WO2009153219A3 - Appareil et procédé permettant d'alimenter un milieu de processus - Google Patents

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Abstract

L'appareil (1) selon l'invention destiné à réguler un flux de milieu de processus (2) à alimenter vers un dispositif consommateur de milieu de processus (28) qui comporte : a) une voie de milieu de processus (3) au moyen de laquelle une source de milieu de processus (27) peut être connectée au dispositif consommateur de milieu de processus (28), et b) une voie de gaz de commande (4) au moyen de laquelle une pression de gaz de commande peut être accumulée avec un gaz de commande, ladite voie de milieu de processus (3) comportant un régulateur de pression pneumatique (5) dont l'entrée de commande (6) est connectée à la voie de gaz de commande (4), lesdits moyens (7) permettant de réguler la pression du gaz de commande étant représentés par des modes de réalisation, se distingue par le fait que les moyens (7) permettant de réguler la pression du gaz de commande comportent une vanne d'alimentation (8) permettant de connecter la voie de gaz de commande (4) à une source de pression de gaz de commande (9) et une soupape de refoulement (10) pour abaisser la pression dans la voie de gaz de commande (4). L'appareil (1) selon l'invention et le procédé selon l'invention permettent avantageusement une régulation précise du débit de milieu de processus (2) d'une source de milieu de processus (27) à un dispositif consommateur de milieu de processus (28) en utilisant des moyens simples. Du fait de l'utilisation des vannes magnétiques (8, 10, 19) telles que, par exemple, la vanne magnétique directionnelle à 5/3 voies (19) pour accroître ou abaisser la pression du gaz de commande dans une voie de gaz de commande (4), la régulation correspondante peut être même utilisée dans des zones présentant un risque d'explosion, telles que, par exemple, dans les salles ultra-blanches, dans les implanteurs (18) et les éléments similaires.
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