WO2008105390A1 - Solution de revêtement pour couche de formation d'image pour matériau de plaque d'impression planographique, procédé de production de matériau de plaque d'impression planographique et matériau de plaque d'impression planographique - Google Patents
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Abstract
L'invention concerne une solution de revêtement pour une couche de formation d'image pour un matériau d'impression planographique, qui est utilisée pour la formation d'une couche de formation d'image pour un matériau de plaque d'impression planographique qui comprend un substrat hydrophile et une couche de formation d'image agencée sur le substrat, comprenant une résine de liaison alcalino-soluble, et ayant une solubilité dans les alcalis variable lorsqu'il est exposé à un laser proche infrarouge. La solution de revêtement est caractérisée en ce qu'elle contient un composé hydrofluoroéther représenté par la formule générale (1) en tant que solvant. La solution de revêtement présente une excellente capacité d'application lorsqu'elle est utilisée dans la formation d'une couche de formation d'image et permet d'obtenir un matériau de plaque d'impression planographique ayant une forte sensibilité et une excellente stabilité au stockage.
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JP2007-046896 | 2007-02-27 | ||
JP2007046896 | 2007-02-27 |
Publications (1)
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PCT/JP2008/053252 WO2008105390A1 (fr) | 2007-02-27 | 2008-02-26 | Solution de revêtement pour couche de formation d'image pour matériau de plaque d'impression planographique, procédé de production de matériau de plaque d'impression planographique et matériau de plaque d'impression planographique |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014153567A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Fuji Xerox Co Ltd | 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11119418A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線レーザー用ポジ型感光性組成物 |
WO2001085811A2 (fr) * | 2000-05-05 | 2001-11-15 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Copolymères pour photorésines et procédés afférents |
US20040058551A1 (en) * | 2002-09-23 | 2004-03-25 | Meagley Robert P. | Fluorous cleaning solution for lithographic processing |
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2008
- 2008-02-26 WO PCT/JP2008/053252 patent/WO2008105390A1/fr active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11119418A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線レーザー用ポジ型感光性組成物 |
WO2001085811A2 (fr) * | 2000-05-05 | 2001-11-15 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Copolymères pour photorésines et procédés afférents |
US20040058551A1 (en) * | 2002-09-23 | 2004-03-25 | Meagley Robert P. | Fluorous cleaning solution for lithographic processing |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014153567A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Fuji Xerox Co Ltd | 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 |
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