WO2011125815A1 - ハニカム構造体 - Google Patents

ハニカム構造体 Download PDF

Info

Publication number
WO2011125815A1
WO2011125815A1 PCT/JP2011/058173 JP2011058173W WO2011125815A1 WO 2011125815 A1 WO2011125815 A1 WO 2011125815A1 JP 2011058173 W JP2011058173 W JP 2011058173W WO 2011125815 A1 WO2011125815 A1 WO 2011125815A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
honeycomb structure
electrode
silicon carbide
extending direction
mass
Prior art date
Application number
PCT/JP2011/058173
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
俊 坂下
好雅 大宮
Original Assignee
日本碍子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本碍子株式会社 filed Critical 日本碍子株式会社
Priority to JP2012509557A priority Critical patent/JP5663003B2/ja
Priority to EP11765715.5A priority patent/EP2554263B1/en
Publication of WO2011125815A1 publication Critical patent/WO2011125815A1/ja
Priority to US13/628,521 priority patent/US8803043B2/en

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
    • F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
    • F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
    • F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
    • F01N3/24—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by constructional aspects of converting apparatus
    • F01N3/28—Construction of catalytic reactors
    • F01N3/2803—Construction of catalytic reactors characterised by structure, by material or by manufacturing of catalyst support
    • F01N3/2825—Ceramics
    • F01N3/2828—Ceramic multi-channel monoliths, e.g. honeycombs
    • B01J35/56—
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
    • F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
    • F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
    • F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
    • F01N3/18—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control
    • F01N3/20—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control specially adapted for catalytic conversion ; Methods of operation or control of catalytic converters
    • F01N3/2006—Periodically heating or cooling catalytic reactors, e.g. at cold starting or overheating
    • F01N3/2013—Periodically heating or cooling catalytic reactors, e.g. at cold starting or overheating using electric or magnetic heating means
    • F01N3/2026—Periodically heating or cooling catalytic reactors, e.g. at cold starting or overheating using electric or magnetic heating means directly electrifying the catalyst substrate, i.e. heating the electrically conductive catalyst substrate by joule effect
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/92—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases
    • B01D53/94—Chemical or biological purification of waste gases of engine exhaust gases by catalytic processes
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
    • F01N2240/00—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being
    • F01N2240/16—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being an electric heater, i.e. a resistance heater
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
    • F01N2260/00—Exhaust treating devices having provisions not otherwise provided for
    • F01N2260/08—Exhaust treating devices having provisions not otherwise provided for for preventing heat loss or temperature drop, using other means than layers of heat-insulating material
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
    • F01N2330/00—Structure of catalyst support or particle filter
    • F01N2330/06—Ceramic, e.g. monoliths
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
    • F01N2330/00—Structure of catalyst support or particle filter
    • F01N2330/30—Honeycomb supports characterised by their structural details
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
    • Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
    • Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
    • Y02T10/12—Improving ICE efficiencies

Definitions

  • the present invention relates to a honeycomb structure, and more particularly to a honeycomb structure that is a catalyst carrier and also functions as a heater by applying a voltage, and can suppress a deviation in temperature distribution when a voltage is applied. .
  • the power source used for the electrical system of the vehicle is commonly used, and a power source having a high voltage of, for example, 200V is used.
  • a power source having a high voltage of, for example, 200V is used.
  • the metal heater has a low electric resistance, when such a high voltage power source is used, there is a problem that an excessive current flows and the power supply circuit may be damaged.
  • the heater is made of metal, it is difficult to integrate the heater and the catalyst because it is difficult to support the catalyst even if it is processed into a honeycomb structure.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and serves as a catalyst carrier and also functions as a heater by applying a voltage, and can suppress a deviation in temperature distribution when a voltage is applied.
  • An object is to provide a structure.
  • the present invention provides the following honeycomb structure.
  • a cylindrical honeycomb structure having a porous partition wall that partitions and forms a plurality of cells extending from one end face to the other end face that serves as a fluid flow path, and an outer peripheral wall located at the outermost periphery;
  • a pair of electrode portions disposed on a side surface of the honeycomb structure portion, wherein the honeycomb structure portion has an electrical resistivity of 1 to 200 ⁇ cm, and each of the pair of electrode portions is a cell of the honeycomb structure portion.
  • the cross section formed in a strip shape extending in the extending direction and orthogonal to the extending direction of the cells, one of the electrode portions in the pair of electrode portions is in contact with the other electrode portion in the pair of electrode portions.
  • a honeycomb structure which is disposed on the opposite side across the center of the structure portion and has a cross section perpendicular to the cell extending direction in which 0.5 times the center angle of each of the electrode portions is 15 to 65 °.
  • An electrode terminal protrusion for connecting electric wiring is disposed at the center of each of the electrode portions in a cross section orthogonal to the cell extending direction, and at the center in the cell extending direction.
  • the honeycomb structure according to any one of [1] to [3].
  • the electrode portion has a plurality of regions arranged along the outer periphery of the honeycomb structure portion, and is positioned at the center in the cross section orthogonal to the cell extending direction.
  • the honeycomb structure according to any one of [1] to [4], wherein the region to be formed is thickest, the region located on the outer side is formed thinner, and the regions located on both ends are formed thinnest.
  • the honeycomb structure of the present invention has a honeycomb structure having an electric resistivity of 1 to 200 ⁇ cm. Therefore, even when a current is supplied using a high voltage power source, an excessive current does not flow, and the honeycomb structure can be suitably used as a heater. it can. Further, “each of the pair of electrode portions is formed in a band shape extending in the cell extending direction of the honeycomb structure portion, and one electrode portion of the pair of electrode portions is a pair of electrodes in a cross section orthogonal to the cell extending direction.
  • 0.5 times the central angle of each electrode portion is 15 Therefore, it is possible to suppress the temperature distribution from being biased when a voltage is applied.
  • 0.5 times the central angle of each electrode part is 15 to 65 °, so that when the voltage is applied between the pair of electrode parts, The bias of the flowing current can be suppressed, and thereby the bias of the heat generation in the honeycomb structure portion can be suppressed.
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing an embodiment of a honeycomb structure of the present invention.
  • 1 is a schematic diagram showing a cross section parallel to a cell extending direction of an embodiment of a honeycomb structure of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross section orthogonal to a cell extending direction of an embodiment of a honeycomb structure of the present invention. It is a schematic diagram which shows a part of cross section orthogonal to the cell extending direction of other embodiment of the honeycomb structure of this invention.
  • FIG. 6 is a front view schematically showing still another embodiment of the honeycomb structure of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing an A-A ′ cross section in FIG. 5.
  • FIG. 6 is a side view schematically showing still another embodiment of the honeycomb structure of the present invention.
  • FIG. 6 is a perspective view schematically showing still another embodiment of the honeycomb structure of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic view showing a cross section parallel to the cell extending direction of still another embodiment of the honeycomb structure of the present invention. It is a top view which shows an electrode part typically. It is a top view which shows an electrode part typically.
  • FIG. 6 is a schematic view showing a part of a cross section orthogonal to a cell extending direction in still another embodiment of a honeycomb structure of the present invention.
  • Honeycomb structure In one embodiment of the honeycomb structure of the present invention, as shown in FIG. 1 to FIG. 3, the porous structure that partitions and forms a plurality of cells 2 extending from one end face 11 to the other end face 12 serving as a fluid flow path And a pair of electrode portions 21 disposed on the side surface 5 of the honeycomb structure portion 4, and the honeycomb structure portion 4. In the cross section perpendicular to the direction in which the cells 2 extend, each of the pair of electrode portions 21, 21 is formed in a band shape extending in the cell 2 extending direction of the honeycomb structure portion 4.
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing one embodiment of a honeycomb structure of the present invention.
  • Fig. 2 is a schematic diagram showing a cross section parallel to the cell extending direction of one embodiment of the honeycomb structure of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic view showing a cross section perpendicular to the cell extending direction of one embodiment of the honeycomb structure of the present invention. In FIG. 3, the partition walls are omitted.
  • each of the pair of electrode portions 21 and 21 is formed in a band shape extending in the cell 2 extending direction of the honeycomb structure portion 4, and in the cross section orthogonal to the cell 2 extending direction, One electrode portion 21 is disposed on the opposite side of the center of the honeycomb structure portion 4 with respect to the other electrode portion 21 in the pair of electrode portions 21 and 21, and in a cross section orthogonal to the extending direction of the cells 2.
  • 0.5 times the central angle ⁇ of each of the electrode portions 21 and 21 is 15 to 65 °.
  • the bias of the temperature distribution of the honeycomb structure portion 4 when a voltage is applied can be suppressed.
  • the angle ⁇ which is 0.5 times the central angle ⁇ of each of the electrode portions 21 and 21 is 15 to 65 °, and therefore, between the pair of electrode portions 21 and 21.
  • one electrode portion 21 in the pair of electrode portions 21, 21 has a honeycomb structure portion relative to the other electrode portion 21 in the pair of electrode portions 21, 21. 4 ”is arranged on the opposite side across the center O of“ 4 ”in the cross section orthogonal to the extending direction of the cell 2“ in the center point of one electrode portion 21 (the center in the “circumferential direction of the honeycomb structure portion 4”).
  • the angle ⁇ formed by “the line segment connecting with O” and the angle ⁇ is in a range of 170 ° to 190 °.
  • a pair of electrode portions 21 and 21 are arranged on the honeycomb structure portion 4 Which means that it is.
  • the “center angle ⁇ of the electrode part 21” is the two connecting the both ends of the electrode part 21 and the center O of the honeycomb structure part 4 in the cross section orthogonal to the cell extending direction.
  • the material of the partition walls 1 and the outer peripheral wall 3 is preferably a silicon-silicon carbide composite material or silicon carbide as a main component, and the silicon-silicon carbide composite material or the carbonized carbide. More preferably, it is silicon.
  • the material of the partition wall 1 and the outer peripheral wall 3 is mainly composed of silicon carbide particles and silicon
  • the partition wall 1 and the outer peripheral wall 3 contain 90% by mass or more of silicon carbide particles and silicon. It means that it contains.
  • the electrical resistivity of the honeycomb structure portion can be set to 1 to 200 ⁇ cm.
  • the silicon-silicon carbide composite material contains silicon carbide particles as an aggregate and silicon as a binder for bonding the silicon carbide particles, and a plurality of silicon carbide particles are interposed between the silicon carbide particles. It is preferable to be bonded by silicon so as to form pores. Silicon carbide is obtained by sintering silicon carbide.
  • the electrical resistivity of the honeycomb structure part is a value at 400 ° C.
  • a pair of electrode portions 21 and 21 are disposed on the side surface 5 of the honeycomb structure portion 4.
  • the honeycomb structure 100 of the present embodiment generates heat when a voltage is applied between the pair of electrode portions 21 and 21.
  • the applied voltage is preferably 12 to 900V, and more preferably 64 to 600V.
  • each of the pair of electrode portions 21 and 21 is formed in a “strip shape” extending in the extending direction of the cells 2 of the honeycomb structure portion 4. And in the cross section orthogonal to the extending direction of the cell 2, one electrode portion 21 in the pair of electrode portions 21, 21 is formed with respect to the other electrode portion 21 in the pair of electrode portions 21, 21 It is arranged on the opposite side across the center portion O. Further, in the cross section perpendicular to the extending direction of the cell 2, 0.5 times the central angle ⁇ of each of the electrode portions 21 and 21 (angle ⁇ which is 0.5 times the central angle ⁇ ) is 15 to 65 °. It is.
  • the electrode portion 21 is formed in a strip shape, and the longitudinal direction of the strip-shaped electrode portion 21 extends in the direction in which the cells 2 of the honeycomb structure portion 4 extend, and the pair of electrode portions 21 and 21 have a honeycomb structure.
  • the angle of 0.5 times the central angle ⁇ of each electrode portion 21, 21 is arranged on the opposite side across the central portion O of the portion 4. Since ⁇ is set to 15 to 65 °, the bias of the current flowing in the honeycomb structure portion 4 when the voltage is applied between the pair of electrode portions 21 and 21 can be suppressed. The bias of heat generation can be suppressed.
  • the upper limit value of “angle ⁇ which is 0.5 times the central angle ⁇ ” of the electrode portions 21 and 21 is preferably 60 °, and more preferably 55 °.
  • the lower limit value of “the angle ⁇ 0.5 times the central angle ⁇ ” of the electrode portions 21 and 21 is preferably 20 °, and more preferably 30 °.
  • the “angle ⁇ that is 0.5 times the central angle ⁇ ” of the one electrode portion 21 is 0.8 ⁇
  • the size is preferably 1.2 times, and more preferably 1.0 times the size (the same size).
  • the thickness of the electrode portion 21 is preferably 0.01 to 5 mm, and more preferably 0.01 to 3 mm. By setting it within such a range, heat can be generated uniformly. If the thickness of the electrode part 21 is less than 0.01 mm, the electrical resistance may increase and heat may not be generated uniformly. If it is thicker than 5 mm, it may be damaged during canning.
  • the electrode portion 21 has a plurality of regions arranged along the outer periphery of the honeycomb structure portion 4 (region A in the electrode portion, region B in the electrode portion, In the cross section perpendicular to the cell extending direction, the region located at the center is thickest, the region located outside is thinned, and the regions located at both ends are formed thinnest. Preferably it is.
  • the region located outside the electrode portion is formed thinner so that the bias of the temperature distribution in the honeycomb structure portion is further reduced when a voltage is applied to the electrode portion. can do.
  • FIG. 4 is a schematic view showing a part of a cross section orthogonal to the cell extending direction of another embodiment (honeycomb structure 200) of the honeycomb structure of the present invention. In FIG. 4, the partition walls are omitted.
  • Each condition of the honeycomb structure 200 of the present embodiment is that an embodiment of the honeycomb structure of the present invention (honeycomb structure 100) except that the electrode portion 21 has a plurality of regions that are thinner toward the outside as described above. It is preferable to be the same as each condition in.
  • the electrode portion 21 is preferably composed mainly of silicon carbide particles and silicon, and more preferably formed from silicon carbide particles and silicon as raw materials other than impurities that are usually contained.
  • “mainly composed of silicon carbide particles and silicon” means that the total mass of the silicon carbide particles and silicon is 90% by mass or more of the mass of the entire electrode portion.
  • the component of the electrode part 21 and the component of the honeycomb structure part 4 are the same component or a close component (the material of the honeycomb structure part is silicon carbide). Therefore, the thermal expansion coefficients of the electrode portion 21 and the honeycomb structure portion 4 are the same or close to each other.
  • the bonding strength between the electrode portion 21 and the honeycomb structure portion 4 is also increased. Therefore, even when thermal stress is applied to the honeycomb structure, it is possible to prevent the electrode portion 21 from being peeled off from the honeycomb structure portion 4 and the joint portion between the electrode portion 21 and the honeycomb structure portion 4 being damaged.
  • the honeycomb structure 100 of the present embodiment has a pair of electrode portions 21 and 21 extending in the direction in which the cells 2 of the honeycomb structure portion 4 extend and “between both ends ( It is formed in a strip shape extending between both end faces 11 and 12).
  • the pair of electrode portions 21 and 21 are disposed so as to extend between both ends of the honeycomb structure portion 4, so that when a voltage is applied between the pair of electrode portions 21 and 21, the honeycomb structure
  • the bias of the current flowing in the portion 4 can be more effectively suppressed, and thereby the bias of the heat generation in the honeycomb structure portion 4 can be more effectively suppressed.
  • the electrode portion 21 is formed (arranged) between both end portions of the honeycomb structure portion 4
  • one end portion of the electrode portion 21 is one end portion of the honeycomb structure portion 4. It means that the other end portion of the electrode portion 21 is in contact with the other end portion (the other end surface) of the honeycomb structure portion 4 in contact with the end portion (one end surface).
  • the pair of electrode portions 21, 21 is “effectively suppressing the bias of the current flowing in the honeycomb structure portion 4, thereby more effectively suppressing the bias of the heat generation in the honeycomb structure portion 4. From the viewpoint of “doing”, it is preferably formed so as to extend between both end portions of the honeycomb structure portion 4.
  • both end portions 21a and 21b of the electrode portion 21 in the “direction in which the cells 2 of the honeycomb structure portion 4 extend” are both end portions (both end surfaces 11 and 12) of the honeycomb structure portion 4. A state where it is not in contact with (not reached) is also a preferred embodiment.
  • one end portion 21 a of the electrode portion 21 is in contact with (reaches) one end portion (one end surface 11) of the honeycomb structure portion 4, and the other end portion 21 b is the other end of the honeycomb structure portion 4.
  • a state where it is not in contact (not reached) with the portion (the other end surface 12) is also a preferred embodiment.
  • the thermal shock resistance of the honeycomb structure body is improved. Can do.
  • each of the pair of electrode portions 21 and 21 has at least one end portion in contact with the end portion (end surface) of the honeycomb structure portion 4 from the viewpoint of “improving the thermal shock resistance of the honeycomb structure”. It is preferable that the structure is not reached. From the above, when emphasizing the viewpoint of “more effectively suppressing the bias of the current flowing in the honeycomb structure 4 and thereby more effectively suppressing the bias of the heat generation in the honeycomb structure 4”, It is preferable that the pair of electrode portions 21 and 21 is formed so as to extend between both end portions of the honeycomb structure portion 4. When importance is attached to the viewpoint of “improving the thermal shock resistance of the honeycomb structure”, It is preferable that at least one end portion of each of the electrode portions 21 and 21 is not in contact with (has reached) the end portion (end face) of the honeycomb structure portion 4.
  • the distance from one end 21a of one electrode portion 21 of the pair of electrode portions 21 and 21 to "one end portion (one end surface 11) of the honeycomb structure portion 4" is equal to the pair of electrodes. It is preferable that the distance from one end portion 21a of the remaining one electrode portion 21 in the portions 21 and 21 to "one end portion (one end face 11) of the honeycomb structure portion 4" is the same. May be different. Further, the distance from the other end portion 21b of the one electrode portion 21 of the pair of electrode portions 21 and 21 to the “other end portion (the other end surface 12) of the honeycomb structure portion 4” is equal to the pair of electrodes.
  • FIG. 8 is a perspective view schematically showing still another embodiment (honeycomb structure 400) of the honeycomb structure of the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic view showing a cross section parallel to the cell extending direction of still another embodiment (honeycomb structure 400) of the honeycomb structure of the present invention.
  • Each condition of the honeycomb structure 400 of the present embodiment is that the at least one end portion of the electrode portion 21 is not in contact with (has reached) the end portion (end face) of the honeycomb structure portion 4. It is preferable that the conditions are the same as those in one embodiment of the honeycomb structure (honeycomb structure 100).
  • the “end part of the electrode part 21” and “the honeycomb structure part” The distance between the “end portions (end faces)” is preferably 50% or less, more preferably 25% or less of the length of the honeycomb structure portion 4 in the cell 2 extending direction. If it is longer than 50%, it may be difficult to suppress the bias of the current flowing in the honeycomb structure portion 4 when a voltage is applied between the pair of electrode portions 21 and 21.
  • the electrode portion 21 has a shape in which a planar rectangular member is curved along the outer periphery of a cylindrical shape. It has become.
  • the shape when the curved electrode portion 21 is transformed into a flat member that is not curved is referred to as a “planar shape” of the electrode portion 21.
  • the “planar shape” of the electrode portion 21 shown in FIGS. 1 to 3 is a rectangle.
  • the outer peripheral shape of the electrode part means “the outer peripheral shape in the planar shape of the electrode part”.
  • the outer peripheral shape of the band-shaped electrode portion 21 may be rectangular, but as shown in FIG. It is a preferable aspect that the outer peripheral shape of 21 is a shape in which rectangular corners are formed in a curved shape. In addition, as shown in FIG. 11, it is also a preferable aspect that the outer peripheral shape of the strip-shaped electrode portion 21 is a shape in which rectangular corners are linearly chamfered.
  • the outer peripheral shape of the electrode part 21 shown in FIG. 10 is a shape in which four corners of a rectangle are formed in a curved shape.
  • the outer peripheral shape of the electrode portion 21 is preferably a shape in which four corners of a rectangle are formed in a curved shape, but may be any shape as long as at least one corner is formed in a curved shape.
  • the thermal shock resistance of the honeycomb structure can be improved.
  • the stress near the “corner portion of the electrode portion” in the honeycomb structure portion tends to be relatively higher than the other portions, whereas the corner of the electrode portion When the portion is curved, the stress near the “corner portion of the electrode portion” in the honeycomb structure portion can be reduced.
  • the corner formed in a curved shape is preferably an arc as shown in FIG. 10, but may be a curve other than an arc.
  • the corner portion formed in a curved shape and the portion corresponding to the “side” of the rectangle are smoothly connected (the tangent lines of the connection portions are common), but the vertex is A sharp connection may be formed to form.
  • the internal angle of the connection part is 90 ° or more.
  • a connection part is a part where a straight line and a straight line, a curve and a straight line, or a curve and a curve are connected. For example, in the case of a rectangle, it is a corner (vertex part) where two sides are connected.
  • the corner portion formed in a curved shape is convex outward, but may be convex inward (concave outward).
  • the inner angle of the connecting portion is preferably 90 ° or more.
  • the “inner angle” when the curved line and the straight line are connected is an angle between the straight line and the tangent line of the curved line at the connection portion.
  • the length (in the cell extending direction I) E of the “curved corner” (the length of the corner in the cell direction) E is 2 to 2 times the length of the electrode portion 21 in the “cell extending direction I”. 35% is preferable, and 5 to 25% is more preferable. If it is shorter than 2%, the effect of improving the thermal shock resistance of the honeycomb structure may be lowered. If it is longer than 35%, it may be difficult to generate heat uniformly when a voltage is applied to the honeycomb structure. Further, the length (vertical direction length) F of the “cornered corner” in the direction perpendicular to the cell extending direction I is equal to the “cell extending direction I” of the electrode portion 21.
  • the outer peripheral shape of the electrode portion 21 shown in FIG. 11 is a shape in which four corners of a rectangle are chamfered linearly.
  • the outer peripheral shape of the electrode part 21 is preferably a shape in which four corners of a rectangle are chamfered linearly, but at least one corner is a shape chamfered in a straight line. I just need it.
  • the outer peripheral shape of the electrode part 21 is formed in a curved shape at least one corner of the rectangle. The effect similar to the effect obtained when the “shape” is obtained can be obtained, but a higher effect can be obtained when the corners are curved.
  • the length (in the cell extending direction I) G of the “straight chamfered corner” (the length in the cell extending direction I) of the electrode portion 21 is 2 to 2 of the length “in the cell extending direction I”. 35% is preferable, and 5 to 25% is more preferable. If it is shorter than 2%, the effect of improving the thermal shock resistance of the honeycomb structure may be lowered. If it is longer than 35%, it may be difficult to generate heat uniformly when a voltage is applied to the honeycomb structure. Further, the length (in the direction perpendicular to the cell extending direction I) of the “straight chamfered corner” (vertical direction length of the corner) H is equal to the “cell extending direction I” of the electrode portion 21.
  • the outer peripheral shape of the electrode portion 21 may be a rectangle having both a corner portion formed in a curved shape and a corner portion linearly chamfered.
  • FIG. 12 is a schematic view showing a part of a cross section perpendicular to the cell extending direction of still another embodiment (honeycomb structure 500) of the honeycomb structure of the present invention.
  • the electrical resistivity of the electrode portion 21 is preferably 0.1 to 100 ⁇ cm, and more preferably 0.1 to 50 ⁇ cm. By setting the electrical resistivity of the electrode portion 21 in such a range, the pair of electrode portions 21 and 21 effectively serve as electrodes in the pipe through which the high-temperature exhaust gas flows. If the electrical resistivity of the electrode part 21 is smaller than 0.1 ⁇ cm, the temperature of the honeycomb part near both ends of the electrode part 21 may easily rise in a cross section orthogonal to the cell extending direction. If the electrical resistivity of the electrode portion 21 is larger than 100 ⁇ cm, it may be difficult to play a role as an electrode because current hardly flows.
  • the electrical resistivity of the electrode part is a value at 400 ° C.
  • the electrode part 21 preferably has a porosity of 30 to 60%, more preferably 30 to 55%.
  • a porosity of the electrode portion 21 is in such a range, a suitable electrical resistivity can be obtained. If the porosity of the electrode portion 21 is lower than 30%, it may be deformed during manufacturing. If the porosity of the electrode portion 21 is higher than 60%, the electrical resistivity may be too high.
  • the porosity is a value measured with a mercury porosimeter.
  • the electrode part 21 preferably has an average pore diameter of 5 to 45 ⁇ m, more preferably 7 to 40 ⁇ m.
  • the average pore diameter of the electrode part 21 is in such a range, a suitable electrical resistivity can be obtained. If the average pore diameter of the electrode portion 21 is smaller than 5 ⁇ m, the electrical resistivity may be too high. When the average pore diameter of the electrode portion 21 is larger than 45 ⁇ m, the strength of the electrode portion 21 is weakened and may be easily damaged.
  • the average pore diameter is a value measured with a mercury porosimeter.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles contained in the electrode part 21 is preferably 10 to 60 ⁇ m, and more preferably 20 to 60 ⁇ m. .
  • the electrical resistivity of the electrode portion 21 can be controlled in the range of 0.1 to 100 ⁇ cm. If the average pore diameter of the silicon carbide particles contained in the electrode part 21 is smaller than 10 ⁇ m, the electrical resistivity of the electrode part 21 may become too large. When the average pore diameter of the silicon carbide particles contained in the electrode portion 21 is larger than 60 ⁇ m, the strength of the electrode portion 21 is weakened and may be easily damaged.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles contained in the electrode part 21 is a value measured by a laser diffraction method.
  • the ratio of the mass of silicon contained in the electrode portion 21 to the “total mass of silicon carbide particles and silicon” contained in the electrode portion 21 is preferably 20 to 40% by mass, and preferably 25 to 35%. More preferably, it is mass%.
  • the electrical resistivity of electrode portion 21 is 0.1 to 100 ⁇ cm. Can range. If the ratio of the mass of silicon to the total mass of silicon carbide particles and silicon contained in the electrode portion 21 is less than 20% by mass, the electrical resistivity may be too large, and is greater than 40% by mass. And it may become easy to change at the time of manufacture.
  • the partition wall thickness is 50 to 200 ⁇ m, and preferably 70 to 130 ⁇ m.
  • the partition wall thickness is 50 to 200 ⁇ m, and preferably 70 to 130 ⁇ m.
  • the honeycomb structure 100 of the present embodiment preferably has a cell density of 40 to 150 cells / cm 2 , and more preferably 70 to 100 cells / cm 2 .
  • the purification performance of the catalyst can be enhanced while reducing the pressure loss when the exhaust gas is flowed.
  • the cell density is lower than 40 cells / cm 2 , the catalyst supporting area may be reduced.
  • the cell density is higher than 150 cells / cm 2 , when the honeycomb structure 100 is used as a catalyst carrier and a catalyst is supported, the pressure loss when the exhaust gas flows may increase.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles (aggregate) constituting the honeycomb structure portion 4 is preferably 3 to 50 ⁇ m, and more preferably 3 to 40 ⁇ m.
  • the electrical resistivity at 400 ° C. of the honeycomb structure part 4 can be 1 to 200 ⁇ cm.
  • the electrical resistivity of the honeycomb structure portion 4 may be increased.
  • the electrical resistivity of the honeycomb structure portion 4 may be reduced.
  • the extrusion forming die may be clogged with the forming raw material when the honeycomb formed body is extruded.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles is a value measured by a laser diffraction method.
  • the electrical resistivity of the honeycomb structure portion 4 is 1 to 200 ⁇ cm, and preferably 10 to 100 ⁇ cm.
  • the electrical resistivity is less than 1 ⁇ cm, for example, when the honeycomb structure 100 is energized by a high-voltage power supply of 200 V or higher (the voltage is not limited to 200 V), an excessive current may flow.
  • the electrical resistivity is greater than 200 ⁇ cm, for example, when the honeycomb structure 100 is energized by a high-voltage power supply of 200 V or higher (the voltage is not limited to 200 V), current does not flow easily and heat may not be sufficiently generated. is there.
  • the electrical resistivity of the honeycomb structure part is a value measured by a four-terminal method.
  • the electrical resistivity of the electrode portion 21 is preferably lower than the electrical resistivity of the honeycomb structure portion 4, and the electrical resistivity of the electrode portion 21 is preferably honeycomb structure.
  • the electrical resistivity of the part 4 is more preferably 20% or less, particularly preferably 1 to 10%.
  • the “mass of silicon carbide particles as an aggregate” contained in the honeycomb structure portion 4 when the material of the honeycomb structure portion 4 is a silicon-silicon carbide composite material, the “mass of silicon carbide particles as an aggregate” contained in the honeycomb structure portion 4;
  • the ratio of “mass of silicon as a binder” contained in the honeycomb structure portion 4 to the total of “mass of silicon as a binder” contained in the honeycomb structure portion 4 is 10 to 40% by mass. It is preferably 15 to 35% by mass. If it is lower than 10% by mass, the strength of the honeycomb structure may be lowered. If it is higher than 40% by mass, the shape may not be maintained during firing.
  • the porosity of the partition walls 1 of the honeycomb structure part 4 is preferably 35 to 60%, and more preferably 35 to 45%. If the porosity is less than 35%, deformation during firing may increase. When the porosity exceeds 60%, the strength of the honeycomb structure may be lowered.
  • the porosity is a value measured with a mercury porosimeter.
  • the average pore diameter of the partition walls 1 of the honeycomb structure part 4 is preferably 2 to 15 ⁇ m, and more preferably 4 to 8 ⁇ m. If the average pore diameter is smaller than 2 ⁇ m, the electrical resistivity may be too large. If the average pore diameter is larger than 15 ⁇ m, the electrical resistivity may be too small.
  • the average pore diameter is a value measured with a mercury porosimeter.
  • the thickness of the outer peripheral wall 3 constituting the outermost periphery of the honeycomb structure 100 of the present embodiment is preferably 0.1 to 2 mm. If it is thinner than 0.1 mm, the strength of the honeycomb structure 100 may be lowered. If it is thicker than 2 mm, the area of the partition wall supporting the catalyst may be small.
  • the shape of the cell 2 in a cross section perpendicular to the extending direction of the cell 2 is a quadrangle, a hexagon, an octagon, or a combination thereof.
  • the shape of the honeycomb structure of the present embodiment is not particularly limited.
  • the bottom has a circular cylindrical shape (cylindrical shape), the bottom has an oval cylindrical shape, and the bottom has a polygonal shape (square, pentagon, hexagon, heptagon. , Octagons, etc.).
  • the honeycomb structure has a bottom surface area of preferably 2000 to 20000 mm 2 , more preferably 4000 to 10000 mm 2 .
  • the length of the honeycomb structure in the central axis direction is preferably 50 to 200 mm, and more preferably 75 to 150 mm.
  • the isostatic strength of the honeycomb structure 100 of the present embodiment is preferably 1 MPa or more, and more preferably 3 MPa or more.
  • the isostatic strength is preferably as large as possible. However, considering the material, structure, etc. of the honeycomb structure 100, the upper limit is about 6 MPa. When the isostatic strength is less than 1 MPa, the honeycomb structure may be easily damaged when used as a catalyst carrier or the like. Isostatic strength is a value measured by applying hydrostatic pressure in water.
  • the honeycomb structure 300 of the present embodiment is the same as the honeycomb structure 100 of the present invention (see FIGS. 1 to 3).
  • the electrode terminal protrusion 22 for connecting the electrical wiring is disposed at the central portion in the cross section orthogonal to the extending direction and in the central portion in the cell extending direction.
  • the electrode terminal protrusion 22 is a portion for connecting a wiring from a power source in order to apply a voltage between the electrode portions 21 and 21.
  • the electrode terminal protrusions 22 for connecting the electrical wirings are arranged at the center portions of the respective electrode portions 21 and 21 in the cross section perpendicular to the cell extending direction and in the cell extending direction.
  • FIG. 5 is a front view schematically showing still another embodiment of the honeycomb structure of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing the A-A ′ section in FIG. 5.
  • FIG. 7 is a side view schematically showing still another embodiment of the honeycomb structure of the present invention.
  • Each condition of the honeycomb structure 300 of the present embodiment is that “the center part of each electrode part 21, 21 in the cross section orthogonal to the extending direction of the cell 2 and the center part in the extending direction of the cell 2
  • the conditions are preferably the same as those in the embodiment (honeycomb structure 100) of the honeycomb structure of the present invention except that the electrode terminal protrusions 22 for connecting the wirings are provided.
  • the main components of the electrode terminal protrusion 22 are also preferably silicon carbide particles and silicon.
  • the electrode terminal protrusion 22 has silicon carbide particles and silicon as main components, the component of the electrode portion 21 and the component of the electrode terminal protrusion 22 are the same (or close) components.
  • the coefficient of thermal expansion of the portion 21 and the electrode terminal protrusion 22 has the same (or close) value. Further, since the materials are the same (or close), the bonding strength between the electrode portion 21 and the electrode terminal protrusion 22 is increased.
  • the electrode terminal protrusion 22 when “the electrode terminal protrusion 22 is composed mainly of silicon carbide particles and silicon”, the electrode terminal protrusion 22 contains 90% by mass or more of silicon carbide particles and silicon. Means that.
  • the shape of the electrode terminal protrusion 22 is not particularly limited as long as it is bonded to the electrode 21 and can be connected to the electric wiring.
  • the electrode terminal protrusion 22 preferably has a shape in which a cylindrical protrusion 22b is disposed on a rectangular plate-like substrate 22a. By adopting such a shape, the electrode terminal protrusion 22 can be firmly bonded to the electrode portion 21 by the substrate 22a, and the electric wiring can be reliably bonded by the protrusion 22b.
  • the thickness of the substrate 22a is preferably 1 to 5 mm. By setting it as such thickness, the electrode terminal protrusion part 22 can be joined to the electrode part 21 reliably. If it is thinner than 1 mm, the substrate 22a becomes weak, and the protrusion 22b may be easily detached from the substrate 22a. If it is thicker than 5 mm, the space for arranging the honeycomb structure may become larger than necessary.
  • the length (width) of the substrate 22 a in “the outer peripheral direction in the cross section orthogonal to the cell extending direction of the honeycomb structure 4” of the electrode part 21 is “of the honeycomb structure 4. It is preferably 10 to 50%, more preferably 20 to 40% of the length in the “peripheral direction in the cross section perpendicular to the cell extending direction”. By setting it as such a range, the electrode terminal protrusion part 22 becomes difficult to remove
  • the length of the substrate 22a in the “cell 2 extending direction” is preferably 5 to 30% of the length of the honeycomb structure 4 in the cell extending direction.
  • the length of the substrate 22a in the “direction in which the cells 2 extend” within such a range, sufficient bonding strength can be obtained. If the length of the substrate 22 a in the “cell 2 extending direction” is shorter than 5% of the length of the honeycomb structure portion 4 in the cell extending direction, the substrate 22 a may be easily detached from the electrode portion 21. And if it is longer than 30%, the mass may increase.
  • the thickness of the protrusion 22b is preferably 3 to 15 mm. With such a thickness, the electrical wiring can be reliably bonded to the protrusion 22b. If it is thinner than 3 mm, the protrusion 22b may be easily broken. If it is thicker than 15 mm, it may be difficult to connect the electrical wiring.
  • the length of the protrusion 22b is preferably 3 to 20 mm. With such a length, the electrical wiring can be reliably bonded to the protrusion 22b. If it is shorter than 3 mm, it may be difficult to join the electric wiring. If it is longer than 20 mm, the protrusion 22b may be easily broken.
  • the electrical resistivity of the electrode terminal protrusion 22 is preferably 0.1 to 2.0 ⁇ cm, and more preferably 0.1 to 1.0 ⁇ cm. By setting the electrical resistivity of the electrode terminal protrusion 22 in such a range, current can be efficiently supplied from the electrode terminal protrusion 22 to the electrode portion 21 in the pipe through which high-temperature exhaust gas flows. If the electrical resistivity of the electrode terminal protrusion 22 is greater than 2.0 ⁇ cm, it may be difficult to supply current to the electrode portion 21 because current does not flow easily.
  • the electrode terminal protrusion 22 preferably has a porosity of 30 to 45%, and more preferably 30 to 40%. When the porosity of the electrode terminal protrusion 22 is within such a range, an appropriate electrical resistivity can be obtained. If the porosity of the electrode terminal protrusion 22 is higher than 45%, the strength of the electrode terminal protrusion 22 may be reduced. In particular, if the strength of the protrusion 22b is reduced, the protrusion 22b may be easily broken.
  • the porosity is a value measured with a mercury porosimeter.
  • the electrode terminal protrusion 22 preferably has an average pore diameter of 5 to 20 ⁇ m, and more preferably 7 to 15 ⁇ m. When the average pore diameter of the electrode terminal protrusion 22 is within such a range, an appropriate electrical resistivity can be obtained. When the average pore diameter of the electrode terminal protrusion 22 is larger than 20 ⁇ m, the strength of the electrode terminal protrusion 22 may be reduced. In particular, when the strength of the protrusion 22b is reduced, the protrusion 22b may be easily broken.
  • the average pore diameter is a value measured with a mercury porosimeter.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles contained in the electrode terminal protrusion 22 is preferably 10 to 60 ⁇ m, and preferably 20 to 60 ⁇ m. More preferably.
  • the electrical resistivity of the electrode terminal protrusion 22 can be set to 0.1 to 2.0 ⁇ cm. If the average pore diameter of the silicon carbide particles contained in the electrode terminal protrusion 22 is smaller than 10 ⁇ m, the electrical resistivity of the electrode terminal protrusion 22 may become too large.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles contained in the electrode terminal protrusion 22 is a value measured by a laser diffraction method.
  • the ratio of the mass of silicon contained in the electrode terminal projection 22 to the “total mass of silicon carbide particles and silicon” contained in the electrode terminal projection 22 is preferably 20 to 40% by mass. More preferably, the content is 25 to 35% by mass.
  • an electrical resistivity of 0.1 to 2.0 ⁇ cm can be obtained. It becomes easy to obtain. If the ratio of the mass of silicon to the total mass of silicon carbide particles and silicon contained in the electrode terminal protrusion 22 is smaller than 20% by mass, the electrical resistivity may be too high. And when larger than 40 mass%, it may deform
  • metal silicon powder metal silicon
  • a binder a surfactant, a pore former, water and the like are added to silicon carbide powder (silicon carbide) to produce a forming raw material.
  • the mass of the metal silicon is 10 to 40% by mass with respect to the total of the mass of the silicon carbide powder and the mass of the metal silicon.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles in the silicon carbide powder is preferably 3 to 50 ⁇ m, and more preferably 3 to 40 ⁇ m.
  • the average particle diameter of metal silicon (metal silicon powder) is preferably 2 to 35 ⁇ m.
  • the average particle diameter of silicon carbide particles and metal silicon (metal silicon particles) is a value measured by a laser diffraction method.
  • the silicon carbide particles are silicon carbide fine particles constituting the silicon carbide powder, and the metal silicon particles are metal silicon fine particles constituting the metal silicon powder.
  • This is a composition of a forming raw material when the material of the honeycomb structure part is a silicon-silicon carbide composite material. When the material of the honeycomb structure part is silicon carbide, no metallic silicon is added.
  • binder examples include methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, hydroxypropoxyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and polyvinyl alcohol. Among these, it is preferable to use methyl cellulose and hydroxypropoxyl cellulose in combination.
  • the content of the binder is preferably 2.0 to 10.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the water content is preferably 20 to 60 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • ethylene glycol, dextrin, fatty acid soap, polyalcohol or the like can be used as the surfactant. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
  • the content of the surfactant is preferably 0.1 to 2.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the pore former is not particularly limited as long as it becomes pores after firing, and examples thereof include graphite, starch, foamed resin, water absorbent resin, silica gel and the like.
  • the pore former content is preferably 0.5 to 10.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the average particle size of the pore former is preferably 10 to 30 ⁇ m. If it is smaller than 10 ⁇ m, pores may not be formed sufficiently. If it is larger than 30 ⁇ m, the die may be clogged during molding.
  • the average particle diameter of the pore former is a value measured by a laser diffraction method.
  • the forming raw material is kneaded to form a clay.
  • molding raw material and forming a clay For example, the method of using a kneader, a vacuum clay kneader, etc. can be mentioned.
  • the clay is extruded to form a honeycomb formed body.
  • a die having a desired overall shape, cell shape, partition wall thickness, cell density and the like.
  • a cemented carbide which does not easily wear is preferable.
  • the honeycomb formed body has a structure having partition walls that form a plurality of cells that serve as fluid flow paths and an outer peripheral wall that is positioned on the outermost periphery.
  • the partition wall thickness, cell density, outer peripheral wall thickness, etc. of the honeycomb molded body can be appropriately determined in accordance with the structure of the honeycomb structure of the present invention to be manufactured in consideration of shrinkage during drying and firing.
  • the drying method is not particularly limited, and examples thereof include an electromagnetic heating method such as microwave heating drying and high-frequency dielectric heating drying, and an external heating method such as hot air drying and superheated steam drying.
  • an electromagnetic heating method such as microwave heating drying and high-frequency dielectric heating drying
  • an external heating method such as hot air drying and superheated steam drying.
  • the entire molded body can be dried quickly and uniformly without cracks, and after drying a certain amount of moisture with an electromagnetic heating method, the remaining moisture is dried with an external heating method. It is preferable to make it.
  • drying conditions it is preferable to remove water of 30 to 99% by mass with respect to the amount of moisture before drying by an electromagnetic heating method, and then to make the moisture to 3% by mass or less by an external heating method.
  • the electromagnetic heating method dielectric heating drying is preferable, and as the external heating method, hot air drying is preferable.
  • the cutting method is not particularly limited, and examples thereof include a method using a circular saw cutting machine.
  • an electrode part forming raw material for forming the electrode part is prepared.
  • the electrode part forming raw material is preferably formed by adding a predetermined additive to silicon carbide powder and silicon powder and kneading.
  • metal silicon powder metal silicon
  • a binder a surfactant, a pore former, water and the like
  • silicon carbide powder silicon carbide
  • the mass of metal silicon is preferably 20 to 40 parts by mass.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles in the silicon carbide powder is preferably 10 to 60 ⁇ m.
  • the average particle diameter of the metal silicon powder (metal silicon) is preferably 2 to 20 ⁇ m. If it is smaller than 2 ⁇ m, the electrical resistivity may be too small. If it is larger than 20 ⁇ m, the electrical resistivity may be too large.
  • the average particle diameter of silicon carbide particles and metal silicon is a value measured by a laser diffraction method.
  • the silicon carbide particles are silicon carbide fine particles constituting the silicon carbide powder, and the metal silicon particles are metal silicon fine particles constituting the metal silicon powder.
  • binder examples include methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, hydroxypropoxyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and polyvinyl alcohol. Among these, it is preferable to use methyl cellulose and hydroxypropoxyl cellulose in combination.
  • the binder content is preferably 0.1 to 5.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the water content is preferably 15 to 60 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • ethylene glycol, dextrin, fatty acid soap, polyalcohol or the like can be used as the surfactant. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
  • the content of the surfactant is preferably 0.1 to 2.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the pore former is not particularly limited as long as it becomes pores after firing, and examples thereof include graphite, starch, foamed resin, water absorbent resin, silica gel and the like.
  • the pore former content is preferably 0.1 to 5.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the average particle size of the pore former is preferably 10 to 30 ⁇ m. If it is smaller than 10 ⁇ m, pores may not be formed sufficiently. When it is larger than 30 ⁇ m, air holes are easily formed, and the strength may be lowered.
  • the average particle diameter of the pore former is a value measured by a laser diffraction method.
  • a paste-like electrode part is formed by kneading a mixture obtained by mixing silicon carbide powder (silicon carbide), metal silicon (metal silicon powder), a binder, a surfactant, a pore former, water, and the like. It is preferable to use it as a raw material.
  • the method of kneading is not particularly limited, and for example, a vertical stirrer can be used.
  • the method for applying the electrode part forming raw material to the side surface of the honeycomb formed body is not particularly limited, and for example, a printing method can be used.
  • the electrode part forming raw material is preferably applied to the side surface of the honeycomb formed body so as to have the shape of the electrode part in the honeycomb structure of the present invention.
  • the thickness of an electrode part can be made into desired thickness by adjusting the thickness when apply
  • the electrode part can be formed simply by applying the electrode part forming raw material to the side surface of the honeycomb formed body, drying and firing, the electrode part can be formed very easily.
  • the electrode part forming raw material applied to the side surface of the honeycomb formed body is preferable to dry.
  • the drying conditions are preferably 50 to 100 ° C.
  • the electrode terminal protrusion forming member is attached to the honeycomb formed body to become an electrode terminal protrusion.
  • the shape of the electrode terminal protrusion forming member is not particularly limited, but for example, it is preferably formed in the shape as shown in FIGS. And it is preferable to affix the obtained electrode terminal protrusion part forming member to the part by which the electrode part formation raw material was apply
  • the order of preparation of the honeycomb formed body, preparation of the electrode part forming raw material, and preparation of the electrode terminal protrusion forming member may be any order.
  • the electrode terminal protrusion forming member is preferably obtained by molding and drying an electrode terminal protrusion forming raw material (a raw material for forming the electrode terminal protrusion forming member).
  • the electrode terminal protrusion forming raw material is preferably formed by adding a predetermined additive to silicon carbide powder and silicon powder and kneading.
  • a metal silicon powder (metal silicon), a binder, a surfactant, a pore former, water, etc. are added to silicon carbide powder (silicon carbide) and kneaded to prepare an electrode terminal protrusion forming raw material.
  • the mass of the metal silicon is 20 to 40% by mass with respect to the total of the mass of the silicon carbide powder and the mass of the metal silicon.
  • the average particle diameter of the silicon carbide particles in the silicon carbide powder is preferably 10 to 60 ⁇ m.
  • the average particle diameter of the metal silicon powder (metal silicon) is preferably 2 to 20 ⁇ m. If it is smaller than 2 ⁇ m, the electrical resistivity may be too small.
  • the average particle diameter of silicon carbide particles and metal silicon particles (metal silicon) is a value measured by a laser diffraction method.
  • the silicon carbide particles are silicon carbide fine particles constituting the silicon carbide powder, and the metal silicon particles are metal silicon fine particles constituting the metal silicon powder.
  • binder examples include methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose, hydroxypropoxyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and polyvinyl alcohol. Among these, it is preferable to use methyl cellulose and hydroxypropoxyl cellulose in combination.
  • the content of the binder is preferably 2.0 to 10.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the water content is preferably 20 to 40 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • ethylene glycol, dextrin, fatty acid soap, polyalcohol or the like can be used as the surfactant. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
  • the content of the surfactant is preferably 0.1 to 2.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the pore former is not particularly limited as long as it becomes pores after firing, and examples thereof include graphite, starch, foamed resin, water absorbent resin, silica gel and the like.
  • the pore former content is preferably 0.1 to 5.0 parts by mass when the total mass of the silicon carbide powder and the metal silicon powder is 100 parts by mass.
  • the average particle size of the pore former is preferably 10 to 30 ⁇ m. If it is smaller than 10 ⁇ m, pores may not be formed sufficiently. When it is larger than 30 ⁇ m, air holes are easily formed, and the strength may be lowered.
  • the average particle diameter of the pore former is a value measured by a laser diffraction method.
  • a mixture obtained by mixing silicon carbide powder (silicon carbide), metal silicon (metal silicon powder), a binder, a surfactant, a pore former, water, and the like is kneaded to obtain a material for forming electrode terminal protrusions. It is preferable that The method of kneading is not particularly limited, and for example, a kneader can be used.
  • the method for forming the obtained electrode terminal protrusion forming raw material into the shape of the electrode terminal protrusion forming member is not particularly limited, and examples thereof include a method of processing after extrusion molding.
  • the electrode terminal protrusion forming raw material into the shape of the electrode terminal protrusion forming member and then dry it to obtain the electrode terminal protrusion forming member.
  • the drying conditions are preferably 50 to 100 ° C.
  • the electrode terminal protrusion forming member is preferably attached to the honeycomb formed body coated with the electrode portion forming raw material.
  • the method for attaching the electrode terminal protrusion forming member to the honeycomb formed body is not particularly limited, but the electrode terminal protrusion is formed using the electrode part forming raw material. It is preferable to attach the member for use to the honeycomb formed body.
  • an electrode part forming raw material is applied to the “surface that adheres to the honeycomb formed body (surface that contacts the honeycomb formed body)” of the electrode terminal protrusion forming member, and the “surface on which the electrode part forming raw material is applied” is the honeycomb surface.
  • the electrode terminal protrusion forming member is preferably attached to the honeycomb molded body so as to be in contact with the molded body.
  • honeycomb formed body on which the electrode portion forming raw material is applied and the electrode terminal protrusion forming member is attached it is preferable to dry and fire the “honeycomb formed body on which the electrode portion forming raw material is applied and the electrode terminal protrusion forming member is attached” to obtain the honeycomb structure of the present invention.
  • the drying conditions at this time are preferably 50 to 100 ° C.
  • pre-baking is preferably performed at 400 to 500 ° C. for 0.5 to 20 hours in an air atmosphere.
  • the method of temporary baking and baking is not particularly limited, and baking can be performed using an electric furnace, a gas furnace, or the like.
  • firing conditions it is preferable to heat at 1400 to 1500 ° C. for 1 to 20 hours in an inert atmosphere such as nitrogen or argon.
  • oxygenation treatment it is preferable to perform oxygenation treatment at 1200 to 1350 ° C. for 1 to 10 hours after firing to improve durability.
  • the electrode terminal protrusion forming member may be attached before firing the honeycomb formed body or may be attached after firing. When the electrode terminal protrusion forming member is attached after the honeycomb formed body is fired, it is preferably fired again under the above conditions.
  • Example 1 Silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder are mixed at a mass ratio of 80:20, and hydroxypropylmethylcellulose as a binder, a water absorbent resin as a pore former, and water are added thereto.
  • the forming raw material was kneaded with a vacuum kneader to prepare a cylindrical clay.
  • the binder content is 7 parts by mass when the total of silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder is 100 parts by mass, and the pore former content is silicon carbide (SiC) powder and metal silicon.
  • the content of water is 42 parts by mass when the total of silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder is 100 parts by mass.
  • the average particle diameter of the silicon carbide powder was 20 ⁇ m, and the average particle diameter of the metal silicon powder was 6 ⁇ m.
  • the average particle diameter of the pore former was 20 ⁇ m.
  • the average particle diameters of silicon carbide, metal silicon and pore former are values measured by a laser diffraction method.
  • the obtained columnar kneaded material was molded using an extrusion molding machine to obtain a honeycomb molded body.
  • the obtained honeycomb formed body was dried by high-frequency dielectric heating and then dried at 120 ° C. for 2 hours using a hot air dryer, and both end surfaces were cut by a predetermined amount.
  • silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder are mixed at a mass ratio of 60:40, and hydroxypropylmethylcellulose as a binder, glycerin as a humectant, and a surfactant as a dispersant are added thereto. At the same time, water was added and mixed. The mixture was kneaded to obtain an electrode part forming raw material.
  • the binder content is 0.5 parts by mass when the total of silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder is 100 parts by mass, and the glycerin content is silicon carbide (SiC) powder and metal silicon.
  • the content of the surfactant is when the total of silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder is 100 parts by mass.
  • the content of water was 42 parts by mass when the total of silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder was 100 parts by mass.
  • the average particle diameter of the silicon carbide powder was 52 ⁇ m, and the average particle diameter of the metal silicon powder was 6 ⁇ m.
  • the average particle diameter of silicon carbide and metal silicon is a value measured by a laser diffraction method. The kneading was performed with a vertical stirrer.
  • the electrode part forming raw material has a thickness of 1.5 mm on the side surface of the dried honeycomb molded body so that “0.5 times the central angle is 15 ° in the cross section perpendicular to the cell extending direction”. Then, it was applied in a band shape so as to extend between both end faces of the honeycomb formed body. The electrode part forming raw material was applied to two sides of the dried honeycomb formed body. And, in the cross section orthogonal to the cell extending direction, one of the portions coated with the two electrode part forming raw materials is arranged on the opposite side across the center of the honeycomb formed body with respect to the other. did.
  • the electrode part forming raw material applied to the honeycomb formed body was dried.
  • the drying conditions were 70 ° C.
  • silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder were mixed at a mass ratio of 60:40, to which hydroxypropylmethylcellulose was added as a binder, and water was added and mixed.
  • the mixture was kneaded to obtain an electrode terminal protrusion forming raw material.
  • the electrode terminal protrusion forming raw material was made into clay using a vacuum kneader.
  • the binder content is 4 parts by mass when the total of silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si) powder is 100 parts by mass, and the water content is silicon carbide (SiC) powder and metal silicon (Si ) When the total powder was 100 parts by mass, it was 22 parts by mass.
  • the average particle diameter of the silicon carbide powder was 52 ⁇ m, and the average particle diameter of the metal silicon powder was 6 ⁇ m.
  • the average particle diameter of silicon carbide and metal silicon is a value measured by a laser diffraction method.
  • the obtained clay is formed using a vacuum kneader, processed into a shape like the electrode terminal protrusion 22 shown in FIGS. 5 to 7 (a shape consisting of a substrate and a protrusion), and dried.
  • a member for forming an electrode terminal protrusion was obtained.
  • the drying conditions were 70 ° C.
  • a portion corresponding to the plate-like substrate 22a was set to a size of “3 mm ⁇ 12 mm ⁇ 15 mm”. Further, the portion corresponding to the protruding portion 22b was a columnar shape having a bottom surface diameter of 7 mm and a length in the central axis direction of 10 mm.
  • Two electrode terminal protrusion forming members were produced.
  • each of the two electrode terminal protrusion forming members was attached to each of the portions of the honeycomb formed body to which the electrode portion forming raw material was applied.
  • the electrode terminal protrusion forming member was attached to the portion of the honeycomb formed body to which the electrode part forming raw material was applied using the electrode part forming raw material.
  • “the honeycomb formed body on which the electrode part forming raw material was applied and the electrode terminal protrusion forming member was attached” was degreased, fired, and further oxidized to obtain a honeycomb structure.
  • the degreasing conditions were 550 ° C. for 3 hours.
  • the firing conditions were 1450 ° C. and 2 hours in an argon atmosphere.
  • the conditions for the oxidation treatment were 1300 ° C. and 1 hour.
  • the average pore diameter (pore diameter) of the partition walls of the obtained honeycomb structure was 8.6 ⁇ m, and the porosity was 45%.
  • the average pore diameter and porosity are values measured with a mercury porosimeter.
  • the honeycomb structure had a partition wall thickness of 90 ⁇ m and a cell density of 90 cells / cm 2 .
  • the bottom surface of the honeycomb structure was a circle having a diameter of 93 mm, and the length of the honeycomb structure in the cell extending direction was 100 mm.
  • the isostatic strength of the obtained honeycomb structure was 2.5 MPa. Isostatic strength is the breaking strength measured by applying hydrostatic pressure in water.
  • the electrical resistivity of the electrode part was 1.3 ⁇ cm
  • the electrical resistivity of the honeycomb structure part was 100 ⁇ cm
  • the electrical resistivity of the electrode terminal protrusion was 1.3 ⁇ cm.
  • the temperature (maximum) of the position P (see FIG. 6) where the end of the electrode portion contacts in the cross section perpendicular to the cell extending direction of the honeycomb structure portion. Temperature).
  • the position where the end of the electrode portion is in contact is the position where the current flows most, and is the portion where the highest temperature is reached in the honeycomb structure.
  • the electrical resistivity of the honeycomb part, the electrode part, and the electrode terminal protrusion part was measured by the following method.
  • a test piece of 10 mm ⁇ 10 mm ⁇ 50 mm was made of the same material as the object to be measured (that is, when measuring the electrical resistivity of the honeycomb structure part, measure the electrical resistivity of the electrode part using the same material as the honeycomb structure part).
  • the test piece was made of the same material as the electrode portion, and when the electrical resistivity of the electrode terminal protrusion portion was measured, the test piece was made of the same material as the electrode terminal protrusion portion.
  • a silver paste was applied to the entire surface of both ends of the test piece, and wiring was performed so that current could be supplied.
  • a voltage application current measuring device was connected to the test piece and applied.
  • a thermocouple was installed in the center of the test piece, and the time-dependent change in the test piece temperature during voltage application was confirmed with a recorder. 100 to 200 V was applied, the current value and voltage value were measured at a test piece temperature of 400 ° C., and the electrical resistivity was calculated from the obtained current value and voltage value and the test piece size.
  • Example 1 Comparative Examples 1 and 2
  • Table 1 “the value of 0.5 times the central angle in the cross section perpendicular to the cell extending direction of the two electrode portions” and “the thickness of the two electrode portions” of the honeycomb structure
  • Example 1 the value of 0.5 times the central angle in the cross section perpendicular to the cell extending direction of the two electrode portions” and “the thickness of the two electrode portions” of the honeycomb structure
  • Example 1 the value of 0.5 times the central angle in the cross section perpendicular to the cell extending direction of the two electrode portions” and “the thickness of the two electrode portions” of the honeycomb structure
  • honeycomb structure of the present invention can be suitably used as a catalyst carrier for an exhaust gas purifying device that purifies exhaust gas from automobiles.

Abstract

　複数のセル２を区画形成する多孔質の隔壁１と外周壁３とを有する筒状のハニカム構造部４と、ハニカム構造部４の側面５に配設された一対の電極部２１とを備え、ハニカム構造部４の電気抵抗率が、１～２００Ωｃｍであり、一対の電極部２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる帯状に形成され、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設され、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１の中心角の０．５倍が、１５～６５°であるハニカム構造体。触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができるハニカム構造体を提供する。

Description

ハニカム構造体
　本発明は、ハニカム構造体に関し、さらに詳しくは、触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができるハニカム構造体に関する。
　従来、コージェライト製のハニカム構造体に触媒を担持したものを、自動車エンジンから排出された排ガス中の有害物質の処理に用いていた。また、炭化珪素質焼結体によって形成されたハニカム構造体を排ガスの浄化に使用することも知られている（例えば、特許文献１を参照）。
　ハニカム構造体に担持した触媒によって排ガスを処理する場合、触媒を所定の温度まで昇温する必要があるが、エンジン始動時には、触媒温度が低いため、排ガスが十分に浄化されないという問題があった。
　そのため、触媒が担持されたハニカム構造体の上流側に、金属製のヒーターを設置して、排ガスを昇温させる方法が検討されている（例えば、特許文献２を参照）。
特許第４１３６３１９号公報 特許第２９３１３６２号公報
　上記のようなヒーターを、自動車に搭載して使用する場合、自動車の電気系統に使用される電源が共通で使用され、例えば２００Ｖという高い電圧の電源が用いられる。しかし、金属製のヒーターは、電気抵抗が低いため、このような高い電圧の電源を用いた場合、過剰に電流が流れ、電源回路を損傷させることがあるという問題があった。
　また、ヒーターが金属製であると、仮にハニカム構造に加工したものであっても、触媒を担持し難いため、ヒーターと触媒とを一体化させることは難しかった。
　本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであり、触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができるハニカム構造体を提供することを目的とする。
　上述の課題を解決するため、本発明は、以下のハニカム構造体を提供する。
［１］　流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有する筒状のハニカム構造部と、前記ハニカム構造部の側面に配設された一対の電極部とを備え、前記ハニカム構造部の電気抵抗率が、１～２００Ωｃｍであり、前記一対の電極部のそれぞれが、前記ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部における一方の前記電極部が、前記一対の電極部における他方の前記電極部に対して、前記ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設され、前記セルの延びる方向に直交する断面において、それぞれの前記電極部の中心角の０．５倍が、１５～６５°であるハニカム構造体。
［２］　前記電極部の電気抵抗率が、０．１～１００Ωｃｍである［１］に記載のハニカム構造体。
［３］　前記電極部の厚さが、０．０１～５ｍｍである［１］又は［２］に記載のハニカム構造体。
［４］　それぞれの前記電極部の、前記セルの延びる方向に直交する断面における中央部であり、且つ前記セルの延びる方向における中央部に、電気配線を繋ぐための電極端子突起部が配設された［１］～［３］のいずれかに記載のハニカム構造体。
［５］　前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記電極部が、前記ハニカム構造部の外周に沿って並ぶ複数の領域を有し、前記セルの延びる方向に直交する断面において、中央に位置する領域が最も厚く、外側に位置する領域ほど薄く形成され、両端に位置する領域が最も薄く形成された［１］～［４］のいずれかに記載のハニカム構造体。
　本発明のハニカム構造体は、ハニカム構造部の電気抵抗率が１～２００Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。また、「一対の電極部のそれぞれが、ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、セルの延びる方向に直交する断面において、一対の電極部における一方の電極部が、一対の電極部における他方の電極部に対して、ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設され、セルの延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部の中心角の０．５倍が、１５～６５°である」ため、電圧を印加したときの温度分布の偏りを抑制することができる。特に、セルの延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部の中心角の０．５倍が、１５～６５°であるため、一対の電極部間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部内を流れる電流の偏りを抑制することができ、これによりハニカム構造部内の発熱の偏りを抑制することができる。
本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。 本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。 本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。 本発明のハニカム構造体の他の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面の一部を示す模式図である。 本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態を模式的に示す正面図である。 図５における、Ａ－Ａ’断面を示す模式図である。 本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態を模式的に示す側面図である。 本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態を模式的に示す斜視図である。 本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。 電極部を模式的に示す平面図である。 電極部を模式的に示す平面図である。 本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面の一部を示す模式図である。
　次に本発明を実施するための形態を図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、適宜設計の変更、改良等が加えられることが理解されるべきである。
（１）ハニカム構造体：
　本発明のハニカム構造体の一の実施形態は、図１～図３に示すように、流体の流路となる一方の端面１１から他方の端面１２まで延びる複数のセル２を区画形成する多孔質の隔壁１と、最外周に位置する外周壁３とを有する筒状のハニカム構造部４と、ハニカム構造部４の側面５に配設された一対の電極部２１とを備え、ハニカム構造部４の電気抵抗率が、１～２００Ωｃｍであり、一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる帯状に形成され、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設され、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１，２１の中心角αの０．５倍（中心角αの０．５倍の角度θ）が、１５～６５°である。図１は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。図２は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。図３は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。尚、図３においては、隔壁が省略されている。
　このように、本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４の電気抵抗率が１～２００Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。また、「一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる帯状に形成され、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心を挟んで反対側に配設され、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１，２１の中心角αの０．５倍（中心角αの０．５倍の角度θ）が、１５～６５°である」ため、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加したときの、ハニカム構造部４の温度分布の偏りを抑制することができる。特に、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１，２１の中心角αの０．５倍の角度θが、１５～６５°であるため、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りを抑制することができ、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りを抑制することができる。
　ここで、「セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設される」とは、セル２の延びる方向に直交する断面において、「一方の電極部２１の中央点（「ハニカム構造部４の周方向」における中央の点）とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ線分」と、「他方の電極部２１の中央点（「ハニカム構造部４の周方向」における中央の点）とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ線分」と、により形成される角度β（「中心Ｏ」を中心とする角度（図３を参照））が、１７０°～１９０°の範囲となるような位置関係になるように、一対の電極部２１，２１がハニカム構造部４に配設されていることを意味する。また、「電極部２１の中心角α」は、図３に示されるように、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部２１の両端とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ２本の線分により形成される角度（セルの延びる方向に直交する断面において、「電極部２１」と、「電極部２１の一方の端部と中心Ｏとを結ぶ線分」と、「電極部２１の他方の端部と中心Ｏとを結ぶ線分」とにより形成される形状（例えば、扇形）における、中心Ｏの部分の内角）である。
　本実施形態のハニカム構造体１００においては、隔壁１及び外周壁３の材質が、珪素－炭化珪素複合材又は炭化珪素を主成分とするものであることが好ましく、珪素－炭化珪素複合材又は炭化珪素であることが更に好ましい。「隔壁１及び外周壁３の材質が、炭化珪素粒子及び珪素を主成分とするものである」というときは、隔壁１及び外周壁３が、炭化珪素粒子及び珪素を、全体の９０質量％以上含有していることを意味する。このような材質を用いることにより、ハニカム構造部の電気抵抗率を１～２００Ωｃｍにすることができる。ここで、珪素－炭化珪素複合材は、骨材としての炭化珪素粒子、及び炭化珪素粒子を結合させる結合材としての珪素を含有するものであり、複数の炭化珪素粒子が、炭化珪素粒子間に細孔を形成するようにして、珪素によって結合されていることが好ましい。また、炭化珪素は、炭化珪素が焼結したものである。ハニカム構造部の電気抵抗率は、４００℃における値である。
　本実施形態のハニカム構造体１００は、図１～図３に示されるように、ハニカム構造部４の側面５に一対の電極部２１，２１が配設されている。本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加することにより、発熱する。印加する電圧は１２～９００Ｖが好ましく、６４～６００Ｖが更に好ましい。
　図１～図３に示されるように、一対の電極部２１，２１のそれぞれは、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる「帯状」に形成されている。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心部Ｏを挟んで反対側に配設されている。そして、更に、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１，２１の中心角αの０．５倍（中心角αの０．５倍の角度θ）が、１５～６５°である。このように、電極部２１を帯状に形成し、帯状の電極部２１の長手方向が、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びるようにするとともに、一対の電極部２１，２１がハニカム構造部４の中心部Ｏを挟んで反対側に配設されるようにし、更に、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１，２１の中心角αの０．５倍の角度θを、１５～６５°としたため、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りを抑制することができ、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りを抑制することができる。
　セル２の延びる方向に直交する断面において、電極部２１，２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」の上限値は、６０°が好ましく、５５°が更に好ましい。また、セル２の延びる方向に直交する断面において、電極部２１，２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」の下限値は、２０°が好ましく、３０°が更に好ましい。また、一方の電極部２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」は、他方の電極部２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」に対して、０．８～１．２倍の大きさであることが好ましく、１．０倍の大きさ（同じ大きさ）であることが更に好ましい。これにより、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りを抑制することができ、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りを抑制することができる。
　電極部２１の厚さは、０．０１～５ｍｍであることが好ましく、０．０１～３ｍｍであることが更に好ましい。このような範囲とすることにより、均一に発熱することができる。電極部２１の厚さが０．０１ｍｍより薄いと、電気抵抗が高くなり均一に発熱できないことがある。５ｍｍより厚いと、キャニング時に破損することがある。
　また、図４に示すように、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部２１が、ハニカム構造部４の外周に沿って並ぶ複数の領域（電極部における領域Ａ、電極部における領域Ｂ、電極部における領域Ｃ）を有し、セルの延びる方向に直交する断面において、中央に位置する領域が最も厚く、外側に位置する領域ほど薄く形成され、両端に位置する領域が最も薄く形成されていることが好ましい。このように、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部の外側に位置する領域ほど薄く形成されることにより、電極部に電圧を印加したときにハニカム構造部の温度分布の偏りをより小さくすることができる。電極部が複数の領域を有する場合、その領域の数は、特に限定されず、２～４程度が好ましい（段差の無い「連続的に厚さが変化する」滑らかな形状でも良い）。図４は、本発明のハニカム構造体の他の実施形態（ハニカム構造体２００）の、セルの延びる方向に直交する断面の一部を示す模式図である。図４においては、隔壁は省略されている。本実施形態のハニカム構造体２００の各条件は、電極部２１が上記のように外側ほど薄い複数の領域を有すること以外は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態（ハニカム構造体１００）における各条件と同じであることが好ましい。
　電極部２１が、炭化珪素粒子及び珪素を主成分とすることが好ましく、通常含有される不純物以外は、炭化珪素粒子及び珪素を原料として形成されていることが更に好ましい。ここで、「炭化珪素粒子及び珪素を主成分とする」とは、炭化珪素粒子と珪素との合計質量が、電極部全体の質量の９０質量％以上であることを意味する。このように、電極部２１が炭化珪素粒子及び珪素を主成分とすることにより、電極部２１の成分とハニカム構造部４の成分とが同じ成分又は近い成分（ハニカム構造部の材質が炭化珪素である場合）となるため、電極部２１とハニカム構造部４の熱膨張係数が同じ値又は近い値になる。また、材質が同じもの又は近いものになるため、電極部２１とハニカム構造部４との接合強度も高くなる。そのため、ハニカム構造体に熱応力がかかっても、電極部２１がハニカム構造部４から剥れたり、電極部２１とハニカム構造部４との接合部分が破損したりすることを防ぐことができる。
　図１、図２に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びると共に「両端部間（両端面１１，１２間）に亘る」帯状に形成されている。このように、一対の電極部２１，２１が、ハニカム構造部４の両端部間に亘るように配設されていることにより、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りをより効果的に抑制することができ、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りをより効果的に抑制することができる。ここで、「電極部２１が、ハニカム構造部４の両端部間に亘るように形成（配設）されている」というときは、電極部２１の一方の端部がハニカム構造部４の一方の端部（一方の端面）に接し、電極部２１の他方の端部がハニカム構造部４の他方の端部（他方の端面）に接していることを意味する。
　一対の電極部２１，２１は、上記のように、「ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りをより効果的に抑制し、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りをより効果的に抑制する」という観点からは、ハニカム構造部４の両端部間に亘るように形成されていることが好ましい。一方、図８、図９に示すように、電極部２１の「ハニカム構造部４のセル２の延びる方向」における両端部２１ａ，２１ｂが、ハニカム構造部４の両端部（両端面１１，１２）に接していない（到達していない）状態も好ましい態様である。また、電極部２１の一方の端部２１ａが、ハニカム構造部４の一方の端部（一方の端面１１）に接し（到達し）、他方の端部２１ｂが、ハニカム構造部４の他方の端部（他方の端面１２）に接していない（到達していない）状態も好ましい態様である。このように、電極部２１の少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いない構造であると、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させることができる。つまり、一対の電極部２１，２１のそれぞれは、「ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる」という観点からは、少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いない構造であることが好ましい。以上より、「ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りをより効果的に抑制し、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りをより効果的に抑制する」という観点を重視する場合には、一対の電極部２１，２１がハニカム構造部４の両端部間に亘るように形成されていることが好ましく、「ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる」という観点を重視する場合には、一対の電極部２１，２１のそれぞれにおける少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いないことが好ましい。
　また、一対の電極部２１，２１の中の片方の電極部２１における一方の端部２１ａから、「ハニカム構造部４の一方の端部（一方の端面１１）」までの距離は、一対の電極部２１，２１の中の残りの片方の電極部２１における一方の端部２１ａから、「ハニカム構造部４の一方の端部（一方の端面１１）」までの距離と、同じであることが好ましいが、異なっていてもよい。また、一対の電極部２１，２１の中の片方の電極部２１における他方の端部２１ｂから、「ハニカム構造部４の他方の端部（他方の端面１２）」までの距離は、一対の電極部２１，２１の中の残りの片方の電極部２１における他方の端部２１ｂから、「ハニカム構造部４の他方の端部（他方の端面１２）」までの距離と、同じであることが好ましいが、異なっていてもよい。尚、電極部２１の一方の端部２１ａは、ハニカム構造部４の一方の端部（一方の端面１１）側を向く端部であり、電極部２１の他方の端部２１ｂは、ハニカム構造部４の他方の端部（他方の端面１２）側を向く端部である。図８は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態（ハニカム構造体４００）を模式的に示す斜視図である。図９は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態（ハニカム構造体４００）の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。本実施形態のハニカム構造体４００の各条件は、電極部２１の少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いないこと以外は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態（ハニカム構造体１００）における各条件と同じであることが好ましい。
　電極部２１の少なくとも片方の端部が、ハニカム構造部４の端部（端面）に接して（到達して）いない場合、当該接していない「電極部２１の端部」と「ハニカム構造部の端部（端面）」の間の距離は、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向における長さの５０％以下であることが好ましく、２５％以下であることが更に好ましい。５０％より長いと、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りを抑制し難くなることがある。
　本実施形態のハニカム構造体においては、例えば、図１～図３に示されるように、電極部２１は、平面状の長方形の部材を、円筒形状の外周に沿って湾曲させたような形状となっている。ここで、湾曲した電極部２１を、湾曲していない平面状の部材に変形したときの形状を、電極部２１の「平面形状」と称することにする。上記、図１～図３に示される電極部２１の「平面形状」は、長方形になる。そして、「電極部の外周形状」というときは、「電極部の平面形状における外周形状」を意味する。
　本実施形態のハニカム構造体においては、図１～図３に示されるように、帯状の電極部２１の外周形状が長方形であってもよいが、図１０に示されるように、帯状の電極部２１の外周形状が、長方形の角部が曲線状に形成された形状であることが好ましい態様である。また、図１１に示されるように、帯状の電極部２１の外周形状が、長方形の角部が直線状に面取りされた形状であることも好ましい態様である。
　図１０に示される電極部２１の外周形状は、長方形の４つの角部が曲線状に形成された形状である。電極部２１の外周形状は、長方形の４つの角部が曲線状に形成された形状であることが好ましい態様であるが、少なくとも一の角部が曲線状に形成された形状であればよい。このように、電極部２１の外周形状が、長方形の少なくとも一の角部が曲線状に形成された形状であることにより、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させることができる。電極部の角部が直角であると、ハニカム構造部における「当該電極部の角部」付近の応力が他の部分と比較して相対的に高くなる傾向にあるのに対し、電極部の角部を曲線状にすると、ハニカム構造部における「当該電極部の角部」付近の応力を低下させることが可能となる。
　曲線状に形成された角部は、図１０に示されるように、円弧状であることが好ましいが、円弧以外の曲線であってもよい。また、曲線状に形成された角部と、長方形の「辺」に相当する部分とは、滑らかにつながっている（接続部分のそれぞれの接線が共通になっている）ことが好ましいが、頂点を形成するように尖った接続部分を形成してもよい。尖った接続部分を形成する場合、当該接続部分の内角が９０°以上であることが好ましい。尚、接続部分とは、直線と直線、曲線と直線、又は曲線と曲線が接続されている部分であり、例えば、長方形の場合、２つの辺が接続されている角部（頂点部分）のことであ。また、図１０に示されるように、曲線状に形成された角部は、外側に凸になっているが、内側に凸（外側に凹）であってもよい。曲線状に形成された角部が内側に凸の場合、接続部分の内角が９０°以上であることが好ましい。曲線と直線とが接続されている場合の「内角」は、直線と、接続部分における曲線の接線との角度である。
　「曲線状に形成された角部」の「セルの延びる方向Ｉにおける」長さ（角部のセル方向長さ）Ｅは、電極部２１の「セルの延びる方向Ｉにおける」長さの２～３５％が好ましく、５～２５％が更に好ましい。２％より短いと、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる効果が低くなることがある。３５％より長いと、ハニカム構造体に電圧を印加したときに、均一に発熱させ難くなることがある。また、「曲線状に形成された角部」の「セルの延びる方向Ｉに直交する方向における」長さ（角部の垂直方向長さ）Ｆは、電極部２１の「セルの延びる方向Ｉに直交する方向における」長さの２～３５％が好ましく、５～２５％が更に好ましい。２％より短いと、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる効果が低くなることがある。３５％より長いと、ハニカム構造体に電圧を印加したときに、均一に発熱させ難くなることがある。
　また、図１１に示される電極部２１の外周形状は、長方形の４つの角部が直線状に面取りされた形状である。このように、電極部２１の外周形状は、長方形の４つの角部が直線状に面取りされた形状であることも好ましい態様であるが、少なくとも一の角部が直線状に面取りされた形状であればよい。電極部２１の外周形状を、長方形の少なくとも一の角部が直線状に面取りされた形状とすることにより、「電極部２１の外周形状を、長方形の少なくとも一の角部が曲線状に形成された形状とする」ときに得られた効果と同様の効果を得ることができるが、角部を曲線状にするほうが、より高い効果を得ることができる。
　「直線状に面取りされた角部」の「セルの延びる方向Ｉにおける」長さ（角部のセル方向長さ）Ｇは、電極部２１の「セルの延びる方向Ｉにおける」長さの２～３５％が好ましく、５～２５％が更に好ましい。２％より短いと、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる効果が低くなることがある。３５％より長いと、ハニカム構造体に電圧を印加したときに、均一に発熱させ難くなることがある。また、「直線状に面取りされた角部」の「セルの延びる方向Ｉに直交する方向における」長さ（角部の垂直方向長さ）Ｈは、電極部２１の「セルの延びる方向Ｉに直交する方向における」長さの２～３５％が好ましく、５～２５％が更に好ましい。２％より短いと、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させる効果が低くなることがある。３５％より長いと、ハニカム構造体に電圧を印加したときに、均一に発熱し難くなることがある。また、電極部２１の外周形状は、曲線状に形成された角部と、直線状に面取りされた角部の両方を有する長方形であってもよい。
　また、図１２に示すように、電極部２１の「ハニカム構造部４の周方向」における両端部２３，２３が、「ハニカム構造部４の周方向」の外側に向かって漸次（連続的に）薄くなるように形成されていることが好ましい。「漸次（連続的に）薄くなるように形成された部分（両端部２３，２３）」は、それぞれ「ハニカム構造部４の周方向」において３～１０ｍｍの範囲であることが好ましい。尚、「漸次（連続的に）薄くなるように形成された部分（両端部２３，２３）」は、「ハニカム構造部４の周方向」における先端（最先端）が、最も薄く形成されている。図１２は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態（ハニカム構造体５００）の、セルの延びる方向に直交する断面の一部を示す模式図である。
　電極部２１の電気抵抗率は、０．１～１００Ωｃｍであることが好ましく、０．１～５０Ωｃｍであることが、更に好ましい。電極部２１の電気抵抗率をこのような範囲にすることにより、一対の電極部２１，２１が、高温の排ガスが流れる配管内において、効果的に電極の役割を果たす。電極部２１の電気抵抗率が０．１Ωｃｍより小さいと、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部２１の両端付近のハニカム部の温度が上昇し易くなることがある。電極部２１の電気抵抗率が１００Ωｃｍより大きいと、電流が流れ難くなるため、電極としての役割を果たし難くなることがある。電極部の電気抵抗率は、４００℃における値である。
　電極部２１は、気孔率が３０～６０％であることが好ましく、３０～５５％であることが更に好ましい。電極部２１の気孔率がこのような範囲であることにより、好適な電気抵抗率が得られる。電極部２１の気孔率が、３０％より低いと、製造時に変形してしまうことがある。電極部２１の気孔率が、６０％より高いと、電気抵抗率が高くなりすぎることがある。気孔率は、水銀ポロシメータで測定した値である。
　電極部２１は、平均細孔径が５～４５μｍであることが好ましく、７～４０μｍであることが更に好ましい。電極部２１の平均細孔径がこのような範囲であることにより、好適な電気抵抗率が得られる。電極部２１の平均細孔径が、５μｍより小さいと、電気抵抗率が高くなりすぎることがある。電極部２１の平均細孔径が、４５μｍより大きいと、電極部２１の強度が弱くなり破損し易くなることがある。平均細孔径は、水銀ポロシメータで測定した値である。
　電極部２１の主成分が炭化珪素粒子及び珪素である場合に、電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径が１０～６０μｍであることが好ましく、２０～６０μｍであることが更に好ましい。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径がこのような範囲であることにより、電極部２１の電気抵抗率を０．１～１００Ωｃｍの範囲で制御することができる。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均細孔径が、１０μｍより小さいと、電極部２１の電気抵抗率が大きくなり過ぎることがある。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均細孔径が、６０μｍより大きいと、電極部２１の強度が弱くなり破損し易くなることがある。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。
　電極部２１に含有される「炭化珪素粒子と珪素のそれぞれの質量の合計」に対する、電極部２１に含有される珪素の質量の比率が、２０～４０質量％であることが好ましく、２５～３５質量％であることが更に好ましい。電極部２１に含有される炭化珪素粒子と珪素のそれぞれの質量の合計に対する、珪素の質量の比率が、このような範囲であることにより、電極部２１の電気抵抗率を０．１～１００Ωｃｍの範囲にすることができる。電極部２１に含有される炭化珪素粒子と珪素のそれぞれの質量の合計に対する、珪素の質量の比率が、２０質量％より小さいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがあり、４０質量％より大きいと、製造時に変形し易くなることがある。
　本実施形態のハニカム構造体１００は、隔壁厚さが５０～２００μｍであり、７０～１３０μｍであることが好ましい。隔壁厚さをこのような範囲にすることにより、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持しても、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなり過ぎることを抑制できる。隔壁厚さが５０μｍより薄いと、ハニカム構造体の強度が低下することがある。隔壁厚さが２００μｍより厚いと、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持した場合に、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなることがある。
　本実施形態のハニカム構造体１００は、セル密度が４０～１５０セル／ｃｍ２であることが好ましく、７０～１００セル／ｃｍ２であることが更に好ましい。セル密度をこのような範囲にすることにより、排ガスを流したときの圧力損失を小さくした状態で、触媒の浄化性能を高くすることができる。セル密度が４０セル／ｃｍ２より低いと、触媒担持面積が少なくなることがある。セル密度が１５０セル／ｃｍ２より高いと、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持した場合に、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなることがある。
　本実施形態のハニカム構造体１００において、ハニカム構造部４を構成する炭化珪素粒子（骨材）の平均粒子径は、３～５０μｍであることが好ましく、３～４０μｍであることが更に好ましい。ハニカム構造部４を構成する炭化珪素粒子の平均粒子径をこのような範囲とすることにより、ハニカム構造部４の４００℃における電気抵抗率を１～２００Ωｃｍにすることができる。炭化珪素粒子の平均粒子径が３μｍより小さいと、ハニカム構造部４の電気抵抗率が大きくなることがある。炭化珪素粒子の平均粒子径が５０μｍより大きいと、ハニカム構造部４の電気抵抗率が小さくなることがある。更に、炭化珪素粒子の平均粒子径が５０μｍより大きいと、ハニカム成形体を押出成形するときに、押出成形用の口金に成形用原料が詰まることがある。炭化珪素粒子の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。
　本実施形態のハニカム構造体１００において、ハニカム構造部４の電気抵抗率は、１～２００Ωｃｍであり、１０～１００Ωｃｍであることが好ましい。電気抵抗率が１Ωｃｍより小さいと、例えば、２００Ｖ以上の高電圧の電源によってハニカム構造体１００に通電したときに（電圧は２００Ｖには限定されない）、電流が過剰に流れることがある。電気抵抗率が２００Ωｃｍより大きいと、例えば、２００Ｖ以上の高電圧の電源によってハニカム構造体１００に通電したときに（電圧は２００Ｖには限定されない）、電流が流れ難くなり、十分に発熱しないことがある。ハニカム構造部の電気抵抗率は、四端子法により測定した値である。
　本実施形態のハニカム構造体１００においては、電極部２１の電気抵抗率は、ハニカム構造部４の電気抵抗率より低いものであることが好ましく、更に、電極部２１の電気抵抗率が、ハニカム構造部４の電気抵抗率の、２０％以下であることが更に好ましく、１～１０％であることが特に好ましい。電極部２１の電気抵抗率を、ハニカム構造部４の電気抵抗率の、２０％以下とすることにより、電極部２１が、より効果的に電極として機能するようになる。
　本実施形態のハニカム構造体１００においては、ハニカム構造部４の材質が、珪素－炭化珪素複合材である場合、ハニカム構造部４に含有される「骨材としての炭化珪素粒子の質量」と、ハニカム構造部４に含有される「結合材としての珪素の質量」との合計に対する、ハニカム構造部４に含有される「結合材としての珪素の質量」の比率が、１０～４０質量％であることが好ましく、１５～３５質量％であることが更に好ましい。１０質量％より低いと、ハニカム構造体の強度が低下することがある。４０質量％より高いと、焼成時に形状を保持できないことがある。
　ハニカム構造部４の隔壁１の気孔率は、３５～６０％であることが好ましく、３５～４５％であることが更に好ましい。気孔率が、３５％未満であると、焼成時の変形が大きくなってしまうことがある。気孔率が６０％を超えるとハニカム構造体の強度が低下することがある。気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。
　ハニカム構造部４の隔壁１の平均細孔径は、２～１５μｍであることが好ましく、４～８μｍであることが更に好ましい。平均細孔径が２μｍより小さいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがある。平均細孔径が１５μｍより大きいと、電気抵抗率が小さくなりすぎることがある。平均細孔径は、水銀ポロシメータにより測定した値である。
　また、本実施形態のハニカム構造体１００の最外周を構成する外周壁３の厚さは、０．１～２ｍｍであることが好ましい。０．１ｍｍより薄いと、ハニカム構造体１００の強度が低下することがある。２ｍｍより厚いと、触媒を担持する隔壁の面積が小さくなることがある。
　本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面におけるセル２の形状が、四角形、六角形、八角形、又はこれらの組み合わせ、であることが好ましい。セル形状をこのようにすることにより、ハニカム構造体１００に排ガスを流したときの圧力損失が小さくなり、触媒の浄化性能が優れたものとなる。
　本実施形態のハニカム構造体の形状は特に限定されず、例えば、底面が円形の筒状（円筒形状）、底面がオーバル形状の筒状、底面が多角形（四角形、五角形、六角形、七角形、八角形等）の筒状等の形状とすることができる。また、ハニカム構造体の大きさは、底面の面積が２０００～２００００ｍｍ２であることが好ましく、４０００～１００００ｍｍ２であることが更に好ましい。また、ハニカム構造体の中心軸方向の長さは、５０～２００ｍｍであることが好ましく、７５～１５０ｍｍであることが更に好ましい。
　本実施形態のハニカム構造体１００のアイソスタティック強度は、１ＭＰａ以上であることが好ましく、３ＭＰａ以上であることが更に好ましい。アイソスタティック強度は、値が大きいほど好ましいが、ハニカム構造体１００の材質、構造等を考慮すると、６ＭＰａ程度が上限となる。アイソスタティック強度が１ＭＰａ未満であると、ハニカム構造体を触媒担体等として使用する際に、破損し易くなることがある。アイソスタティック強度は水中にて静水圧をかけて測定した値である。
　次に、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態について説明する。図５～図７に示されるように、本実施形態のハニカム構造体３００は、上記本発明のハニカム構造体１００（図１～図３参照）において、それぞれの電極部２１，２１の、セルの延びる方向に直交する断面における中央部であり、且つセルの延びる方向における中央部に、電気配線を繋ぐための電極端子突起部２２が配設されたものである。電極端子突起部２２は、電極部２１，２１間に電圧を印加するために、電源からの配線を接続する部分である。このように、それぞれの電極部２１，２１の、セルの延びる方向に直交する断面における中央部であり、且つセルの延びる方向における中央部に、電気配線を繋ぐための電極端子突起部２２が配設されることにより、電極部に電圧を印加したときに、ハニカム構造部の温度分布の偏りを、より小さくすることができる。図５は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態を模式的に示す正面図である。図６は、図５における、Ａ－Ａ’断面を示す模式図である。図７は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態を模式的に示す側面図である。
　本実施形態のハニカム構造体３００の各条件は、「それぞれの電極部２１，２１の、セル２の延びる方向に直交する断面における中央部であり、且つセル２の延びる方向における中央部に、電気配線を繋ぐための電極端子突起部２２が配設されている」こと以外は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態（ハニカム構造体１００）における各条件と同じであることが好ましい。
　電極部２１の主成分が炭化珪素粒子及び珪素である場合、電極端子突起部２２の主成分も、炭化珪素粒子及び珪素であることが好ましい。このように、電極端子突起部２２が、炭化珪素粒子及び珪素を主成分とすることにより、電極部２１の成分と電極端子突起部２２の成分とが同じ（又は近い）成分となるため、電極部２１と電極端子突起部２２の熱膨張係数が同じ（又は近い）値になる。また、材質が同じ（又は近く）になるため、電極部２１と電極端子突起部２２との接合強度も高くなる。そのため、ハニカム構造体に熱応力がかかっても、電極端子突起部２２が電極部２１から剥れたり、電極端子突起部２２と電極部２１との接合部分が破損したりすることを防ぐことができる。ここで、「電極端子突起部２２が、炭化珪素粒子及び珪素を主成分とする」というときは、電極端子突起部２２が、炭化珪素粒子及び珪素を、全体の９０質量％以上含有していることを意味する。
　電極端子突起部２２の形状は、特に限定されず、電極部２１に接合され、電気配線を接合できる形状であればよい。例えば、図５～図７に示すように、電極端子突起部２２は、四角形の板状の基板２２ａに、円柱状の突起部２２ｂが配設された形状であることが好ましい。このような形状にすることにより、電極端子突起部２２は、基板２２ａにより電極部２１に強固に接合されることができ、突起部２２ｂにより電気配線を確実に接合させることができる。
　電極端子突起部２２において、基板２２ａの厚さは、１～５ｍｍが好ましい。このような厚さとすることにより、電極端子突起部２２を確実に電極部２１に接合することができる。１ｍｍより薄いと、基板２２ａが弱くなり、突起部２２ｂが基板２２ａから、はずれやすくなることがある。５ｍｍより厚いと、ハニカム構造体を配置するスペースが必要以上に大きくなることがある。
　電極端子突起部２２において、基板２２ａの、「ハニカム構造部４の、セルの延びる方向に直交する断面における外周方向」における長さ（幅）は、電極部２１の、「ハニカム構造部４の、セルの延びる方向に直交する断面における外周方向」における長さの、１０～５０％であることが好ましく、２０～４０％であることが更に好ましい。このような範囲にすることにより、電極端子突起部２２が、電極部２１から外れ難くなる。１０％より短いと、電極端子突起部２２が、電極部２１から外れ易くなることがある。５０％より長いと、質量が大きくなることがある。電極端子突起部２２において、基板２２ａの、「セル２の延びる方向」における長さは、ハニカム構造部４のセルの延びる方向における長さの、５～３０％が好ましい。基板２２ａの「セル２の延びる方向」における長さをこのような範囲とすることにより、十分な接合強度が得られる。基板２２ａの「セル２の延びる方向」における長さを、ハニカム構造部４のセルの延びる方向における長さの５％より短くすると、電極部２１から外れ易くなることがある。そして、３０％より長くすると、質量が大きくなることがある。
　電極端子突起部２２において、突起部２２ｂの太さは３～１５ｍｍが好ましい。このような太さにすることにより、突起部２２ｂに、電気配線を確実に接合させることができる。３ｍｍより細いと突起部２２ｂが折れ易くなることがある。１５ｍｍより太いと、電気配線を接続し難くなることがある。また、突起部２２ｂの長さは、３～２０ｍｍが好ましい。このような長さにすることにより、突起部２２ｂに、電気配線を確実に接合させることができる。３ｍｍより短いと電気配線を接合し難くなることがある。２０ｍｍより長いと、突起部２２ｂが折れ易くなることがある。
　電極端子突起部２２の電気抵抗率は、０．１～２．０Ωｃｍであることが好ましく、０．１～１．０Ωｃｍであることが更に好ましい。電極端子突起部２２の電気抵抗率をこのような範囲にすることにより、高温の排ガスが流れる配管内において、電極端子突起部２２から、電流を電極部２１に効率的に供給することができる。電極端子突起部２２の電気抵抗率が２．０Ωｃｍより大きいと、電流が流れ難くなるため、電流を電極部２１に供給し難くなることがある。
　電極端子突起部２２は、気孔率が３０～４５％であることが好ましく、３０～４０％であることが更に好ましい。電極端子突起部２２の気孔率がこのような範囲であることにより、適切な電気抵抗率が得られる。電極端子突起部２２の気孔率が、４５％より高いと、電極端子突起部２２の強度が低下することがあり、特に突起部２２ｂの強度が低下すると突起部２２ｂが折れ易くなることがある。気孔率は、水銀ポロシメータで測定した値である。
　電極端子突起部２２は、平均細孔径が５～２０μｍであることが好ましく、７～１５μｍであることが更に好ましい。電極端子突起部２２の平均細孔径がこのような範囲であることにより、適切な電気抵抗率が得られる。電極端子突起部２２の平均細孔径が、２０μｍより大きいと、電極端子突起部２２の強度が低下することがあり、特に突起部２２ｂの強度が低下すると突起部２２ｂが折れ易くなることがある。平均細孔径は、水銀ポロシメータで測定した値である。
　電極端子突起部２２の主成分が炭化珪素粒子及び珪素である場合に、電極端子突起部２２に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径が１０～６０μｍであることが好ましく、２０～６０μｍであることが更に好ましい。電極端子突起部２２に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径がこのような範囲であることにより、電極端子突起部２２の電気抵抗率を、０．１～２．０Ωｃｍにすることができる。電極端子突起部２２に含有される炭化珪素粒子の平均細孔径が、１０μｍより小さいと、電極端子突起部２２の電気抵抗率が大きくなり過ぎることがある。電極端子突起部２２に含有される炭化珪素粒子の平均細孔径が、６０μｍより大きいと、電極端子突起部２２の電気抵抗率が小さくなり過ぎることがある。電極端子突起部２２に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。
　電極端子突起部２２に含有される「炭化珪素粒子と珪素のそれぞれの質量の合計」に対する、電極端子突起部２２に含有される珪素の質量の比率が、２０～４０質量％であることが好ましく、２５～３５質量％であることが更に好ましい。電極端子突起部２２に含有される炭化珪素粒子と珪素のそれぞれの質量の合計に対する、珪素の質量の比率が、このような範囲であることにより、０．１～２．０Ωｃｍの電気抵抗率を得やすくなる。電極端子突起部２２に含有される炭化珪素粒子と珪素のそれぞれの質量の合計に対する、珪素の質量の比率が、２０質量％より小さいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがある。そして、４０質量％より大きいと、製造時に変形してしまうことがある。
（２）ハニカム構造体の製造方法：
　次に、本発明のハニカム構造体の製造方法について説明する。上記本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態である、ハニカム構造体３００（図５～図７参照）を製造する方法を示す。
　まず、炭化珪素粉末（炭化珪素）に、金属珪素粉末（金属珪素）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を添加して成形原料を作製する。炭化珪素粉末の質量と金属珪素の質量との合計に対して、金属珪素の質量が１０～４０質量％となるようにすることが好ましい。炭化珪素粉末における炭化珪素粒子の平均粒子径は、３～５０μｍが好ましく、３～４０μｍが更に好ましい。金属珪素（金属珪素粉末）の平均粒子径は、２～３５μｍであることが好ましい。炭化珪素粒子及び金属珪素（金属珪素粒子）の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。炭化珪素粒子は、炭化珪素粉末を構成する炭化珪素の微粒子であり、金属珪素粒子は、金属珪素粉末を構成する金属珪素の微粒子である。尚、これは、ハニカム構造部の材質を、珪素－炭化珪素系複合材とする場合の成形原料の配合であり、ハニカム構造部の材質を炭化珪素とする場合には、金属珪素は添加しない。
　バインダとしては、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、メチルセルロースとヒドロキシプロポキシルセルロースとを併用することが好ましい。バインダの含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、２．０～１０．０質量部であることが好ましい。
　水の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、２０～６０質量部であることが好ましい。
　界面活性剤としては、エチレングリコール、デキストリン、脂肪酸石鹸、ポリアルコール等を用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１～２．０質量部であることが好ましい。
　造孔材としては、焼成後に気孔となるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グラファイト、澱粉、発泡樹脂、吸水性樹脂、シリカゲル等を挙げることができる。造孔材の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．５～１０．０質量部であることが好ましい。造孔材の平均粒子径は、１０～３０μｍであることが好ましい。１０μｍより小さいと、気孔を十分形成できないことがある。３０μｍより大きいと、成形時に口金に詰まることがある。造孔材の平均粒子径はレーザー回折方法で測定した値である。
　次に、成形原料を混練して坏土を形成する。成形原料を混練して坏土を形成する方法としては特に制限はなく、例えば、ニーダー、真空土練機等を用いる方法を挙げることができる。
　次に、坏土を押出成形してハニカム成形体を形成する。押出成形に際しては、所望の全体形状、セル形状、隔壁厚さ、セル密度等を有する口金を用いることが好ましい。口金の材質としては、摩耗し難い超硬合金が好ましい。ハニカム成形体は、流体の流路となる複数のセルを区画形成する隔壁と最外周に位置する外周壁とを有する構造である。
　ハニカム成形体の隔壁厚さ、セル密度、外周壁の厚さ等は、乾燥、焼成における収縮を考慮し、作製しようとする本発明のハニカム構造体の構造に合わせて適宜決定することができる。
　得られたハニカム成形体について、乾燥を行うことが好ましい。乾燥の方法は特に限定されず、例えば、マイクロ波加熱乾燥、高周波誘電加熱乾燥等の電磁波加熱方式と、熱風乾燥、過熱水蒸気乾燥等の外部加熱方式とを挙げることができる。これらの中でも、成形体全体を迅速かつ均一に、クラックが生じないように乾燥することができる点で、電磁波加熱方式で一定量の水分を乾燥させた後、残りの水分を外部加熱方式により乾燥させることが好ましい。乾燥の条件として、電磁波加熱方式にて、乾燥前の水分量に対して、３０～９９質量％の水分を除いた後、外部加熱方式にて、３質量％以下の水分にすることが好ましい。電磁波加熱方式としては、誘電加熱乾燥が好ましく、外部加熱方式としては、熱風乾燥が好ましい。
　ハニカム成形体の中心軸方向長さが、所望の長さではない場合は、両端面（両端部）を切断して所望の長さとすることが好ましい。切断方法は特に限定されないが、丸鋸切断機等を用いる方法を挙げることができる。
　次に、電極部を形成するための電極部形成原料を調合する。電極部の主成分を、炭化珪素及び珪素とする場合、電極部形成原料は、炭化珪素粉末及び珪素粉末に、所定の添加物を添加し、混練して形成することが好ましい。
　具体的には、炭化珪素粉末（炭化珪素）に、金属珪素粉末（金属珪素）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を添加して、混練して電極部形成原料を作製する。炭化珪素粉末及び金属珪素の合計質量を１００質量部としたときに、金属珪素の質量が２０～４０質量部となるようにすることが好ましい。炭化珪素粉末における炭化珪素粒子の平均粒子径は、１０～６０μｍが好ましい。金属珪素粉末（金属珪素）の平均粒子径は、２～２０μｍであることが好ましい。２μｍより小さいと、電気抵抗率が小さくなりすぎることがある。２０μｍより大きいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがある。炭化珪素粒子及び金属珪素（金属珪素粒子）の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。炭化珪素粒子は、炭化珪素粉末を構成する炭化珪素の微粒子であり、金属珪素粒子は、金属珪素粉末を構成する金属珪素の微粒子である。
　バインダとしては、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、メチルセルロースとヒドロキシプロポキシルセルロースとを併用することが好ましい。バインダの含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１～５．０質量部であることが好ましい。
　水の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、１５～６０質量部であることが好ましい。
　界面活性剤としては、エチレングリコール、デキストリン、脂肪酸石鹸、ポリアルコール等を用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１～２．０質量部であることが好ましい。
　造孔材としては、焼成後に気孔となるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グラファイト、澱粉、発泡樹脂、吸水性樹脂、シリカゲル等を挙げることができる。造孔材の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１～５．０質量部であることが好ましい。造孔材の平均粒子径は、１０～３０μｍであることが好ましい。１０μｍより小さいと、気孔を十分形成できないことがある。３０μｍより大きいと、大気孔ができやすくなり、強度低下を起こすことがある。造孔材の平均粒子径はレーザー回折方法で測定した値である。
　次に、炭化珪素粉末（炭化珪素）、金属珪素（金属珪素粉末）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を混合して得られた混合物を混練して、ペースト状の電極部形成原料とすることが好ましい。混練の方法は特に限定されず、例えば、縦型の撹拌機を用いることができる。
　次に、得られた電極部形成原料を、乾燥させたハニカム成形体の側面に塗布することが好ましい。電極部形成原料をハニカム成形体の側面に塗布する方法は、特に限定されないが、例えば、印刷方法を用いることができる。また、電極部形成原料は、上記本発明のハニカム構造体における電極部の形状になるように、ハニカム成形体の側面に塗布することが好ましい。電極部の厚さは、電極部形成原料を塗布するときの厚さを調整することにより、所望の厚さとすることができる。このように、電極部形成原料をハニカム成形体の側面に塗布し、乾燥、焼成するだけで電極部を形成することができるため、非常に容易に電極部を形成することができる。
　次に、ハニカム成形体の側面に塗布した電極部形成原料を乾燥させることが好ましい。乾燥条件は、５０～１００℃とすることが好ましい。
　次に、電極端子突起部形成用部材を作製することが好ましい。電極端子突起部形成用部材は、ハニカム成形体に貼り付けられて、電極端子突起部となるものである。電極端子突起部形成用部材の形状は、特に限定されないが、例えば、図５～図７に示すような形状に形成することが好ましい。そして、得られた電極端子突起部形成用部材を、電極部形成原料が塗布されたハニカム成形体の、電極部形成原料が塗布された部分に貼り付けることが好ましい。尚、ハニカム成形体の作製、電極部形成原料の調合、及び電極端子突起部形成用部材の作製の、順序はどのような順序でもよい。
　電極端子突起部形成用部材は、電極端子突起部形成原料（電極端子突起部形成用部材を形成するための原料）を成形、乾燥して得ることが好ましい。電極端子突起部の主成分を、炭化珪素及び珪素とする場合、電極端子突起部形成原料は、炭化珪素粉末及び珪素粉末に、所定の添加物を添加し、混練して形成することが好ましい。
　具体的には、炭化珪素粉末（炭化珪素）に、金属珪素粉末（金属珪素）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を添加して、混練して電極端子突起部形成原料を作製する。炭化珪素粉末の質量と金属珪素の質量との合計に対して、金属珪素の質量が２０～４０質量％となるようにすることが好ましい。炭化珪素粉末における炭化珪素粒子の平均粒子径は、１０～６０μｍが好ましい。金属珪素粉末（金属珪素）の平均粒子径は、２～２０μｍであることが好ましい。２μｍより小さいと、電気抵抗率が小さくなりすぎることがある。２０μｍより大きいと、電気抵抗率が大きくなりすぎることがある。炭化珪素粒子及び金属珪素粒子（金属珪素）の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。炭化珪素粒子は、炭化珪素粉末を構成する炭化珪素の微粒子であり、金属珪素粒子は、金属珪素粉末を構成する金属珪素の微粒子である。
　バインダとしては、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロポキシルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、メチルセルロースとヒドロキシプロポキシルセルロースとを併用することが好ましい。バインダの含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、２．０～１０．０質量部であることが好ましい。
　水の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、２０～４０質量部であることが好ましい。
　界面活性剤としては、エチレングリコール、デキストリン、脂肪酸石鹸、ポリアルコール等を用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１～２．０質量部であることが好ましい。
　造孔材としては、焼成後に気孔となるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、グラファイト、澱粉、発泡樹脂、吸水性樹脂、シリカゲル等を挙げることができる。造孔材の含有量は、炭化珪素粉末及び金属珪素粉末の合計質量を１００質量部としたときに、０．１～５．０質量部であることが好ましい。造孔材の平均粒子径は、１０～３０μｍであることが好ましい。１０μｍより小さいと、気孔を十分形成できないことがある。３０μｍより大きいと、大気孔ができやすくなり、強度低下を起こすことがある。造孔材の平均粒子径はレーザー回折方法で測定した値である。
　次に、炭化珪素粉末（炭化珪素）、金属珪素（金属珪素粉末）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を混合して得られた混合物を混練して、電極端子突起部形成原料とすることが好ましい。混練の方法は特に限定されず、例えば、混練機を用いることができる。
　得られた電極端子突起部形成原料を成形して、電極端子突起部形成用部材の形状にする方法は特に限定されず、押し出し成形後に加工する方法を挙げることができる。
　電極端子突起部形成原料を成形して、電極端子突起部形成用部材の形状にした後に、乾燥させて、電極端子突起部形成用部材を得ることが好ましい。乾燥条件は、５０～１００℃とすることが好ましい。
　次に、電極端子突起部形成用部材を、電極部形成原料が塗布されたハニカム成形体に貼り付けることが好ましい。電極端子突起部形成用部材をハニカム成形体（ハニカム成形体の電極部形成原料が塗布された部分）に貼り付ける方法は、特に限定されないが、上記電極部形成原料を用いて電極端子突起部形成用部材をハニカム成形体に貼り付けることが好ましい。例えば、電極端子突起部形成用部材の「ハニカム成形体に貼り付く面（ハニカム成形体に接触する面）」に電極部形成原料を塗布し、「当該電極部形成原料を塗布した面」がハニカム成形体に接触するようにして、電極端子突起部形成用部材をハニカム成形体に貼り付けることが好ましい。
　そして、「電極部形成原料が塗布され、電極端子突起部形成用部材が貼り付けられたハニカム成形体」を乾燥し、焼成して、本発明のハニカム構造体とすることが好ましい。
　このときの乾燥条件は、５０～１００℃とすることが好ましい。
　また、焼成の前に、バインダ等を除去するため、仮焼成を行うことが好ましい。仮焼成は大気雰囲気において、４００～５００℃で、０．５～２０時間行うことが好ましい。仮焼成及び焼成の方法は特に限定されず、電気炉、ガス炉等を用いて焼成することができる。焼成条件は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気において、１４００～１５００℃で、１～２０時間加熱することが好ましい。また、焼成後、耐久性向上のために、１２００～１３５０℃で、１～１０時間、酸素化処理を行うことが好ましい。
　尚、電極端子突起部形成用部材は、ハニカム成形体を焼成する前に貼り付けてもよいし、焼成した後に貼り付けてもよい。電極端子突起部形成用部材を、ハニカム成形体を焼成した後に貼り付けた場合は、その後に、上記条件によって再度焼成することが好ましい。
　以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
（実施例１）
　炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを８０：２０の質量割合で混合し、これに、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、造孔材として吸水性樹脂を添加すると共に、水を添加して成形原料とし、成形原料を真空土練機により混練し、円柱状の坏土を作製した。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに７質量部であり、造孔材の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに３質量部であり、水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに４２質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は２０μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。また、造孔材の平均粒子径は、２０μｍであった。炭化珪素、金属珪素及び造孔材の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。
　得られた円柱状の坏土を押出成形機を用いて成形し、ハニカム成形体を得た。得られたハニカム成形体を高周波誘電加熱乾燥した後、熱風乾燥機を用いて１２０℃で２時間乾燥し、両端面を所定量切断した。
　次に、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを６０：４０の質量割合で混合し、これに、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、保湿剤としてグリセリン、分散剤として界面活性剤を添加すると共に、水を添加して、混合した。混合物を混練して電極部形成原料とした。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに０．５質量部であり、グリセリンの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに１０質量部であり、界面活性剤の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに０．３質量部であり、水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに４２質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は５２μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。炭化珪素及び金属珪素の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。混練は、縦型の撹拌機で行った。
　次に、電極部形成原料を、乾燥させたハニカム成形体の側面に、厚さが１．５ｍｍ、「セルの延びる方向に直交する断面において中心角の０．５倍が１５°」になるようにして、ハニカム成形体の両端面間に亘るように帯状に塗布した。電極部形成原料は、乾燥させたハニカム成形体の側面に、２箇所塗布した。そして、セルの延びる方向に直交する断面において、２箇所の電極部形成原料を塗布した部分の中の一方が、他方に対して、ハニカム成形体の中心を挟んで反対側に配置されるようにした。
　次に、ハニカム成形体に塗布した電極部形成原料を乾燥させた。乾燥条件は、７０℃とした。
　次に、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを６０：４０の質量割合で混合し、これに、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロースを添加すると共に、水を添加して、混合した。混合物を混練して電極端子突起部形成原料とした。電極端子突起部形成原料を、真空土練機を用いて坏土とした。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに４質量部であり、水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに２２質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は５２μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。炭化珪素及び金属珪素の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。
　得られた坏土を、真空土練機を用いて成形し、図５～図７に示される電極端子突起部２２のような形状（基板と突起部とからなる形状）に加工し、乾燥して、電極端子突起部形成用部材を得た。また、乾燥条件は、７０℃とした。板状の基板２２ａに相当する部分は、「３ｍｍ×１２ｍｍ×１５ｍｍ」の大きさとした。また、突起部２２ｂに相当する部分は、底面の直径が７ｍｍで、中心軸方向の長さが１０ｍｍの円柱状とした。電極端子突起部形成用部材は２つ作製した。
　次に、２つの電極端子突起部形成用部材のそれぞれを、ハニカム成形体の２箇所の電極部形成原料を塗布した部分のそれぞれに貼り付けた。電極端子突起部形成用部材は、電極部形成原料を用いて、ハニカム成形体の電極部形成原料を塗布した部分に貼り付けた。その後、「電極部形成原料が塗布され、電極端子突起部形成用部材が貼り付けられたハニカム成形体」を、脱脂し、焼成し、更に酸化処理してハニカム構造体を得た。脱脂の条件は、５５０℃で３時間とした。焼成の条件は、アルゴン雰囲気下で、１４５０℃、２時間とした。酸化処理の条件は、１３００℃で１時間とした。
　得られたハニカム構造体の隔壁の平均細孔径（気孔径）は８．６μｍであり、気孔率は４５％であった。平均細孔径および気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。また、ハニカム構造体の、隔壁の厚さは９０μｍであり、セル密度は９０セル／ｃｍ２であった。また、ハニカム構造体の底面は直径９３ｍｍの円形であり、ハニカム構造体のセルの延びる方向における長さは１００ｍｍであった。また、得られたハニカム構造体のアイソスタティック強度は２．５ＭＰａであった。アイソスタティック強度は水中で静水圧をかけて測定した破壊強度である。また、ハニカム構造体の、２つの電極部の、セルの延びる方向に直交する断面における中心角の０．５倍は、１５°であった。また、２つの電極部の厚さは、いずれも１．５ｍｍであった。また、電極部の電気抵抗率は、１．３Ωｃｍであり、ハニカム構造部の電気抵抗率は、１００Ωｃｍであり、電極端子突起部の電気抵抗率は、１．３Ωｃｍであった。
　得られたハニカム構造体に２００Ｖの電圧を印加したときの、ハニカム構造部の、セルの延びる方向に直交する断面における、電極部の端部が接する位置Ｐ（図６を参照）の温度（最高温度）を測定した。ハニカム構造部における、電極部の端部が接する位置が、最も電流が流れる位置であり、ハニカム構造体において最も高い温度となる部分である。結果を表１に示す。
　尚、ハニカム部、電極部及び電極端子突起部の電気抵抗率は、以下の方法で測定した。測定対象と同じ材質で１０ｍｍ×１０ｍｍ×５０ｍｍの試験片を作成した（つまり、ハニカム構部の電気抵抗率を測定する場合にはハニカム構造部と同じ材質で、電極部の電気抵抗率を測定する場合には電極部と同じ材質で、そして、電極端子突起部の電気抵抗率を測定する場合には電極端子突起部と同じ材質で、それぞれ試験片を作製した。）。試験片の両端部全面に銀ペーストを塗布し、配線して通電できるようにした。試験片に電圧印加電流測定装置をつなぎ印加した。試験片中央部に熱伝対を設置し、電圧印加時の試験片温度の経時変化をレコーダーにて確認した。１００～２００Ｖ印加し、試験片温度が４００℃の状態における電流値及び電圧値を測定し、得られた電流値及び電圧値、並びに試験片寸法から電気抵抗率を算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
（実施例２～１３、比較例１，２）
　ハニカム構造体の、「２つの電極部の、セルの延びる方向に直交する断面における中心角の０．５倍の値」、及び「２つの電極部の厚さ」を、表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にしてハニカム構造体を作製した。実施例１の場合と同様にして、ハニカム構造体の「最高温度」を測定した。結果を表１に示す。
　表１より、「ハニカム構造体の、２つの電極部の、セルの延びる方向に直交する断面における中心角の０．５倍の値」が、１５～６５°のときに、ハニカム構造体の最高温度が低下することがわかる。ハニカム構造体の最高温度が低下しているということは、ハニカム構造体における温度分布の偏りが、抑制されていることを示す。尚、上記ハニカム構造体の最高温度が２００℃以下であれば、ハニカム構造体における温度分布の偏りが抑制された状態であるということができる。
　本発明のハニカム構造体は、自動車の排ガスを浄化する排ガス浄化装置用の触媒担体として好適に利用することができる。
１：隔壁、２：セル、３：外周壁、４：ハニカム構造部、５：側面、１１：一方の端面、１２：他方の端面、２１：電極部、２１ａ：（電極部の）一方の端部、２１ｂ：（電極部の）他方の端部、２２：電極端子突起部、２２ａ：基板、２２ｂ：突起部、２３：（電極部の）周方向端部、１００，２００，３００，４００，５００：ハニカム構造体、Ｏ：中心、α：中心角、β：角度、θ：中心角の０．５倍の角度、Ａ，Ｂ，Ｃ：電極部における領域、Ｅ，Ｇ：角部のセル方向長さ、Ｆ，Ｈ：角部の垂直方向長さ、Ｉ：セルの延びる方向、Ｐ：電極部の端部が接する位置。

Claims (5)

  1. 　流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有する筒状のハニカム構造部と、前記ハニカム構造部の側面に配設された一対の電極部とを備え、
    　前記ハニカム構造部の電気抵抗率が、１～２００Ωｃｍであり、
    　前記一対の電極部のそれぞれが、前記ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、
    　前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部における一方の前記電極部が、前記一対の電極部における他方の前記電極部に対して、前記ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設され、
    　前記セルの延びる方向に直交する断面において、それぞれの前記電極部の中心角の０．５倍が、１５～６５°であるハニカム構造体。
  2. 　前記電極部の電気抵抗率が、０．１～１００Ωｃｍである請求項１に記載のハニカム構造体。
  3. 　前記電極部の厚さが、０．０１～５ｍｍである請求項１又は２に記載のハニカム構造体。
  4. 　それぞれの前記電極部の、前記セルの延びる方向に直交する断面における中央部であり、且つ前記セルの延びる方向における中央部に、電気配線を繋ぐための電極端子突起部が配設された請求項１～３のいずれかに記載のハニカム構造体。
  5. 　前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記電極部が、前記ハニカム構造部の外周に沿って並ぶ複数の領域を有し、
    　前記セルの延びる方向に直交する断面において、中央に位置する領域が最も厚く、外側に位置する領域ほど薄く形成され、両端に位置する領域が最も薄く形成された請求項１～４のいずれかに記載のハニカム構造体。
PCT/JP2011/058173 2010-03-31 2011-03-31 ハニカム構造体 WO2011125815A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012509557A JP5663003B2 (ja) 2010-03-31 2011-03-31 ハニカム構造体
EP11765715.5A EP2554263B1 (en) 2010-03-31 2011-03-31 Honeycomb structure
US13/628,521 US8803043B2 (en) 2010-03-31 2012-09-27 Honeycomb structure

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010080370 2010-03-31
JP2010-080370 2010-03-31
JP2010-180893 2010-08-12
JP2010180893 2010-08-12
JP2010-276038 2010-12-10
JP2010276038 2010-12-10

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US13/628,521 Continuation US8803043B2 (en) 2010-03-31 2012-09-27 Honeycomb structure

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011125815A1 true WO2011125815A1 (ja) 2011-10-13

Family

ID=44762753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2011/058173 WO2011125815A1 (ja) 2010-03-31 2011-03-31 ハニカム構造体

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8803043B2 (ja)
EP (1) EP2554263B1 (ja)
JP (1) JP5663003B2 (ja)
WO (1) WO2011125815A1 (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012092821A (ja) * 2010-09-27 2012-05-17 Denso Corp ハニカム構造体及び電気加熱式触媒装置
WO2012086814A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
WO2012086815A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
WO2012086813A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
WO2013008664A1 (ja) * 2011-07-11 2013-01-17 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
EP2554264A1 (en) * 2010-03-31 2013-02-06 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP2554265A1 (en) * 2010-03-31 2013-02-06 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
US20140070466A1 (en) * 2012-09-13 2014-03-13 Ngk Insulators, Ltd. Manufacturing method of honeycomb structure
EP2784048A2 (en) 2013-03-29 2014-10-01 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure and manufacturing method of the same
EP2784051A2 (en) 2013-03-29 2014-10-01 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP2784037A2 (en) 2013-03-29 2014-10-01 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure and method for manufacturing the same
WO2015053133A1 (ja) 2013-10-08 2015-04-16 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
EP2918341A1 (en) 2014-03-13 2015-09-16 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP3002270A1 (en) 2014-10-03 2016-04-06 NGK Insulators, Ltd. Joined body and method for manufacturing the same
DE102017204329A1 (de) 2016-03-29 2017-10-05 Ngk Insulators, Ltd. Wabenstruktur und Herstellungsverfahren derselben
EP3127611A4 (en) * 2014-03-31 2017-11-15 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
DE102021213628A1 (de) 2021-03-03 2022-09-08 Ngk Insulators, Ltd. Wabenstruktur, elektrischer Heizkörper und Abgasreinigungsvorrichtung

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2674216B1 (en) * 2011-02-08 2016-08-31 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Electric heating catalyst
WO2012133056A1 (ja) * 2011-03-25 2012-10-04 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
JP6934702B2 (ja) * 2015-03-27 2021-09-15 株式会社デンソー 排ガス浄化フィルタ
JP6905929B2 (ja) * 2017-12-15 2021-07-21 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
JP6626524B2 (ja) * 2018-03-29 2019-12-25 日本碍子株式会社 電気加熱型触媒用担体
US11092052B2 (en) * 2019-03-15 2021-08-17 Ngk Insulators, Ltd. Electric heating type support, exhaust gas purifying device, and method for producing electric heating type support
US20210301702A1 (en) 2020-03-31 2021-09-30 Johnson Matthey Public Limited Company Exhaust gas joule heater

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07185264A (ja) * 1993-12-28 1995-07-25 Sharp Corp ハニカム状ヒーター
JP2931362B2 (ja) 1990-04-12 1999-08-09 日本碍子株式会社 抵抗調節型ヒーター及び触媒コンバーター
JPH11253814A (ja) * 1998-03-16 1999-09-21 Showa Aircraft Ind Co Ltd 電気加熱式触媒装置用メタル担体
JP4136319B2 (ja) 2000-04-14 2008-08-20 日本碍子株式会社 ハニカム構造体及びその製造方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5266278A (en) * 1990-07-06 1993-11-30 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb heater having integrally formed electrodes and/or integrally sintered electrodes and method of manufacturing such honeycomb heater
US5288975A (en) 1991-01-30 1994-02-22 Ngk Insulators, Ltd. Resistance adjusting type heater
JP3334898B2 (ja) * 1991-09-02 2002-10-15 臼井国際産業株式会社 排気ガス浄化装置
JPH10325314A (ja) * 1998-05-25 1998-12-08 Ngk Insulators Ltd 抵抗調節型ヒーター及び触媒コンバーター
CN102574121B (zh) 2009-09-28 2014-06-25 日本碍子株式会社 蜂窝状结构体
JP5654999B2 (ja) 2009-10-07 2015-01-14 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
JP2011099405A (ja) * 2009-11-06 2011-05-19 Toyota Motor Corp 排気浄化装置
EP2540382B1 (en) * 2010-02-26 2020-03-25 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
WO2011125816A1 (ja) * 2010-03-31 2011-10-13 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
EP2554265B1 (en) * 2010-03-31 2017-07-26 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
JP5617764B2 (ja) 2010-09-27 2014-11-05 株式会社デンソー ハニカム構造体及び電気加熱式触媒装置
JP5691848B2 (ja) 2010-09-27 2015-04-01 株式会社デンソー ハニカム構造体及び電気加熱式触媒装置
WO2012086813A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
EP2656900B1 (en) * 2010-12-24 2018-03-28 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
WO2012086815A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
WO2012133056A1 (ja) * 2011-03-25 2012-10-04 日本碍子株式会社 ハニカム構造体

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2931362B2 (ja) 1990-04-12 1999-08-09 日本碍子株式会社 抵抗調節型ヒーター及び触媒コンバーター
JPH07185264A (ja) * 1993-12-28 1995-07-25 Sharp Corp ハニカム状ヒーター
JPH11253814A (ja) * 1998-03-16 1999-09-21 Showa Aircraft Ind Co Ltd 電気加熱式触媒装置用メタル担体
JP4136319B2 (ja) 2000-04-14 2008-08-20 日本碍子株式会社 ハニカム構造体及びその製造方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2554263A4

Cited By (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2554264A4 (en) * 2010-03-31 2014-07-02 Ngk Insulators Ltd HONEYCOMB STRUCTURE
EP2554264A1 (en) * 2010-03-31 2013-02-06 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP2554265A1 (en) * 2010-03-31 2013-02-06 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP2554265A4 (en) * 2010-03-31 2014-07-02 Ngk Insulators Ltd HONEYCOMB STRUCTURE
JP2012092821A (ja) * 2010-09-27 2012-05-17 Denso Corp ハニカム構造体及び電気加熱式触媒装置
US9585196B2 (en) 2010-12-24 2017-02-28 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
WO2012086814A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
WO2012086813A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
US9532402B2 (en) 2010-12-24 2016-12-27 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
US9516702B2 (en) 2010-12-24 2016-12-06 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
WO2012086815A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
WO2013008664A1 (ja) * 2011-07-11 2013-01-17 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
JPWO2013008664A1 (ja) * 2011-07-11 2015-02-23 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
US9382831B2 (en) 2011-07-11 2016-07-05 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
US20140070466A1 (en) * 2012-09-13 2014-03-13 Ngk Insulators, Ltd. Manufacturing method of honeycomb structure
JP2014198305A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 日本碍子株式会社 ハニカム構造体及びその製造方法
US9506391B2 (en) 2013-03-29 2016-11-29 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP2784048A2 (en) 2013-03-29 2014-10-01 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure and manufacturing method of the same
EP2784051A2 (en) 2013-03-29 2014-10-01 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP2784037A2 (en) 2013-03-29 2014-10-01 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure and method for manufacturing the same
JP2014198296A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
US9409127B2 (en) 2013-03-29 2016-08-09 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure and method for manufacturing the same
US9359929B2 (en) 2013-03-29 2016-06-07 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure and manufacturing method of the same
EP2784037A3 (en) * 2013-03-29 2014-10-22 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure and method for manufacturing the same
US9885271B2 (en) 2013-10-08 2018-02-06 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
WO2015053133A1 (ja) 2013-10-08 2015-04-16 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
JPWO2015053133A1 (ja) * 2013-10-08 2017-03-09 日本碍子株式会社 ハニカム構造体
EP2918341A1 (en) 2014-03-13 2015-09-16 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
US9835063B2 (en) 2014-03-13 2017-12-05 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP3127611A4 (en) * 2014-03-31 2017-11-15 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structure
US9993813B2 (en) 2014-03-31 2018-06-12 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure
EP3002271A1 (en) 2014-10-03 2016-04-06 NGK Insulators, Ltd. Honeycomb structural body and method for manufacturing the same
JP2016074589A (ja) * 2014-10-03 2016-05-12 日本碍子株式会社 ハニカム構造体及びその製造方法
US9908307B2 (en) 2014-10-03 2018-03-06 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structural body and method for manufacturing the same
US9987825B2 (en) 2014-10-03 2018-06-05 Ngk Insulators, Ltd. Joined body and method for manufacturing the same
EP3002270A1 (en) 2014-10-03 2016-04-06 NGK Insulators, Ltd. Joined body and method for manufacturing the same
DE102017204329A1 (de) 2016-03-29 2017-10-05 Ngk Insulators, Ltd. Wabenstruktur und Herstellungsverfahren derselben
US10309003B2 (en) 2016-03-29 2019-06-04 Ngk Insulators, Ltd. Honeycomb structure, and manufacturing method of the same
DE102017204329B4 (de) 2016-03-29 2022-10-27 Ngk Insulators, Ltd. Wabenstruktur und Herstellungsverfahren derselben
DE102021213628A1 (de) 2021-03-03 2022-09-08 Ngk Insulators, Ltd. Wabenstruktur, elektrischer Heizkörper und Abgasreinigungsvorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
EP2554263B1 (en) 2018-08-15
US20130043236A1 (en) 2013-02-21
JPWO2011125815A1 (ja) 2013-07-11
JP5663003B2 (ja) 2015-02-04
US8803043B2 (en) 2014-08-12
EP2554263A4 (en) 2014-07-02
EP2554263A1 (en) 2013-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5663003B2 (ja) ハニカム構造体
JP5658233B2 (ja) ハニカム構造体
JP5654999B2 (ja) ハニカム構造体
JP5735481B2 (ja) ハニカム構造体
JP5658234B2 (ja) ハニカム構造体
JP5850858B2 (ja) ハニカム構造体
JP5860465B2 (ja) ハニカム構造体
JP5919199B2 (ja) ハニカム構造体
WO2013146955A1 (ja) ハニカム構造体
JP5902670B2 (ja) ハニカム構造体
JP5916628B2 (ja) ハニカム構造体
JP2011212577A (ja) ハニカム構造体
JP5792743B2 (ja) ハニカム構造体
JP2019173663A (ja) ハニカム構造体
JP6038711B2 (ja) ハニカム構造体及びその製造方法
JP2019173662A (ja) ハニカム構造体
JP2019107596A (ja) ハニカム構造体

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11765715

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012509557

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011765715

Country of ref document: EP