WO2010098302A1 - Novel epoxy compounds - Google Patents

Novel epoxy compounds Download PDF

Info

Publication number
WO2010098302A1
WO2010098302A1 PCT/JP2010/052693 JP2010052693W WO2010098302A1 WO 2010098302 A1 WO2010098302 A1 WO 2010098302A1 JP 2010052693 W JP2010052693 W JP 2010052693W WO 2010098302 A1 WO2010098302 A1 WO 2010098302A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
bis
bicyclohexane
diene
group
general formula
Prior art date
Application number
PCT/JP2010/052693
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
祐樹 橋本
Original Assignee
本州化学工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 本州化学工業株式会社 filed Critical 本州化学工業株式会社
Priority to JP2011501590A priority Critical patent/JP5551151B2/en
Publication of WO2010098302A1 publication Critical patent/WO2010098302A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/18Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
    • C07D303/20Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
    • C07D303/24Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with polyhydroxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/02Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
    • C08G59/04Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
    • C08G59/06Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
    • C08G59/063Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols with epihalohydrins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/24Di-epoxy compounds carbocyclic
    • C08G59/245Di-epoxy compounds carbocyclic aromatic

Abstract

Epoxy compounds represented by general formula (1) [wherein R1, R2, R3, and R4 are each independently a C1-8 alkyl group, a C1-8 alkoxyl group, or a phenyl group; a, b, c, and d are each independently an integer of 0 to 4; and R5, R6 and R7 are each independently a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group]. The epoxy compounds exhibit improved performances in comparison with those of conventional epoxy resins, particularly, excellent heat -resistance imparting effect, excellent solubility in solvent, and excellent handleability.

Description

新規なエポキシ化合物New epoxy compounds
 本発明は、新規なエポキシ化合物に関し、詳しくは、1,4-ジオキシフェニル-ビシクロヘキセン骨格を有するジオキシラニルアルコキシ化合物に関する。このような本発明によるエポキシ化合物は、分子中心に4つの環状炭化水素基を持ち、分子の両末端にオキシラン基を有するので、耐熱性の反応性化合物として有用である。 The present invention relates to a novel epoxy compound, and more particularly to a dioxiranyl alkoxy compound having a 1,4-dioxyphenyl-bicyclohexene skeleton. Such an epoxy compound according to the present invention is useful as a heat-resistant reactive compound because it has four cyclic hydrocarbon groups at the center of the molecule and oxirane groups at both ends of the molecule.
 従来、エポキシ化合物としては多くの化合物が知られている。近年、電子材料分野などにおいて、従来化合物以上に耐熱性付与性能の向上したエポキシ化合物も要求されてきている。このような要求に応えるものとして、例えば、フェニル基が鎖状に結合したp-ターフェニル骨格やp-クォーターフェニル骨格のような剛直な分子骨格を有するエポキシ化合物は、その耐熱性や低吸水性、難燃性、低熱膨張性から有用であると期待されている。しかしながら、このようなエポキシ化合物、例えば、4,4’’’-ジ(グリシジルオキシ)-p-クォーターフェニル(非特許文献1、Table5,6)は、溶剤溶解性が悪く、融点も高いため、工業的に製造することが困難であり、また、このようなエポキシ化合物を樹脂化する時には高温を要するので取り扱いが難しい。また、同様にp-ターフェニル骨格のエポキシ化合物も融点が高く取り扱いが困難である。
 更に、中心骨格にシクロヘキセニル骨格を有する1-(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)-4-(4-ヒドロキシフェニル)-1-シクロヘキセンのジグリシジルエーテル化合物(特許文献1)も知られているが、このようなエポキシ化合物も耐熱性や機械的強度付与の性能向上は十分ではない。
Conventionally, many compounds are known as epoxy compounds. In recent years, in the field of electronic materials and the like, there has been a demand for epoxy compounds having improved heat resistance performance over conventional compounds. In response to such a demand, for example, an epoxy compound having a rigid molecular skeleton such as a p-terphenyl skeleton or a p-quaterphenyl skeleton having a phenyl group bonded in a chain form has a heat resistance and low water absorption. It is expected to be useful from the viewpoint of flame retardancy and low thermal expansion. However, such an epoxy compound, for example, 4,4 ′ ″-di (glycidyloxy) -p-quaterphenyl (Non-Patent Document 1, Tables 5 and 6) has poor solvent solubility and a high melting point. It is difficult to manufacture industrially, and when such an epoxy compound is made into a resin, high temperatures are required and handling is difficult. Similarly, an epoxy compound having a p-terphenyl skeleton has a high melting point and is difficult to handle.
Furthermore, a diglycidyl ether compound of 1- (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -4- (4-hydroxyphenyl) -1-cyclohexene having a cyclohexenyl skeleton in the central skeleton (Patent Document 1) is also known. However, such an epoxy compound is not sufficient to improve the performance of imparting heat resistance and mechanical strength.
特開2005-206814号公報JP 2005-206814 A
 本発明は、上述した要望に応えるためになされたものであって、従来のエポキシ化合物の性能改良、特に耐熱性付与効果に優れ、しかも溶剤への溶解性に優れ、取り扱い容易なエポキシ化合物を提供することを課題とする。 The present invention has been made to meet the above-mentioned demands, and provides an epoxy compound that is easy to handle and has improved performance of conventional epoxy compounds, particularly excellent heat resistance, and is excellent in solubility in solvents. The task is to do.
 本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討したところ、p-クォーターフェニル骨格のうち、中心の2つのフェニル環をビシクロヘキセン環にすると、p-クォーターフェニル骨格と同じ程度の分子長を維持しながら、意外にも、低融点で溶剤溶解性にも優れた取り扱い易いエポキシ化合物となり、容易に工業的に製造でき、しかもこのようなエポキシ化合物は樹脂原料として機械的強度、可撓性、耐熱性、低吸水性、低熱膨張性、難燃性付与等の性能向上にも優れていることを見出し本発明を完成した。 The inventors of the present invention have intensively studied to solve the above problems. As a result, when the two central phenyl rings in the p-quarterphenyl skeleton are bicyclohexene rings, the molecular length is about the same as that of the p-quarterphenyl skeleton. While maintaining, surprisingly, it becomes an easy-to-handle epoxy compound having a low melting point and excellent solvent solubility, and can be easily industrially manufactured, and such an epoxy compound has mechanical strength, flexibility, The present invention was completed by finding out that it is excellent in performance improvement such as heat resistance, low water absorption, low thermal expansion, and imparting flame retardancy.
 即ち、本発明によるエポキシ化合物は、
一般式1
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
(式中、R1、R2、R3、R4は各々独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又はフェニル基を表し、a、b、c、dは各々独立して0又は1~4の整数を表し、R5、R6、R7は各々独立して水素原子又は炭素原子数1~4のアルキル基を表す。)で表される。
That is, the epoxy compound according to the present invention is
General formula 1
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms or a phenyl group, and a, b, c , D each independently represents 0 or an integer of 1 to 4, and R 5 , R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). .
 また、一般式(1)において、b、cが0である場合の、
一般式2
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
(式中、R1、R4、a、d、R5、R6、R7は一般式1のそれと同じである。)で表されるエポキシ化合物は本発明の好ましい態様である。
In the general formula (1), when b and c are 0,
General formula 2
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
An epoxy compound represented by the formula (wherein R 1 , R 4 , a, d, R 5 , R 6 , R 7 are the same as those in formula 1) is a preferred embodiment of the present invention.
 本発明による新規なエポキシ化合物は、前記一般式(1)で表され、例えば、従来知られている4,4’’’-ジ(グリシジルオキシ)-p-クォーターフェニルにくらべて、対応する原料ビスフェノール類から工業的に容易に製造できる。また、本発明のエポキシ化合物は低融点であるため、樹脂化する時の硬化温度を下げることができるうえ、溶剤溶解性も高く、樹脂原料として取り扱い易い。
 また、2つのシクロヘキセン環の両端にベンゼン環が直線的に結合した4,4'-ジ(フェニル)ビシクロヘキセン骨格であるため、このようなエポキシ化合物を原料としたエポキシ樹脂は機械的強度、可撓性、耐熱性、低吸水性、低熱膨張性、高熱伝導性及び/又は難燃性にすぐれている。
The novel epoxy compound according to the present invention is represented by the above general formula (1) and is, for example, a corresponding raw material as compared with the conventionally known 4,4 ′ ″-di (glycidyloxy) -p-quarterphenyl. It can be easily produced industrially from bisphenols. In addition, since the epoxy compound of the present invention has a low melting point, it can lower the curing temperature when it is made into a resin and has high solvent solubility and is easy to handle as a resin raw material.
In addition, since it has a 4,4′-di (phenyl) bicyclohexene skeleton in which a benzene ring is linearly bonded to both ends of two cyclohexene rings, an epoxy resin using such an epoxy compound as a raw material has a high mechanical strength and good strength. Excellent flexibility, heat resistance, low water absorption, low thermal expansion, high thermal conductivity and / or flame retardancy.
 本発明の下記一般式1
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
で示されるエポキシ化合物において、式中、R1、R2、R3、R4は各々独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又はフェニル基を表す。a、b、c又はdが2以上の場合、R1、R2、R3又はR4はそれぞれ同一でも違っていてもよい。
The following general formula 1 of the present invention
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
In the epoxy compound represented by the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms or a phenyl group. . When a, b, c or d is 2 or more, R 1 , R 2 , R 3 or R 4 may be the same or different.
 炭素原子数1~8のアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基であり、これらのアルキル基には1乃至2のフェニル基等の芳香族炭化水素基が置換していてもよい。好ましくは、炭素原子数1~4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、又は炭素原子数5~8のシクロアルキル基である。
 炭素原子数1~8のアルキル基として具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、また、置換アルキル基としてベンジル基等が挙げられる。
The alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is a linear, branched or cyclic alkyl group, and these alkyl groups are substituted with an aromatic hydrocarbon group such as 1 to 2 phenyl groups. May be. A linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms is preferable.
Specific examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, and substituted alkyl group such as benzyl. Groups and the like.
 また、炭素原子数1~8のアルコキシル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシル基であり、これらのアルコキシル基には1乃至2のフェニル基等の芳香族炭化水素基が置換していてもよい。好ましくは、炭素原子数1~4の鎖状又は分岐鎖状のアルコキシル基、又は炭素原子数5~8のシクロアルコキシル基である。炭素原子数1~8のアルコキシル基として具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、t-ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基等が挙げられる。
 また、R1、R2、R3、R4がフェニル基の場合、フェニル基には1~3個の炭素原子数1~8のアルキル基及び/又は炭素原子数1~8のアルコキシル基が置換していても良い。具体的には、例えば、フェニル基、4-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基などが挙げられる。
In addition, the alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms is a linear, branched or cyclic alkoxyl group, and these alkoxyl groups are substituted with aromatic hydrocarbon groups such as 1 to 2 phenyl groups. You may do it. A chain or branched alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms or a cycloalkoxyl group having 5 to 8 carbon atoms is preferable. Specific examples of the alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, t-butoxy group, cyclohexyloxy group, cyclopentyloxy group and the like.
When R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are phenyl groups, the phenyl group has 1 to 3 alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms and / or alkoxyl groups having 1 to 8 carbon atoms. It may be replaced. Specific examples include a phenyl group, a 4-methylphenyl group, and a 4-methoxyphenyl group.
 また、式中、a、b、c、dは各々独立して0又は1~4の整数を表し、b又はcが2以上の場合は、製造上の容易性、経済性の点からR2又はR3はそれぞれ同一炭素原子に結合していないことが好ましい。また、式中、b、cは上記と同じ理由から同一であることが好ましく、b、cは共に0、1又は2であることが更に好ましい。b、cが共に1又は2である場合、R2、R3は共にアルキル基であることが好ましく、共にメチル基であることが更に好ましい。R2及びR3の置換位置は1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン骨格の1,1'-位以外の位置が好ましく、3,3'位、5,5'位又は3,3',5,5'位であることがより好ましい。
 また、式中、a、dは好ましくは同一であり、更に好ましくはa、dは共に0、1又は2である。a、dが1又は2である場合、そのフェニル核上の置換位置はエーテル基に対してオルソ位であることが好ましい。
In the formula, a, b, c, and d each independently represent 0 or an integer of 1 to 4, and when b or c is 2 or more, R 2 from the viewpoint of ease of production and economy. Or it is preferable that each R < 3 > is not couple | bonded with the same carbon atom. In the formula, b and c are preferably the same for the same reason as described above, and both b and c are more preferably 0, 1 or 2. When b and c are both 1 or 2, R 2 and R 3 are preferably both alkyl groups, more preferably methyl groups. The substitution position of R 2 and R 3 is preferably a position other than the 1,1′-position of the 1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene skeleton, and the 3,3′-position, 5,5′-position or 3 , 3 ′, 5, 5 ′.
In the formula, a and d are preferably the same, and more preferably a and d are both 0, 1 or 2. When a and d are 1 or 2, the substitution position on the phenyl nucleus is preferably ortho to the ether group.
 また、式中、R1、R2、R3、R4の少なくとも一つがフェニル基である場合には難燃性や耐熱性がより向上することが期待されるので好ましい。より好ましくは、R1及びR4のそれぞれ少なくとも一つがフェニル基である場合である。
 また、式中、R5、R6、R7は各々独立して水素原子又は炭素原子数1~4のアルキル基を表す。炭素原子数1~4のアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基が挙げられる。R5、R6、R7としては、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基であり、水素原子又はメチル基がより好ましく、水素原子が最も好ましい。
 また、例えば、一般式(1)においてa及びdが0又は1、b及びcが0、R5~R7が水素原子、R1及びR4が炭素原子数1~3程度のアルキル基の場合、エポキシ化合物が液晶等の分子配向性を有している点で好ましい。
In the formula, it is preferable that at least one of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is a phenyl group, since flame retardancy and heat resistance are expected to be further improved. More preferably, at least one of R 1 and R 4 is a phenyl group.
In the formula, R 5 , R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is, for example, a linear or branched alkyl group, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a t-butyl group. It is done. R 5 , R 6 and R 7 are preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and most preferably a hydrogen atom.
Further, for example, in the general formula (1), a and d are 0 or 1, b and c are 0, R 5 to R 7 are hydrogen atoms, and R 1 and R 4 are alkyl groups having about 1 to 3 carbon atoms. In this case, the epoxy compound is preferable in that it has molecular orientation such as liquid crystal.
 従って、本発明による前記一般式(1)で表せるエポキシ化合物について、好ましい態様としては、
 一般式(1)において、b、cが0である場合の、
一般式2
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000006
(式中、R1、R4、a、d、R5、R6、R7は一般式1のそれと同じである。)で表されるエポキシ化合物であり、より好ましい態様としては、R5、R6、R7が共に水素原子である場合の、
一般式3
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000007
(式中、R1、R4、a、d、は一般式1のそれと同じである。)で表されるエポキシ化合物である。
Therefore, for the epoxy compound represented by the general formula (1) according to the present invention, as a preferred embodiment,
In the general formula (1), when b and c are 0,
General formula 2
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000006
(Wherein R 1 , R 4 , a, d, R 5 , R 6 and R 7 are the same as those in general formula 1), and a more preferred embodiment is R 5 , R 6 and R 7 are both hydrogen atoms,
General formula 3
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000007
(Wherein R 1 , R 4 , a and d are the same as those in general formula 1).
 かかるエポキシ化合物としては、例えば、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-フェニルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000008
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000009
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-エチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-イソプロピルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-t-ブチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-シクロヘキシルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3,5-ジメチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-2,5-ジメチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-イソプロピル-5-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-メトキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-シクロヘキシルオキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-フェニルフェニル)-3,3'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-メチルフェニル)-3,3'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)-3,3'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4-(4-グリシジルオキシ-3-フェニルフェニル)-4'-(4-グリシジルオキシ-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-フェニルフェニル)-5,5'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-(2-メチルオキシラニルメトキシ)-3-フェニルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-(2-メチルオキシラニルメトキシ)-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-(2-メチルオキシラニルメトキシ)フェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン等が挙げられる。
As such an epoxy compound, for example,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-phenylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000008
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000009
4,4′-bis (4-glycidyloxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-ethylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-isopropylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-tert-butylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-cyclohexylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3,5-dimethylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-2,5-dimethylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-isopropyl-5-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-methoxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-cyclohexyloxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-phenylphenyl) -3,3′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) -3,3′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxyphenyl) -3,3′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4- (4-glycidyloxy-3-phenylphenyl) -4 ′-(4-glycidyloxy-3-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-phenylphenyl) -5,5′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4- (2-methyloxiranylmethoxy) -3-phenylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4- (2-methyloxiranylmethoxy) -3-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
Examples include 4,4′-bis (4- (2-methyloxiranylmethoxy) phenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene.
 本発明による前記一般式(1)で表されるエポキシ化合物は、その製造方法については特に制限はなく、公知の製造方法、例えば、一般式(4)で表されるビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類と一般式(5)で表されるハロゲン化アルキルオキシランとを4級アンモニウム塩及び/又は塩基の存在下に反応させる方法が挙げられる。
一般式(4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000010
(式中、R1、R2、R3、R4、a、b、c、dは一般式(1)のそれと同じである。)
一般式(5)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000011
(式中、R5、R6、R7は一般式(1)のそれと同じであり、Xはハロゲン原子を表す。)
 Xは好ましくは塩素原子、臭素原子である。
The production method of the epoxy compound represented by the general formula (1) according to the present invention is not particularly limited. For example, bis (4-hydroxyphenyl) represented by the general formula (4) is known. Examples thereof include a method in which bicyclohexenes and a halogenated alkyloxirane represented by the general formula (5) are reacted in the presence of a quaternary ammonium salt and / or a base.
General formula (4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000010
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , a, b, c and d are the same as those in the general formula (1).)
General formula (5)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000011
(In the formula, R 5 , R 6 and R 7 are the same as those in the general formula (1), and X represents a halogen atom.)
X is preferably a chlorine atom or a bromine atom.
 次に、前記一般式(4)のビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類と一般式(5)のハロゲン化アルキルオキシランとを4級アンモニウム塩及び/又は塩基の存在下に反応させて本発明による一般式(1)で表されるエポキシ化合物を製造する方法について、更に詳しく説明する。 Next, the bis (4-hydroxyphenyl) bicyclohexene of the general formula (4) and the halogenated alkyloxirane of the general formula (5) are reacted in the presence of a quaternary ammonium salt and / or a base. The method for producing the epoxy compound represented by the general formula (1) according to the above will be described in more detail.
 一般式(1)で表されるエポキシ化合物を得るには、そのエポキシ化合物の構造に対応する上記一般式(4)で表されるビス(ヒドロキシフェニル)化合物を原料として用いればよい。従って、上記一般式(4)で表されるビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類としては、例えば、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-エチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-イソプロピルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-t-ブチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-シクロヘキシルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-2,5-ジメチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-シクロヘキシルオキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-3,3'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)-3,3'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,3'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4-(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-4'-(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン、
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-5,5'-ジメチル-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン等を挙げることができる。
In order to obtain the epoxy compound represented by the general formula (1), a bis (hydroxyphenyl) compound represented by the general formula (4) corresponding to the structure of the epoxy compound may be used as a raw material. Therefore, as the bis (4-hydroxyphenyl) bicyclohexenes represented by the general formula (4), for example,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-isopropylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-cyclohexyloxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -3,3′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) -3,3′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4,4′-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
4- (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -4 ′-(4-hydroxy-3-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene,
Examples include 4,4′-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -5,5′-dimethyl-1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene.
 このようなビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類は、その製造法について、特に制限はないが、特開2000-034248号公報、WO2004/035513号公報等の公知の方法に準じて、例えば、4,4'-ビシクロヘキサノン類にフェノール類を反応させて目的物に対応する4,4,4',4'-テトラヒドロキシフェニル-ビシクロヘキサン類を得、得られたビシクロヘキサン類100重量部に対し100~800重量部程度のテトラエチレングリコール等の反応溶媒中、前記ビシクロヘキサン類100重量部に対し0.1~15重量部程度の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ触媒の存在下に180℃~250℃程度の温度において、常圧乃至減圧下に熱分解を行い、溜出物が溜出しなくなった時点を熱分解反応の終点とし、反応終了後、得られた反応混合物から、晶出等の方法により目的のビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類を純度よく製造することができる。
 或いはまた、特開昭58-140028号公報に記載の方法に準じて、目的の原料ビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセンに対応する4,4'-ビシクロヘキサンジオン類と4-アルコキシベンゼンマグネシウムブロミド類とを反応させて4,4'-ビス(4-アルコキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン類を合成し、その後、得られたビス(4-アルコキシフェニル)類のアルコキシル基のアルキル基を公知の方法、例えば、三臭化ホウ素で脱離させて水素原子に置換することによっても目的のビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類を得ることができる。前記ビス(4-アルコキシフェニル)類の合成の際には4-アルコキシベンゼンマグネシウムブロミド類は2種類以上用いてもよい。
The production method of such bis (4-hydroxyphenyl) bicyclohexenes is not particularly limited, but according to known methods such as JP-A No. 2000-034248 and WO 2004/035513, for example, 4,4′-bicyclohexanone is reacted with phenols to obtain 4,4,4 ′, 4′-tetrahydroxyphenyl-bicyclohexane corresponding to the target product, and 100 parts by weight of the resulting bicyclohexane is added. In the presence of an alkali catalyst such as sodium hydroxide or potassium hydroxide in an amount of about 0.1 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of the bicyclohexane in a reaction solvent such as about 100 to 800 parts by weight of tetraethylene glycol. At a temperature of about 180 ° C to 250 ° C, when pyrolysis is performed under normal or reduced pressure, The end point of decomposition reaction, after completion of the reaction, from the reaction mixture obtained, the desired bis (4-hydroxyphenyl) bicycloalkyl cyclohexenes can be good purity prepared by the process of crystallization or the like.
Alternatively, according to the method described in JP-A-58-140028, 4,4′-bicyclohexanedione corresponding to the target raw material bis (4-hydroxyphenyl) bicyclohexene and 4-alkoxybenzene magnesium bromide And 4,4′-bis (4-alkoxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene, and then the resulting bis (4-alkoxyphenyl) The desired bis (4-hydroxyphenyl) bicyclohexenes can also be obtained by removing the alkyl group of the alkoxyl group from a known method such as boron tribromide and replacing it with a hydrogen atom. Two or more types of 4-alkoxybenzene magnesium bromides may be used in the synthesis of the bis (4-alkoxyphenyl) s.
 また、一般式(1)で表されるエポキシ化合物を得るもうひとつの原料である一般式(5)で表されるハロゲン化アルキルオキシランとしては、例えば、クロルメチルオキシラン(エピクロルヒドリン)、ブロモメチルオキシラン、2-クロロメチル-2-メチルオキシラン(β-メチルエピクロルヒドリン)、2-ブロモメチル-2-メチルオキシラン、2-クロロメチル-3-メチルオキシラン、2-クロロメチル-2-メチル-3-エチルオキシラン、2-クロロメチル-2,3-ジメチルオキシラン等が挙げられる。これらの化合物は単独で用いてもよく、また、必要に応じ、その二種以上を用いることもできる。 Examples of the halogenated alkyloxirane represented by the general formula (5), which is another raw material for obtaining the epoxy compound represented by the general formula (1), include chloromethyloxirane (epichlorohydrin), bromomethyloxirane, 2-chloromethyl-2-methyloxirane (β-methylepichlorohydrin), 2-bromomethyl-2-methyloxirane, 2-chloromethyl-3-methyloxirane, 2-chloromethyl-2-methyl-3-ethyloxirane, 2 -Chloromethyl-2,3-dimethyloxirane and the like. These compounds may be used alone, or two or more of them may be used as necessary.
 また、反応に際しての一般式(5)のハロゲン化アルキルオキシランの使用量としては、それ自体を溶媒として使用することもでき、原料ビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類1モルに対し、通常2~100モル倍、好ましくは2~50モル倍の範囲で用いられる。 In addition, the amount of the halogenated alkyloxirane of the general formula (5) used in the reaction can be used as a solvent itself, and is usually 2 per 1 mol of the raw material bis (4-hydroxyphenyl) bicyclohexene. It is used in a range of ˜100 mol times, preferably 2 to 50 mol times.
 塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等のアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等の無機塩、ピリジン、トリエチルアミン等の有機アミンを挙げることができる。4級アンモニウム塩としては、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド等を挙げることができる。塩基性化合物及び4級アンモニウム塩の使用量としては、原料ビス(4-ヒドロキシフェニル)ビシクロヘキセン類1モルに対して、通常0.05~1モル倍、好ましくは0.1~0.5モル倍の範囲で用いられる。テトラブチルアンモニウムブロミド等の4級アンモニウムハライド存在下で反応を開始し、反応途中、原料ビシクロヘキセン類が消失したところで、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基を追加添加する反応方法が好ましい。 Examples of the basic compound include alkali metal and alkaline earth metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, etc. And inorganic salts such as alkali metal carbonates, and organic amines such as pyridine and triethylamine. Examples of the quaternary ammonium salt include tetrabutylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium chloride and the like. The amount of the basic compound and the quaternary ammonium salt used is usually 0.05 to 1 mol, preferably 0.1 to 0.5 mol, per mol of the raw material bis (4-hydroxyphenyl) bicyclohexene. Used in double range. A reaction method in which a reaction is started in the presence of a quaternary ammonium halide such as tetrabutylammonium bromide, and an additional inorganic base such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or sodium carbonate is added when the raw material bicyclohexene disappears during the reaction. Is preferred.
 また、原料ビシクロヘキセン類が消失したところで追加添加する無機塩基の量としては、原料ビシクロヘキセン類1モルに対して、通常、0.1~10モル倍、好ましくは1~5モル倍である。
 これらの塩基性化合物は、そのまま用いてもよく、また、水溶液として用いることもできる。
 また、反応に際し、必要に応じ、溶媒を用いてもよい。
Further, the amount of the inorganic base to be added when the raw material bicyclohexene disappears is usually 0.1 to 10 moles, preferably 1 to 5 moles per mole of the raw material bicyclohexene.
These basic compounds may be used as they are or as an aqueous solution.
In the reaction, a solvent may be used as necessary.
 有機溶媒としては、例えば、n-ペンタン、n-ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、親水性溶媒として、メタノール、エタノール、n-プロパノール、n-ブタノールなどのアルコール類、エチレングリコール、トリメチレングリコールなどのグリコール類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどの脂肪族ケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどの脂肪族ニトリル類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどの脂肪族エーテル類、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフランなどの脂環式エーテル類、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドンなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの溶媒は単独でも、また、2種以上を混合して用いてもよい。 Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons such as n-pentane and n-hexane, alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and ethylbenzene, and hydrophilic solvents. Alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol and n-butanol, glycols such as ethylene glycol and trimethylene glycol, aliphatic ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone and methyl isobutyl ketone, acetonitrile, propionitrile, etc. Aliphatic nitriles, aliphatic ethers such as dimethyl ether and diethyl ether, alicyclic ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like Amides, such as dimethyl sulfoxide. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
 溶媒の使用量は、原料ビシクロヘキセン類1重量部に対して、通常、0.1~50重量部、好ましくは1~20重量部である。
 反応温度は、通常20~100℃であり、好ましくは30℃~70℃である。反応は常圧条件下で実施してもよいし、減圧条件下で実施してもよい。反応時間は液体クロマトグラフィーなどの測定により追跡することができ、通常、10~30時間の範囲で完結する。更に、ハロゲン化アルキルオキシランと塩基性化合物の供給終了後、エポキシ化反応を完了させるために、必要に応じて、20~100℃、好ましくは、30~70℃で1~5時間程度、反応系を攪拌下に保持する。
The amount of the solvent used is usually 0.1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 20 parts by weight per 1 part by weight of the raw material bicyclohexene.
The reaction temperature is usually 20 to 100 ° C., preferably 30 to 70 ° C. The reaction may be carried out under normal pressure conditions or under reduced pressure conditions. The reaction time can be monitored by measurement such as liquid chromatography, and is usually completed in the range of 10 to 30 hours. Further, after completion of the supply of the halogenated alkyloxirane and the basic compound, in order to complete the epoxidation reaction, if necessary, the reaction system is 20 to 100 ° C., preferably 30 to 70 ° C. for about 1 to 5 hours. Is kept under stirring.
 反応終了後、得られた反応終了混合液から目的のエポキシ化合物を結晶として単離する方法は、常法に従い、例えば、反応終了後、反応系を冷却し、反応終了混合液に蒸留水及び必要に応じて上記した溶媒を加え、撹拌した後、系中に存在するハロゲン化アルカリ塩、ハロゲン化アルキルオキシランを除去し、更に必要ならば中和を行い、析出している結晶を濾別して取り出す。また、結晶を濾別せずに一旦溶解させてから晶析し、結晶を濾別して取り出してもよい。結晶の純度が低い等、必要ならば、晶析又は沈殿を1回~複数回行って更に精製してもよい。 After completion of the reaction, the method for isolating the desired epoxy compound as crystals from the resulting reaction mixture is, for example, cooling the reaction system after completion of the reaction, and using distilled water and the reaction mixture after the reaction. Depending on the conditions, the above-mentioned solvent is added and stirred, and then the alkali halide salt and halogenated alkyloxirane present in the system are removed. If necessary, neutralization is performed, and the precipitated crystals are separated by filtration. Alternatively, the crystals may be dissolved once without being filtered and then crystallized, and the crystals may be filtered out. If necessary, for example, the purity of the crystals is low, crystallization or precipitation may be performed once to several times for further purification.
 本発明を実施例により、更に詳しく説明する。 The present invention will be described in more detail with reference to examples.
実施例1
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエンの合成
 撹拌装置を備えた300mLの四つ口フラスコに4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン(4H-DHQP-DM)10.0gとテトラブチルアンモニウムブロミド1.7g、エピクロロヒドリン74.1gを仕込み、系内を窒素ガスで置換した後、50℃で12時間撹拌した。その反応液に水酸化ナトリウム3.2gを加えて更に12時間撹拌した。反応終了後、トルエン30gと蒸留水40gを加え、30℃で1時間撹拌後、析出している結晶を濾別した。得られた結晶を50℃で減圧乾燥して白色粉末状の4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-メチルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン11.7gを得た。得られた化合物について示差走査熱量測定を行ったところ、146℃と227℃の2箇所に吸熱ピークがあることが確認された。
Example 1
Synthesis of 4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene 4,4 ′ was added to a 300 mL four-necked flask equipped with a stirrer. -10.0 g of bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) -1,1'-bicyclohexane-3,3'-diene (4H-DHQP-DM) and 1.7 g of tetrabutylammonium bromide, epichlorohydrin After charging 74.1 g and replacing the system with nitrogen gas, the mixture was stirred at 50 ° C. for 12 hours. To the reaction solution, 3.2 g of sodium hydroxide was added and further stirred for 12 hours. After completion of the reaction, 30 g of toluene and 40 g of distilled water were added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 1 hour, and the precipitated crystals were separated by filtration. The obtained crystals were dried at 50 ° C. under reduced pressure and 4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene in the form of white powder. 7 g was obtained. When differential scanning calorimetry was performed on the obtained compound, it was confirmed that there were endothermic peaks at two locations of 146 ° C and 227 ° C.
  収率:90%(対4H-DHQP-DM)
  純度:93%(高速液体クロマトグラフィー法による)
  融点:146℃(示差走査熱量測定法による)
  プロトンNMR測定結果(400MHz、CDCl3
  1.36-1.51(m,4H)、2.00(br,4H)、2.25(s,6H)、2.30-2.50(m,6H)、2.78(dd,2H)、2.90(t,2H)、3.37(m,2H)、3.97(dd,2H)、4.21(dd,2H)、6.03(s,2H)、6.75(d,2H)、7.14-7.19(m,4H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000012
Yield: 90% (vs. 4H-DHQP-DM)
Purity: 93% (according to high performance liquid chromatography method)
Melting point: 146 ° C. (by differential scanning calorimetry)
Proton NMR measurement result (400 MHz, CDCl 3 )
1.36-1.51 (m, 4H), 2.00 (br, 4H), 2.25 (s, 6H), 2.30-2.50 (m, 6H), 2.78 (dd, 2H), 2.90 (t, 2H), 3.37 (m, 2H), 3.97 (dd, 2H), 4.21 (dd, 2H), 6.03 (s, 2H), 6. 75 (d, 2H), 7.14-7.19 (m, 4H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000012
参考例1
4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエンの合成
 還流器及び滴下ロートを備えた2L容量の四つ口フラスコに、o-フェニルフェノール603.1g、メタノール27.8g、トルエン60.3g及びドデシルメルカプタン7.8gを仕込み、塩酸ガスで容器内を置換した後、フラスコ内温を40~45℃に保ちながらo-フェニルフェノール77.7g、メタノール50g、1,1'-ビシクロヘキサン-4,4'-ジオン77.7gの混合液を1時間かけてフラスコ内に滴下して、撹拌下に反応を行った。滴下終了後、撹拌下に更に40~45℃で6時間反応した。反応終了後、16%水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。次いで、この溶液にトルエン、メチルイソブチルケトン、メタノールを添加して混合した後、水層を除去した。得られた油層に水を加えて60℃で撹拌して水洗した後、水層を除去する操作を数回行った。フラスコに備えた還流器を留出管に付け替え、水洗後の油層を濃縮後、これに48%水酸化ナトリウム水溶液6.0g、テトラエチレングリコール50gを加えて200℃まで昇温後、同温を保ちながら内圧が20mmHgになるまで減圧し、同温で、生成したo-フェニルフェノールを留出させながら、8時間30分撹拌下に反応を行った。得られた残渣液を冷却後、酢酸、メチルイソブチルケトン及び水を加えて中和し、その後水層を抜き取った。次いで得られた油層に水を加えて撹拌して水洗した後、水層を除去する操作を2回行い、水洗後の油層を濃縮した後、トルエンを加えて室温下まで冷却し、析出した結晶を濾別・乾燥して純度95%(高速液体クロマトグラフィーによる)の4,4'-ビス(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン82.1gを得た。
Reference example 1
Synthesis of 4,4′-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene In a 2 L four-necked flask equipped with a reflux condenser and a dropping funnel, o-Phenylphenol 603.1 g, methanol 27.8 g, toluene 60.3 g and dodecyl mercaptan 7.8 g were charged, the inside of the container was replaced with hydrochloric acid gas, and o-phenyl was maintained at a temperature of 40 to 45 ° C. A mixture of 77.7 g of phenol, 50 g of methanol, and 77.7 g of 1,1′-bicyclohexane-4,4′-dione was dropped into the flask over 1 hour, and the reaction was carried out with stirring. After completion of the dropwise addition, the reaction was further continued at 40 to 45 ° C. for 6 hours with stirring. After completion of the reaction, the mixture was neutralized by adding a 16% aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, toluene, methyl isobutyl ketone, and methanol were added to and mixed with this solution, and then the aqueous layer was removed. After adding water to the obtained oil layer, stirring at 60 ° C. and washing with water, the operation of removing the water layer was performed several times. The reflux unit provided in the flask was replaced with a distillation pipe, and the oil layer after washing with water was concentrated. To this, 6.0 g of 48% sodium hydroxide aqueous solution and 50 g of tetraethylene glycol were added, and the temperature was raised to 200 ° C. While maintaining the pressure, the pressure was reduced to 20 mmHg, and the reaction was carried out with stirring for 8 hours and 30 minutes while distilling the produced o-phenylphenol at the same temperature. The resulting residue was cooled, neutralized by adding acetic acid, methyl isobutyl ketone and water, and then the aqueous layer was extracted. Next, after adding water to the obtained oil layer, stirring and washing with water, the operation of removing the aqueous layer was carried out twice, and after concentrating the oil layer after washing with water, the solution was cooled to room temperature with toluene and precipitated crystals The product was filtered off and dried to give 4,4′-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene 82 having a purity of 95% (according to high performance liquid chromatography). 0.1 g was obtained.
実施例2
4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-フェニルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエンの合成
 撹拌装置を備えた300mLの四つ口フラスコに参考例1で得られた4,4'-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン(4H-DHQP-DP)10.0gとテトラブチルアンモニウムブロミド0.8g、エピクロロヒドリン55.5gを仕込み、系内を窒素ガスで置換した後、50℃で15時間撹拌した。その反応液に水酸化カリウム3.4gを加えて更に3時間撹拌した。反応終了後、トルエン30gと蒸留水40gを加えて30℃で1時間撹拌後、析出している結晶を濾別して、結晶にトルエン20g、蒸留水20gで順に注いで洗浄した。得られた結晶を50℃で減圧乾燥して白色粉末状の4,4'-ビス(4-グリシジルオキシ-3-フェニルフェニル)-1,1'-ビシクロヘキサン-3,3'-ジエン10.3gを得た。
Example 2
Synthesis of 4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-phenylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene In a 300 mL four-necked flask equipped with a stirrer, Reference Example 1 10.0 g of 4,4′-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene (4H-DHQP-DP) obtained and tetrabutylammonium bromide 0 .8 g and epichlorohydrin 55.5 g were charged, and the system was replaced with nitrogen gas, followed by stirring at 50 ° C. for 15 hours. To the reaction solution, 3.4 g of potassium hydroxide was added and further stirred for 3 hours. After completion of the reaction, 30 g of toluene and 40 g of distilled water were added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 1 hour. The precipitated crystals were separated by filtration, and washed with 20 g of toluene and 20 g of distilled water. The obtained crystals were dried at 50 ° C. under reduced pressure and 4,4′-bis (4-glycidyloxy-3-phenylphenyl) -1,1′-bicyclohexane-3,3′-diene in the form of white powder. 3 g was obtained.
  収率:84%(対4H-DHQP-DP)
  純度:98%(高速液体クロマトグラフィー法)
  融点:186℃(示差走査熱量測定法)
  プロトンNMR測定結果(400MHz、CDCl3
  1.38-1.52(m,4H)、2.03(br,4H)、2.28-2.55(m,6H)、2.66(dd,2H)、2.79(t,2H)、3.25(m,2H)、3.97(dd,2H)、4.19(dd,2H)、6.10(s,2H)、6.93(d,2H)、7.25-7.34(m,4H)、7.38-7.43(m,6H)、7.55(d,4H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013
Yield: 84% (vs. 4H-DHQP-DP)
Purity: 98% (high performance liquid chromatography method)
Melting point: 186 ° C (differential scanning calorimetry)
Proton NMR measurement result (400 MHz, CDCl 3 )
1.38-1.52 (m, 4H), 2.03 (br, 4H), 2.28-2.55 (m, 6H), 2.66 (dd, 2H), 2.79 (t, 2H), 3.25 (m, 2H), 3.97 (dd, 2H), 4.19 (dd, 2H), 6.10 (s, 2H), 6.93 (d, 2H), 7. 25-7.34 (m, 4H), 7.38-7.43 (m, 6H), 7.55 (d, 4H)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013

Claims (2)

  1.  一般式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
    (式中、R1、R2、R3、R4は各々独立して炭素原子数1~8のアルキル基、炭素原子数1~8のアルコキシル基又はフェニル基を表し、a、b、c、dは各々独立して0又は1~4の整数を表し、R5、R6、R7は各々独立して水素原子又は炭素原子数1~4のアルキル基を表す。)で表されるエポキシ化合物。
    General formula (1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
    (Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 8 carbon atoms or a phenyl group, and a, b, c , D each independently represents 0 or an integer of 1 to 4, and R 5 , R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). Epoxy compound.
  2.  一般式(1)において、b、cが0である場合の一般式(2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
    (式中、R1、R4、a、d、R5、R6、R7は一般式1のそれと同じである。)で表される請求項1記載のエポキシ化合物。
    In the general formula (1), when b and c are 0, the general formula (2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
    The epoxy compound of Claim 1 represented by (In formula, R < 1 >, R < 4 >, a, d, R < 5 >, R < 6 >, R < 7 > is the same as that of General formula 1.).
PCT/JP2010/052693 2009-02-24 2010-02-23 Novel epoxy compounds WO2010098302A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011501590A JP5551151B2 (en) 2009-02-24 2010-02-23 New epoxy compounds

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009040446 2009-02-24
JP2009-040446 2009-02-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010098302A1 true WO2010098302A1 (en) 2010-09-02

Family

ID=42665509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/052693 WO2010098302A1 (en) 2009-02-24 2010-02-23 Novel epoxy compounds

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5551151B2 (en)
WO (1) WO2010098302A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102234256A (en) * 2010-04-30 2011-11-09 本州化学工业株式会社 Novel diepoxide

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004035513A1 (en) * 2002-10-17 2004-04-29 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. Novel 4,4'-dihydroxyphenyl-bicyclohexene
JP2005206814A (en) * 2003-12-24 2005-08-04 Sumitomo Chemical Co Ltd Epoxy compound and epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy compound
JP2005247809A (en) * 2004-03-08 2005-09-15 Honshu Chem Ind Co Ltd 4,4'''-dihydroxy-p-quarterphenyls and method for producing the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004035513A1 (en) * 2002-10-17 2004-04-29 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. Novel 4,4'-dihydroxyphenyl-bicyclohexene
JP2005206814A (en) * 2003-12-24 2005-08-04 Sumitomo Chemical Co Ltd Epoxy compound and epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy compound
JP2005247809A (en) * 2004-03-08 2005-09-15 Honshu Chem Ind Co Ltd 4,4'''-dihydroxy-p-quarterphenyls and method for producing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102234256A (en) * 2010-04-30 2011-11-09 本州化学工业株式会社 Novel diepoxide
CN102234256B (en) * 2010-04-30 2014-12-10 本州化学工业株式会社 Novel diepoxide

Also Published As

Publication number Publication date
JP5551151B2 (en) 2014-07-16
JPWO2010098302A1 (en) 2012-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5662695B2 (en) Novel diepoxy compounds
JP5931239B2 (en) Process for producing trisphenols and monoester-substituted products thereof, and 4-acylaralkylphenol derivatives
JP2000026349A (en) 9,9-bis(alkyl substituted-4-hydroxyphenyl)fluorene and its production
JP2006160663A (en) Method for producing 1,1&#39;-bis(2-hydroxynaphthyl)
JP5551151B2 (en) New epoxy compounds
JP6068204B2 (en) New trisphenol compounds
JP6205349B2 (en) Novel bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexenes
KR102357570B1 (en) New bis(hydroxyalkoxyphenyl)diphenylmethanes
JP6190256B2 (en) Novel bis (hydroxyphenyl) benzoxazole compounds
JP2009107991A (en) New hydroxymethyl-substituted or alkoxymethyl-substituted bisphenol compound
JP4020517B2 (en) Asymmetric cyclohexylidene polyhydric phenols and process for producing the same
KR101426971B1 (en) Novel bis(formylphenyl)alkane and novel polynuclear phenol derived from the same
JP2011046623A (en) New epoxy compound
KR101856566B1 (en) New preparation method of 4&#39;-Hydroxy-4-biphenylcarboxylic acid
JP4115450B2 (en) Novel 4,4&#39;-dihydroxyphenyl-bicyclohexenes
JP5377935B2 (en) Novel dihydroxy quarterphenyl compounds and raw material compounds thereof
JP4829927B2 (en) 4,4 &#34;&#34;-Dihydroxy-P-quarterphenyls and process for producing the same
JP5525206B2 (en) New biscyclohexenylalkanes
JP4022381B2 (en) Novel 4-substituted cyclohexenylphenols
JP2009155327A (en) New method for producing 2-hydroxyethyloxyamine compound
JP4388839B2 (en) 4,4 &#34;&#34;-Dialkoxy-P-quarterphenyls and process for producing the same
JP6017363B2 (en) Novel diepoxy compounds
JP2004002265A (en) New aromatic diamine and method for producing the same
JP2018172310A (en) Novel diepoxy compound
JP2004231533A (en) New 4,4&#39;&#39;-dialkoxyterphenyl compound

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10746183

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2011501590

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10746183

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1