WO2011091894A1 - Method for inspecting structures of test substrates - Google Patents

Method for inspecting structures of test substrates Download PDF

Info

Publication number
WO2011091894A1
WO2011091894A1 PCT/EP2010/068996 EP2010068996W WO2011091894A1 WO 2011091894 A1 WO2011091894 A1 WO 2011091894A1 EP 2010068996 W EP2010068996 W EP 2010068996W WO 2011091894 A1 WO2011091894 A1 WO 2011091894A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
image
test substrate
overview
inspection unit
inspection
Prior art date
Application number
PCT/EP2010/068996
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Michael Teich
Frank Fehrmann
Thomas THÄRIGEN
Jens Fiedler
Ulf Hackius
Original Assignee
Cascade Microtech Dresden Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cascade Microtech Dresden Gmbh filed Critical Cascade Microtech Dresden Gmbh
Publication of WO2011091894A1 publication Critical patent/WO2011091894A1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • G06T7/001Industrial image inspection using an image reference approach
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2210/00Aspects not specifically covered by any group under G01B, e.g. of wheel alignment, caliper-like sensors
    • G01B2210/52Combining or merging partially overlapping images to an overall image
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G01N2021/8854Grading and classifying of flaws
    • G01N2021/8861Determining coordinates of flaws
    • G01N2021/8864Mapping zones of defects
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2891Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks related to sensing or controlling of force, position, temperature
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/10Image acquisition modality
    • G06T2207/10056Microscopic image
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108Industrial image inspection
    • G06T2207/30148Semiconductor; IC; Wafer

Definitions

  • the invention relates generally to a method for
  • Inspection unit of a Probers relates to the inspection of test substrates that are larger than the field of view of the inspection unit, so that the area to be inspected must be positioned in the field of view by means of a movement device of the tester in order to inspect the entire test substrate or regions of the test substrate lying outside the field of view.
  • test substrates As is known, a wide variety of test substrates are tested for various properties or subjected to special tests.
  • the test substrates can be used in different production and integration stages
  • the component to be inspected is the test substrate. This can be both an entire wafer as well as its individual components or already isolated components, depending on the current
  • Test stations used a chuck with one
  • the Surface for receiving test substrates include. Of the Chuck is usually movable by means of a movement device at least in the X and Y directions.
  • the inspection station also has an inspection unit, a camera and / or a microscope, with which the test substrates can be inspected. This takes place, for example, before or during the contacting of the contact pads of the test substrates by probe tips.
  • the inspection unit As a result of the limited field of view of the inspection unit, only a part of the entire wafer or only a part of the test substrate is visible to test substrates.
  • the size of the image depends on the one hand on the size and resolution of the lens used in the inspection unit and / or the sensor used. The bigger the
  • Lens enlargement the smaller the region of the test substrate to be displayed in an image, generally as
  • the inspection unit In a partial representation of the test substrate, the inspection unit must be so by the operator of the inspection station, the operator, relative to the chuck
  • the positioning of the inspection unit relative to the chuck is often done solely by a movement of the chuck.
  • Inspection unit is movable, so that also chuck and inspection unit to each other or only the
  • Inspection unit be delivered to the chuck.
  • the description will be described by way of example with reference to the movement of the chuck alone. A limitation to such positioning for inspection purposes is not intended.
  • Test substrate spatially far apart, so they no longer fit simultaneously in the field of view of the inspection unit.
  • the operator must manually enter the required positions approach. This process is time consuming and monotonous, especially with frequent repetition.
  • Quick manual inspection of a test substrate is possible only insofar as the structures to be inspected are close to each other or within the image field.
  • an inspection method with which the image field of the inspection unit is virtually expanded by creating a virtual overview image of the test substrate or at least part of it.
  • the overview image is obtained by two-dimensional juxtaposition of images recorded by a camera, so-called
  • Chuck positions can be included within the X-Y plane. However, they can also include Z-direction jumps, depending on the structure of the test substrate and the target of the inspection.
  • This overview image composed of individual images is a still image that is only updated by explicit user interaction. It serves as a reference for further navigation for the inspection unit, e.g. as part of the setting or inspection of the contact position of
  • the size of the virtual image field of the overview image is chosen so that on a
  • tiles hereafter referred to as tiles. From these tiles is determined by criteria appropriate for each
  • the overview image is displayed on a display of the control unit of the prober, preferably together with the current live image of the test substrate to be obtained with the inspection unit.
  • a cursor either a mouse pointer, a crosshair or similar
  • the operator can select and activate each of the tiles in the overview image.
  • a signal is generated in the control unit to the movement device, which causes the start of the chuck position in which the activated tile was taken.
  • coordinates and data of the activated tile always relate to the area of the test substrate recorded for the creation of the overview image, regardless of how far away the current position is from the location of the tile.
  • the so-called dynamic positioning the coordinates of the
  • Tiles of the overview image transferred to regularly recurring, comparable substructures of the test substrate by the step size of the repetition of the substructure on the coordinates of each tile of the overview image
  • Each coordinate of each tile is corrected by a multiple of the values in the X-, Y and possibly also Z-direction, which is the position of two adjacent
  • corrections of the X, Y and Z coordinates are to be applied.
  • the recording area of the overview image is e.g. using a reference tile to define.
  • Overview screen is located. With each activation of a tile in the overview image will automatically into a position
  • Fig. 1 is composed of four times four tiles
  • FIGS. 2A and 2B show a real overview and live image with the image data according to FIG. 1;
  • FIG. 3 is a real overview image with respect to FIG.
  • Fig. 4 shows a wafer with a grid of components as repeating partial structures, with spatial
  • FIG. 5 shows a display of an overview image and a live
  • FIG. 1 shows an overview image 1, which is of a chip 2, in the exemplary embodiment the one to be inspected
  • Test substrate 2 is created.
  • the chip 2 is part of a wafer 3 comprising a plurality of chips 2. If the wafer were to be 3 or inspected, the wafer would be 3
  • test substrate 2 alike be a test substrate 2.
  • the 16 frames 4 are successively picked up by the chip 2 by repositioning the wafer 3 correspondingly for each frame 4.
  • Each frame 4 is stored together with the position coordinates at which the frame 4 was taken and the image resolution.
  • the stored individual images 4 are provided with suitable software for the overview image 1
  • the overview picture 1 was made of four by four tiles created, the individual images slightly overlapping each other represent the entire chip 2, which should be illustrated by the reduced copy of the overview image 1 on the wafer 3 in conjunction with the connecting lines.
  • the individual images 4 each have a resolution of 2048 x 2048 pixels. The exact data can be found in the following table:
  • Image field size of in the exemplary embodiment 10 times 10 mm 2 is due to the overlap 5 of the individual images 4, which was made here with about 20%.
  • the image information in overlapping image areas is either overlaid or exclusively combined, if necessary parameterized.
  • FIG. 2A Tiling and resolution is shown in FIG. 2A.
  • the individual images 4 fit together almost seamlessly. By means of a suitable overlap of the individual images 4 are
  • Edge effects on the frame 4 e.g. affect the representation in the edge area, minimizable. in the
  • Fig. 2B shows a detail of the center of
  • FIG. 2A Overview diagram 1 shown in FIG. 2A. The structures of the test substrate 1 are shown clearly and sharply.
  • a significantly larger image field has been shown in the overview image 1. It is composed of 50 by 50 individual images 4 and gives an image field size of 150 by 150 mm 2 , in this case without
  • the data can be the following
  • Fig. 4 shows a wafer according to Fig. 1, in which of a the chips 2 an overview image 1 of two times two tiles 4 was created with an overlap 5. in the
  • this overview image 1 is also applied to other chips 2 of the wafer 3 used for navigation by the above-described dynamic positioning on other chips 2 not used for the production of the overview image 1. To distinguish the starting position in which the overview image 1 was recorded, from the later
  • Positions have a dashed border.
  • the wafer 3 by means of
  • the field of view 6 of the camera is located away from the area of the recorded overview image 1.
  • the field of view 6 is shown displaced relative to the wafer 3 for the sake of a better overview.
  • Position coordinates of the activated tile 4 determines how many chips 2 lie between these two positions in both the X and Y directions. From the knowledge of the size of each chip in the X and Y direction, the
  • Field of view 6 is located, i. where the largest
  • the display 5 shows the display an overview image 1 and a live image 7 on a display 10.
  • the overview image 1 is composed of 4 tiles. Since the live image 7 is the one which can be accommodated in the current position with the camera, it corresponds to the field of view of the camera according to FIG. 4.
  • Reticle 11 which serves as a cursor, the current field of view 6 of the camera, i. the inspectable area of a test substrate 2 is shown.
  • Fig. 5 this is a
  • the live image 7 represents this section, but with a higher resolution. If another section is to be displayed, the overview picture 1 is navigated by moving the crosshair 11 until the desired section in the crosshair 11 lies. At this point, the tile 4 is activated by clicking with the crosshair 11, which is located under the crosshair. As a result of the activation of the tile 4, the movement device of the Probers (not
  • the chuck is positioned so that the activated tile 4 or a dynamically corrected tile 4 is in the field of view of the camera.

Abstract

The invention relates to a method for inspecting test substrates in a sampler which comprises a chuck for holding the test substrate (2), an inspection unit having a camera for inspecting the test substrate (2), a moving device for moving the chuck and/or the inspection unit, a control unit for controlling the moving device and a display for showing an image recorded by means of the camera. For inspection an overview image (1) of the test substrate (2) is produced by recording a plurality of individual images (4) in various positions of the test substrate (2) and combining them into the overview image (1) on the display. Each individual image (4) is stored together with the co-ordinates of the position in in which it was recorded. For navigation on the test substrate an individual image (4) in the overview image (1) is selected, and then a position associated with the individual image (4) is approached by means of the moving device and there an image is produced of the detail of the test substrate (2) which is then located in the field of view (6) of the inspection unit.

Description

Verfahren zur Inspektion von Strukturen von Testsubstraten Die Erfindung betrifft allgemein ein Verfahren zur  Method of Inspecting Structures of Test Substrates The invention relates generally to a method for
Inspektion von Testsubstraten mittels einer Inspection of test substrates by means of a
Inspektionseinheit eines Probers. Es betrifft insbesondere die Inspektion von Testsubstraten, die größer sind als das Sichtfeld der Inspektionseinheit, so dass zur Inspektion des gesamten Testsubstrats oder außerhalb des Sichtfeldes liegender Bereiche des Testsubstrats der zu inspizierende Bereich mittels einer Bewegungsvorrichtung des Probers im Sichtfeld positioniert werden muss.  Inspection unit of a Probers. In particular, it relates to the inspection of test substrates that are larger than the field of view of the inspection unit, so that the area to be inspected must be positioned in the field of view by means of a movement device of the tester in order to inspect the entire test substrate or regions of the test substrate lying outside the field of view.
Bekanntermaßen werden die unterschiedlichsten Testsubstrate hinsichtlich verschiedener Eigenschaften geprüft oder speziellen Test unterzogen. Dabei können die Testsubstrate in verschiedenen Fertigungs- und Integrationsstufen As is known, a wide variety of test substrates are tested for various properties or subjected to special tests. The test substrates can be used in different production and integration stages
vorliegen. So werden Tests von Halbleiterchips, available. So are tests of semiconductor chips,
Hybridbauelementen, mikromechanische sowie mikrooptischen Bauelementen und dergleichen durchgeführt, die sich noch im Waferverbund befinden oder vereinzelt oder bereits in mehr oder weniger komplexen Schaltungen integriert sind. Hybrid components, micromechanical and micro-optical components and the like carried out, which are still in the wafer composite or isolated or already integrated in more or less complex circuits.
Nachfolgend soll als Testsubstrat jene Komponente bezeichnet sein, die jeweils zu inspizieren ist. Dies kann sowohl ein ganzer Wafer sein als auch dessen einzelne Bauelemente oder bereits vereinzelte Bauelemente, je nach der aktuellen In the following, the component to be inspected is the test substrate. This can be both an entire wafer as well as its individual components or already isolated components, depending on the current
Inspektionsaufgabe. Dabei ist es gleichermaßen möglich, dass zunächst ein einzelnes Bauelement eines Wafers und Inspection task. It is equally possible that initially a single component of a wafer and
anschließend ein weiteres zu inspizieren ist und zwar jeweils unter Anwendung des gleichen Inspektionsverfahrens einmal auf das einzelne Bauelement und zum anderen auf den gesamten Wafer. then another to be inspected, and in each case using the same inspection method once on the individual component and the other on the entire wafer.
Zur Prüfung und Inspektion von Testsubstraten werden For testing and inspection of test substrates
PrüfStationen verwendet, die einen Chuck mit einer Test stations used a chuck with one
Oberfläche zur Aufnahme von Testsubstraten umfassen. Der Chuck ist mittels einer Bewegungsvorrichtung meist zumindest in X- und Y-Richtung verfahrbar. Die Prüfstation weist weiterhin eine Inspektionseinheit auf, eine Kamera und/oder ein Mikroskop, mit der die Testsubstrate inspiziert werden können. Dies erfolgt z.B. vor oder während der Kontaktierung der Kontaktpads der Testsubstrate durch Sondenspitzen. Surface for receiving test substrates include. Of the Chuck is usually movable by means of a movement device at least in the X and Y directions. The inspection station also has an inspection unit, a camera and / or a microscope, with which the test substrates can be inspected. This takes place, for example, before or during the contacting of the contact pads of the test substrates by probe tips.
Bei der manuellen Inspektion von Strukturen von In the manual inspection of structures of
Testsubstraten ist infolge des beschränkten Sichtfeldes der Inspektionseinheit meist nur ein Teil des gesamten Wafers oder auch nur ein Teil des Testsubstrats sichtbar. Die Größe des Abbildes hängt zum einen von Größe und Auflösung des in der Inspektionseinheit vom verwendeten Objektiv und/oder vom eingesetzten Sensors ab. Umso größer die As a result of the limited field of view of the inspection unit, only a part of the entire wafer or only a part of the test substrate is visible to test substrates. The size of the image depends on the one hand on the size and resolution of the lens used in the inspection unit and / or the sensor used. The bigger the
Objektivvergrößerung, je kleiner der in einer Abbildung darzustellende Bereich des Testsubstrats, allgemein als Lens enlargement, the smaller the region of the test substrate to be displayed in an image, generally as
Bildfeld bezeichnet. Bei einer nur teilweisen Darstellung des Testsubstrats muss die Inspektionseinheit vom Bediener der Prüfstation, dem Operator, relativ zum Chuck so Image field called. In a partial representation of the test substrate, the inspection unit must be so by the operator of the inspection station, the operator, relative to the chuck
positioniert werden, dass der für die Inspektion be positioned that for the inspection
interessante Teil in ihrem Blickfeld ist. interesting part in their field of vision is.
Die Positionierung der Inspektionseinheit relativ zum Chuck erfolgt häufig allein durch eine Bewegung des Chucks . The positioning of the inspection unit relative to the chuck is often done solely by a movement of the chuck.
Alternativ sind aber auch Prober bekannt, deren Alternatively, however, probes are known whose
Inspektionseinheit beweglich ist, so dass auch Chuck und Inspektionseinheit zueinander oder nur die Inspection unit is movable, so that also chuck and inspection unit to each other or only the
Inspektionseinheit zum Chuck zugestellt werden. Nachfolgend soll die Beschreibung beispielhaft anhand der Bewegung allein des Chucks beschrieben sein. Eine Beschränkung auf eine solche Positionierung zu Inspektionszwecken ist damit nicht beabsichtigt.  Inspection unit be delivered to the chuck. In the following, the description will be described by way of example with reference to the movement of the chuck alone. A limitation to such positioning for inspection purposes is not intended.
Liegen zu inspizierende Strukturen ein und desselben Are structures to be inspected one and the same
Testsubstrats räumlich weit auseinander, so passen sie nicht mehr gleichzeitig in das Bildfeld der Inspektionseinheit. Der Operator muss die erforderlichen Positionen manuell anfahren. Dieser Vorgang ist zeitaufwändig und insbesondere bei häufiger Wiederholung monoton. Schnelles manuelles inspizieren eines Testsubstrats ist nur insoweit möglich, wie die zu inspizierenden Strukturen nah beieinander bzw. innerhalb des Bildfeldes liegen. Test substrate spatially far apart, so they no longer fit simultaneously in the field of view of the inspection unit. The operator must manually enter the required positions approach. This process is time consuming and monotonous, especially with frequent repetition. Quick manual inspection of a test substrate is possible only insofar as the structures to be inspected are close to each other or within the image field.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Bildfeld einer Inspektionseinheit eines Probers zu erweitern und die The invention has for its object to expand the image field of an inspection unit of a Probers and the
Navigation auf dem Testsubstrat während der Inspektion zu verbessern . Es ein Inspektionsverfahren angegeben, mit dem das Bildfeld der Inspektionseinheit virtuell erweitert wird, indem ein virtuelles Übersichtsbild des Testsubstrats oder zumindest eines Teils davon erstellt wird. Das Übersichtbild wird durch zweidimensionale Aneinanderreihung von mittels einer Kamera aufgenommenen Bildern erhalten, so genannte To improve navigation on the test substrate during the inspection. There is provided an inspection method with which the image field of the inspection unit is virtually expanded by creating a virtual overview image of the test substrate or at least part of it. The overview image is obtained by two-dimensional juxtaposition of images recorded by a camera, so-called
Kachelung, die an verschiedenen Positionen des Chucks aufgenommen wurden. Die einzelnen Kacheln des  Tiling, which was taken at different positions of the chuck. The individual tiles of the
Übersichtbildes können entweder in verschiedenen Overview image can be either in different
Chuckpositionen innerhalb der X-Y-Ebene aufgenommen sein. Sie können aber auch Sprünge in Z-Richtung umfassen, je nach Struktur des Testsubstrats und Ziel der Inspektion. Chuck positions can be included within the X-Y plane. However, they can also include Z-direction jumps, depending on the structure of the test substrate and the target of the inspection.
Dieses aus Einzelbildern zusammengesetzte Übersichtsbild ist ein Standbild, das erst durch explizite Nutzerinteraktion aktualisiert wird. Es dient als Referenz für die weitere Navigation für die Inspektionseinheit, z.B. im Rahmen der Einstellung oder Inspektion der Kontaktposition der This overview image composed of individual images is a still image that is only updated by explicit user interaction. It serves as a reference for further navigation for the inspection unit, e.g. as part of the setting or inspection of the contact position of
Sondenspitzen. Die Größe des virtuellen Bildfeldes des Übersichtsbilds wird dabei so gewählt, dass auf einem Probe tips. The size of the virtual image field of the overview image is chosen so that on a
Testsubstrat, das größer ist als der mit der Test substrate, which is larger than that with the
Inspektionseinheit abbildbare Bildausschnitt, mit Inspection unit imageable image detail, with
ausreichender Genauigkeit grob navigiert werden kann. Die Feinpositionierung erfolgt dann im Live-Bild, das nach dem Anfahren der im Übersichtsbild ausgewählten Position can be roughly navigated with sufficient accuracy. The fine positioning then takes place in the live image, which after starting the position selected in the overview image
gewonnen wird. Zur Herstellung des Übersichtsbildes werden die interessierenden Chuckpositionen angefahren. In jeder is won. To produce the overview image, the chuck positions of interest are approached. In every
Position wird ein Einzelbild aufgenommen, diesem die Position a single picture is taken, this the
jeweiligen X- und Y-Koordinaten der Chuckposition und gegebenenfalls auch Z-Koordinaten und Skalierungsdaten zugeordnet und das Bild in Verbindung mit diesen Daten im Speicher der Steuereinheit des Probers gespeichert. Die Aufnahme der Einzelbilder kann auf verschiedene Weise erfolgen. So ist eine automatisierte Aufnahme mit associated X and Y coordinates of Chuckposition and possibly also Z coordinates and scaling data and stored the image in connection with these data in the memory of the control unit of the Probers. The recording of the individual images can be done in various ways. So is an automated recording with
voreinstellbaren Positionierungsschritten des Chucks innerhalb eines zuvor, z.B. manuell, begrenztem Bereich auf dem Testsubstrat möglich. Dies kann insbesondere dann erfolgen, wenn regelmäßige Strukturen auf dem Testsubstrat zu inspizieren sind, wie z.B. Kontaktpadreihen oder presettable positioning steps of the chuck within a previously, e.g. Manual, limited area on the test substrate possible. This can be done, in particular, if regular structures on the test substrate are to be inspected, such as e.g. Contact pad rows or
Kontaktpadarrays . Auch manuelles Positionierungen zur Contact pad arrays. Also manual positioning for
Aufnahme jedes Bildes oder eine Kombination von beidem sind möglich. Die aufzunehmenden Einzelbilder können unmittelbar aneinander anschließend den interessierenden Bereich des Testsubstrats vollständig abbilden oder nur ausgewählte Bereiche davon.  Recording any picture or a combination of both are possible. The individual images to be photographed can then be completely directly next to one another, the area of interest of the test substrate or only selected areas thereof.
Die Einzelbilder mit den zugehörigen Daten werden The frames with the associated data will be
nachfolgend als Kacheln bezeichnet. Aus diesen Kacheln wird anhand von Kriterien, die für die jeweilige hereafter referred to as tiles. From these tiles is determined by criteria appropriate for each
Inspektionsaufgabe günstig ist, das Übersichtsbild Inspection task is favorable, the overview picture
zusammengesetzt. Meist werden diese Kriterien durch den räumlichen Zusammenhang der einzelnen Kacheln bedingt sein. Alternativ können aber auch funktionelle Zusammenhänge, die sich aus den Bildinhalten ergeben, maßgeblich für die composed. Most of these criteria will be due to the spatial relationship of the individual tiles. Alternatively, however, functional relationships resulting from the image content can also be decisive for the
Aneinanderreihung der einzelnen sein. In jedem Fall aber erfolgt das Zusammenfügen der Kacheln auf der Basis der Koordinaten ohne Berücksichtigung des Bildinhaltes. Aus letzterem folgt, dass auch keine Positionierungsfehler in der gewünschten Chuckposition oder Objektivverzeichnungen berücksichtigt werden, die Bilderkennungsverfahren erfordern würden. Ein Anhaltspunkt für die Anzahl der Kacheln je Stringing the individual. In any case, the tiles are assembled on the basis of the coordinates without consideration of the image content. It follows from the latter that no positioning errors in the desired chuck position or lens distortions that would require image recognition methods are taken into account. A clue to the number of tiles ever
Übersichtsbild ist neben der Inspektionsaufgabe auch der Speicherbedarf, wobei zu berücksichtigen ist, dass sowohl die einzelnen Kacheln als auch das Übersichtsbild zumindest kurzzeitig parallel vorgehalten werden müssen und das Overview image is in addition to the inspection task and the memory requirements, which must be taken into account that both the individual tiles as well as the overview image must be held at least briefly parallel and the
Übersichtsbild auch in der vollen Auflösung gespeichert werden kann. So kann es hilfreich sein, die Bilder nur in Schwarz-Weiß zu speichern, da sich bei farbigen Bildern sowohl der Rechen- und damit verbundenen Zeitaufwand als auch der Speicherbedarf vervielfacht. Eine Verminderung des Speicherbedarfs kann alternativ oder ergänzend auch durch eine Abwärtsskalierung der Auflösung der Einzelbilder erfolgen. Dies hat auf die spätere Inspektion keinen Overview image can also be saved in full resolution. So it can be helpful to save the images only in black and white, because in the case of colored images, both the computational and associated time expenditure as well as the storage requirements multiply. A reduction of the memory requirement can alternatively or additionally also be effected by a downward scaling of the resolution of the individual images. This has no on the later inspection
Einfluss, da die Kacheln lediglich der Navigation dienen und die Inspektion nach dem Anfahren der mit der Kachel Influence, since the tiles serve only the navigation and the inspection after starting the with the tile
verbundenen Koordinaten am dann erhaltenen Abbild, dem Live- Bild erfolgt. connected coordinates on the image then obtained, the live image takes place.
Das Übersichtsbild wird auf einem Display der Steuereinheit des Probers angezeigt, vorzugsweise gemeinsam mit dem aktuellen, mit der Inspektionseinheit zu gewinnenden Live- Bild des Testsubstrats. Mittels eines Cursors, entweder einem Mauszeiger, einem Fadenkreuz oder ähnlichem, kann der Operator im Übersichtsbild jede der Kacheln auswählen und aktivieren. Auf eine Aktivierung einer Kachel hin wird in der Steuereinheit ein Signal an die Bewegungsvorrichtung generiert, welches das Anfahren jener Chuckposition bewirkt, in welcher die aktivierte Kachel aufgenommen wurde. The overview image is displayed on a display of the control unit of the prober, preferably together with the current live image of the test substrate to be obtained with the inspection unit. By means of a cursor, either a mouse pointer, a crosshair or similar, the operator can select and activate each of the tiles in the overview image. Upon activation of a tile, a signal is generated in the control unit to the movement device, which causes the start of the chuck position in which the activated tile was taken.
Bei dieser so genannten statischen Positionierung beziehen sich Koordinaten und Daten der aktivierten Kachel stets auf den für die Erstellung des Übersichtsbildes aufgenommenen Bereich des Testsubstrats, unabhängig davon wie weit die aktuelle Position von der Aufnahmeposition der Kachel entfernt ist. In the case of this so-called static positioning, coordinates and data of the activated tile always relate to the area of the test substrate recorded for the creation of the overview image, regardless of how far away the current position is from the location of the tile.
In einer Ausgestaltung der Erfindung, der so genannten dynamischen Positionierung, werden die Koordinaten der In one embodiment of the invention, the so-called dynamic positioning, the coordinates of the
Kacheln des Übersichtbildes auf regelmäßig wiederkehrende, vergleichbare Teilstrukturen des Testsubstrats übertragen, indem die Schrittweite der Wiederholung der Teilstruktur auf die Koordinaten jeder Kachel des Übersichtsbildes Tiles of the overview image transferred to regularly recurring, comparable substructures of the test substrate by the step size of the repetition of the substructure on the coordinates of each tile of the overview image
angerechnet wird. Dabei wird jede Koordinate jeder Kachel um ein Mehrfaches der Werte in X-, Y und gegebenenfalls auch Z- Richtung korrigiert, die die Lage zweier benachbarter is counted. Each coordinate of each tile is corrected by a multiple of the values in the X-, Y and possibly also Z-direction, which is the position of two adjacent
Teilstrukturen zueinander definieren. Anhand des Vergleichs der aktuellen Position mit dem Aufnahmebereich des Define substructures to each other. Based on the comparison of the current position with the recording range of the
Übersichtsbildes ist die Anzahl der Wiederholungen der  Overview image is the number of repetitions of the
Teilstruktur zu ermitteln, die zwischen beiden Positionen liegen, und somit wie oft und in welche Richtungen die Determine the substructure that lies between the two positions and thus how often and in which directions the
Korrekturen der X-, Y- und Z-Koordinaten anzuwenden sind. Der Aufnahmebereich des Übersichtsbildes ist z.B. anhand einer Referenzkachel zu definieren. Corrections of the X, Y and Z coordinates are to be applied. The recording area of the overview image is e.g. using a reference tile to define.
Auf diese Weise ist sowohl eine Wiederholung in nur einer Richtung als auch in mehreren Richtungen zu berücksichtigen. Zudem ist auch diese Erweiterung der Navigation auf eine Vielzahl von vergleichbaren Strukturen, z.B. bei In this way, both a repetition in one direction and in several directions must be considered. In addition, this extension of navigation to a variety of comparable structures, e.g. at
Bauelementen im Waferverbund, auch ohne Bilderkennung anwendbar. Die aktuelle Position ist allein aus dem  Components in the wafer composite, even without image recognition applicable. The current position is alone from the
Koordinatenvergleich zu ermitteln, wenn das Schrittmaß der Wiederholungen bekannt ist oder zuvor ermittelt wurde. Damit ist eine Navigation in der Umgebung des Live-Bildes und auf die dort abgebildete Teilstruktur möglich, auch wenn sich die Inspektionseinheit außerhalb des Bereiches des Coordinate comparison to determine if the increment of repetitions is known or previously determined. This allows navigation in the environment of the live image and on the substructure depicted there, even if the inspection unit is outside the range of the
Übersichtsbilds befindet. Mit jeder Aktivierung einer Kachel im Übersichtsbild wird automatisch in eine Position Overview screen is located. With each activation of a tile in the overview image will automatically into a position
innerhalb der aktuellen, d.h. im Live-Bild abgebildetenwithin the current, i. pictured in the live image
Teilstruktur umgerechnet. Auch eine Navigation im Umfeld des Live-Bildes ist grundsätzlich möglich, setzt allerdings voraus, dass das Übersichtsbild eine komplette Teilstruktur erfasst hat. Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. In der zugehörigen Zeichnung zeigt Partial structure converted. It is also possible to navigate around the live image, but this assumes that the overview image has captured a complete substructure. The invention will be described below with reference to a Embodiments will be explained in more detail. In the accompanying drawing shows
Fig. 1 ein aus vier mal vier Kacheln zusammengesetztes Fig. 1 is composed of four times four tiles
Übersiehtsbild;  Overlooks image;
Fig. 2A und 2B ein reales Übersichts- und Live-Bild mit den Bilddaten gemäß Fig. 1 ; FIGS. 2A and 2B show a real overview and live image with the image data according to FIG. 1;
Fig. 3 ein reales Übersichtsbild mit im Vergleich zu Fig 3 is a real overview image with respect to FIG
2A größerem Bildfeld;  2A larger field of view;
Fig. 4 einen Wafer mit einem Raster von Bauelementen als sich wiederholende Teilstrukturen, mit räumlicherFig. 4 shows a wafer with a grid of components as repeating partial structures, with spatial
Zuordnung eines Übersichtsbilds und dazu benachbarten Teilstrukturen; Assignment of an overview picture and substructures adjacent to it;
Fig. 5 eine Anzeige eines Übersichtsbilds und eines Live 5 shows a display of an overview image and a live
Bilds .  Picture.
Fig. 1 stellt ein Übersichtsbild 1 dar, welches von einem Chip 2, im Ausführungsbeispiel das zu inspizierende FIG. 1 shows an overview image 1, which is of a chip 2, in the exemplary embodiment the one to be inspected
Testsubstrat 2, erstellt ist. Der Chip 2 ist Teil eines Wafers 3, der eine Vielzahl von Chips 2 umfasst. Sofern der Wafer 3 oder zu inspizieren wäre, würde der Wafer 3 Test substrate 2, is created. The chip 2 is part of a wafer 3 comprising a plurality of chips 2. If the wafer were to be 3 or inspected, the wafer would be 3
entsprechend der eingangs dargelegten Terminologie according to the terminology outlined above
gleichermaßen ein Testsubstrat 2 sein. alike be a test substrate 2.
Die 16 Einzelbilder 4 werden nacheinander von dem Chip 2 aufgenommen, indem für jedes Einzelbild 4 der Wafer 3 entsprechend neu positioniert wird. Jedes Einzelbild 4 wird zusammen mit den Positionskoordinaten, bei welchem das Einzelbild 4 aufgenommen wurde, und der Bildauflösung gespeichert. Die gespeicherten Einzelbilder 4 werden mit einer geeigneten Software zum Übersichtsbild 1 The 16 frames 4 are successively picked up by the chip 2 by repositioning the wafer 3 correspondingly for each frame 4. Each frame 4 is stored together with the position coordinates at which the frame 4 was taken and the image resolution. The stored individual images 4 are provided with suitable software for the overview image 1
zusammengefügt und können dem Operator eines Probers auf einem Display angezeigt werden. and can be displayed to the operator of a prober on a display.
Das Übersichtsbild 1 wurde aus vier mal vier Kacheln erstellt, deren Einzelbilder einander leicht überlappend den gesamten Chip 2 darstellen, was durch die verkleinerte Kopie des Übersichtsbildes 1 auf dem Wafer 3 in Verbindung mit den Verbindungslinien verdeutlicht sein soll. Die Einzelbilder 4 haben jeweils eine Auflösung von 2048 x 2048 Pixeln. Die genauen Daten können der folgenden Tabelle entnommen werden: The overview picture 1 was made of four by four tiles created, the individual images slightly overlapping each other represent the entire chip 2, which should be illustrated by the reduced copy of the overview image 1 on the wafer 3 in conjunction with the connecting lines. The individual images 4 each have a resolution of 2048 x 2048 pixels. The exact data can be found in the following table:
Figure imgf000010_0001
Figure imgf000010_0001
Auf Basis der Größe eines Live-Bilds mit 3 mal 3 mm ergibt sich für die gewählte Kachelung ein theoretisches Bildfeld von 12 mal 12 mm2. Der Unterschied zur tatsächlichen Based on the size of a live image of 3 by 3 mm, the theoretical tiling of the selected tiling is 12 by 12 mm 2 . The difference to the actual
Bildfeldgröße von im Ausführungsbeispiel 10 mal 10 mm2 liegt an der Überlappung 5 der Einzelbilder 4, die hier mit ca. 20% vorgenommen wurde. Die Bildinformationen in überlappende Bildbereichen werden entweder übergeblendet oder exklusiv kombiniert, gegebenenfalls parametriert . Image field size of in the exemplary embodiment 10 times 10 mm 2 is due to the overlap 5 of the individual images 4, which was made here with about 20%. The image information in overlapping image areas is either overlaid or exclusively combined, if necessary parameterized.
Ein reales Übersichtsbild 1 mit einer vergleichbaren A real overview picture 1 with a comparable one
Kachelung und Auflösung ist in Fig. 2A dargestellt. Die Einzelbilder 4 fügen sich fast nahtlos aneinander. Mittels einer geeigneten Überlappung der Einzelbilder 4 sind  Tiling and resolution is shown in FIG. 2A. The individual images 4 fit together almost seamlessly. By means of a suitable overlap of the individual images 4 are
Randeffekte am Einzelbild 4, die z.B. die Darstellung im Randbereich beeinflussen, minimierbar. Im  Edge effects on the frame 4, e.g. affect the representation in the edge area, minimizable. in the
Ausführungsbeispiel wurden die Einzelbilder 4 nicht  Embodiment, the individual images 4 were not
herunterskaliert, so dass die hohe Auflösung auch in den Details des Übersichtsbildes 1 erhalten bleibt. Der besseren Darstellung in Fig. 2A wegen sind jedoch nicht alle 16 Einzelbilder 4 dargestellt. Scaled down so that the high resolution in the Details of the overview picture 1 is preserved. For better illustration in FIG. 2A, however, not all 16 individual images 4 are shown.
Fig. 2B stellt eine Detailaufnahme aus der Mitte des Fig. 2B shows a detail of the center of
Übersichtsbildes 1 gemäß Fig. 2A dar. Die Strukturen des Testsubstrats 1 sind deutlich und scharf abgebildet.  Overview diagram 1 shown in FIG. 2A. The structures of the test substrate 1 are shown clearly and sharply.
Im Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 3 wurde ein deutlich größeres Bildfeld im Übersichtsbild 1 dargestellt. Es setzt sich aus 50 mal 50 Einzelbildern 4 zusammen und ergibt eine Bildfeldgröße von 150 mal 150 mm2, in diesem Fall ohne In the exemplary embodiment according to FIG. 3, a significantly larger image field has been shown in the overview image 1. It is composed of 50 by 50 individual images 4 and gives an image field size of 150 by 150 mm 2 , in this case without
Überlappung. Um die Gesamtauflösung des Übersichtsbilds 1 zur Einsparung von Speicherkapazität und Rechenzeit  Overlap. To the total resolution of the overview image 1 to save storage capacity and computing time
möglichst klein zu halten wurden die Einzelbilder 4 diesmal stark herunterskaliert. Die Daten können der folgenden  To keep as small as possible, the individual images 4 were scaled down sharply this time. The data can be the following
Tabelle entnommen werden:  Table be taken:
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000011_0001
Aufgrund der in diesem Ausführungsbeispiel geringeren  Due to the lower in this embodiment
Detailauflösung, würde ein Einzelbild 4 nur deutlich  Detailed resolution, a single image 4 would only be clear
unschärfere Konturen des Testsubstrats 2 ergeben, die jedoch noch ausreichend währen, um z.B. Kontaktpads zu erkennen. Bei entsprechend geringer Strukturauflösung, ausreichender Speicherkapazität und Rechenzeit wäre auch eine vollständige Abbildung eines Wafers 3 im Übersichtsbild 1 möglich.  give blurred contours of the test substrate 2, but which still suffice to produce e.g. Detect contact pads. With a correspondingly low structural resolution, sufficient storage capacity and computing time, a complete imaging of a wafer 3 in the overview image 1 would also be possible.
Fig. 4 zeigt einen Wafer gemäß Fig. 1, bei welchem von einem der Chips 2 ein Übersichtsbild 1 aus zwei mal zwei Kacheln 4 mit einer Überlappung 5 erstellt wurde. Im Fig. 4 shows a wafer according to Fig. 1, in which of a the chips 2 an overview image 1 of two times two tiles 4 was created with an overlap 5. in the
Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 4 wird dieses Übersichtsbild 1 durch die oben beschriebene dynamische Positionierung auch auf andere, nicht für die Erstellung des Übersichtsbilds 1 verwendete Chips 2 des Wafers 3 zur Navigation angewendet. Zur Unterscheidung der Ausgangsposition, in welcher das Übersichtsbild 1 aufgenommen wurde, von den späteren  Embodiment according to FIG. 4, this overview image 1 is also applied to other chips 2 of the wafer 3 used for navigation by the above-described dynamic positioning on other chips 2 not used for the production of the overview image 1. To distinguish the starting position in which the overview image 1 was recorded, from the later
Positionen wo das gleiche Übersichtsbild 1 lediglich auf die sich wiederholenden, vergleichbar strukturierten Chips 2 auf dem Wafer 3 angewendet wird, ist erstere Position mit einer durchgezogenen Linie umrandet, wohingegen alle anderen Positions where the same overview image 1 is applied only to the repetitive, comparably structured chips 2 on the wafer 3, the former position is surrounded by a solid line, whereas all others
Positionen eine gestrichelte Umrandung aufweisen. Positions have a dashed border.
Bei der dargestellten dynamischen Positionierung eines Chips 2 zu Inspektionszwecken wird der Wafer 3 mittels der In the illustrated dynamic positioning of a chip 2 for inspection purposes, the wafer 3 by means of
Bewegungsvorrichtung des Chucks des Probers (nicht Movement device of chopper of Probers (not
dargestellt) relativ zur stationären Inspektionseinheit (nicht dargestellt) , vorliegend einer Kamera, soweit bewegt, dass das Sichtfeld 6 der Kamera entfernt von dem Bereich des aufgenommenen Übersichtsbildes 1 liegt. In der Darstellung gemäß Fig. 4 ist der besseren Übersicht wegen das Sichtfeld 6 gegenüber dem Wafer 3 verschoben dargestellt. represented) relative to the stationary inspection unit (not shown), in this case a camera, so far moved that the field of view 6 of the camera is located away from the area of the recorded overview image 1. In the illustration according to FIG. 4, the field of view 6 is shown displaced relative to the wafer 3 for the sake of a better overview.
Nachdem das Übersichtsbild 1 im unteren Bereich des Wafers 3 aufgenommen und der Wafer 3 so weit verfahren wurde, dass sich das Sichtfeld 6 im oberen Bereich des Wafers 3 After the overview image 1 was taken in the lower region of the wafer 3 and the wafer 3 was moved so far that the field of view 6 in the upper region of the wafer. 3
befindet, würde eine statische Positionierung dazu führen, dass auf eine Auswahl und Aktivierung einer der vier Kacheln 4 des Übersichtsbildes 1 der Wafer 3 automatisch so Static positioning would result in a selection and activation of one of the four tiles 4 of the overview image 1 of the wafer 3 automatically so
zurückgefahren würde, dass die aktivierte Kachel 4 des ursprünglich aufgenommenen Chips 2 genau im Sichtfeld 6 der Kamera liegt. was moved back that the activated tile 4 of the originally recorded chip 2 is exactly in the field of view 6 of the camera.
Bei der dynamischen Positionierung wird aus der Differenz der aktuell angefahrenen Position unter dem Sichtfeld der Kamera, dessen X- und Y-Koordinaten bekannt sind, und den Positionskoordinaten der aktivierten Kachel 4 ermittelt, wie viele Chips 2 zwischen diesen beiden Positionen sowohl in X- als auch in Y-Richtung liegen. Aus der Kenntnis der Größe eines jeden Chips in X- und in Y-Richtung werden die In the case of dynamic positioning, the difference between the currently approached position and the field of view of the camera whose x and y coordinates are known and Position coordinates of the activated tile 4 determines how many chips 2 lie between these two positions in both the X and Y directions. From the knowledge of the size of each chip in the X and Y direction, the
Koordinaten der aktivierten Kachel 4 auf jene des Chips 2 umgerechnet, der sich in unmittelbarer Umgebung des Coordinates of the activated tile 4 converted to those of the chip 2, located in the immediate vicinity of the
Sichtfeldes 6 befindet, d.h. bei dem sich die größte Field of view 6 is located, i. where the largest
Überschneidung mit dem Sichtfeld 6 ergibt. Diese größte Überschneidung kann z.B. ermittelt werden, indem Overlap with the field of view 6 results. This largest overlap can e.g. be determined by
festgestellt wird, über welchem Chip 2 sich das Zentrum des Sichtfeldes 6 befindet. it is determined over which chip 2 the center of the field of view 6 is located.
Nachdem der angefahrene Chip 2 den Kacheln 4 des After the used chip 2 the tiles 4 of the
Übersichtsbilds 1 neu zugeordnet ist, wird die korrigierte Kachel 4 dieses Chips 2 angefahren. Auf diese Weise kann zunächst grob ein Bereich auf dem Wafer 3 angefahren und dort das Übersichtsbild 1 auf die im Umkreis des Sichtfeldes 6 befindlichen Chips 2 angewendet werden, um dort zu Assigned overview image 1, the corrected tile 4 of this chip 2 is approached. In this way, initially roughly a region on the wafer 3 can be approached and there the overview image 1 can be applied to the chips 2 located in the vicinity of the field of view 6, in order to there
navigieren. In Fig. 4 wurde diese dynamische Positionierung in mehreren voneinander deutlich beabstandeten Bereichen eines Wafers 3 wiederholt. navigate. In Fig. 4, this dynamic positioning has been repeated in a plurality of distinctly spaced regions of a wafer 3.
Fig. 5 stellt die Anzeige eine Übersichtsbildes 1 und eines Live-Bildes 7 auf einem Display 10. Das Übersichtsbild 1 ist aus 4 Kacheln zusammengesetzt. Da das Live-Bild 7 jenes ist, welches in der aktuellen Position mit der Kamera aufnehmbar ist, entspricht es dem Sichtfeld der Kamera gemäß Fig. 4. 5 shows the display an overview image 1 and a live image 7 on a display 10. The overview image 1 is composed of 4 tiles. Since the live image 7 is the one which can be accommodated in the current position with the camera, it corresponds to the field of view of the camera according to FIG. 4.
Im Übersichtsbild 1 auf der Anzeige wird mittels eines In the overview screen 1 on the display is by means of a
Fadenkreuzes 11, welches als Cursor dient, das aktuelle Sichtfeld 6 der Kamera, d.h. der inspizierbare Bereich eines Testsubstrats 2 dargestellt. In Fig. 5 ist dies ein Reticle 11, which serves as a cursor, the current field of view 6 of the camera, i. the inspectable area of a test substrate 2 is shown. In Fig. 5, this is a
Ausschnitt aus einem Chip 2. Dementsprechend stellt auch das Live-Bild 7 diesen Ausschnitt dar, jedoch mit einer höheren Auflösung. Soll ein anderer Ausschnitt dargestellt werden, wird im Übersichtsbild 1 durch verschieben des Fadenkreuzes 11 navigiert, bis der gewünschte Ausschnitt im Fadenkreuz 11 liegt. An dieser Stelle wird durch Anklicken mittels des Fadenkreuzes 11 die Kachel 4 aktiviert, die sich unter dem Fadenkreuz befindet. Infolge der Aktivierung der Kachel 4 wird die Bewegungsvorrichtung des Probers (nicht Excerpt from a chip 2. Accordingly, the live image 7 represents this section, but with a higher resolution. If another section is to be displayed, the overview picture 1 is navigated by moving the crosshair 11 until the desired section in the crosshair 11 lies. At this point, the tile 4 is activated by clicking with the crosshair 11, which is located under the crosshair. As a result of the activation of the tile 4, the movement device of the Probers (not
dargestellt) aktiviert und der Chuck wird so positioniert, dass sich die aktivierte Kachel 4 oder eine dynamisch korrigierte Kachel 4 im Sichtfeld der Kamera befindet. displayed) and the chuck is positioned so that the activated tile 4 or a dynamically corrected tile 4 is in the field of view of the camera.
Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten Bezugszeichenliste Übersichtsbild Method for inspecting test substrates Reference symbol overview image
Testsubstrat, Chip Test substrate, chip
Wafer wafer
Einzelbild, Kachel Single picture, tile
Überlappung overlap
Sichtfeld field of view
Anzeige, Display Display, display
Cursor, Fadenkreuz Cursor, crosshair

Claims

Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten Patentansprüche Method for inspection of test substrates Claims
1. Verfahren zur Inspektion von Testsubstraten in einem Prober, welcher einen Chuck zur Aufnahme des Testsubstrats (2), eine Inspektionseinheit mit einer Kamera zur Inspektion des Testsubstrats (2), eine Bewegungsvorrichtung zur A method of inspecting test substrates in a prober comprising a chuck for holding the test substrate (2), an inspection unit with a camera for inspecting the test substrate (2), a moving device for
Bewegung des Chucks und/oder der Inspektionseinheit relativ zueinander, eine Steuereinheit zur Steuerung der  Movement of the chuck and / or the inspection unit relative to each other, a control unit for controlling the
Bewegungsvorrichtung und eine Anzeige zur Darstellung eines mittels der Kamera aufgenommenen Bildes aufweist, folgende Verfahrensschritte umfassend: Moving device and a display for displaying a captured by means of the camera image, comprising the following method steps:
- halten des Testsubstrats (2) auf der Auflagefläche des Chucks und positionieren des Testsubstrats (2) mittels der Bewegungsvorrichtung im Sichtfeld (6) der holding the test substrate (2) on the support surface of the chuck and positioning the test substrate (2) by means of the movement device in the field of vision (6)
Inspektionseinheit, - erzeugen eines Übersichtsbildes (1) von zumindest  Inspection unit, - generate an overview image (1) of at least
einem Abschnitt des Testsubstrats (2) mittels der Kamera, indem eine Mehrzahl von Einzelbildern (4) von besagtem Abschnitt in verschiedenen Positionen des Testsubstrats (2) relativ zum Sichtfeld (6) der  a portion of the test substrate (2) by means of the camera, wherein a plurality of individual images (4) of said portion in different positions of the test substrate (2) relative to the field of view (6) of
Inspektionseinheit aufgenommen und auf der Anzeige zum Inspection unit recorded and displayed on the display
Übersichtsbild (1) zusammengefügt werden, Overview picture (1) can be put together
- speichern jedes Einzelbildes (4) zusammen mit den - Save each frame (4) together with the
Koordinaten der Position, in der es aufgenommen wurde,  Coordinates of the position in which it was taken
- auswählen eines Einzelbildes (4) im Übersichtsbild - Select a single image (4) in the overview image
(1), worauf ein Steuersignal in der Steuereinheit generiert wird zum Anfahren einer mit dem Einzelbild (4) verknüpften Position mittels der  (1), whereupon a control signal is generated in the control unit for approaching a position associated with the single image (4) by means of
Bewegungsvorrichtung und - Anfahren dieser Position und Abbildung des in dieser Position im Sichtfeld (6) der Inspektionseinheit befindlichen Ausschnitts des Testsubstrats (2). Movement device and - Approaching this position and image of the present in this position in the field of view (6) of the inspection unit section of the test substrate (2).
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Koordinaten der mit einem Einzelbild (4) gespeicherten Position korrigiert werden durch ein ganzzahliges Vielfaches einer 2. The method of claim 1, wherein the coordinates of the position stored with a single image (4) are corrected by an integer multiple of a
vordefinierten Schrittweite und die Anzahl der der Korrektur dienenden Schritte aus dem Abstand ermittelt werden, der zwischen einer Position während der Erzeugung des predefined increment and the number of correction steps are determined from the distance that exists between a position during generation of the
Übersichtsbildes (1) und einer aktuell eingestellten, davon abweichenden Position besteht. Overview screen (1) and a currently set, deviating position exists.
3. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei mit den Koordinaten der Position jedes Einzelbildes (4) auch die Skalierung der Einzelbilder (4), insbesondere deren Auflösung gespeichert wird. 3. The method according to any one of the preceding claims, wherein the coordinates of the position of each frame (4) and the scaling of the individual images (4), in particular their resolution is stored.
4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Übersichtsbild (1) ein Testsubstrat (2) vollständig abbildet . 4. The method according to any one of the preceding claims, wherein the overview image (1) completely images a test substrate (2).
PCT/EP2010/068996 2010-02-01 2010-12-06 Method for inspecting structures of test substrates WO2011091894A1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010006607.9 2010-02-01
DE201010006607 DE102010006607A1 (en) 2010-02-01 2010-02-01 Method for inspecting structures of semiconductor devices

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011091894A1 true WO2011091894A1 (en) 2011-08-04

Family

ID=43629167

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2010/068996 WO2011091894A1 (en) 2010-02-01 2010-12-06 Method for inspecting structures of test substrates

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102010006607A1 (en)
WO (1) WO2011091894A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3486639A1 (en) * 2017-11-21 2019-05-22 FormFactor Beaverton, Inc. Method and device for visual representation of electronic semiconductor devices

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6469529B1 (en) * 2000-05-30 2002-10-22 Advanced Micro Devices, Inc. Time-resolved emission microscopy system
DE102004058655A1 (en) * 2004-09-07 2006-03-23 Werth Messtechnik Gmbh Two dimensional coordinate geometry or structure measurement for object, uses image processing, combines partial images to produce results with equidistant pixels
US20080240546A1 (en) * 2007-03-26 2008-10-02 Hong Fu Jin Precision Industry (Shenzhen) Co., Ltd. System and method for measuring digital images of a workpiece

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6469529B1 (en) * 2000-05-30 2002-10-22 Advanced Micro Devices, Inc. Time-resolved emission microscopy system
DE102004058655A1 (en) * 2004-09-07 2006-03-23 Werth Messtechnik Gmbh Two dimensional coordinate geometry or structure measurement for object, uses image processing, combines partial images to produce results with equidistant pixels
US20080240546A1 (en) * 2007-03-26 2008-10-02 Hong Fu Jin Precision Industry (Shenzhen) Co., Ltd. System and method for measuring digital images of a workpiece

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3486639A1 (en) * 2017-11-21 2019-05-22 FormFactor Beaverton, Inc. Method and device for visual representation of electronic semiconductor devices
US11754511B2 (en) 2017-11-21 2023-09-12 Formfactor, Inc. Method and device for optically representing electronic semiconductor components

Also Published As

Publication number Publication date
DE102010006607A1 (en) 2011-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102014206309B4 (en) System and method for obtaining offset images to be used for improved edge resolution
DE102008041523B4 (en) Method for three-dimensional measurement and device for three-dimensional measurement
DE10000690B4 (en) Method for determining the yield influence of process steps for semiconductor wafers
DE112013002826B4 (en) Device operating with a charged particle beam
DE602006000627T2 (en) Three-dimensional measuring method and three-dimensional measuring device
EP2989872B1 (en) Placement apparatus and placement method
DE102011084095A1 (en) Hardness Tester
DE102015209143B4 (en) Method for determining a mapping rule and image-based navigation and device for image-based navigation
DE202019105838U1 (en) Arrangement with a coordinate measuring machine or microscope
DD244415A5 (en) Method for microphotometric examination of microscopic specimens and apparatus for carrying out the method
DE102004020668A1 (en) Apparatus and method for computer tomography
EP2019283A2 (en) Method and device for measuring actual data on a component
EP1450175A2 (en) Method for determining and tracking the position and orientation of a magnetic field sensor
CH709657A1 (en) A method for detecting the presence or absence of disposable pipette tips in the pipette tip carriers.
DE112011104912T5 (en) Using a charged particle microscope and method of image correction therewith
WO2019068519A1 (en) High-resolution confocal microscope
DE112016003308B4 (en) Charged particle beam apparatus and method of alignment adjustment of a sample platform
DE102015115065A1 (en) Teaching placement positions
WO2011091894A1 (en) Method for inspecting structures of test substrates
DE10317778B4 (en) A method of increasing the accuracy of positioning a first object relative to a second object
DE19911944A1 (en) Irradiating arrangement for charged particles for scanning electron microscope, X-ray microanalysis device, etc.
DE102005018896A1 (en) Method for determining the lateral offset of an XYZ table
DE10141423A1 (en) Method and device for checking for pattern errors
EP3809094B1 (en) Method and arrangement for visualising sensor signals of an optical sensor of a coordinate measuring device, and method and arrangement for visualising a sensor of a coordinate measuring device
DE10141422A1 (en) Mask defect inspection method and electron beam exposure apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10788069

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10788069

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1