WO2009041816A3 - Procédé servant à configurer un disque dur - Google Patents

Procédé servant à configurer un disque dur Download PDF

Info

Publication number
WO2009041816A3
WO2009041816A3 PCT/NL2008/050620 NL2008050620W WO2009041816A3 WO 2009041816 A3 WO2009041816 A3 WO 2009041816A3 NL 2008050620 W NL2008050620 W NL 2008050620W WO 2009041816 A3 WO2009041816 A3 WO 2009041816A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
hard disk
patterning
disk medium
top layer
center point
Prior art date
Application number
PCT/NL2008/050620
Other languages
English (en)
Other versions
WO2009041816A2 (fr
Inventor
Jager Pieter Willem Herman De
Diederik Jan Maas
Jacob Frederik Friso Klinkhamer
Antonius Gerardus Theo Bastein
Sjoerd Oostrom
Original Assignee
Tno
Jager Pieter Willem Herman De
Diederik Jan Maas
Klinkhamer Jacob Frederik Fris
Antonius Gerardus Theo Bastein
Sjoerd Oostrom
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tno, Jager Pieter Willem Herman De, Diederik Jan Maas, Klinkhamer Jacob Frederik Fris, Antonius Gerardus Theo Bastein, Sjoerd Oostrom filed Critical Tno
Publication of WO2009041816A2 publication Critical patent/WO2009041816A2/fr
Publication of WO2009041816A3 publication Critical patent/WO2009041816A3/fr

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/743—Patterned record carriers, wherein the magnetic recording layer is patterned into magnetic isolated data islands, e.g. discrete tracks
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/82—Disk carriers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/86—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
    • G11B5/865—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers by contact "printing"

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

L'invention concerne un procédé servant à configurer un disque dur et consistant à appliquer un traitement lithographique à une couche supérieure résistante du disque dur, ladite couche étant exposée à un faisceau composé de multiples petits faisceaux secondaires optiques ou électroniques. Les points focaux de ces faisceaux secondaires multiples sont, de préférence, situés à des distances radiales différentes d'un point central du disque dur et, dans un mode de réalisation préféré, sur une ligne s'étendant du point central du disque dur à un bord de celui-ci.
PCT/NL2008/050620 2007-09-25 2008-09-25 Procédé servant à configurer un disque dur WO2009041816A2 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US97492707P 2007-09-25 2007-09-25
US60/974,927 2007-09-25

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2009041816A2 WO2009041816A2 (fr) 2009-04-02
WO2009041816A3 true WO2009041816A3 (fr) 2009-05-22

Family

ID=39941818

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/NL2008/050620 WO2009041816A2 (fr) 2007-09-25 2008-09-25 Procédé servant à configurer un disque dur

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2009041816A2 (fr)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5587223A (en) * 1992-10-19 1996-12-24 Board Of Trustees Leland Stanford, Jr. University High density magnetic information storage medium
US6133986A (en) * 1996-02-28 2000-10-17 Johnson; Kenneth C. Microlens scanner for microlithography and wide-field confocal microscopy
WO2004021083A1 (fr) * 2002-08-27 2004-03-11 Obducat Ab Dispositif de transfert d'un motif sur un objet
US20050064297A1 (en) * 2003-09-22 2005-03-24 Koichi Wago Rotary apertured interferometric lithography (RAIL)
EP1801655A2 (fr) * 2005-12-20 2007-06-27 ASML Netherlands B.V. Appareil lithographique et procédé de fabrication d'un dispositif utilisant une unité d'exposition interférométriques et une unité d'exposition sans masque

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5587223A (en) * 1992-10-19 1996-12-24 Board Of Trustees Leland Stanford, Jr. University High density magnetic information storage medium
US6133986A (en) * 1996-02-28 2000-10-17 Johnson; Kenneth C. Microlens scanner for microlithography and wide-field confocal microscopy
WO2004021083A1 (fr) * 2002-08-27 2004-03-11 Obducat Ab Dispositif de transfert d'un motif sur un objet
US20050064297A1 (en) * 2003-09-22 2005-03-24 Koichi Wago Rotary apertured interferometric lithography (RAIL)
EP1801655A2 (fr) * 2005-12-20 2007-06-27 ASML Netherlands B.V. Appareil lithographique et procédé de fabrication d'un dispositif utilisant une unité d'exposition interférométriques et une unité d'exposition sans masque

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHANG, MANKOS, LEE, MURAY: "Multiple electron-beam lithography", MICROELECTRONIC ENGINEERING, vol. 57-58, September 2001 (2001-09-01), pages 117 - 135, XP002503925 *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009041816A2 (fr) 2009-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007142788A3 (fr) RÉsine photosensible pour ablation laser
TW200604609A (en) Method for manufacturing a master, master, method for manufacturing optical elements and optical element
GB2450265B (en) Aberration evaluation pattern,aberration evaluation method,aberration correction method,electron beam drawing apparatus,electron microscope,master,stamper
WO2005094320A3 (fr) Procede de separation de couches de materiau
ATE511195T1 (de) Verfahren zur herstellung eines kondensators und kondensator
WO2010065252A3 (fr) Procédés de fabrication de substrats
TW200639269A (en) Plating method
EP2200023B8 (fr) Procédé de codage de signal multicanal, appareil et programme pour les procédés, support d' enregistrement doté du programme stocké sur celui-ci.
WO2009085564A3 (fr) Gravure à l'aide d'un masque de réserve à vitesse de gravure élevée
NO20063648L (no) Fremgangsmate for fjerning av et belegg
WO2006063098A8 (fr) Procede de realisation de motifs degages par enlevement local au moyen d'energie de couches de gaz condense en etat solide
WO2008084517A1 (fr) Système, procédé et programme pour générer une courbe de route
WO2008140817A3 (fr) Codage de type de donnees pour transfert independant du support
WO2008081555A1 (fr) Procédé de fabrication d'un réseau de diffraction du type blazé
WO2009018217A3 (fr) Matériaux réticulables de manière non covalente pour des processus de photolithographie
WO2008052080A3 (fr) Procédé de codage, de compression et de transmission de données pour la lithographie sans masque
WO2007074153A3 (fr) Procede de relaxation d'une couche mince contrainte
IN2012DN02446A (fr)
WO2008140553A3 (fr) Inhibiteurs de la kinase mapk/erk
EA200801451A1 (ru) Способ получения продукта в конденсированной фазе из одного или нескольких газофазных реагентов
EP3975167A4 (fr) Instrument de musique électronique, procédé de commande pour instrument de musique électronique, et support de stockage
WO2009041816A3 (fr) Procédé servant à configurer un disque dur
WO2009104910A3 (fr) Structure de liaison et procédé de liaison de substrats à l'aide de cette structure
EP1763023A3 (fr) Support d'enregistrement d'informations et appareil de disque optique
WO2008100915A3 (fr) Formation de masques/réticules ayant des éléments fictifs

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08832912

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 08832912

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2