WO2007014779A3 - Einrichtung zur behandlung von substraten, insbesondere zur galvanisierung von leiterplatten, und verfahren - Google Patents

Einrichtung zur behandlung von substraten, insbesondere zur galvanisierung von leiterplatten, und verfahren Download PDF

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Abstract

Bei einer Galvanisiereinrichtung (11) für Substrate (16) wie Leiterplatten oder Solarmodule ist vorgesehen, dass auf einer an sich starr und unbeweglich gelagerten Welle (22) Transportrollen (20) sitzen und die Substrate tragen. Diese starr gelagerte Welle (22) ist drehmomentübertragend mit einem beweglichen Wellenabschnitt (32) gekoppelt, auf dem eine Kontaktierrolle (30) sitzt. Über eine Verschiebeeinrichtung (36) kann lediglich der bewegliche Wellenabschnitt (22) mit der Kontaktierrolle (30) abgehoben werden. Durch Anlegen umgekehrt gepolten Stromes kann eine ungewünschte angelagerte Beschichtung entfernt werden.
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