode and the strip-like cathode electrode. Secondary electrons accelerated by the electric field cause an electron avalanche and are amplified and detected from the cylindrical anode electrode. In this process, cationized gas molecules quickly drift to the surrounding strip-like cathode electrode. Therefore, since electric charges that can be observed on the electric circuit are generated in both the cylindrical anode electrode and the strip-like cathode electrode, by observing which strip of the anode / cathode has caused this amplification phenomenon, the incident occurs. Know the position of the particle beam. As a signal processing circuit for reading out signals and obtaining a two-dimensional image, conventionally known ones can be used without limitation.
 ピクセル電極の印加電圧の好適な範囲は、検出ガスの種類によって異なるが、一般に400V~800Vである。ピクセル型電極は、陽極としてピクセルを用いるので、高電界が作り易く増幅率が大きい。したがって、上記印加電圧において得られる増幅率は、数千から数万にも達する。また、ピクセル型電極は、陽イオン化したガス分子がドリフトする距離が極めて短いため、他のガス増幅型検出器に比較して不感時間(dead time)が短く、約5×10count/(sec・mm)を超える高い計数率特性を有する。さらに、ピクセル型電極は、プリント回路基板の作製技術を用いて製造することができるため、大面積のものを安価に提供できる。 A suitable range of the voltage applied to the pixel electrode varies depending on the type of detection gas, but is generally 400V to 800V. Since the pixel-type electrode uses a pixel as an anode, a high electric field is easily generated and the amplification factor is large. Therefore, the amplification factor obtained at the applied voltage reaches several thousands to several tens of thousands. In addition, the pixel electrode has a very short distance for the cationized gas molecules to drift, and therefore has a dead time shorter than that of other gas amplification detectors, and is about 5 × 10 6 count / (sec. -It has a high count rate characteristic exceeding mm 2 ). Further, since the pixel-type electrode can be manufactured by using a printed circuit board manufacturing technique, a large-area electrode can be provided at low cost.
〔ガス増幅型紫外線画像検出器〕
 以下、前記光電変換物質、ガス電子増幅器、及びピクセル型電極を用いて、ガス増幅型紫外線画像検出器を構成する際の好適な態様について、図1~2を用いて詳細に説明する。
 シンチレーター1より生じた紫外線を入射するための開口部を有するチャンバー7内に、開口部に近い側から光電変換物質2、ガス電子増幅器4、及びピクセル型電極6が設置され、開口部は紫外線入射窓8で封止されている。この紫外線入射窓の材料としては、紫外線に対して高い透過性を有するフッ化リチウム(LiF)、フッ化マグネシウム(MgF)、或いはフッ化カルシウム(CaF)を用いることが好ましい。
 チャンバー内には、所定の検出ガスが充填されている。この検出ガスとしては、一般に希ガスとクエンチャーガスの組合せが使用される。希ガスとしては、例えばヘリウム(He)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)、キセノン(Xe)等がある。また、クエンチャーガスとしては、例えば、二酸化炭素(CO)、メタン(CH)、エタン(C)、四フッ化メタン(CF)等が挙げられる。希ガス中へのクエンチャーガスの混合量は、5~30%が好適である。
[Gas amplification type UV image detector]
Hereinafter, a preferred embodiment when a gas amplification type ultraviolet image detector is constructed using the photoelectric conversion substance, the gas electronic amplifier, and the pixel type electrode will be described in detail with reference to FIGS.
A photoelectric conversion substance 2, a gas electronic amplifier 4, and a pixel-type electrode 6 are installed in a chamber 7 having an opening for incident ultraviolet light generated from the scintillator 1, from the side close to the opening. It is sealed with a window 8. As a material for the ultraviolet light incident window, it is preferable to use lithium fluoride (LiF), magnesium fluoride (MgF 2 ), or calcium fluoride (CaF 2 ) having high transparency to ultraviolet light.
A predetermined detection gas is filled in the chamber. As the detection gas, a combination of a rare gas and a quencher gas is generally used. Examples of the rare gas include helium (He), neon (Ne), argon (Ar), and xenon (Xe). Examples of the quencher gas include carbon dioxide (CO 2 ), methane (CH 4 ), ethane (C 2 H 6 ), and tetrafluoromethane (CF 4 ). The mixing amount of the quencher gas in the rare gas is preferably 5 to 30%.
 光電変換物質は、紫外線から変換された一次電子を効率よく取り出すため、薄膜とすることが好ましい。当該薄膜は、図1に示すように、紫外線入射窓の内面に形成するか、或いは図2に示すように、ガス電子増幅器の紫外線入射窓に対向する面上に形成することが好ましい。光電変換物質の薄膜を紫外線入射窓の内面に形成する場合には、当該薄膜に電子を効率よく供給するため、且つ当該薄膜とガス電子増幅器との間に一様な電界を与えるため、薄膜の外周部に金属層からなる電極9を設けることが好ましい。光電変換物質の薄膜をガス電子増幅器の紫外線入射窓に対向する面上に形成する場合には、ガス電子増幅器の金属層と光電変換物質との反応を避けるため、当該金属層の材質を金とすることが好ましい。さらに、板状絶縁層へ積層する際の容易さや製作コストに鑑みて、金属層を板状絶縁層に近い側から、銅、ニッケル及び金の順で積層された、多層の金属層とすることが最も好ましい。 The photoelectric conversion material is preferably a thin film in order to efficiently extract primary electrons converted from ultraviolet rays. The thin film is preferably formed on the inner surface of the ultraviolet light incident window as shown in FIG. 1 or on the surface facing the ultraviolet light incident window of the gas electronic amplifier as shown in FIG. When a thin film of photoelectric conversion material is formed on the inner surface of an ultraviolet incident window, in order to efficiently supply electrons to the thin film and to provide a uniform electric field between the thin film and the gas electron amplifier, It is preferable to provide the electrode 9 which consists of a metal layer in an outer peripheral part. When a thin film of photoelectric conversion material is formed on the surface of the gas electronic amplifier facing the ultraviolet light incident window, the metal layer is made of gold and metal in order to avoid reaction between the metal layer of the gas electronic amplifier and the photoelectric conversion material. It is preferable to do. Furthermore, in view of the ease and production cost when laminating to the plate-like insulating layer, the metal layer is a multilayer metal layer laminated in the order of copper, nickel and gold from the side close to the plate-like insulating layer. Is most preferred.
 ガス電子増幅器及びピクセル型電極は、それぞれ紫外線入射窓に平行に設置される。ガス電子増幅器は、増幅率及び動作の安定性の観点から、複数段使用して、同様に紫外線入射窓に平行に設置することが好ましく、2段または3段程度設置することが特に好ましい。複数段のガス電子増幅器とピクセル型電極の各々で電子を増幅することによって、段階的に電子が増幅され、結果として得られる総合的な増幅率を大幅に高めることができる。また、複数段のガス電子増幅器を用いることによって、イオンフィードバックを効果的に抑制することができ、動作の安定性を高めることができる。イオンフィードバックとは、電子雪崩現象で副次的に生成した陽イオン性のガス分子が蓄積され、電界を歪める現象であって、かかるイオンフィードバックが生じると、増幅率や計数率特性が不安定となり、動作の安定性に支障をきたす。 The gas electronic amplifier and the pixel type electrode are installed in parallel to the ultraviolet incident window. From the viewpoint of amplification factor and operational stability, the gas electronic amplifier is used in a plurality of stages, and is preferably installed in parallel to the ultraviolet incident window, and is preferably installed in two or three stages. By amplifying electrons in each of the multi-stage gas electron amplifier and the pixel type electrode, the electrons are amplified step by step, and the overall gain obtained as a result can be greatly increased. In addition, by using a plurality of gas electronic amplifiers, ion feedback can be effectively suppressed, and operational stability can be improved. Ion feedback is a phenomenon in which cationic gas molecules generated secondary by the electron avalanche phenomenon are accumulated and the electric field is distorted. When such ion feedback occurs, the amplification factor and count rate characteristics become unstable. This will hinder the stability of operation.
 紫外線入射窓と初段のガス電子増幅器とのギャップ(図1中のG)の長さ、各ガス電子増幅器間のギャップ(図1中のG)の長さ、及び最後段のガス電子増幅器とピクセル型電極とのギャップ(図1中のG)の長さは、短いほど計数率特性及び位置分解能が向上するが、極端に短い場合には互いが接しないように設置することが困難となる。したがって、当該G、G、及びGの好適な長さは、ともに約1mm~20mmである。
 上記G、G、及びGに生じせしめる電界の大きさは、特に制限されず、所期の増幅率、イオンフィードバックの抑制効果、及び電荷の収集効率に鑑みて適宜選択することができる。当該電界の大きさの好ましい範囲を具体的に例示すれば、一般に0.3~10kV/cmである。かかる電界の大きさとすることによって、高い増幅率と前記イオンフィードバックの抑制を同時に達成することができる。
The length of the gap (G 1 in FIG. 1) between the ultraviolet light incident window and the first stage gas electronic amplifier, the length of the gap between each gas electronic amplifier (G 2 in FIG. 1), and the last stage gas electronic amplifier As the length of the gap between the pixel electrode and the pixel electrode (G 3 in FIG. 1) is shorter, the count rate characteristics and the position resolution are improved. However, when the length is extremely short, it is difficult to install them so that they do not contact each other. It becomes. Accordingly, the preferred lengths of G 1 , G 2 , and G 3 are all about 1 mm to 20 mm.
The magnitude of the electric field generated in G 1 , G 2 , and G 3 is not particularly limited, and can be appropriately selected in view of the intended amplification factor, the effect of suppressing ion feedback, and the charge collection efficiency. . Specifically, a preferable range of the magnitude of the electric field is generally 0.3 to 10 kV / cm. By setting the magnitude of the electric field, a high amplification factor and suppression of the ion feedback can be achieved at the same time.
 本発明者らの検討によれば、2段のガス電子増幅器とピクセル型電極を組み合わせ、ガス電子増幅器及びピクセル型電極に印加する印加電圧を最適化することによって、ガス電子増幅器及びピクセル型電極による総合的な増幅率として1×10を超える増幅率を安定に得ることができ、シンチレーターから生じた微弱な紫外線によって画像を形成することが可能となる。
〔放射線画像検出器〕
According to the study by the present inventors, a gas electronic amplifier and a pixel type electrode are combined by combining a two-stage gas electronic amplifier and a pixel type electrode, and optimizing the applied voltage applied to the gas electronic amplifier and the pixel type electrode. As an overall amplification factor, an amplification factor exceeding 1 × 10 5 can be stably obtained, and an image can be formed by weak ultraviolet rays generated from the scintillator.
[Radiation image detector]
 本発明の放射線画像検出器において、前記光電変換物質、ガス電子増幅器、及びピクセル型電極には、それぞれ電圧を印加するための高圧電源が接続され、ピクセル型電極には信号の読み出し及び2次元画像を得るための信号処理回路が接続されている。なお、ピクセル型電極より信号を読み出し2次元画像を得る際に、アンガーロジック(Anger logic)に基づくアンガー型信号処理回路を用いることによって、位置分解能を特に向上することができる。アンガーロジックとは、放射線の入射によって生じたシンチレーション光が、空間的な拡がりを以って検出された場合に、当該シンチレーション光の重心位置を求めることによって、放射線の入射位置を特定する手法である。 In the radiation image detector of the present invention, a high-voltage power supply for applying a voltage is connected to each of the photoelectric conversion substance, the gas electronic amplifier, and the pixel type electrode, and signal readout and two-dimensional image are applied to the pixel type electrode. Is connected to a signal processing circuit. In addition, when reading a signal from a pixel-type electrode and obtaining a two-dimensional image, the position resolution can be particularly improved by using an anger-type signal processing circuit based on anger logic. Anger logic is a method for specifying the incident position of radiation by obtaining the position of the center of gravity of the scintillation light when the scintillation light generated by the incidence of the radiation is detected with a spatial spread. .
 当該アンガー型信号処理回路は、ピクセル型電極の各ピクセルでの信号の強度を読み出すための読み出し回路、個々の放射線の入射によって生じたシンチレーション光を弁別する(discriminate)ための同時計数回路(coincidence counter)、及び各ピクセルから読み出された信号の強度からシンチレーション光の重心位置を求めるための重心演算回路より構成される。当該アンガー型信号処理回路においては、読み出し回路より得られた信号の内、単一の放射線の入射によって生じた信号のみを同時計数回路によって弁別する。次いで、かかる弁別された信号を対象とし、当該信号の強度についての荷重平均を、重心演算回路によって求めることにより、放射線の入射位置を特定する。かかるアンガー型信号処理回路によれば、位置分解能を約100μmまで向上することができる。 The anger type signal processing circuit includes a readout circuit for reading out the signal intensity at each pixel of the pixel type electrode, and a coincidence counter for discriminate scintillation light generated by the incidence of individual radiation. ), And a gravity center calculation circuit for obtaining the gravity center position of the scintillation light from the intensity of the signal read from each pixel. In the anger type signal processing circuit, only signals generated by the incidence of a single radiation among the signals obtained from the readout circuit are discriminated by the coincidence counting circuit. Subsequently, the incident position of the radiation is specified by using the discriminated signal as a target and obtaining a weighted average of the intensity of the signal by a gravity center calculation circuit. According to such an anger type signal processing circuit, the position resolution can be improved to about 100 μm.
 以下、前記シンチレーター及びガス増幅型紫外線画像検出器を用いて、本発明の放射線画像検出器を構成する際の好適な態様について、図1~4を用いて詳細に説明する。
 図1に示すように、シンチレーターの紫外線出射面以外の面に紫外線反射膜10を施し、シンチレーターの紫外線出射面とガス増幅型紫外線画像検出器の紫外線入射窓とを密接して設置し、好ましくは、紫外線出射面と紫外線入射窓の間にグリース11を充填する。グリースを充填することにより、シンチレーター内部より紫外線射出面に到達した紫外線を、紫外線射出面で反射させること無く外部に導出でき、ガス増幅型紫外線画像検出器への入射効率を高めることができる。当該グリースとしては、屈折率が高く、また紫外線に対する透明性が高いフッ素系グリースを用いることが好ましく、例えば、デュポン社製「クライトックス」(DuPont "Krytox")等が好適に使用できる。
In the following, preferred embodiments of the radiation image detector of the present invention using the scintillator and the gas amplification type ultraviolet image detector will be described in detail with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, an ultraviolet reflecting film 10 is applied to a surface other than the ultraviolet light emitting surface of the scintillator, and the ultraviolet light emitting surface of the scintillator and the ultraviolet light incident window of the gas amplification type ultraviolet image detector are installed closely, preferably The grease 11 is filled between the ultraviolet light emitting surface and the ultraviolet light incident window. By filling the grease, the ultraviolet rays that have reached the ultraviolet emission surface from the inside of the scintillator can be led out to the outside without being reflected by the ultraviolet emission surface, and the incidence efficiency to the gas amplification type ultraviolet image detector can be increased. As the grease, a fluorine-based grease having a high refractive index and high transparency to ultraviolet rays is preferably used. For example, “DuPont“ Krytox ”manufactured by DuPont, etc. can be suitably used.
 シンチレーターの放射線入射方向に対する厚さが厚く、シンチレーター内での紫外線の拡がりによって位置分解能が低下する場合には、図3のように小さな紫外線出射面を有し、紫外線出射面以外の面に紫外線反射膜が施されたシンチレーターを多数配列することによって、紫外線の拡がりを抑えることができる。 When the thickness of the scintillator with respect to the radiation incident direction is large and the position resolution is lowered due to the spread of ultraviolet rays in the scintillator, it has a small ultraviolet emitting surface as shown in FIG. By arranging a large number of scintillators provided with a film, it is possible to suppress the spread of ultraviolet rays.
 本発明の放射線画像検出器の別の態様として、図4に示すように、紫外線入射窓に替えて、シンチレーターによってチャンバーの開口部を封止してもよい。かかる態様により、紫外線入射窓における紫外線の拡がりに起因する位置分解能の低下を回避することができ、しかも、構造を簡素化することができるため、好ましい。
 なお、かかる態様において、本発明のLLF結晶は特別の効果を発揮する。すなわち、当該態様においてはシンチレーターの表面に光電変換物質の薄膜が形成され、当該薄膜とガス電子増幅器との間に電界が形成される。かかる電界の形成の際に、前記薄膜に負の高電圧が印加される場合がある。本発明者らの検討によれば、シンチレーターとして、例えば非特許文献3に記載されているNdを含有するLaF結晶を用いた場合、当該高電圧の印加によって結晶が破壊するという問題が生じた。一方で、LLF結晶を用いた場合にはかかる問題は生じず長期間安定して動作することができた。
As another aspect of the radiological image detector of the present invention, as shown in FIG. 4, the opening of the chamber may be sealed with a scintillator instead of the ultraviolet incident window. Such an embodiment is preferable because it is possible to avoid a decrease in position resolution due to the spread of ultraviolet rays in the ultraviolet incident window and to simplify the structure.
In this embodiment, the LLF crystal of the present invention exhibits a special effect. That is, in this aspect, a thin film of photoelectric conversion material is formed on the surface of the scintillator, and an electric field is formed between the thin film and the gas electronic amplifier. When such an electric field is formed, a negative high voltage may be applied to the thin film. According to the study by the present inventors, for example, when a LaF 3 crystal containing Nd described in Non-Patent Document 3 is used as the scintillator, there is a problem that the crystal is broken by application of the high voltage. . On the other hand, when the LLF crystal was used, such a problem did not occur and it was possible to operate stably for a long time.
 以下、本発明の実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら制限されるものではない。また、実施例の中で説明されている特徴の組み合わせすべてが本発明の解決手段に必須のものとは限らない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, not all combinations of features described in the embodiments are essential to the solution means of the present invention.
 実施例1
〈シンチレーターの作製〉
 本実施例において、シンチレーターは発光中心元素としてNdを含有するLiLuF結晶を用いた。当該Ndを含有するLiLuF結晶は、チョクラルスキー法による結晶製造装置を用いて製造した。原料としては、純度が99.99%以上のLiF、LuF及びNdFを用いた。まず、LiF 300g、LuF 2700g及びNdF 23gをそれぞれ秤量し、よく混合して坩堝に充填した。
 次いで、上記原料を充填した坩堝を結晶製造装置のチャンバー内にセットし、真空排気装置を用いてチャンバー内を1.0×10-3Pa以下まで真空排気した後、高純度の四フッ化メタンとアルゴンからなる混合ガスをチャンバー内に導入してガス置換を行った。ガス置換後のチャンバー内の圧力は大気圧とした。 ガス置換操作を行った後、ヒーターで原料を加熱して溶融せしめ、溶融した原料の融液に種結晶(seed crystal)を接触せしめた。次いで種結晶を回転させながら引き上げ、結晶の育成を開始した。
Example 1
<Preparation of scintillator>
In this example, the scintillator used LiLuF 4 crystal containing Nd as the luminescent center element. The LiLuF 4 crystal containing Nd was manufactured using a crystal manufacturing apparatus by the Czochralski method. As raw materials, LiF, LuF 3 and NdF 3 having a purity of 99.99% or more were used. First, 300 g of LiF, 2700 g of LuF 3 and 23 g of NdF 3 were weighed, mixed well, and filled into a crucible.
Next, the crucible filled with the above raw materials was set in the chamber of the crystal production apparatus, and the inside of the chamber was evacuated to 1.0 × 10 −3 Pa or less using a vacuum evacuation apparatus, and then high purity tetrafluoromethane A gas mixture was introduced by introducing a mixed gas consisting of argon and argon into the chamber. The pressure in the chamber after gas replacement was atmospheric pressure. After the gas replacement operation, the raw material was heated and melted with a heater, and a seed crystal was brought into contact with the melt of the molten raw material. Next, the seed crystal was pulled up while rotating to start crystal growth.
 結晶を引き上げながら、一定の割合で結晶径を拡大し、結晶径を55mmに調整した。結晶径を55mmまで拡大せしめた後、引き上げ速度を3mm/hrに維持して、結晶の長さが約100mmとなるまで連続的に引き上げを続けた。次いでヒーターの出力を上げて結晶を原料融液から切り離し、その後徐冷することによって、Ndを含有するLiLuF4結晶を得た。該結晶は直径が60mm、長さが約100mmであり、白濁やクラックの無い良質な結晶であった。Ndの含有量は、誘導結合プラズマ質量分析法(inductively-coupled plasma mass spectrometry;ICP-MS)を用いて測定した結果、0.23wt%であった。 While pulling up the crystal, the crystal diameter was increased at a certain rate and the crystal diameter was adjusted to 55 mm. After expanding the crystal diameter to 55 mm, the pulling rate was maintained at 3 mm / hr, and the pulling was continued continuously until the length of the crystal reached about 100 mm. Next, the output of the heater was increased, the crystal was separated from the raw material melt, and then slowly cooled to obtain a LiLuF4 crystal containing Nd. The crystal had a diameter of 60 mm and a length of about 100 mm, and was a high-quality crystal without white turbidity or cracks. The content of Nd was 0.23 wt% as a result of measurement using inductively-coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS).
 得られた結晶を、ダイヤモンドワイヤーを備えたワイヤーソーによって、15mm角の立方体状に加工した後、全面に光学研磨を施してシンチレータ
ーとした。光学研磨された面の一面を紫外線出射面とし、他の面にはテフロン(登録商標)からなる紫外線反射膜を施した。紫外線出射面の対面に施した紫外線反射膜に、中央部に5mm×5mmの開口部を設け、放射線入射口とした。
 このシンチレーターについて、入射した放射線を変換して出射される紫外線の波長を以下の方法によって測定した。
 タングステンをターゲットとする封入式X線管球(sealed X-ray tube)を用いて、X線をシンチレーターに照射した。なお、封入式X線管球よりX線を発生させる際の管電圧及び管電流はそれぞれ60kV及び40mAとした。シンチレーターの紫外線出射面より生じた紫外線を集光ミラーで集光し、分光器にて単色化し、各波長の強度を記録してシンチレーターより生じた紫外線のスペクトルを得た。測定の結果、本製造例のシンチレーターは、入射した放射線を波長が183nmの真空紫外線に変換することが確認された。
The obtained crystal was processed into a 15 mm square cube shape with a wire saw equipped with a diamond wire, and then the entire surface was optically polished to obtain a scintillator. One surface of the optically polished surface was used as an ultraviolet emitting surface, and the other surface was provided with an ultraviolet reflecting film made of Teflon (registered trademark). An opening of 5 mm × 5 mm was provided in the central portion of the ultraviolet reflecting film provided on the opposite surface of the ultraviolet emitting surface to form a radiation incident port.
With respect to this scintillator, the wavelength of ultraviolet rays emitted by converting incident radiation was measured by the following method.
The scintillator was irradiated with X-rays using a sealed X-ray tube targeting tungsten. The tube voltage and tube current when generating X-rays from the enclosed X-ray tube were set to 60 kV and 40 mA, respectively. The ultraviolet rays generated from the ultraviolet emission surface of the scintillator were collected by a condenser mirror, monochromatic by a spectroscope, and the intensity of each wavelength was recorded to obtain the spectrum of the ultraviolet rays generated from the scintillator. As a result of the measurement, it was confirmed that the scintillator of this production example converts incident radiation into vacuum ultraviolet light having a wavelength of 183 nm.
〈ガス増幅型紫外線画像検出器の作製〉
 本発明の放射線画像検出器の構成要素であるガス増幅型紫外線画像検出器を以下の方法によって作製した。
 図1に示すように、開口部を有するチャンバー内に、開口部に近い側から2段のガス電子増幅器、及びピクセル型電極をそれぞれ平行に設置し、開口部を紫外線入射窓で封止した。紫外線入射窓と初段のガス電子増幅器との距離は9mm、初段のガス電子増幅器と後段のガス電子増幅器との距離は2mm、後段のガス電子増幅器とピクセル型電極との距離は2mmとした。
 ガス電子増幅器は、ポリイミド製の板状絶縁層の両側に、金属層として5μmの厚さで銅を蒸着して板状多層体とし、当該板状多層体の全面に、直径が70μmの円柱状の貫通孔を、140μmのピッチで、正三角形を配列した配置にて設けたものを用いた。なお、初段のガス電子増幅器及び後段のガス電子増幅器の板状絶縁層の厚さは、それぞれ100μm及び50μmとした。
 ピクセル型電極は、厚さが100μmのポリイミド基板を用い、当該基板の裏面に幅が300μmの陽極ストリップを設け、この陽極ストリップに植設され、基板の表面に露出する円柱状陽極電極を400μm間隔で配置し、この円柱状陽極電極の上端面の回りに直径が260μmの穴が形成されたストリップ状陰極電極を設けたものを用いた。円柱状陽極電極の直径は、基板内に埋設された部分を50μmとし、基板の表面に露出した部分を70μmとした。円柱状陽極電極の高さは110μmとし、上端部10μmが表面に露出した構造とした。
<Production of gas amplification type UV image detector>
A gas amplification type ultraviolet image detector which is a component of the radiation image detector of the present invention was produced by the following method.
As shown in FIG. 1, in a chamber having an opening, two stages of gas electronic amplifiers and pixel electrodes were installed in parallel from the side close to the opening, and the opening was sealed with an ultraviolet incident window. The distance between the ultraviolet light incident window and the first stage gas electronic amplifier was 9 mm, the distance between the first stage gas electronic amplifier and the rear stage gas electronic amplifier was 2 mm, and the distance between the rear stage gas electronic amplifier and the pixel electrode was 2 mm.
The gas electronic amplifier has a plate-like multilayer body by depositing copper with a thickness of 5 μm as a metal layer on both sides of a polyimide plate-like insulating layer, and a cylindrical shape having a diameter of 70 μm on the entire surface of the plate-like multilayer body. The through-holes provided in an arrangement in which equilateral triangles are arranged at a pitch of 140 μm were used. Note that the thicknesses of the plate-like insulating layers of the first-stage gas electronic amplifier and the latter-stage gas electronic amplifier were 100 μm and 50 μm, respectively.
The pixel electrode uses a polyimide substrate having a thickness of 100 μm, and an anode strip having a width of 300 μm is provided on the back surface of the substrate, and cylindrical anode electrodes that are implanted in the anode strip and exposed on the surface of the substrate are spaced by 400 μm. The strip-shaped cathode electrode provided with a hole having a diameter of 260 μm around the upper end surface of the cylindrical anode electrode was used. The diameter of the cylindrical anode electrode was 50 μm at the portion embedded in the substrate, and 70 μm at the portion exposed on the surface of the substrate. The height of the columnar anode electrode was 110 μm, and the upper end 10 μm was exposed on the surface.
 紫外線入射窓には、直径が54mm、厚さが5mmのMgFを用い、当該紫外線入射窓の内面には光電変換物質としてヨウ化セシウムの薄膜を設け、さらに当該ヨウ化セシウム薄膜の外周部にニッケル層からなる電極を設けた。ヨウ化セシウム薄膜の外周部に設けられたニッケル層からなる電極、初段のガス電子増幅器の両面、後段のガス電子増幅器の両面、及びピクセル型電極の陽極電極と陰極電極には、印加電圧を印加するための高圧電源(high-voltage power supply)を接続し、ピクセル型電極の陽極電極と陰極電極には、信号の読み出し及び2次元画像を得るための信号処理回路を接続した。
 前記チャンバー内に検出ガスとして、10%のCを混合したArを充填し、本発明の構成要素であるガス増幅型紫外線画像検出器を得た。
MgF 2 having a diameter of 54 mm and a thickness of 5 mm is used for the ultraviolet incident window, and a thin film of cesium iodide is provided as a photoelectric conversion material on the inner surface of the ultraviolet incident window, and further, the outer periphery of the cesium iodide thin film is provided. An electrode made of a nickel layer was provided. An applied voltage is applied to the nickel layer electrode on the outer periphery of the cesium iodide thin film, both sides of the first stage gas electronic amplifier, both sides of the subsequent stage gas electronic amplifier, and the anode and cathode electrodes of the pixel electrode. A high-voltage power supply was connected, and a signal processing circuit for reading signals and obtaining a two-dimensional image was connected to the anode and cathode electrodes of the pixel-type electrode.
The chamber was filled with Ar mixed with 10% C 2 H 6 as a detection gas to obtain a gas amplification type ultraviolet image detector which is a component of the present invention.
 当該ガス増幅型紫外線画像検出器において、ヨウ化セシウム薄膜の外周部に設けられたニッケル層からなる電極に-1350Vを印加し、初段のガス電子増幅器及び後段のガス電子増幅器のそれぞれについて、両面の金属層間に400V及び300Vを印加し、ピクセル型電極の陽極電極と陰極電極との間に400Vを印加した。なお、紫外線入射窓と初段のガス電子増幅器の間の電界が0.25kV/cm、初段のガス電子増幅器と後段のガス電子増幅器の間の電界が1.25kV/cm、後段のガス電子増幅器とピクセル型電極の間の電界が3.00kV/cmとなるように印加電圧を調整した。
 上記印加電圧下において、2段のガス電子増幅器とピクセル型電極によって得られる総合的な増幅率は2.3×10に達し、かかる高い増幅率においても、ガス電子増幅器の表裏での放電やピクセル型電極における放電は生じず、長期間安定に動作することが確認された。
In the gas amplification type ultraviolet image detector, −1350 V is applied to an electrode made of a nickel layer provided on the outer peripheral portion of the cesium iodide thin film, and both the first stage gas electronic amplifier and the second stage gas electronic amplifier are arranged on both sides. 400 V and 300 V were applied between the metal layers, and 400 V was applied between the anode electrode and the cathode electrode of the pixel electrode. The electric field between the ultraviolet incident window and the first stage gas electronic amplifier is 0.25 kV / cm, the electric field between the first stage gas electronic amplifier and the second stage gas electronic amplifier is 1.25 kV / cm, The applied voltage was adjusted so that the electric field between the pixel-type electrodes was 3.00 kV / cm.
Under the applied voltage, the total amplification factor obtained by the two-stage gas electronic amplifier and the pixel-type electrode reaches 2.3 × 10 5. Even at such a high amplification factor, It was confirmed that no discharge occurred in the pixel-type electrode and the pixel-type electrode operated stably for a long time.
〈放射線画像検出器の作成と評価〉
 上述の方法で作製したシンチレーターの紫外線出射面と、ガス増幅型紫外線画像検出器の紫外線入射窓とを図1に示すように密接して設置し、本発明の放射線画像検出器を得た。なお、前記紫外線出射面と紫外線入射窓の間にはフッ素系グリースとしてデュポン社製「クライトックス」を充填した。
 放射線画像検出器の性能を評価するため、0.65MBqの放射能を有する60Co同位体、0.41MBqの放射能を有する57Co同位体及び3.1MBqの放射能を有する241Am同位体を放射線源とし、該放射線源より生じる放射線に対する放射線画像検出器の応答を評価した。なお、前記同位体は、それぞれ1173keV及び1333keVのγ線、122keVのγ線並びに5.5MeVのα線を発する放射線源である。放射線源をシンチレーターに近接して設置し、放射線源より生じる放射線をシンチレーター近接面に照射した。ピクセル型電極に接続された信号処理回路を用いて、ピクセル型電極の各陽極電極から出力される信号を取得し、2次元画像を構成した。60Co、57Co及び241Amを放射線源として得られた画像をそれぞれ図6、7並びに8及び9に示す。なお、各図中の破線部は、シンチレーターを設置した位置を示しており、図9は、同様の構成においてシンチレーターのみを45°回転して取得した画像である。図6~9に示すように、シンチレーターの形状を画像としてとらえることができ、本発明の放射線画像検出器が充分な感度と優れた位置分解能を有することが確認された。
<Production and evaluation of radiation image detector>
The ultraviolet ray exit surface of the scintillator produced by the above-described method and the ultraviolet ray incident window of the gas amplification type ultraviolet image detector were placed in close contact as shown in FIG. 1 to obtain the radiation image detector of the present invention. In addition, “Crytox” manufactured by DuPont was filled as a fluorine-based grease between the ultraviolet emitting surface and the ultraviolet incident window.
In order to evaluate the performance of the radiological image detector, a 60 Co isotope having a radioactivity of 0.65 MBq, a 57 Co isotope having a radioactivity of 0.41 MBq, and a 241 Am isotope having a radioactivity of 3.1 MBq A radiation source was evaluated, and the response of the radiation image detector to radiation generated from the radiation source was evaluated. The isotopes are radiation sources that emit 1173 keV and 1333 keV γ rays, 122 keV γ rays and 5.5 MeV α rays, respectively. A radiation source was installed close to the scintillator, and radiation generated from the radiation source was applied to the scintillator proximity surface. Using a signal processing circuit connected to the pixel type electrode, a signal output from each anode electrode of the pixel type electrode was obtained to construct a two-dimensional image. Images obtained using 60 Co, 57 Co and 241 Am as radiation sources are shown in FIGS. 6, 7 and 8 and 9, respectively. In addition, the broken line part in each figure has shown the position which installed the scintillator, and FIG. 9 is the image acquired by rotating only the scintillator 45 degrees in the same structure. As shown in FIGS. 6 to 9, the shape of the scintillator can be captured as an image, and it was confirmed that the radiographic image detector of the present invention has sufficient sensitivity and excellent position resolution.
 実施例2
〈シンチレーターの作製〉
 実施例1で製造した発光中心元素としてNdを含有するLiLuF結晶を、直径54mm、厚さ5mmのディスク状に加工した後、両面に光学研磨を施してシンチレーターとした。なお、当該シンチレーターの光学研磨された一面を紫外線出射面として用いた。
〈ガス増幅型紫外線画像検出器の作製〉
 ガス増幅型紫外線画像検出器を以下の方法によって作製した。
 本実施例においては、図4に示すように、シンチレーターの紫外線出射面に、光電変換物質としてヨウ化セシウムの薄膜を設け、さらに当該ヨウ化セシウム薄膜の外周部にニッケル層からなる電極を設けた。なお、前記ヨウ化セシウムの薄膜はシンチレーターの紫外線出射面の内、中心部の直径34mmの領域に設けた。
 図4に示すように、開口部を有するチャンバー内に、開口部に近い側から2段のガス電子増幅器、及びピクセル型電極をそれぞれ平行に設置し、開口部を前記シンチレーターで封止した。すなわち、本実施例においては、紫外線入射窓に替えて、シンチレーターによってチャンバーの開口部を封止した。かかる構造とすることによって、紫外線入射窓における紫外線の拡がりに起因する位置分解能の低下を回避すると同時に、放射線画像検出器の構造を簡素化した。
 前記ヨウ化セシウムの薄膜を設けたシンチレーターの紫外線出射面と初段のガス電子増幅器との距離は9mm、初段のガス電子増幅器と後段のガス電子増幅器との距離は2mm、後段のガス電子増幅器とピクセル型電極との距離は2mmとした。
 なお、ガス電子増幅器及びピクセル型電極は、実施例1と同様のものを用いた。
 前記ヨウ化セシウム薄膜の外周部に設けられたニッケル層からなる電極、初段のガス電子増幅器の両面、後段のガス電子増幅器の両面、及びピクセル型電極の陽極電極と陰極電極には、印加電圧を印加するための高圧電源を接続し、ピクセル型電極の陽極電極と陰極電極には、信号の読み出し、及び2次元画像を得るための信号処理回路を接続した。チャンバー内に検出ガスとして、10%のCを混合したArを充填し、本発明の構成要素であるガス増幅型紫外線画像検出器を得た。
Example 2
<Preparation of scintillator>
The LiLuF 4 crystal containing Nd as the luminescent center element produced in Example 1 was processed into a disk shape having a diameter of 54 mm and a thickness of 5 mm, and then optically polished on both sides to obtain a scintillator. In addition, the optically polished surface of the scintillator was used as an ultraviolet emission surface.
<Production of gas amplification type UV image detector>
A gas amplification type ultraviolet image detector was produced by the following method.
In this example, as shown in FIG. 4, a thin film of cesium iodide was provided as a photoelectric conversion material on the ultraviolet emission surface of the scintillator, and an electrode made of a nickel layer was provided on the outer periphery of the thin film of cesium iodide. . The cesium iodide thin film was provided in a region having a diameter of 34 mm in the central portion of the ultraviolet emitting surface of the scintillator.
As shown in FIG. 4, in a chamber having an opening, a two-stage gas electronic amplifier and a pixel type electrode were installed in parallel from the side close to the opening, and the opening was sealed with the scintillator. That is, in this example, the opening of the chamber was sealed with a scintillator instead of the ultraviolet incident window. By adopting such a structure, the position resolution due to the spread of ultraviolet rays at the ultraviolet incident window is avoided, and at the same time, the structure of the radiation image detector is simplified.
The distance between the ultraviolet emission surface of the scintillator provided with the cesium iodide thin film and the first stage gas electronic amplifier is 9 mm, the distance between the first stage gas electronic amplifier and the second stage gas electronic amplifier is 2 mm, the second stage gas electronic amplifier and the pixel. The distance from the mold electrode was 2 mm.
In addition, the same thing as Example 1 was used for the gas electronic amplifier and the pixel type electrode.
An applied voltage is applied to the electrode made of a nickel layer provided on the outer peripheral portion of the cesium iodide thin film, both sides of the first stage gas electronic amplifier, both sides of the subsequent stage gas electronic amplifier, and the anode electrode and the cathode electrode of the pixel type electrode. A high-voltage power source for application was connected, and a signal processing circuit for reading signals and obtaining a two-dimensional image was connected to the anode electrode and the cathode electrode of the pixel electrode. The chamber was filled with Ar mixed with 10% C 2 H 6 as a detection gas to obtain a gas amplification type ultraviolet image detector which is a component of the present invention.
 当該ガス増幅型紫外線画像検出器において、ヨウ化セシウム薄膜の外周部に設けられたニッケル層からなる電極に-1350Vを印加し、初段のガス電子増幅器及び後段のガス電子増幅器のそれぞれについて、両面の金属層間に400V及び300Vを印加し、ピクセル型電極の陽極電極と陰極電極との間に400Vを印加した。なお、紫外線入射窓と初段のガス電子増幅器の間の電界が0.25kV/cm、初段のガス電子増幅器と後段のガス電子増幅器の間の電界が1.25kV/cm、後段のガス電子増幅器とピクセル型電極の間の電界が3.00kV/cmとなるように印加電圧を調整した。
 上記印加電圧下において、2段のガス電子増幅器とピクセル型電極によって得られる総合的な増幅率は2.3×10に達し、かかる高い増幅率においても、ガス電子増幅器の表裏での放電やピクセル型電極における放電は生じず、長期間安定に動作することが確認された。
In the gas amplification type ultraviolet image detector, −1350 V is applied to an electrode made of a nickel layer provided on the outer peripheral portion of the cesium iodide thin film, and both the first stage gas electronic amplifier and the second stage gas electronic amplifier are arranged on both sides. 400 V and 300 V were applied between the metal layers, and 400 V was applied between the anode electrode and the cathode electrode of the pixel electrode. The electric field between the ultraviolet incident window and the first stage gas electronic amplifier is 0.25 kV / cm, the electric field between the first stage gas electronic amplifier and the second stage gas electronic amplifier is 1.25 kV / cm, The applied voltage was adjusted so that the electric field between the pixel-type electrodes was 3.00 kV / cm.
Under the applied voltage, the total amplification factor obtained by the two-stage gas electronic amplifier and the pixel-type electrode reaches 2.3 × 10 5. Even at such a high amplification factor, It was confirmed that no discharge occurred in the pixel-type electrode and the pixel-type electrode operated stably for a long time.
〈放射線画像検出器の作製と評価〉
 放射線画像検出器の性能の評価は、0.65MBqの放射能を有する60Co同位体を放射線源とし、該放射線源より生じる放射線に対する放射線画像検出器の応答を評価した。なお、前記60Co同位体は、1173keV及び1333keVのγ線を発する放射線源である。放射線源より生じる放射線を、鉛製のコリメーターを用いてシンチレーターの特定の箇所に照射した。放射線を照射した箇所は、シンチレーターの中心の箇所、中心より左に5mmずらした箇所及び中心より右に5mmずらした箇所とした。なお、照射した範囲は、直径5mmとした。
 ピクセル型電極に接続された信号処理回路を用いて、ピクセル型電極の各陽極電極から出力される信号を取得し、2次元画像を構成した。得られた画像をそれぞれ図10、11及び12に示す。
 その結果、図10~12に示すように、放射線を照射した箇所を画像としてとらえることができ、本発明の放射線画像検出器が充分な感度と優れた位置分解能を有することが確認された。
<Production and evaluation of radiation image detector>
Evaluation of the performance of the radiation image detector was performed by using a 60 Co isotope having a radioactivity of 0.65 MBq as a radiation source and evaluating the response of the radiation image detector to radiation generated from the radiation source. The 60 Co isotope is a radiation source that emits γ rays of 1173 keV and 1333 keV. Radiation generated from the radiation source was irradiated to a specific part of the scintillator using a lead collimator. The locations irradiated with radiation were the center location of the scintillator, the location shifted 5 mm to the left from the center, and the location offset 5 mm to the right from the center. The irradiated range was 5 mm in diameter.
Using a signal processing circuit connected to the pixel type electrode, a signal output from each anode electrode of the pixel type electrode was obtained to construct a two-dimensional image. The obtained images are shown in FIGS. 10, 11 and 12, respectively.
As a result, as shown in FIGS. 10 to 12, it was possible to capture a portion irradiated with radiation as an image, and it was confirmed that the radiation image detector of the present invention has sufficient sensitivity and excellent position resolution.
 1 シンチレーター
 2 光電変換物質
 3 一次電子
 4 ガス電子増幅器
 5 二次電子
 6 ピクセル型電極
 7 チャンバー
 8 紫外線入射窓
 9 電極
 10 紫外線反射膜
 11 グリース
 12 板状絶縁層
 13 金属層
 14 貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Scintillator 2 Photoelectric conversion substance 3 Primary electron 4 Gas electron amplifier 5 Secondary electron 6 Pixel type electrode 7 Chamber 8 Ultraviolet incident window 9 Electrode 10 Ultraviolet reflective film 11 Grease 12 Plate-like insulating layer 13 Metal layer 14 Through-hole

Claims (6)

  1.  入射した放射線を紫外線に変換するシンチレーター、及びガス増幅型紫外線画像検出器を具備してなる放射線画像検出器であって、シンチレーターがNd、Er及びTmから選ばれる少なくとも1種の元素を含有するフッ化リチウムルテチウム(LiLuF)結晶であり、ガス増幅型紫外線画像検出器が、光電変換物質、ガス電子増幅器、及びピクセル型電極より構成されることを特徴とする放射線画像検出器。 A radiation image detector comprising a scintillator that converts incident radiation into ultraviolet light and a gas amplification type ultraviolet image detector, wherein the scintillator contains at least one element selected from Nd, Er, and Tm. A radiation image detector, characterized in that it is a lithium lutetium fluoride (LiLuF 4 ) crystal, and the gas-amplified ultraviolet image detector comprises a photoelectric conversion substance, a gas electronic amplifier, and a pixel-type electrode.
  2.  フッ化リチウムルテチウム(LiLuF)結晶が、単結晶であることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像検出器。 The radiation image detector according to claim 1, wherein the lithium lutetium fluoride (LiLuF 4 ) crystal is a single crystal.
  3.  光電変換物質が、光電変換物質の薄膜であることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像検出器。 The radiation image detector according to claim 1, wherein the photoelectric conversion substance is a thin film of a photoelectric conversion substance.
  4.  光電変換物質が、ヨウ化セシウムまたはテルル化セシウムであることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像検出器。 2. The radiation image detector according to claim 1, wherein the photoelectric conversion substance is cesium iodide or cesium telluride.
  5.  2段又は3段のガス電子増幅器から構成されていることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像検出器。 2. The radiation image detector according to claim 1, comprising a two-stage or three-stage gas electronic amplifier.
  6.  放射線が、硬X線またはγ線であることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像検出器。 The radiation image detector according to claim 1, wherein the radiation is hard X-ray or γ-ray.
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