WO2006001326A1 - Method for producing n-carbonyl saturated heterocyclic rings and synthetic intermediate thereof - Google Patents

Method for producing n-carbonyl saturated heterocyclic rings and synthetic intermediate thereof Download PDF

Info

Publication number
WO2006001326A1
WO2006001326A1 PCT/JP2005/011514 JP2005011514W WO2006001326A1 WO 2006001326 A1 WO2006001326 A1 WO 2006001326A1 JP 2005011514 W JP2005011514 W JP 2005011514W WO 2006001326 A1 WO2006001326 A1 WO 2006001326A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
substituted
compound
general formula
force
Prior art date
Application number
PCT/JP2005/011514
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Tomori
Narumi Abe
Kenji Susa
Keijiro Kobayashi
Takashi Takita
Fumihiko Toriyama
Original Assignee
Sankyo Company, Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sankyo Company, Limited filed Critical Sankyo Company, Limited
Publication of WO2006001326A1 publication Critical patent/WO2006001326A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/06Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms

Definitions

  • the present invention relates to a novel process for producing a N I> -carbo saturated heterocyclic ring
  • novel compounds for the production of nil-saturated heterocycles are provided.
  • N-carbonyl saturated heterocycles are useful as intermediates for the production of neurocun antagonists (see Patent Document 1).
  • N-alkyl or N-sulfonyl-protected chain compound ring-closing reaction N-alkyl or sulfonyl group is deprotected, and then nitrogen atom is carbo-cyclic. It was necessary to hesitate (Non-Patent Documents 1, 2 and 3).
  • this method has not been suitable as a method for producing an industrial N-carbo saturated heterocyclic ring having a large number of steps.
  • Another method is, for example, by Mitsunobu reaction using jetyl azodicarboxylate (DEAD) and triphenylphosphine (Ph P) to produce N-tert-butoxycarbol-chain dithio
  • DEAD jetyl azodicarboxylate
  • Ph P triphenylphosphine
  • Non-Patent Document 4 A method of synthesizing a corresponding N-carbonyl saturated heterocyclic ring from the above-mentioned (reaction formula below) is known (see Non-Patent Document 4 and Non-Patent Document 5).
  • TBDMS is tert-butyldimethylsilyl
  • Boc is tert-ptoxyca It is a report.
  • ketyl hydrazine dicarboxylate and triphenylphosphine oxide are produced as by-products, which interfere with the separation and purification of the target product, and thus are industrial N-carbohydrate. Not suitable for the production of saturated heterocycles o
  • Patent Document 1 US Patent No. 6511975 Specification
  • Non-Patent Document 1 Y. Jinbo et al, J. Med. Chem., 37, 2791 (1994)
  • Non-Patent Document 2 G. Bettoni, et al "Tetrahedron, 36, 409 (1980)
  • Non-Patent Document 3 R. A. Firestone, et al "J. Med. Chem., 27, 1037 (1984)
  • Non-Patent Document 4 T. Nishi et al., Tetrahedron: Asymmetry, 9, 3251 (1998)
  • Non-Patent Document 5 T. Nishi et al "Bioorg. Med. Chem. Lett., 10, 1665 (2000) Disclosure of the Invention
  • the present invention provides:
  • R 1 is a hydrogen atom, a C—C alkoxy group, or a substituent group j8.
  • R 1 represents a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 selected groups
  • R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms
  • R 3 represents hydrogen.
  • C represents a arylaryloxy group
  • G 1 represents a C — C alkylene group
  • G 2 represents
  • G 3 is a C — C alkylene group, a C — C alkenylene group
  • the substituent group is a hydroxyl group, a C—C alkoxy group,
  • C—C represents a group that is also a halogenated alkyl group and tetrazolylca, and substituent group j8 is
  • the preferred method is
  • (2) is a C—C alkoxy group or a substituent group ⁇ force is selected from 1 to 3 groups selected
  • R 1 is substituted with 1 to 3 groups in which substituent group a force is also selected and may be a phenol group;
  • R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms
  • R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group
  • G 3 is a C 1 -C alkylene group
  • R 3 may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group j8 force C— C
  • R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms
  • R 3 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a CC haloalkanesulfonyloxy group, C
  • G 3 represents a C—C alkylene group, a C—C alkenylene group or a C—C
  • the substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, and a C—C alkyl group.
  • R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C alkoxy group, a substituent group ⁇ force selected 1 to 3
  • a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 selected groups G 2 represents a single bond or a methylene group, X represents a hydroxyl group, a C—C alkyl carboxy-oxy group, C —C
  • 1 4 1 4 represents a alkoxycarbonyl-oxy group or a halogen atom
  • the substituent group a represents a group consisting of a hydroxyl group, a C 1 -C alkoxy group, a C—C halogenated alkyl group, and a tetrazolyl group.
  • G 3 has the same meaning as described above.
  • a compound having the general formula (1) is represented by the following general formula (2)
  • R 1 is a C—C alkoxy group or a substituent group ⁇ force of 1 to 3 groups selected
  • a substituted which may be a full group
  • (15) is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups, the substituent group ⁇ force of which is also selected,
  • R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms
  • R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group
  • G 3 is a C—C alkylene group
  • R 3 force is a hydrogen atom
  • G 3 is a bur group
  • R 2 represents a phenyl group substituted with I or two halogen atoms
  • R 3 represents a hydroxyl group, a C—C haloalkane sulfo-loxy group, or a C—C alkane.
  • 1 6 2 3 represents an alkylene group
  • the substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group, and
  • a compound having a C-halogen alkyl group) or a salt thereof is a compound having a C-halogen alkyl group.
  • 1 6 2 3 represents an alkylene group, a C—C alkenylene group or a C—C alkynylene group, a substituent group
  • a is a hydroxyl group, a C C alkoxy group, a C C halogenated alkyl group and tetrazolyl
  • the substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and
  • c represents a group consisting of C halogenated alkyl groups.
  • (35) is a C—C alkoxy group or a substituent group ⁇ force of 1 to 3 groups selected
  • a compound which is substituted or may be a full group is substituted or may be a full group
  • R 1 is substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group a force, but is a phenol group, and R 2 is 1 or 2 fluorine atoms or chlorine
  • R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group
  • G 1 is ethylene
  • G 2 is a single bond
  • G 3 is ethylene
  • R 1 is selected from a hydrogen atom, a C 1 -C alkoxy group, and a substituent group ⁇ 1 to 3
  • R 1 represents a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 selected groups
  • R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms
  • G 1 represents C 1 — Represents a C alkylene group
  • G 2 represents a single bond or a methylene group
  • G 3 represents a C—C alkylene group
  • G 4 represents> C
  • the substituent group ⁇ is a hydroxyl group, C — C alkoxy group, C — C
  • 1 4 represents a group consisting of an alkyl group, a rogynyl alkyl group and a tetrazolyl group.
  • R 3 represents a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C—C haloalkanesulfo-loxy group, a C—C alkanesulfo-loxy group.
  • 6 10 represents an arylsulfonyloxy group
  • the substituent group j8 represents a group consisting of a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C alkyl group, and a C C halogenated alkyl group.
  • R 1 G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 and Y are a CC haloalkane sulfo-loxy group, a C—C alkane sulfo-loxy group, or
  • Substituent group j8 may also be substituted with one to three selected groups C—C aryls
  • 6 10 represents a sulfonyloxy group
  • the substituent group j8 is a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C alkyl
  • a group consisting of 14 groups and a C C halogenated alkyl group is shown. Is converted to a compound having
  • the substituent group j8 is a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and a C—C halo.
  • the preferred method is
  • (46) is a C—C alkoxy group or a substituent group ⁇ force of 1 to 3 groups selected
  • a substituted which may be a full group
  • R 1 is a phenyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group a force
  • a C—C aralkyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from Substituent group a may also be substituted with 1 to 3 groups which may also be selected, such as a “phenol group”, “a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms”, “protected” Hydroxyl group ”,“ C — C
  • Group j8 may also be substituted with 1 to 3 groups optionally selected C — C arylsulfonylsulfonylurea
  • C 1 -C alkoxy group in the definition of R 1 and substituent group a is, for example, methoxy
  • R 1 is preferably ethoxy or tert-butoxy
  • the substituent group a is preferably a C—C alkoxy group ( More preferably, it is methoxy or isopropoxy)
  • R 1 the C — C aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group ⁇
  • the aryl moiety is selected as the substituent group j8 force.
  • benzyloxy is particularly preferably methoxy), preferably benzyloxy optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group ⁇ .
  • benzyloxy or -trobenzyloxy most preferably benzyloxy.
  • the "substituent group ⁇ force forceful phenyl group optionally substituted by 1 to 3 groups" in the definition of R 1 is preferably a phenyl, 3-isopropoxyphenol- 3, 4, 5-trimethoxyphenyl or 3,5-bis (trifluoromethyl) phenol, particularly preferably 3, 4, 5-trimethoxyphenyl or 3,5— Bis (trifluoromethyl) file is most preferable, and 3, 4, 5-trimethoxy file is most preferable.
  • the halogen atom in the “phenyl group substituted with two halogen atoms” is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • substituent group 8 a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom is preferable, and a chlorine atom is more preferable.
  • X a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable, and a chlorine atom is particularly preferable.
  • the "phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms" in the definition of R 2 is preferably a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms. More preferably 4-fluorophenyl, 4-chlorophenyl, 3,4-difluorophenyl or 3,4-dicyclophenyl, and even more preferably 3,4-difluorophenyl or 3 , 4-dichlorophenol, particularly preferably 3,4-dichloromethane.
  • Protected hydroxyl group in the definition of R 3 is a hydroxyl group generally protected with a protecting group for a hydroxyl group in the field of synthetic organic chemistry, such as tert-butyl, 1, C-C branched chain alkyl groups such as 1-dimethylpropyl, 1,1,2-trimethylpropyl or 1,1-dimethylbutyl; C such as aryl or 1-methyl-2-probe
  • Ril isobutyryl, bivaloyl, valeryl, isovaleryl, otatanyl, nonanoyl, decanol, 3-methylnonanoyl, 8-methylnonanoyl, 3-ethylotatanyl, 3, 7-dimethyloctanoyl, undecanol, dodecanol, tridecanol, tridecanol, tridecanol , Pentadecanol, hexadecanol, 1-methylpentadecanol, 14-methylpentadecanol, 13,13 dimethyltetradecanol, heptadecanol, 15-methylhexadecanol, octadecanol, 1-methylheptadecanol, nonadecanol, or nonadecanol, C-C alkanoyl groups such as henecosanol; chloroacetyl, di
  • C-C halogeno such as chloroacetyl, trichloroacetyl or trifluoroacetyl
  • Unsaturated alkanoyl groups such as 2-methyl-2-butenoyl; C—C arylcarbonyl groups such as benzoyl, 1-naphthoyl or 2-naphthoyl; 2-bromobenzoyl
  • C—C alkylated C—C aryls such as trimethylbenzoyl or P-toluoyl
  • C—C-alkyl such as tilethyl, 1 ethoxyethyl or 1 (isopropoxy) ethyl
  • 1 to 4 Calkoxy modified yl groups 1 to 3 C—C aryl and C— such as benzyl, 1 naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl or 1 naphthyl (diphenyl) methyl
  • Aralkyl group consisting of C alkyl; (4-methoxyphenol)
  • C-C alkyl or C-C alkoxy groups such as-(l) diphenylmethyl, bis (4-methoxyphenyl) phenylmethyl, diphenyl (p-tolyl) methyl, tri (p-tolyl) methyl
  • C — C alkoxycarbo group such as ethoxycarbol, tert butoxycarboro or isobutoxycarbol; C—C such as 2, 2, 2-trichloro-orthoethoxycarbo
  • silyl isopropyldimethylsilyl, tertbutyldimethylsilyl, diisopropylmethylsilyl, ditertbutylmethylsilyl, triisopropylpropylsilyl, methyldiphenylsilyl, butyldiphenylsilyl, isopropyldiphenylsilyl, or diisopropylphenylsilyl
  • a silyl group preferably a C—C branched alkyl group; tetrahydride
  • a C aralkyl group more preferably tetrahydropyran-2-yl, triphenyl
  • Tyl trimethylsilyl or tert butyldimethylsilyl, particularly preferably tetrahydropyran-2-yl or triphenylmethyl.
  • C—C alkanesulfo-loxy group in the definition of R 3 is preferably methanesulfur
  • C—C haloalkanesulfo-loxy group in the definition of R 3 is the above-mentioned "halogen"
  • substituted group ⁇ -force may be substituted with 1 to 3 groups optionally substituted C—C arylaryl-sulfoxy group
  • the aryl moiety is a substituent group
  • a C—C arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 groups
  • a benzenesulfo-loxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group ⁇ force, and more preferred is benzenesulfo-loxy, 2 12 Trobenzene senorephonino reoxy, 4 or 12 trobenzene senorephonino reoxy, 4 black mouth benzene sulfonyloxy, 4 methylbenzene sulfonyloxy or 4 trifluro Romethylbenzenesulfoxy-oxy, particularly preferably 4-chlorobenzene sulfonyloxy.
  • C-C alkylene group in the definition of G 1 is, for example, methylene, ethylene, trimethyl
  • Preferred is ethylene
  • C—C alkylene group in the definition of G 3 means ethylene, trimethylene or propylene
  • R 3 is preferably a hydroxyl group, protected water
  • 6 10 is an arylsulfonyloxy group.
  • C 3 -C alkenylene group in the definition of G 3 means vinylene, 1 propenylene or 2
  • G 3 is C -C Alkenile
  • R 3 is preferably a hydrogen atom.
  • C—C alkylene group in the definition of G 3 is ethylene, 1-propylene or
  • G 3 is C-C
  • R 3 is preferably a hydrogen atom.
  • C—C halogeni ⁇ alkyl group in the definition of substituent group a and substituent group ⁇ is:
  • C—C alkyl group in the definition of substituent group ⁇ means methyl, ethyl, propyl,
  • the leaving group in the definition of Y is, for example, a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; methoxycarboxoxy or ethoxycarboxoxy.
  • C—C haloalkanes such as ruoxy or pentafluoroethanesulfo-luoxy
  • a sulfo-loxy group or benzene sulfo-loxy, 2--trobenzene sulfoloxy, 4-12 trobenzenesulfonyloxy, 4-chlorobenzenesulfonyloxy, 4 methylbenzenesulfonyloxy or 4 trifluoromethyl
  • Substituent group such as benzenesulfonyloxy ⁇ force optionally substituted with 1 to 3 selected groups
  • It can be a 6 C arylsulfoloxy group, preferably methanesulfoloxy, tri
  • the salt of the compound having the general formula (4) and the salt of the compound having the general formula (4 ′), and the pharmacologically acceptable salt of the compound having the general formula (5) are, for example, hydrochloride, sulfate Or an inorganic acid salt such as a phosphate; or an organic acid salt such as acetate, oxalate, fumarate or succinate, and may have the general formula (4) or (4 ')
  • the salt of the compound having a preferable salt is a hydrochloride, sulfate or oxalate, and the compound having the general formula (5)
  • the pharmacologically acceptable salt of the product is preferably hydrochloride or fumarate.
  • the present invention is carried out according to the following ⁇ Method A>.
  • the first step is a step of producing compound (1) by reacting compound (4) or a salt thereof with compound (5) in an inert solvent in the presence of a base.
  • the base used is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction, for example, N-methylmorpholine, trimethylamine, triethylamine, trippyramine, tributylamine, N, N diisopropyl ester. Tyramine, dicyclohexylamine, N-methylbiperidine, N-methylpyrrolidine, pyridine, 4-pyrrolidinopyridin, picoline, 4 dimethylaminopyridine, 2,6-di (tert-butyl) 4-methylpyridin, imidazole, N-methyl Imidazole, quinoline, N, N dimethylaline, N, N — jetinorealine, 1, 5 diazabicyclo [4. 3.
  • nona 5 hen DBN
  • DBN nona 5 hen
  • DBU 1,8 diazabicyclo [5.4.0] unde force—7-ene
  • Chiruamin ⁇ beauty N an N-diisopropyl E chill ⁇ Min, particularly preferably a Toryechiruamin.
  • the reaction can be achieved by reacting with a “condensing agent” in the presence or absence of the base in a solvent.
  • the condensing agents used are phosphate esters such as jetyl phosphoryl cyanide and diphenyl phosphoryl cyanide; 1,3 dicyclohexylcarbodiimide, 1,3 diisopropylcarbodiimide, 3- (3 dimethylamino) Propyl) carbodiimides such as 11 ethyl carbodiimide; carbonyl diimides and N —Hydroxysuccinimide, 1-hydroxybenzotriazole, combinations with N hydroxys such as N-hydroxy-5-norbornene-1,3-dicarboximide; N, N, 1-disuccinimidinocarbonate, di-2-pyridyl Carbonates, carbonates such as S, S, monobis (1 ferro 1H-tetrazol-5 yl) dithiocarbonate;
  • the second step is a step of producing the compound (2) by converting the primary hydroxyl group of the compound (1) into a leaving group Y in the presence or absence of a base in an inert solvent.
  • Inert solvents used are, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, lignin or petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; methylene chloride Or halogenated hydrocarbons such as chlorohonolem, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black benzene or dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or decyl carbonate; Ethers such as ter, diisopropyl ether, tert butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl methyl ketone, isobutyl
  • Bases used are, for example, alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; alkali earths such as calcium hydroxide or barium hydroxide Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metals such as calcium carbonate or barium carbonate Carbonates; alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxide, lithium ether Sid, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert butoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide or alkali metal alkoxides such as potassium tert butoxide; or N-methylmorpholine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, Tribut
  • DBN nona 5
  • DABCO Jazabishi Black [2.2.2] Octane
  • DBU unde force
  • alkali metal hydroxides particularly preferably hydroxy Sodium or potassium hydroxide.
  • the amount of the base used is preferably 2 equivalents to 60 equivalents, more preferably 10 equivalents to 25 equivalents, relative to 1 equivalent of compound (4). Or can be added gradually.
  • the particle size is preferably 425 ⁇ m or less, more preferably 212 m or less, and particularly preferably 180 m or less. .
  • the corresponding halide is used as a reagent for forming the leaving group Y, and as such a reagent, methanesulfuryl chloride, benzenesulfuryl chloride, 4-methylbenzenesulphoninorechloride, 4-chlorobenzenes Honinole chloride, 2-nitrobenzenesulfur chloride or 4-trobenzenesulfuryl chloride, particularly preferably 4-chlorobenzenesulfonyl chloride.
  • the reaction temperature is preferably 40 ° C to 0 ° C (more preferably 35 ° C to 25 ° C or — 5 ° C to 0 ° C, particularly preferably —35 ° C to —25 ° C
  • the reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, and is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 2 hours).
  • the third step is a step of producing compound (3) by cyclizing compound (2) in the presence of a base in an inert solvent.
  • Inert solvents used are, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, lignin or petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; methylene chloride , Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloro ethane, chlorobenzene, or dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate Such esters; ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, tert butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane
  • Bases used are, for example, alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; alkali earths such as calcium hydroxide or barium hydroxide Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metals such as calcium carbonate or barium carbonate Carbonates; alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxide, lithium ethoxide Sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert-butoxide, potassium methoxide, potassium Alkali metal alcoholates Kishido, such as Umuetokishido or potassium tert-butoxide; or N- methylmorpholine, Torimechiruamin, Toriechir
  • Organic amines such as octane (DABCO) or 1,8 diazabicyclo [5.4.0] Unde force 7-en (DBU), preferably alkali metal hydroxides, particularly preferred Is sodium hydroxide or potassium hydroxide.
  • DABCO octane
  • DBU Unde force 7-en
  • the amount of the base used is preferably 2 equivalents to 60 equivalents, more preferably 10 equivalents to 25 equivalents, relative to 1 equivalent of compound (4). Or can be added gradually.
  • the particle size is preferably 425 ⁇ m or less, more preferably 212 m or less, and particularly preferably 180 m or less. .
  • the reaction temperature is usually -40 ° C to 20 ° C (preferably -40 ° C to 0 ° C, more preferably -35 ° C to -25 ° C or -5 ° C to 0 °. C, particularly preferably -35 ° C to -25 ° C), and the reaction time varies depending on the reaction temperature, etc., but usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 6 hours) It is.
  • Compound (1) and compound (2) can be obtained by continuously performing the first, second and third steps without isolation.
  • a novel Kyun receptor antagonist [compound ( 5 )] can be produced by reacting the compound (3) according to the following method.
  • Substituent group j8 represents a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and C—C.
  • This step is a step for producing compound (5) by reacting compound (3) and compound (6) in the presence of a base in an inert solvent.
  • the inert solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent.
  • Aliphatic hydrocarbons such as; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; halogenated carbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chloroform or dichlorobenzene Hydrogens; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate; jetyl ether, diisopropyl ether, tert butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether
  • ethers acetone, ethyl
  • the base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction.
  • alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate or lithium carbonate
  • calcium carbonate Or alkaline earth metal carbonates such as barium carbonate
  • alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or lithium hydrogen carbonate
  • alkali metal hydrogen such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride
  • alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or lithium hydroxide
  • alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide or barium hydroxide
  • N-methylmorpholine triethylamine, tripropylamine , Tributylamine, N, N diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, N-methylbiperidine
  • pyridine 4-pyrrolidinopyridine, picoline, 4 dimethylaminopyridine, 2,6 di (tert-
  • organic carbonates such as undecaker 7 (DBU), preferably inorganic bases, most preferably alkali metal hydrogen carbonates It is.
  • DBU undecaker 7
  • organic bases preferably inorganic bases, most preferably alkali metal hydrogen carbonates It is.
  • an alkali metal iodide such as potassium iodide or sodium iodide.
  • the reaction temperature may be, for example, 0 ° C to 150 ° C, and preferably 20 ° C to 120 ° C.
  • the reaction time can vary from 30 minutes to 48 hours, and preferably 1 hour to 12 hours, depending mainly on the reaction temperature, the raw material compound, the reaction reagent or the type of inert solvent used. .
  • the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method.
  • the obtained compound can be separated and purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation, or silica gel force chromatography.
  • the optically active form of compound (4) that is, compound (4 ′
  • the optically active form of compound (1), compound (2) and compound (3) is obtained.
  • the optically active form of compound (5) can be produced by carrying out the reaction according to ⁇ Method> using the optically active form of compound (3).
  • a compound in which R 3 is a hydroxyl group and G 3 is an ethylene group can be produced by, for example, the following method C.
  • the fourth step is a step of producing a 3-butene-1-ol compound (8) by reacting the propene derivative (7) with paraformaldehyde.
  • This step can be carried out according to the method of Okachi et al. (Organic Letters 2002, 4, 1667-1669) or a trifluoroborane complex compound (for example, trifluoroborane; trifluoroborane 'methyl ether complex).
  • Trifluoroboranes such as trifluoroborane ⁇ ethyl ether complexes, trifluoroborane ⁇ n -butyl ether complexes. C -C alkyl ether complexes; trifluoroborane 'methylsulfide
  • Trifluoroborane 'C—C alkylsulfide complexes such as complexes; or trifluorobora
  • alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium bicarbonate or potassium bicarbonate
  • Alkali metal carbonates such as lithium hydride, alkali metal hydrides such as sodium hydride or potassium hydride; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxy , Lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert butoxide, strong alkali metal alkoxides such as methoxide, potassium ethoxide or potassium tert butoxide; or N-methylmorpholine, triethylamine, tribu
  • the reaction is carried out in an inert solvent (e.g. aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate).
  • an inert solvent e.g. aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate.
  • Esters such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyric-tolyl; or dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black benzene, dichlorobenzene, trichloromethylolene benzene or It may be a halogenated hydrocarbon such as trifluoromethylbenzene, preferably a halogenated hydrocarbon, and more preferably dichloromethane.
  • -tolyls such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyric-tolyl
  • dichloromethane chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black benzene, dichlorobenzene, trichloromethylolene benzene or It may be a halogenated hydrocarbon such as trifluoromethylbenzene, preferably a halogenated hydrocarbon, and more
  • the amount of paraformaldehyde used is 1.0 to 10.0 equivalents (preferably 1.0 to 2.0 equivalents) relative to 1 equivalent of the propene derivative (7).
  • the amount of borane complex compound is 1.0 to 10.0 equivalents per 1 equivalent of propene derivative (7) (
  • the amount of the base used is preferably 0.1 equivalent to 1.0 equivalent (preferably 0 equivalent) to 1 equivalent of the propene derivative (7). 3 equivalents to 0.8 equivalents).
  • the reaction temperature is usually 10 ° C to 20 ° C (preferably 5 ° C to 5 ° C), and the reaction time is usually 1 hour to 20 hours (preferably 1 hour to 8 ° C). Time).
  • the fifth step is a step for producing compound (9) by asymmetric epoxidation of 3-butene-1-ol compound (8).
  • This step is carried out according to the method of Okachi et al. (Organic Letters 2003, 5, 85-87), or in an inert solvent, molecular sieves and zirconium (IV) alkoxide (for example, zirconium (IV) ethoxide, zirconium (IV) propoxide, zirconium (IV) isopropoxide, zirconium (IV) butoxide or zirconium (IV) tert butoxide, preferably zirconium (IV) isopropoxide or zirconium (IV) tert butoxide And an optically active tartaric acid diester (eg, dimethyl tartrate, decyl tartrate, diisopropyl tartrate, dibutyl tartrate or di tert butyl tartrate tartrate) in the presence of an asymmetric catalyst (eg,
  • the inert solvent used is, for example, an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene; an ester such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or ethyl carbonate; methylene chloride Halogenated hydrocarbons such as black mouth form, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black mouth benzene and dichlorobenzene; Ethers such as tellurium, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, or diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone or methylethyl ketone; Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons and halogenated hydrocarbons, and particularly preferable is toluene.
  • an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene
  • an ester such
  • the amount of molecular sieve used is 0.02 to 1 times the weight of the 3 butene 1 ol compound (8), preferably 0.05 to 0.15 times the weight.
  • the amount of zirconium (IV) alkoxide used is 0.01 to 1 equivalent, preferably 0.1 to 0.5 equivalent, relative to 1 equivalent of 3-butene-1-ol compound (8).
  • the amount of the optically active tartaric acid diester used is 0.02 to 2.2 equivalents, preferably 0.21 to 1.1 equivalents, relative to 1 equivalent of the 3 butene 1 ol compound (8).
  • the amount of the oxidizing agent used is preferably 0.5 to 10 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, with respect to 1 equivalent of 3 butene 1-ol compound (8). It is.
  • the reaction temperature is usually 0 ° C to 80 ° C (preferably 10 ° C to 30 ° C), and the reaction time is usually 1 hour to 5 days (preferably 2 hours). 2 days).
  • the asymmetric epoxy compound (9) and the amino alcohol compound (10) are combined with an inert solvent (for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; Esters such as acetyl, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate; halogenated like methylene chloride, black mouth form, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black mouth benzene or dichloro mouth benzene Hydrocarbons; ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone or methyl ethyl ketone; acetonitrile, propio-tolyl or isobutyl -Tolyls such as -Tolyl; Formamide, N-butyl
  • the reaction temperature is usually -20 ° C to 150 ° C (preferably 30 ° C to 80 ° C), and the reaction time is usually 10 minutes to 3 days (preferably 30 ° C). Minutes to 1 day).
  • the compound (4), the compound (4 ′), the compound (4′a), the compound (5) and the optically active substance thereof may be an acid (the acid is, for example, hydrogen chloride, sulfuric acid or phosphoric acid) as desired. Or an organic acid such as acetic acid, oxalic acid, fumaric acid, or succinic acid), and a salt or pharmacologically acceptable. Can lead to salt.
  • the acid is, for example, hydrogen chloride, sulfuric acid or phosphoric acid
  • an organic acid such as acetic acid, oxalic acid, fumaric acid, or succinic acid
  • a salt or pharmacologically acceptable can lead to salt.
  • N-carbonyl saturated heterocycles that have been difficult to synthesize in the past can be obtained industrially in high yield.
  • the enantiomeric excess in each example was a value based on analysis by high performance liquid chromatography (HPLC), and the enantiomeric excess was analyzed under the conditions of the following "HPLC conditions".
  • the organic layer was concentrated, 50 ml of toluene and 25 ml of 5% sodium bicarbonate solution were added, and the organic layer was separated. Next, the separated organic layer was concentrated to 30 ml and stirred at 50 ° C. for 1 hour. Ethylcyclohexane (10 ml) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After cooling to 20 to 25 ° C. and stirring for 1 hour, the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were dried under reduced pressure at 50 ° C. for 15 hours to obtain 7.24 g of the title compound (purity 99.0%, yield 79.8%).
  • toluene was adjusted to a cask liquid volume of 120 ml, and 90 ml of ethanol was added.
  • 16.6 g (97.2 mmol) of lithium perchlorate trihydrate and 19.6 ml (326.5 mmol) of 2 aminoethanol were added and refluxed for 7 hours.
  • 210 ml of toluene and 120 ml of water were added for extraction, and the organic layer was washed with 120 ml of water. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure.

Abstract

Disclosed is a novel method for producing N-carbonyl saturated heterocyclic rings. Also disclosed are an intermediate thereof, a method for producing such an intermediate, and use of the N-carbonyl saturated heterocyclic rings. Specifically disclosed is a method expressed by the following reaction scheme. (R1: H, an alkoxy, optionally substituted phenyl or the like, R2: a halogen-substituted phenyl, R3: H, OH or the like, G1: an alkylene, G2: a single bond or CH2, G3: an alkylene or the like, X: OH or the like, Y: a leaving group).

Description

N—カルボニル飽和複素環類の製造方法及びその合成中間体 技術分野X 1  Process for producing N-carbonyl saturated heterocycles and synthetic intermediates thereof Technical Field X 1
-- -- -- X C F  ---X C F
[0001] 本発明は、 N I >—カルボ-ル飽和複素環類の新規な製造方法に関連し、 N—カルボ [0001] The present invention relates to a novel process for producing a N I> -carbo saturated heterocyclic ring,
X = X 2  X = X 2
2 F=  2 F =
ニル飽和複素環類を製造するための新規な化合物、その製造方法及び使用方法を 提供する。  Provided are novel compounds for the production of nil-saturated heterocycles, methods for their production and use.
背景技術  Background art
[0002] N—カルボニル飽和複素環類は、ニューロキュン拮抗剤を製造するための中間体 として有用であるが、(特許文献 1参照)、このような N—カルボニル飽和複素環類を 分子内求核置換反応による閉環で合成する場合、 N—アルキル又は N—スルホニル 保護された鎖状化合物の閉環反応の後、 N—アルキル又はスルホ二ル基を脱保護し 、その後、窒素原子をカルボ-ルイ匕することが必要であった (非特許文献 1、 2及び 3 )。 [0002] N-carbonyl saturated heterocycles are useful as intermediates for the production of neurocun antagonists (see Patent Document 1). When synthesizing by ring closure by nuclear substitution reaction, after N-alkyl or N-sulfonyl-protected chain compound ring-closing reaction, N-alkyl or sulfonyl group is deprotected, and then nitrogen atom is carbo-cyclic. It was necessary to hesitate (Non-Patent Documents 1, 2 and 3).
[0003] このため、この方法では工程数が多ぐ工業的な N—カルボ-ル飽和複素環の製 法としては適切なものではなかつた。  [0003] For this reason, this method has not been suitable as a method for producing an industrial N-carbo saturated heterocyclic ring having a large number of steps.
[0004] もう一つの方法は例えば、ァゾジカルボン酸ジェチル(DEAD)およびトリフエニル ホスフィン(Ph P)を用いた光延反応により、 N— tert—ブトキシカルボ-ル鎖状ジォ [0004] Another method is, for example, by Mitsunobu reaction using jetyl azodicarboxylate (DEAD) and triphenylphosphine (Ph P) to produce N-tert-butoxycarbol-chain dithio
3  Three
ールから対応する N—カルボニル飽和複素環を合成する方法(下記の反応式)が知 られて ヽる (非特許文献 4及び非特許文献 5参照)。  A method of synthesizing a corresponding N-carbonyl saturated heterocyclic ring from the above-mentioned (reaction formula below) is known (see Non-Patent Document 4 and Non-Patent Document 5).
[0005]  [0005]
Figure imgf000003_0001
Figure imgf000003_0001
H  H
H H
[0006] (上記式中、 TBDMSは tert—プチルジメチルシリルであり、 Bocは tert—プトキシカ ルポ-ルである。) [0006] (In the above formula, TBDMS is tert-butyldimethylsilyl, Boc is tert-ptoxyca It is a report. )
し力しながら、この方法においては、副生成物としてジェチルヒドラジンジカルボキ シラートおよびトリフエニルホスフィンォキシドが生成し、これらは目的物の分離精製を 妨害することから工業的な N—カルボ-ル飽和複素環の製法には適さないものであ つた o  However, in this method, ketyl hydrazine dicarboxylate and triphenylphosphine oxide are produced as by-products, which interfere with the separation and purification of the target product, and thus are industrial N-carbohydrate. Not suitable for the production of saturated heterocycles o
特許文献 1 :米国特許第 6511975号明細書  Patent Document 1: US Patent No. 6511975 Specification
非特許文献 1 :Y. Jinbo et al, J. Med. Chem., 37, 2791 (1994)  Non-Patent Document 1: Y. Jinbo et al, J. Med. Chem., 37, 2791 (1994)
非特許文献 2 : G. Bettoni, et al" Tetrahedron, 36, 409 (1980)  Non-Patent Document 2: G. Bettoni, et al "Tetrahedron, 36, 409 (1980)
非特許文献 3 : R. A. Firestone, et al" J. Med. Chem., 27, 1037 (1984)  Non-Patent Document 3: R. A. Firestone, et al "J. Med. Chem., 27, 1037 (1984)
非特許文献 4 : T. Nishi et al., Tetrahedron: Asymmetry, 9, 3251 (1998)  Non-Patent Document 4: T. Nishi et al., Tetrahedron: Asymmetry, 9, 3251 (1998)
非特許文献 5 : T. Nishi et al" Bioorg. Med. Chem. Lett., 10, 1665 (2000) 発明の開示  Non-Patent Document 5: T. Nishi et al "Bioorg. Med. Chem. Lett., 10, 1665 (2000) Disclosure of the Invention
発明が解決しょうとする課題  Problems to be solved by the invention
[0007] 本発明者等は、これらの問題を解決し、 N—カルボニル飽和複素環類の新規な製 造方法を確立する目的で鋭意研究を行った結果、下記一般式(1)、(2)及び (4)の 化合物を経由し、反応条件を精査することにより、従来では合成が難し力つた N—力 ルポニル飽和複素環類を工業的に高収率で得られることを見出し、本発明を完成し た。 [0007] As a result of intensive studies aimed at solving these problems and establishing a novel method for producing N-carbonyl saturated heterocycles, the present inventors have found that the following general formulas (1), (2 By scrutinizing the reaction conditions via the compounds of (4) and (4), it was found that N-force sulfonyl saturated heterocycles, which were difficult to synthesize in the past, were obtained in industrially high yields. Was completed.
課題を解決するための手段  Means for solving the problem
[0008] 本発明は、 [0008] The present invention provides:
(1)下記一般式 (1)  (1) The following general formula (1)
[0009] [化 2] [0009] [Chemical 2]
Figure imgf000004_0001
Figure imgf000004_0001
(式中、 R1は、水素原子、 C — Cアルコキシ基、置換基群 j8から選択される 1乃至 3 (In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C—C alkoxy group, or a substituent group j8.
1 4  14
個の基で置換されていてもよい C — C ァラルキルォキシ基又は置換基群 α力 選 択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基を示し、 R2は、 1又は 2個 のハロゲン原子で置換されたフエ二ル基を示し、 R3は、水素原子、水酸基、保護され た水酸基、 C—Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ -ルォ C — C aralkyloxy group or substituent group which may be substituted with one group R 1 represents a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 selected groups, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and R 3 represents hydrogen. Atom, hydroxyl group, protected hydroxyl group, C—C haloalkanesulfo-loxy group, C—C alkanesulfo-luo group
1 4 1 4 キシ基、又は置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C - 1 4 1 4 Xyl group, or substituent group j8 force optionally substituted by 1 to 3 selected groups C −
66
C ァリールスルホニルォキシ基を示し、 G1は、 C — Cアルキレン基を示し、 G2は、C represents a arylaryloxy group, G 1 represents a C — C alkylene group, and G 2 represents
10 1 6 10 1 6
単結合又はメチレン基を示し、 G3は、 C — Cアルキレン基、 C — Cアルケニレン基 A single bond or a methylene group, G 3 is a C — C alkylene group, a C — C alkenylene group
2 3 2 3  2 3 2 3
又は C — Cアルキニレン基を示し、置換基群ひは、水酸基、 C — Cアルコキシ基、 Or a C—C alkynylene group, the substituent group is a hydroxyl group, a C—C alkoxy group,
2 3 1 42 3 1 4
C— Cハロゲンィ匕アルキル基及びテトラゾリルカもなる群を示し、置換基群 j8は、二C—C represents a group that is also a halogenated alkyl group and tetrazolylca, and substituent group j8 is
1 4 14
トロ基、ハロゲン原子、 c -cアルキル基及び c -cハロゲン化アルキル基からな  Tro group, halogen atom, c-c alkyl group and c-c halogenated alkyl group
1 4 1 4  1 4 1 4
る群を示す)を有する化合物を、下記一般式 (2)  A compound having the following general formula (2):
[0011] [化 3]  [0011] [Chemical 3]
[0012]
Figure imgf000005_0001
ま、前記と同意義を示し、 Υは、脱離基を示す。 ) を有する化合物に変換し、次いで、一般式 (2)を有する化合物を塩基で処理すること により、下記一般式 (3)
[0012]
Figure imgf000005_0001
Moreover, it shows the same meaning as above, and Υ represents a leaving group. ), And then treating the compound having the general formula (2) with a base to give the following general formula (3)
[0013] [化 4]  [0013] [Chemical 4]
Figure imgf000005_0002
Figure imgf000005_0002
[0014] (式中、
Figure imgf000005_0003
G2及び G3は、前記と同意義を示す。 )を有する化合物を製 造する方法に関する。
[0014] (where
Figure imgf000005_0003
G 2 and G 3 are as defined above. ).
上記のうち好適な方法は、  Among the above, the preferred method is
(2) が、 C— Cアルコキシ基又は置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で置  (2) is a C—C alkoxy group or a substituent group α force is selected from 1 to 3 groups selected
1 4  14
換されて!/、てもよ!/、フ -ル基である方法、  The way it is!
(3) R1が、置換基群 a力も選択される 1乃至 3個の基で置換されて 、てもよ 、フエ- ル基である方法、 (4) R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である方法 (3) the method wherein R 1 is substituted with 1 to 3 groups in which substituent group a force is also selected and may be a phenol group; (4) The method wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms
(5) R3が、水酸基又は保護された水酸基であり、 G3が C -Cアルキレン基である方 (5) One in which R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is a C 1 -C alkylene group
2 3  twenty three
法、  Law,
(6) R3が、置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C— C (6) R 3 may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group j8 force C— C
6 1 ァリールスルホニルォキシ基であり、 G3が C -Cアルキレン基である方法、 6 1 is a arylsulfonyloxy group, and G 3 is a C 1 -C alkylene group,
0 2 3  0 2 3
(7) R3が、水素原子であり、 G3がビュル基である方法、 (7) the method wherein R 3 is a hydrogen atom and G 3 is a bur group;
(S) G1が、メチレン又はエチレンである方法、 (S) the method wherein G 1 is methylene or ethylene,
(^ G1が、エチレンである方法、 (^ The method where G 1 is ethylene,
(10) G2が、単結合である方法、 (10) the method wherein G 2 is a single bond,
(11) G3が、エチレンである方法、並びに、 (11) the method wherein G 3 is ethylene, and
( 12) Yが、クロ口ベンゼンスルホ-ルォキシである方法  (12) The method wherein Y is black-opened benzenesulfoloxy
である。  It is.
更に本発明は、  Furthermore, the present invention provides
(13) 下記一般式 (4)  (13) The following general formula (4)
[0015] [化 5] [0015] [Chemical 5]
(4)(Four)
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0001
[0016] (式中、 R2は、 1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示し、 R3は、水素 原子、水酸基、保護された水酸基、 C Cハロアルカンスルホニルォキシ基、 C (Wherein R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, R 3 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a CC haloalkanesulfonyloxy group, C
1 4 1 1 4 1
Cアルカンスルホ -ルォキシ基、又は置換基群 |8カゝら選択される 1乃至 3個の基で1 to 3 groups selected from C alkanesulfo-loxy group or substituent group | 8 groups
4 Four
置換されていてもよい C— C ァリールスルホニルォキシ基を示し、 G1は、 C— Cァ Represents an optionally substituted C—C arylsulfonyloxy group, and G 1 represents a C—C
6 10 1 6 ルキレン基を示し、 G3は、 C— Cアルキレン基、 C— Cアルケニレン基又は C— C 6 10 1 6 represents a alkylene group, G 3 represents a C—C alkylene group, a C—C alkenylene group or a C—C
2 3 2 3 2 3 アルキニレン基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C— Cアルキル基  2 3 2 3 2 3 Indicates an alkynylene group, and the substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, and a C—C alkyl group.
1 4  14
及び C Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物又はその塩 And a group consisting of a C C halogenated alkyl group. Or a salt thereof
1 4 14
と、下記一般式 (5)  And the following general formula (5)
[0017] [化 6]
Figure imgf000007_0001
[0017] [Chemical 6]
Figure imgf000007_0001
[0018] (式中、 R1は、水素原子、 C -Cアルコキシ基、置換基群 β力 選択される 1乃至 3 [In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C 1 -C alkoxy group, a substituent group β force selected 1 to 3
1 4  14
個の基で置換されていてもよい C — C ァラルキルォキシ基又は置換基群 α力 選  C — C aralkyloxy group or substituent group which may be substituted with one group
7 11  7 11
択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ二ル基を示し、 G2は、単結合又 はメチレン基を示し、 Xは、水酸基、 C —Cアルキルカルボ-ルォキシ基、 C —Cァ A phenyl group which may be substituted with 1 to 3 selected groups, G 2 represents a single bond or a methylene group, X represents a hydroxyl group, a C—C alkyl carboxy-oxy group, C —C
1 4 1 4 ルコキシカルボ-ルォキシ基又はハロゲン原子を示し、置換基群 aは、水酸基、 C -Cアルコキシ基、 C —Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルカ なる群を示す 1 4 1 4 represents a alkoxycarbonyl-oxy group or a halogen atom, and the substituent group a represents a group consisting of a hydroxyl group, a C 1 -C alkoxy group, a C—C halogenated alkyl group, and a tetrazolyl group.
4 1 4 4 1 4
。)を有する化合物とを塩基存在下、反応させて下記一般式 (1)  . ) In the presence of a base and the following general formula (1)
[0019] [化 7] [0019] [Chemical 7]
[0020]
Figure imgf000007_0002
G3は、前記と同意義を示す。 )を有する化合物を製 造し、一般式(1)を有する化合物を下記一般式 (2)
[0020]
Figure imgf000007_0002
G 3 has the same meaning as described above. ) And a compound having the general formula (1) is represented by the following general formula (2)
[0021] [化 8] [0021] [Chemical 8]
[0022]
Figure imgf000007_0003
ま、前記と同意義を示し、 Υは、脱離基を示す。 ) を有する化合物に変換し、次いで、一般式 (2)を有する化合物を塩基で処理すること により、下記一般式 (3)
[0022]
Figure imgf000007_0003
Moreover, it shows the same meaning as above, and Υ represents a leaving group. ), And then treating the compound having the general formula (2) with a base to give the following general formula (3)
[0023] [化 9]
Figure imgf000007_0004
[0023] [Chemical 9]
Figure imgf000007_0004
[0024] (式中、
Figure imgf000007_0005
G2及び G3は、前記と同意義を示す。 )を有する化合物を製 造する方法に関する。 上記のうち好適な方法は、
[0024] (where
Figure imgf000007_0005
G 2 and G 3 are as defined above. ). Among the above, the preferred method is
(14) R1が、 C— Cアルコキシ基又は置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で (14) R 1 is a C—C alkoxy group or a substituent group α force of 1 to 3 groups selected
1 4  14
置換されて 、てもよ 、フ -ル基である方法、  A substituted, which may be a full group,
(15) が、置換基群 α力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ- ル基である方法、  (15) is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups, the substituent group α force of which is also selected,
(16) R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である方 法、 (16) The method wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(17) R3が、水酸基又は保護された水酸基であり、 G3が C— Cアルキレン基である (17) R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is a C—C alkylene group
2 3  twenty three
方法、  Method,
(18) R3が、置換基群 j8力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C -(18) R 3 may be substituted with 1 to 3 groups, the substituent group j8 of which is also selected C-
66
C ァリールスルホニルォキシ基であり、 G3が C Cアルキレン基である方法、A method wherein C 3 arylsulfonyloxy group and G 3 is a CC alkylene group,
10 2 3 10 2 3
(19) R3力 水素原子であり、 G3がビュル基である方法、 (19) R 3 force is a hydrogen atom, and G 3 is a bur group,
(20) G1が、メチレン又はエチレンである方法、 (20) the method wherein G 1 is methylene or ethylene,
(21) G1が、エチレンである方法、 (21) The method wherein G 1 is ethylene,
(22) G2が、単結合である方法、 (22) the method wherein G 2 is a single bond,
(23) G3が、エチレンである方法、 (23) The method wherein G 3 is ethylene,
(24) Xが、塩素原子又は臭素原子である方法、並びに、  (24) the method wherein X is a chlorine atom or a bromine atom, and
(25) Yが、クロ口ベンゼンスルホ-ルォキシである方法  (25) The method wherein Y is black-opened benzenesulfoloxy
である。  It is.
更に本発明は、  Furthermore, the present invention provides
(26) 下記一般式 (4)  (26) The following general formula (4)
[0025] [化 10] [0025] [Chemical 10]
Figure imgf000008_0001
Figure imgf000008_0001
[0026] (式中、 R2は、 I又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示し、 R3は、水酸 基、 C—Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ -ルォキシ基(Wherein R 2 represents a phenyl group substituted with I or two halogen atoms, R 3 represents a hydroxyl group, a C—C haloalkane sulfo-loxy group, or a C—C alkane. Sulfo-Luoxy group
I 4 I 4 I 4 I 4
、又は置換基群 j8力 選択される I乃至 3個の基で置換されていてもよい C— C ァ リールスルホ-ルォキシ基を示し、 G1は、 C— Cアルキレン基を示し、 G3は C— C Or a group of substituents j8 force C—C which may be substituted with 1 to 3 selected groups Reel sulfo-loxy group, G 1 represents C—C alkylene group, G 3 represents C—C
1 6 2 3 アルキレン基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C— Cアルキル基及  1 6 2 3 represents an alkylene group, and the substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group, and
1 4  14
びじ Cハロゲンィ匕アルキル基力 なる群を示す)を有する化合物又はその塩に関 A compound having a C-halogen alkyl group) or a salt thereof.
1 4 14
する。  To do.
上記のうち好適な化合物は、  Among the above, preferred compounds are
(27) R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基であるィ匕 合物、 (27) Compound in which R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(28) R3が、水酸基である化合物、 (28) the compound wherein R 3 is a hydroxyl group,
(29) G1が、メチレン又はエチレンである化合物、 (29) the compound wherein G 1 is methylene or ethylene,
(30) G1が、エチレンである化合物、 (30) the compound wherein G 1 is ethylene,
(31) G3がエチレンである化合物、及び (31) the compound wherein G 3 is ethylene, and
(32)—般式 (4)が、下記一般式 (4' )  (32) —General formula (4) is replaced by the following general formula (4 ')
[0027] [化 11] [0027] [Chemical 11]
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0001
[0028] である化合物  [0028] is a compound
並びにその塩 (好適には、塩酸塩、硫酸塩又はシユウ酸塩)である。  And salts thereof (preferably hydrochloride, sulfate or oxalate).
上記のうち、特に好適な化合物は、  Among the above, particularly suitable compounds are
(33) R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基であり、 R 3が、水酸基であり、 G1が、エチレンであり、 G3が、エチレンである化合物又は、その 塩酸塩、硫酸塩若しくはシユウ酸塩 (33) A compound wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms, R 3 is a hydroxyl group, G 1 is ethylene, and G 3 is ethylene Or its hydrochloride, sulfate or oxalate
である。  It is.
更に本発明は、  Furthermore, the present invention provides
(34)下記一般式 (1)  (34) The following general formula (1)
[0029] [化 12]
Figure imgf000010_0001
[0029] [Chemical 12]
Figure imgf000010_0001
[0030] (式中、 R1は、水素原子、又は置換基群 α力も選択される 1乃至 3個の基で置換され ていてもよいフエ-ル基を示し、 R2は、 1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ- ル基を示し、 R3は、水酸基、保護された水酸基、 C —Cハロアルカンスルホ -ルォ (Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups of which substituent group α force is also selected, and R 2 represents 1 or 2 Represents a phenyl group substituted with one halogen atom, R 3 represents a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C —C haloalkanesulfo-luo
1 4  14
キシ基、 C —Cアルカンスルホ-ルォキシ基、又は置換基群 j8から選択される 1乃  Selected from the group consisting of a xyl group, a C—C alkanesulfo-loxy group, or a substituent group j8
1 4  14
至 3個の基で置換されていてもよい C — C ァリールスルホニルォキシ基を示し、 G1 Represents a C — C arylsulfonyloxy group optionally substituted with up to 3 groups, G 1
6 10  6 10
は、 C — Cアルキレン基を示し、 G2は、単結合又はメチレン基を示し、 G3は C — CRepresents a C — C alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, and G 3 represents C — C
1 6 2 3 アルキレン基、 C —Cアルケニレン基又は C —Cアルキニレン基を示し、置換基群 1 6 2 3 represents an alkylene group, a C—C alkenylene group or a C—C alkynylene group, a substituent group
2 3 2 3  2 3 2 3
aは、水酸基、 C Cアルコキシ基、 C Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリル  a is a hydroxyl group, a C C alkoxy group, a C C halogenated alkyl group and tetrazolyl
1 4 1 4  1 4 1 4
力 なる群を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C — Cアルキル基及び  The substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and
1 4  14
c Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物  c represents a group consisting of C halogenated alkyl groups. )
1 4  14
に関する。  About.
上記のうち好適な化合物は、  Among the above, preferred compounds are
(35) が、 C — Cアルコキシ基又は置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で  (35) is a C—C alkoxy group or a substituent group α force of 1 to 3 groups selected
1 4  14
置換されて 、てもよ 、フ -ル基である化合物、  A compound which is substituted or may be a full group,
(36) R1が、置換基群 a力 選択される 1乃至 3個の基で置換されて 、てもよ 、フエ- ル基である化合物、 (36) the compound wherein R 1 is a phenyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group a force,
(37) R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基であるィ匕 合物、 (37) Compound in which R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms,
(38) R3が、水酸基又は保護された水酸基である化合物、 (38) A compound wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group,
(39) G1が、メチレン又はエチレンである化合物、 (39) A compound wherein G 1 is methylene or ethylene,
(40) G1が、エチレンである化合物、 (40) the compound wherein G 1 is ethylene,
(41) G2が、単結合である化合物、 (41) The compound wherein G 2 is a single bond,
(42) G3が、エチレンである化合物、並びに、 (42) the compound wherein G 3 is ethylene, and
(43)—般式(1)が、下記一般式(1 ' )  (43) —General formula (1) is replaced by the following general formula (1 ′)
[0031] [化 13]
Figure imgf000011_0001
[0031] [Chemical 13]
Figure imgf000011_0001
[0032] である化合物  [0032] is a compound
である。  It is.
上記のうち、特に好適な化合物は、  Among the above, particularly suitable compounds are
(44) R1が、置換基群 a力 選択される 1乃至 3個の基で置換されて 、てもよ 、フエ- ル基であり、 R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基で あり、 R3が、水酸基又は保護された水酸基であり、 G1が、エチレンであり、 G2が、単結 合であり、 G3がエチレンである化合物 (44) R 1 is substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group a force, but is a phenol group, and R 2 is 1 or 2 fluorine atoms or chlorine A compound in which a phenyl group substituted with an atom, R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, G 1 is ethylene, G 2 is a single bond, and G 3 is ethylene
である。  It is.
更に本発明は、  Furthermore, the present invention provides
(45)実質的に下記工程 A、工程 B、及び工程 C力もなることを特徴とする、一般式 (5 )  (45) General formula (5) characterized by substantially including the following process A, process B, and process C forces
[0033] [化 14]  [0033] [Chemical 14]
Figure imgf000011_0002
Figure imgf000011_0002
[0034] (式中、 R1は、水素原子、 C —Cアルコキシ基、置換基群 βから選択される 1乃至 3 (Wherein R 1 is selected from a hydrogen atom, a C 1 -C alkoxy group, and a substituent group β 1 to 3
1 4  14
個の基で置換されていてもよい C — C ァラルキルォキシ基又は置換基群 α力 選  C — C aralkyloxy group or substituent group which may be substituted with one group
7 11  7 11
択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基を示し、 R2は、 1又は 2個 のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示し、 G1は、 C — Cアルキレン基を示し、 R 1 represents a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 selected groups, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and G 1 represents C 1 — Represents a C alkylene group,
1 6  1 6
G2は、単結合又はメチレン基を示し、 G3は C — Cアルキレン基を示し、 G4は、 > C G 2 represents a single bond or a methylene group, G 3 represents a C—C alkylene group, and G 4 represents> C
2 3  twenty three
— OH又は > S→0を示し、置換基群 αは、水酸基、 C — Cアルコキシ基、 C — C  — OH or> S → 0, the substituent group α is a hydroxyl group, C — C alkoxy group, C — C
1 4 1 4 ノ、ロゲンィ匕アルキル基及びテトラゾリルカもなる群を示し、置換基群 βは、ニトロ基、 ハロゲン原子、 C —Cアルキル基及び C —Cハロゲン化アルキル基からなる群を  1 4 1 4 represents a group consisting of an alkyl group, a rogynyl alkyl group and a tetrazolyl group.
1 4 1 4  1 4 1 4
示す。 )を有する化合物又はその薬理上許容される塩の製造方法: {ここで、工程 Aは、一般式(1) Show. Or a pharmacologically acceptable salt thereof: {Here, the process A is represented by the general formula (1)
[0035] [化 15] [0035] [Chemical 15]
[0036]
Figure imgf000012_0001
[式中、 G2及び G3は前記と同意義を示し、 R3は、水酸基、保護された水 酸基、 C—Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ-ルォキシ
[0036]
Figure imgf000012_0001
[Wherein G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 represents a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C—C haloalkanesulfo-loxy group, a C—C alkanesulfo-loxy group.
1 4 1 4 1 4 1 4
基、又は置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C -C  Group or substituent group j8 force C 1 -C optionally substituted by 1 to 3 groups selected
6 10 ァリールスルホニルォキシ基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C -C アルキル基及び C Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。 ]  6 10 represents an arylsulfonyloxy group, and the substituent group j8 represents a group consisting of a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C alkyl group, and a C C halogenated alkyl group. ]
4 1 4  4 1 4
を有する化合物を、一般式 (2)  A compound having the general formula (2)
[0037] [化 16] [0037] [Chemical 16]
[0038]
Figure imgf000012_0002
[式中、 R1 G2及び G3は前記と同意義を示し、 R3及び Yは、それぞれ、 C Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ-ルォキシ基、又は置
[0038]
Figure imgf000012_0002
[Wherein R 1 G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 and Y are a CC haloalkane sulfo-loxy group, a C—C alkane sulfo-loxy group, or
4 1 4 4 1 4
換基群 j8力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C— C ァリールス  Substituent group j8 may also be substituted with one to three selected groups C—C aryls
6 10 ルホニルォキシ基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C -Cアルキル  6 10 represents a sulfonyloxy group, the substituent group j8 is a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C alkyl
1 4 基及び C Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。 ]を有する化合物に変換す  A group consisting of 14 groups and a C C halogenated alkyl group is shown. Is converted to a compound having
1 4  14
る工程であり、  Process,
工程 Bは、工程 Aで得られたィ匕合物(2)を塩基で処理することにより、一般式(3) [0039] [化 17]  In the process B, the compound (2) obtained in the process A is treated with a base to give a general formula (3) [0039] [Chemical Formula 17]
[0040] ロアルカンス
Figure imgf000012_0003
[0040] Rocananth
Figure imgf000012_0003
ルホ-ルォキシ基、 C Cアルカンスルホ-ルォキシ基、又は置換基群 j8から選択 される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C -C ァリールスルホ-ルォキシ基を Selected from ru-loxy group, CC alkane sulfo-loxy group, or substituent group j8 A C 1 -C arylsulfoloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups
6 10  6 10
示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C — Cアルキル基及び C — Cハロ  The substituent group j8 is a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and a C—C halo.
1 4 1 4 ゲンィ匕アルキル基力もなる群を示す。 ]を有する化合物に変換する工程であり、 工程 Cは、工程 Bで得られた化合物(3)と一般式 (6)  1 4 1 4 Indicates a group that also has geny alkyl group power. In which the compound (3) obtained in Step B and the general formula (6)
[0041] [化 18] [0041] [Chemical 18]
Figure imgf000013_0001
Figure imgf000013_0001
[0042] [式中、 G4は前記と同意義を示す。 ]を有する化合物とを反応させて、一般式 (5)を 有する化合物を製造する工程である。 } [Wherein G 4 is as defined above. And a compound having the general formula (5) to produce a compound having the general formula (5). }
上記のうち、好適な方法は、  Among the above, the preferred method is
(46) が、 C — Cアルコキシ基又は置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で  (46) is a C—C alkoxy group or a substituent group α force of 1 to 3 groups selected
1 4  14
置換されて 、てもよ 、フ -ル基である方法、  A substituted, which may be a full group,
(47) R1が、置換基群 a力 選択される 1乃至 3個の基で置換されて 、てもよ 、フエ- ル基である方法、 (47) The method wherein R 1 is a phenyl group substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group a force,
(48) R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である方 法、 (48) The method wherein R 2 is a phenyl group substituted with one or two fluorine atoms or chlorine atoms,
(49)化合物(1)の R3が、水酸基又は保護された水酸基である方法、 (49) The method wherein R 3 in compound (1) is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group,
(50) G1が、メチレン又はエチレンである方法、 (50) the method wherein G 1 is methylene or ethylene,
(51) G1が、エチレンである方法、 (51) The method wherein G 1 is ethylene,
(52) G2が、単結合である方法、 (52) The method wherein G 2 is a single bond,
(53) G3が、エチレンである方法、並びに (53) The method wherein G 3 is ethylene, and
(54)化合物(2)及び化合物(3)の R3及び Yがクロ口ベンゼンスルホ-ルォキシであ る方法 (54) A method in which R 3 and Y of compound (2) and compound (3) are black benzenesulfuroxy
である。  It is.
本発明を特定するために用いられている、「C — Cアルコキシ基」、「置換基群 j8か  “C—C alkoxy group”, “substituent group j8 or
1 4  14
ら選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C —C ァラルキルォキシ基」、「 置換基群 a力も選択される 1乃至 3個の基で置換されて 、てもよ 、フエ-ル基」、「 1 又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基」、「保護された水酸基」、「C — C A C—C aralkyloxy group optionally substituted with 1 to 3 groups selected from Substituent group a may also be substituted with 1 to 3 groups which may also be selected, such as a “phenol group”, “a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms”, “protected” Hydroxyl group ”,“ C — C
1 4 アルカンスルホニルォキシ基」、「C —Cハロアルカンスルホニルォキシ基」、「置換  1 4 Alkanesulfonyloxy group ”,“ C —C haloalkanesulfonyloxy group ”,“ Substitution ”
1 4  14
基群 j8力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C — C ァリールスル  Group j8 may also be substituted with 1 to 3 groups optionally selected C — C arylsul
6 10  6 10
ホニルォキシ基」、「c—Cアルキレン基」、「C—Cアルキレン基」、「C—Cァルケ  “Honyloxy group”, “c-C alkylene group”, “C-C alkylene group”, “C-C alkylene”
1 6 2 3 2 3 二レン基」、「c— Cアルキニレン基」、「C— Cハロゲン化アルキル基」、「ハロゲン  1 6 2 3 2 3 Diylene group, c-C alkynylene group, C-C halogenated alkyl group, halogen
2 3 1 4  2 3 1 4
原子」、「C Cアルキル基」、「脱離基」、「C Cアルキルカルボニルォキシ基」及  "Atom", "C C alkyl group", "Leaving group", "C C alkylcarbonyloxy group" and
1 4 1 4  1 4 1 4
び「C Cアルコキシカルボニルォキシ基」の語は、それぞれ以下のように定義され And the term `` C C alkoxycarbonyloxy group '' is defined as follows:
1 4 14
る。  The
[0043] R1及び置換基群 aの定義における「C —Cアルコキシ基」は、例えば、メトキシ、ェ [0043] "C 1 -C alkoxy group" in the definition of R 1 and substituent group a is, for example, methoxy,
1 4  14
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ又は tert ブトキシであり 得、 R1としては、好適には、エトキシ又は tert ブトキシであり、置換基群 aとしては、 好適には、 C — Cアルコキシ基(更に好適には、メトキシ又はイソプロポキシ)である Toxyl, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy or tert-butoxy can be used. R 1 is preferably ethoxy or tert-butoxy, and the substituent group a is preferably a C—C alkoxy group ( More preferably, it is methoxy or isopropoxy)
1 3  13
[0044] R1の定義における「置換基群 βカゝら選択される 1乃至 3個の基で置換されていても よい C — C ァラルキルォキシ基」は、ァリール部分が置換基群 j8力 選択される 1[0044] In the definition of R 1 "the C — C aralkyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β," the aryl moiety is selected as the substituent group j8 force. 1
7 11 7 11
乃至 3個の基で置換されていてもよい C C ァリール (好適には、フエニル)であり、  C C aryl (preferably phenyl) optionally substituted by 3 groups,
6 10  6 10
アルコキシ部分が c—Cアルコキシ (好適には、メトキシ、エトキシ又はプロポキシで  The alkoxy moiety is c-C alkoxy (preferably methoxy, ethoxy or propoxy
1 4  14
あり、特に好適には、メトキシである)である基であり、好適には、置換基群 βから選択 される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいべンジルォキシであり、特に好適には、 ベンジルォキシ又は-トロベンジルォキシであり、最も好適には、ベンジルォキシで ある。  And is particularly preferably methoxy), preferably benzyloxy optionally substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β. Is benzyloxy or -trobenzyloxy, most preferably benzyloxy.
[0045] R1の定義における「置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていても よいフエ-ル基」は、好適にはフエ-ル、 3—イソプロポキシフエ-ル、 3, 4, 5—トリメ トキシフエ-ル又は 3, 5—ビス(トリフルォロメチル)フエ-ルであり、特に好適には 3, 4, 5—トリメトキシフエ-ル又は 3, 5—ビス(トリフルォロメチル)フエ-ルであり、最も 好適には、 3, 4, 5—トリメトキシフエ-ルである。 [0045] The "substituent group α force forceful phenyl group optionally substituted by 1 to 3 groups" in the definition of R 1 is preferably a phenyl, 3-isopropoxyphenol- 3, 4, 5-trimethoxyphenyl or 3,5-bis (trifluoromethyl) phenol, particularly preferably 3, 4, 5-trimethoxyphenyl or 3,5— Bis (trifluoromethyl) file is most preferable, and 3, 4, 5-trimethoxy file is most preferable.
[0046] 置換基群 β及び Xの定義における「ノヽロゲン原子」、並びに、 R2の定義における「1 又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基」のハロゲン原子は、フッ素原子、 塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。置換基群 )8としては、フッ素原子、塩素 原子又は臭素原子が好適であり、塩素原子が更に好適である。 Xとしては、塩素原 子、臭素原子又はヨウ素原子が好適であり、塩素原子が特に好適である。 [0046] Substituent group "Norogen atom" in the definition of β and X, and "1" in the definition of R 2 Alternatively, the halogen atom in the “phenyl group substituted with two halogen atoms” is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. As the substituent group 8), a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom is preferable, and a chlorine atom is more preferable. As X, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable, and a chlorine atom is particularly preferable.
[0047] R2の定義における「1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基」は、好適に は、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエ-ル基であり、更に好適 には、 4 フルオロフェニル、 4 クロ口フエニル、 3, 4ージフルオロフェニル又は 3, 4 ージクロ口フエ-ルであり、より更に好適には、 3, 4—ジフルオロフェ-ル又は 3, 4— ジクロロフエ-ルであり、特に好適には、 3, 4—ジクロ口フエ-ルである。 [0047] The "phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms" in the definition of R 2 is preferably a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms. More preferably 4-fluorophenyl, 4-chlorophenyl, 3,4-difluorophenyl or 3,4-dicyclophenyl, and even more preferably 3,4-difluorophenyl or 3 , 4-dichlorophenol, particularly preferably 3,4-dichloromethane.
[0048] R3の定義における「保護された水酸基」は、有機合成化学の分野で一般に水酸基 の保護基で保護された水酸基であり、そのような保護基は、例えば、 tert—プチル、 1, 1ージメチルプロピル、 1, 1, 2—トリメチルプロピル又は 1, 1ージメチルブチルの ような C—C分枝鎖アルキル基;ァリル、又は 1ーメチルー 2—プロべ-ルのような C[0048] "Protected hydroxyl group" in the definition of R 3 is a hydroxyl group generally protected with a protecting group for a hydroxyl group in the field of synthetic organic chemistry, such as tert-butyl, 1, C-C branched chain alkyl groups such as 1-dimethylpropyl, 1,1,2-trimethylpropyl or 1,1-dimethylbutyl; C such as aryl or 1-methyl-2-probe
3 6 33 6 3
—C直鎖若しくは分枝鎖 2—アルケニル基;ホルミル、ァセチル、プロピオニル、ブチ—C straight chain or branched 2-alkenyl group; formyl, acetyl, propionyl, buty
6 6
リル、イソブチリル、ビバロイル、バレリル、イソバレリル、オタタノィル、ノナノィル、デカ ノィル、 3—メチルノナノィル、 8—メチルノナノィル、 3—ェチルオタタノィル、 3, 7— ジメチルォクタノィル、ゥンデカノィル、ドデカノィル、トリデカノィル、テトラデカノィル、 ペンタデカノィル、へキサデカノィル、 1ーメチルペンタデカノィル、 14ーメチルペンタ デカノィル、 13, 13 ジメチルテトラデカノィル、ヘプタデカノィル、 15—メチルへキ サデカノィル、ォクタデカノィル、 1 メチルヘプタデカノィル、ノナデカノィル、エイコ サノィル又はヘンエイコサノィルのような C—C アルカノィル基;クロロアセチル、ジ  Ril, isobutyryl, bivaloyl, valeryl, isovaleryl, otatanyl, nonanoyl, decanol, 3-methylnonanoyl, 8-methylnonanoyl, 3-ethylotatanyl, 3, 7-dimethyloctanoyl, undecanol, dodecanol, tridecanol, tridecanol, tridecanol , Pentadecanol, hexadecanol, 1-methylpentadecanol, 14-methylpentadecanol, 13,13 dimethyltetradecanol, heptadecanol, 15-methylhexadecanol, octadecanol, 1-methylheptadecanol, nonadecanol, or nonadecanol, C-C alkanoyl groups such as henecosanol; chloroacetyl, di
1 21  1 21
クロロアセチル、トリクロロアセチル又はトリフルォロアセチルのような C—Cハロゲノ  C-C halogeno such as chloroacetyl, trichloroacetyl or trifluoroacetyl
2 4 アルカノィル基;メトキシァセチルのような C—Cアルコキシ C—Cアルカノィル基;(  2 4 Alkanoyl group; C—C alkoxy such as methoxyacetyl C—C alkanoyl group;
1 4 2 4  1 4 2 4
E) 2—メチルー 2—ブテノィルのような不飽和アルカノィル基;ベンゾィル、 1 ナフ トイル又は 2—ナフトイルのような C—C ァリールカルボ-ル基; 2—ブロモベンゾィ  E) Unsaturated alkanoyl groups such as 2-methyl-2-butenoyl; C—C arylcarbonyl groups such as benzoyl, 1-naphthoyl or 2-naphthoyl; 2-bromobenzoyl
6 10  6 10
ル又は 4 クロ口ベンゾィルのような C—C ハロゲノアリールカルボ-ル基; 2, 4, 6  Or C—C halogenoaryl carbocyclic groups such as 4-chlorobenzoyl; 2, 4, 6
6 10  6 10
—トリメチルベンゾィル又は P トルオイルのような C— Cアルキル化 C— C ァリー  —C—C alkylated C—C aryls such as trimethylbenzoyl or P-toluoyl
1 4 6 10 ルカルボ-ル基; p ァ-ソィル基のような C—Cアルコキシ化 C—C ァリールカル ボニル基; 2 カルボキシベンゾィル、 3 カルボキシベンゾィル又は 4 カルボキシ ベンゾィルのようなカルボキシ化 C C ァリールカルボ-ル基; 4 -トロベンゾィル 1 4 6 10 Lucol group; C—C alkoxylation such as p-aryl group C—C arylalkyl A carboxylated CC aryl carbonate group such as 2 carboxybenzoyl, 3 carboxybenzoyl or 4 carboxybenzoyl; 4-trobenzoyl
6 10  6 10
又は 2— -トロベンゾィルのような-トロ化 C—C ァリールカルボ-ル基; 2—(メトキ Or 2—-trobenzoyl-like C-C arylcarbonyl group; 2— (methoxy
6 10  6 10
シカルボ-ル)ベンゾィルのような C Cアルコキシカルボ-ル化 C C ァリール (Cybol) Benzyl-like C C alkoxy carbonylated C C aryl
1 4 6 10 カルボ-ル基; 4 フエ-ルペンゾィルのような C C ァリール化 C C ァリール  1 4 6 10 Carbon group; 4 C-C-reel like C-Penol
6 10 6 10 カルボ-ル基;テトラヒドロピランー2 ィル、 3 ブロモテトラヒドロピランー2 ィル、 4 —メトキシテトラヒドロピラン一 4—ィル、テトラヒドロチォピラン一 2—ィル又は 4—メトキ シテトラヒドロチォピラン 4ーィルのようなテトラヒドロビラ-ル基又はテトラヒドロチォ ビラニル基;テトラヒドロフラン一 2—ィル又はテトラヒドロチオフラン一 2—ィルのような テトラヒドロフラ -ル基又はテトラヒドロチオフラ-ル基;メトキシメチル、エトキシメチル 、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル又は tert ブトキシメチル のような C—Cアルコキシメチル基; 2—メトキシエトキシメチルのような C—Cアルコ  6 10 6 10 Carbon group; tetrahydropyran-2-yl, 3 bromotetrahydropyran-2-yl, 4-methoxytetrahydropyran-4-yl, tetrahydrothiopyran-2-yl or 4-methoxytetrahydro Tetrahydrobiral group or tetrahydrothiobiranyl group such as thiopyran 4-yl; Tetrahydrofuran group or tetrahydrothiofuran group such as tetrahydrofuran-2-yl or tetrahydrothiofuran-2-yl; methoxymethyl C—C alkoxymethyl groups such as ethoxymethyl, propoxymethyl, isopropoxymethyl, butoxymethyl or tert butoxymethyl; C—C alcohols such as 2-methoxyethoxymethyl
1 4 1 4 キシ化 C— Cアルコキシメチル基; 2, 2, 2—トリクロ口エトキシメチル又はビス(2—ク 1 4 1 4 Xoxidation C—C alkoxymethyl group; 2, 2, 2-trichloro ethoxymethyl or bis (2-alkyl
1 4 14
ロロエトキシ)メチルのような C—Cハロゲノアルコキシメチル基; 1ーメトキシ 1ーメ C-C halogenoalkoxymethyl groups such as (roloethoxy) methyl; 1-methoxy 1-methyl
1 4  14
チルェチル、 1 エトキシェチル又は 1 (イソプロポキシ)ェチルのような C—Cァ C—C-alkyl such as tilethyl, 1 ethoxyethyl or 1 (isopropoxy) ethyl
1 4 ルコキシ化工チル基;ベンジル、 1 ナフチルメチル、 2—ナフチルメチル、ジフエ- ルメチル、トリフエ-ルメチル又は 1 ナフチル(ジフエ-ル)メチルのような、 1乃至 3 個の C— C ァリール及び C— Cアルキルからなるァラルキル基;(4—メトキシフエ 1 to 4 Calkoxy modified yl groups; 1 to 3 C—C aryl and C— such as benzyl, 1 naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl or 1 naphthyl (diphenyl) methyl Aralkyl group consisting of C alkyl; (4-methoxyphenol)
6 10 1 3 6 10 1 3
-ル)ジフエ-ルメチル、ビス(4—メトキシフエ-ル)フエ-ルメチル、ジフエ-ル(p ト リル)メチル、トリ(p—トリル)メチルのような C—Cアルキル又は C—Cアルコキシ基 C-C alkyl or C-C alkoxy groups such as-(l) diphenylmethyl, bis (4-methoxyphenyl) phenylmethyl, diphenyl (p-tolyl) methyl, tri (p-tolyl) methyl
1 4 1 4  1 4 1 4
で置換されたァリール環を 1つ以上有するトリアリールメチル基; 4—メチルベンジル、 2, 4, 6 トリメチルベンジル、 3, 4, 5 トリメチルベンジル、 4—メトキシベンジル、 2 —ニトロベンジル、 4—ニトロベンジル、 4—クロ口べンジノレ、 4—ブロモベンジル又は 4—シァノベンジルのような、 C— Cアルキル、 C— Cアルコキシ、ハロゲン、ニトロ A triarylmethyl group having one or more aryl rings substituted with 1; 4-methylbenzyl, 2, 4, 6 trimethylbenzyl, 3, 4, 5 trimethylbenzyl, 4-methoxybenzyl, 2-nitrobenzyl, 4-nitro C-C alkyl, C-C alkoxy, halogen, nitro, such as benzyl, 4-chlorobenzene, 4-bromobenzyl or 4-cyanbenzyl
1 4 1 4  1 4 1 4
又はシァノ基でァリール環が置換された C—C ァラルキル基;メトキシカルボニル、 Or a C—C aralkyl group in which the aryl ring is substituted with a cyano group; methoxycarbonyl,
7 15  7 15
エトキシカルボ-ル、 tert ブトキシカルボ-ル又はイソブトキシカルボ-ルのような C — Cアルコキシカルボ-ル基; 2, 2, 2—トリクロ口エトキシカルボ-ルような C— CC — C alkoxycarbo group such as ethoxycarbol, tert butoxycarboro or isobutoxycarbol; C—C such as 2, 2, 2-trichloro-orthoethoxycarbo
1 4 1 4 ハロゲン化アルコキシカルボ-ル基;ビュルォキシカルボ-ル又はァリルォキシカル ボニルのような c Cァルケ-ルォキシカルボ-ル基;ベンジルォキシカルボ-ル、 1 4 1 4 Halogenated alkoxycarbol group; buroxycarboxyl or aryloxycar C C-alkoxycarboxyl groups such as bonyl; benzyloxycarbol,
2 5  twenty five
4ーメトキシベンジルォキシカルボニル、 3, 4—ジメトキシベンジルォキシカルボニル 、 2一二トロべンジルォキシカルボニル又は 4一二トロべンジルォキシカルボニルのよ うな、 1又は 2個の C—Cアルコキシ若しくは-トロ基でァリール環が置換されていて  1 or 2 C-C alkoxy, such as 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 2-12 trobenzyloxycarbonyl, or 4-12 trobenzyloxycarbonyl Or the aryl ring is substituted with a -tro group
1 4  14
もよい C— C ァラルキルォキシカルボ-ル基;或いは、トリメチルシリル、トリェチルシ C—C aralkyloxycarbonyl group; or trimethylsilyl, triethylyl
7 15 7 15
リル、イソプロピルジメチルシリル、 tert ブチルジメチルシリル、ジイソプロピルメチ ルシリル、ジー tert ブチルメチルシリル、トリイソプロビルシリル、メチルジフヱニルシ リル、ブチルジフエニルシリル、イソプロピルジフエ二ルシリル又はジイソプロピルフエ -ルシリルのようなシリル基であり得、好適には、 C—C分枝鎖アルキル基;テトラヒド  Such as lyl, isopropyldimethylsilyl, tertbutyldimethylsilyl, diisopropylmethylsilyl, ditertbutylmethylsilyl, triisopropylpropylsilyl, methyldiphenylsilyl, butyldiphenylsilyl, isopropyldiphenylsilyl, or diisopropylphenylsilyl A silyl group, preferably a C—C branched alkyl group; tetrahydride
3 6  3 6
ロビラニル基; 1乃至 3個の C C ァリール及び C Cアルキルからなるァラルキル  Robilanyl groups; aralkyls consisting of 1 to 3 C C aryls and C C alkyls
6 10 1 3  6 10 1 3
基;或いは、 C Cアルキル又は C Cアルコキシ基でァリール環が置換された C  A group; or C wherein the aryl ring is substituted with a C C alkyl or C C alkoxy group
1 4 1 4 7 1 4 1 4 7
— C ァラルキル基であり、更に好適には、テトラヒドロピラン一 2—ィル、トリフエ-ルメ— A C aralkyl group, more preferably tetrahydropyran-2-yl, triphenyl
15 15
チル、トリメチルシリル又は tert ブチルジメチルシリルであり、特に好適には、テトラ ヒドロピラン一 2—ィル又はトリフエニルメチルである。  Tyl, trimethylsilyl or tert butyldimethylsilyl, particularly preferably tetrahydropyran-2-yl or triphenylmethyl.
[0049] R3の定義における「C— Cアルカンスルホ-ルォキシ基」は、好適には、メタンスル [0049] "C—C alkanesulfo-loxy group" in the definition of R 3 is preferably methanesulfur
1 4  14
ホ-ルォキシ又はエタンスルホ-ルォキシであり、特に好適には、メタンスルホ -ルォ キシである。  It is hydroxyl or ethanesulfoloxy, particularly preferably methanesulfoloxy.
[0050] R3の定義における「C— Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基」は、上記「ハロゲン [0050] "C—C haloalkanesulfo-loxy group" in the definition of R 3 is the above-mentioned "halogen"
1 4  14
原子」(好適には、フッ素原子)で置換された C Cアルカンスルホ-ルォキシ基で  A C C alkanesulfo-loxy group substituted with an atom (preferably a fluorine atom)
1 4  14
あり、好適には、トリフルォロメタンスルホ-ルォキシ又はペンタフルォロェタンスルホ -ルォキシであり、特に好適には、トリフルォロメタンスルホ-ルォキシである。  Yes, preferred is trifluoromethane sulfo-oxy or pentafluoroethane sulfo-oxy, and particularly preferred is trifluoromethane sulfo-oxy.
[0051] R3の定義における「置換基群 β力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていても よい C— C ァリールスルホ-ルォキシ基」は、ァリール部分が置換基群 |8力 選択[0051] In the definition of R 3 "substituent group β-force may be substituted with 1 to 3 groups optionally substituted C—C arylaryl-sulfoxy group", the aryl moiety is a substituent group | 8 forces selected
6 10 6 10
される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい、 C—C ァリールスルホニルォキシ基  A C—C arylsulfonyloxy group optionally substituted by 1 to 3 groups
6 10  6 10
であり、好適には、置換基群 β力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよ いベンゼンスルホ-ルォキシ基であり、更に好適には、ベンゼンスルホ -ルォキシ、 2 一二トロベンゼンスノレホニノレォキシ、 4一二トロベンゼンスノレホニノレォキシ、 4 クロ口 ベンゼンスルホニルォキシ、 4 メチルベンゼンスルホニルォキシ又は 4 トリフルォ ロメチルベンゼンスルホ-ルォキシであり、特に好適には、 4 クロ口ベンゼンスルホ ニルォキシである。 Preferred is a benzenesulfo-loxy group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group β force, and more preferred is benzenesulfo-loxy, 2 12 Trobenzene senorephonino reoxy, 4 or 12 trobenzene senorephonino reoxy, 4 black mouth benzene sulfonyloxy, 4 methylbenzene sulfonyloxy or 4 trifluro Romethylbenzenesulfoxy-oxy, particularly preferably 4-chlorobenzene sulfonyloxy.
[0052] G1の定義における「C— Cアルキレン基」は、例えば、メチレン、エチレン、トリメチ [0052] "C-C alkylene group" in the definition of G 1 is, for example, methylene, ethylene, trimethyl
1 6  1 6
レン、プロピレン、テトラメチレン、 1ーメチルトリメチレン、 2—メチルトリメチレン、 1, 1 ージメチルエチレン、ペンタメチレン、 1, 1ージメチルトリメチレン、 2, 2—ジメチルトリ メチレン、 1, 2—ジメチルトリメチレン又はへキサメチレン基のような直鎖若しくは分枝 鎖アルキレン基であり得、好適には、 C— Cアルキレン基であり、更に好適には、 C  Lene, propylene, tetramethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 1,1-dimethylethylene, pentamethylene, 1,1-dimethyltrimethylene, 2,2-dimethyltrimethylene, 1,2-dimethyl It may be a linear or branched alkylene group such as a trimethylene or hexamethylene group, preferably a C—C alkylene group, and more preferably a C—C alkylene group.
1 3 1 1 3 1
-c直鎖アルキレン基であり、より更に好適には、メチレン又はエチレンであり、最も-c straight chain alkylene group, even more preferably methylene or ethylene, most
3 Three
好適にはエチレンである。  Preferred is ethylene.
[0053] G3の定義における「C— Cアルキレン基」は、エチレン、トリメチレン又はプロピレン [0053] “C—C alkylene group” in the definition of G 3 means ethylene, trimethylene or propylene
2 3  twenty three
であり、好適には、エチレン又はトリメチレンであり、特に好適には、エチレンである。 尚、 G3が C— Cアルキレン基である場合、 R3は、好適には、水酸基、保護された水 And preferably ethylene or trimethylene, particularly preferably ethylene. When G 3 is a C—C alkylene group, R 3 is preferably a hydroxyl group, protected water
2 3  twenty three
酸基、 c -cハロアルカンスルホニルォキシ基、 c -cアルカンスルホニルォキシ Acid group, c-c haloalkanesulfonyloxy group, c-c alkanesulfonyloxy group
1 4 1 4 1 4 1 4
基、又は置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C -C  Group or substituent group j8 force C 1 -C optionally substituted by 1 to 3 groups selected
6 10 ァリールスルホニルォキシ基である。  6 10 is an arylsulfonyloxy group.
[0054] G3の定義における「C -Cアルケニレン基」は、ビニレン、 1 プロぺニレン又は 2 [0054] "C 3 -C alkenylene group" in the definition of G 3 means vinylene, 1 propenylene or 2
2 3  twenty three
プロぺニレンであり、特に好適には、ビニレンである。尚、 G3が、 C -Cアルケニレ Propenylene, particularly preferably vinylene. G 3 is C -C Alkenile
2 3 ン基である場合、 R3は、好適には、水素原子である。 When it is a 2 3 group, R 3 is preferably a hydrogen atom.
[0055] G3の定義における「C— Cアルキ-レン基」は、ェチ-レン、 1—プロピ-レン又は [0055] “C—C alkylene group” in the definition of G 3 is ethylene, 1-propylene or
2 3  twenty three
2—プロピ-レンであり、特に好適には、ェチ-レンである。尚、 G3が、 C— Cァルケ 2-propylene, particularly preferably ethylene. G 3 is C-C
2 3 二レン基である場合、 R3は、好適には、水素原子である。 When it is a 2 3 diylene group, R 3 is preferably a hydrogen atom.
[0056] 置換基群 a及び置換基群 βの定義における「C— Cハロゲンィ匕アルキル基」は、 [0056] “C—C halogeni 匕 alkyl group” in the definition of substituent group a and substituent group β is:
1 4  14
上記「ノヽロゲン原子」で置換された C— Cアルキル基であり、好適には、トリフルォロ  C—C alkyl group substituted with the above “norogen atom”, preferably trifluoro
1 4  14
メチル、トリクロロメチル、ジフルォロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルォロ メチル、 2, 2, 2—トリクロロェチル、 2, 2, 2—トリフルォロェチル、 2—ブロモェチル、 2—クロロェチル、 2—フルォロェチル又は 2, 2—ジブロモェチルであり、更に好適に は、トリフルォロメチル、トリクロロメチル、ジフルォロメチル又はフルォロメチルであり、 特に好適には、トリフルォロメチルである。 [0057] 置換基群 βの定義における「C— Cアルキル基」は、メチル、ェチル、プロピル、ィ Methyl, trichloromethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, dibromomethyl, fluoromethyl, 2, 2, 2-trichloroethyl, 2, 2, 2-trifluoroethyl, 2-bromoethyl, 2-chloroethyl, 2-fluoroethyl or 2 , 2-dibromoethyl, more preferably trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoromethyl or fluoromethyl, and particularly preferably trifluoromethyl. [0057] "C—C alkyl group" in the definition of substituent group β means methyl, ethyl, propyl,
1 4  14
ソプロピル、ブチル、イソブチル、 sec ブチル又は tert ブチルであり、好適には、 メチル又はェチルであり、特に好適には、メチルである。  Sopropyl, butyl, isobutyl, sec butyl or tert butyl, preferably methyl or ethyl, particularly preferably methyl.
[0058] Yの定義における脱離基は、例えば、塩素原子、臭素原子もしくは沃素原子のよう なハロゲン原子;メトキシカルボ-ルォキシもしくはエトキシカルボ-ルォキシのような[0058] The leaving group in the definition of Y is, for example, a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; methoxycarboxoxy or ethoxycarboxoxy.
C Cアルコキシカルボ-ルォキシ基;メタンスルホ-ルォキシもしくはエタンスルホC C alkoxycarboxyloxy group; methanesulfoloxy or ethanesulfo
2 5 twenty five
-ルォキシのような C—Cアルカンスルホ-ルォキシ基;トリフルォロメタンスルホ- C-C alkanesulfo-loxy groups such as -luoxy; trifluoromethanesulfo-
1 4 14
ルォキシもしくはペンタフルォロエタンスルホ-ルォキシのような C—Cハロアルカン  C—C haloalkanes such as ruoxy or pentafluoroethanesulfo-luoxy
1 4  14
スルホ -ルォキシ基;又はベンゼンスルホ -ルォキシ、 2— -トロベンゼンスルホ-ル ォキシ、 4一二トロベンゼンスルホニルォキシ、 4 クロ口ベンゼンスルホニルォキシ、 4 メチルベンゼンスルホニルォキシ又は 4 トリフルォロメチルベンゼンスルホニル ォキシのような置換基群 β力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C  A sulfo-loxy group; or benzene sulfo-loxy, 2--trobenzene sulfoloxy, 4-12 trobenzenesulfonyloxy, 4-chlorobenzenesulfonyloxy, 4 methylbenzenesulfonyloxy or 4 trifluoromethyl Substituent group such as benzenesulfonyloxy β force optionally substituted with 1 to 3 selected groups C
6 C ァリールスルホ-ルォキシ基であり得、好適には、メタンスルホ -ルォキシ、トリ It can be a 6 C arylsulfoloxy group, preferably methanesulfoloxy, tri
10 Ten
フルォロメタンスルホニルォキシ、ベンゼンスルホニルォキシ、 4一二トロベンゼンスル ホニルォキシ、 4 クロ口ベンゼンスルホニルォキシ又は 4 メチルベンゼンスルホ二 ルォキシであり、より更に好適には、メタンスルホ-ルォキシ又は 4 クロ口ベンゼンス ルホニルォキシであり、特に好適には、 4 クロ口ベンゼンスルホニルォキシである。  Fluoromethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, 4-nitrobenzenesulfonyloxy, 4-chlorobenzene sulfonylsulfonyl or 4-methylbenzenesulfonyloxy, and more preferably methanesulfo-oxyloxy or 4-chlorobenzene. Benzenesulfonyloxy, particularly preferably 4-chlorobenzene sulfonylsulfonyloxy.
Xの定義における C—Cアルキルカルボ-ルォキシ基の C—Cアルキルは、置換  C—C alkyl in the C—C alkylcarbo-oxy group in the definition of X is substituted
1 4 1 4  1 4 1 4
基群 j8の定義における「C— Cアルキル基」と同意義を示し、好適にはビバロイル基  Shows the same meaning as “C—C alkyl group” in the definition of group j8, preferably a bivaloyl group
1 4  14
である。  It is.
[0059] Xの定義における C—Cアルコキシカルボ-ルォキシ基の C—Cアルコキシは、  [0059] C—C alkoxy of the C—C alkoxycarboxoxy group in the definition of X is
1 4 1 4  1 4 1 4
R1及び置換基群 αの定義における「C— Cアルコキシ基」と同意義を示し、好適に R 1 and the same meaning as “C—C alkoxy group” in the definition of substituent group α,
1 4  14
は tert ブトキシカルボ-ル基である。  Is a tert-butoxycarbonyl group.
一般式 (4)を有する化合物の塩及び一般式 (4' )を有する化合物の塩、並びに、一 般式 (5)を有する化合物の薬理上許容される塩は、例えば、塩酸塩、硫酸塩若しく は燐酸塩のような無機酸塩;又は、酢酸塩、シユウ酸塩、フマル酸塩若しくはコハク酸 塩のような有機酸塩であり得、一般式 (4)若しくは一般式 (4 ' )を有する化合物の塩と しては、好適には、塩酸塩、硫酸塩又はシユウ酸塩であり、一般式(5)を有する化合 物の薬理上許容される塩としては、好適には、塩酸塩又はフマル酸塩である。 The salt of the compound having the general formula (4) and the salt of the compound having the general formula (4 ′), and the pharmacologically acceptable salt of the compound having the general formula (5) are, for example, hydrochloride, sulfate Or an inorganic acid salt such as a phosphate; or an organic acid salt such as acetate, oxalate, fumarate or succinate, and may have the general formula (4) or (4 ') The salt of the compound having a preferable salt is a hydrochloride, sulfate or oxalate, and the compound having the general formula (5) The pharmacologically acceptable salt of the product is preferably hydrochloride or fumarate.
本発明は、下記く A法〉にしたがって実施される。  The present invention is carried out according to the following <Method A>.
く A >  A>
[0060] [化 19]  [0060] [Chemical 19]
O  O
Figure imgf000020_0001
Figure imgf000020_0001
第 3工程3rd process
Figure imgf000020_0002
Figure imgf000020_0002
[0061] (式中、
Figure imgf000020_0003
X及び Yは前記と同意義を示す。 )
[0061] (where
Figure imgf000020_0003
X and Y are as defined above. )
第 1工程は、化合物 (4)又はその塩と化合物(5)とを、不活性溶媒中、塩基の存在 下で反応させて、化合物(1)を製造する工程である。  The first step is a step of producing compound (1) by reacting compound (4) or a salt thereof with compound (5) in an inert solvent in the presence of a base.
[0062] 使用される不活性溶媒は、反応を害さず、出発物質を溶解するものであれば特に 限定は無ぐ例えば、へキサン、ヘプタン、リグ口イン又は石油エーテルのような脂肪 族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;メチレン クロリド、クロロホノレム、四塩ィ匕炭素、 1, 2—ジクロ口エタン、クロ口ベンゼン又はジクロ 口ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル 、酢酸ブチル又は炭酸ジェチルのようなエステル類;ジェチルエーテル、ジイソプロ ピルエーテル、 tert—ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラ ヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン又はジエチレングリコールジメチルエーテ ルのようなエーテル類;アセトン、ェチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホ ロン又はシクロへキサノンのようなケトン類;ニトロェタン又はニトロベンゼンのような二 トロ化合物類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル又はイソブチ口-トリルのような-トリル 類;ホルムアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミド、 N—メ チルピロリジノン又はへキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキ シド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類;メタノール、エタノール、プロ ノ V—ル又はブタノールのようなアルコール類;水;或いはこれらの混合液であり得、 好適には、芳香族炭化水素類、エーテル類、二トリル類、水又はその混合物であり、 更に好適には、トルエン、テトラヒドロフラン、ァセトニトリル、水又はその混合物である [0062] The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not impair the reaction and dissolves the starting material. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, lignin, or petroleum ether. Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chlorohonolem, tetrasalt 匕 carbon, 1,2-dichlorodiethylethane, blackdien benzene or dicyclodiene benzene Esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate; jetyl ether, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl Ethers such as ether; acetone, eth Methyl ketone, isobutyl methyl ketone, isophorone Ketones such as rhone or cyclohexanone; nitrogen compounds such as nitroethane or nitrobenzene; -tolyls such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyric-tolyl; formamide, N, N dimethylformamide, N, N Amides such as dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides or sulfones such as dimethylsulfoxide or sulfolane; such as methanol, ethanol, propanol V or butanol Water; or a mixture thereof, preferably aromatic hydrocarbons, ethers, nitriles, water or mixtures thereof, more preferably toluene, tetrahydrofuran, acetonitrile, Water or a mixture thereof
[0063] [0063]
使用される塩基は、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に 限定はなぐ例えば、 N—メチルモルホリン、トリメチルァミン、トリェチルァミン、トリプ 口ピルァミン、トリブチルァミン、 N, N ジイソプロピルェチルァミン、ジシクロへキシ ルァミン、 N—メチルビペリジン、 N メチルピロリジン、ピリジン、 4 ピロリジノピリジ ン、ピコリン、 4 ジメチルァミノピリジン、 2, 6 ジ(tert—ブチル) 4—メチルピリジ ン、イミダゾール、 N—メチルイミダゾール、キノリン、 N, N ジメチルァ-リン、 N, N —ジェチノレア-リン、 1, 5 ジァザビシクロ [4. 3. 0]ノナ一 5 ェン(DBN)、 1, 4— ジァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン(DABCO)又は 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]ゥ ンデ力— 7—ェン (DBU)のような有機塩基類であり得、好適には、トリェチルァミン及 び N, N ジイソプロピルェチルァミンであり、特に好適には、トリェチルァミンである。  The base used is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction, for example, N-methylmorpholine, trimethylamine, triethylamine, trippyramine, tributylamine, N, N diisopropyl ester. Tyramine, dicyclohexylamine, N-methylbiperidine, N-methylpyrrolidine, pyridine, 4-pyrrolidinopyridin, picoline, 4 dimethylaminopyridine, 2,6-di (tert-butyl) 4-methylpyridin, imidazole, N-methyl Imidazole, quinoline, N, N dimethylaline, N, N — jetinorealine, 1, 5 diazabicyclo [4. 3. 0] nona 5 hen (DBN), 1, 4— diazabicyclo [2.2.2] It can be an organic base such as octane (DABCO) or 1,8 diazabicyclo [5.4.0] unde force—7-ene (DBU), preferably Chiruamin 及 beauty N, an N-diisopropyl E chill § Min, particularly preferably a Toryechiruamin.
[0064] 反応温度は、通常、 20°C乃至 100°C (好適には、 5°C乃至 10°C)であり、反応 時間は、反応温度等によっても異なる力 通常、 5分間乃至 24時間(好適には、 10 分間乃至 2時間)である。 [0064] The reaction temperature is usually 20 ° C to 100 ° C (preferably 5 ° C to 10 ° C), and the reaction time depends on the reaction temperature, etc. Usually 5 minutes to 24 hours (Preferably 10 minutes to 2 hours).
尚、 Xが水酸基の場合、溶媒中、上記塩基の存在又は非存在下に、「縮合剤」で反 応させること〖こよっても達成される。使用される縮合剤は、ジェチルホスホリルシア- ド、ジフエ-ルホスホリルシア-ドのようなリン酸エステル類; 1, 3 ジシクロへキシル カルボジイミド、 1, 3 ジイソプロピルカルボジイミド、 3—(3 ジメチルァミノプロピル )一 1 ェチルカルボジイミドのようなカルボジイミド類;上記カルボニルジイミド類と N —ヒドロキシスクシンイミド、 1—ヒドロキシベンゾトリァゾール、 N ヒドロキシ一 5 ノル ボルネン一 2, 3 ジカルボキシイミドのような N ヒドロキシ類との組みあわせ; N, N ,一ジスクシンイミジノレカーボネート、ジー2—ピリジルカーボネート、 S, S,一ビス(1 フエ-ルー 1H—テトラゾールー 5 ィル)ジチォカーボネートのようなカーボネート 類; N, N,一ビス(2—ォキソ 3—ォキサゾリジ-ル)ホスフィニッククロライドのような ホスフィニック クロリド類; N, N,一ジスクシンィミジルォキザレート、 N, N,一ジフタ ルイミドォキザレート、 1, 1,一ビス(ベンゾトリァゾリル)ォキザレートのようなォキザレ ート類; 2—クロロー 1 メチルピリジ -ゥム ョーダイドのような 2—ハロー 1 低級ァ ルキルピリジ-ゥム ハライド類; 1, 1,一ォキザリルジイミダゾール、 N, N,一カルボ -ルジイミダゾールのようなイミダゾール類;フエ-ルジクロ口ホスフェート、ポリホスフ エートエステルのようなホスフェート類; 1 プロパンホスホン酸環状無水物のようなホ スホン酸環状無水物類;クロロスルホ-ルイソシァネートのようなハロゲノスルホ-ルイ ソシァネート類;トリメチルシリルクロリド、トリェチルシリルクロリドのようなハロゲノシラ ン類;メタンスルホユルクロリドのような低級アルカンスルホ-ルハライド類;を挙げるこ とができ、好適にはホスホン酸環状無水物類又は低級アルカンスルホ二ルノヽライド類 である。 In the case where X is a hydroxyl group, the reaction can be achieved by reacting with a “condensing agent” in the presence or absence of the base in a solvent. The condensing agents used are phosphate esters such as jetyl phosphoryl cyanide and diphenyl phosphoryl cyanide; 1,3 dicyclohexylcarbodiimide, 1,3 diisopropylcarbodiimide, 3- (3 dimethylamino) Propyl) carbodiimides such as 11 ethyl carbodiimide; carbonyl diimides and N —Hydroxysuccinimide, 1-hydroxybenzotriazole, combinations with N hydroxys such as N-hydroxy-5-norbornene-1,3-dicarboximide; N, N, 1-disuccinimidinocarbonate, di-2-pyridyl Carbonates, carbonates such as S, S, monobis (1 ferro 1H-tetrazol-5 yl) dithiocarbonate; N, N, monobis (2-oxo-3-oxazolidyl) phosphinic chloride Phosphinic chlorides such as N, N, monodisuccinimidyl oxalate, N, N, monodiphthalimido oxalate, 1, 1, 1 bis (benzotriazolyl) oxalate 2—Chloro-1 methyl pyridyl-mu-iodide-like 2-halo 1 lower alkyl pyridi-um halides; 1, 1, 1 Imidazoles such as xalyldiimidazole, N, N, carbodidiimidazole; phosphates such as phenol diclonal phosphate, polyphosphate ester; 1 Phosphonic acid cyclic anhydride such as propanephosphonic acid cyclic anhydride Substances; halogenosulfo-sulfonic isocyanates such as chlorosulfurisocyanate; halogenosilans such as trimethylsilyl chloride and triethylsilyl chloride; lower alkanesulfol halides such as methanesulfuryl chloride; Preferred are phosphonic acid cyclic anhydrides or lower alkanesulfonuronides.
使用される不活性溶媒は、反応を害さず、出発物質を溶解するものであれば特に 限定は無ぐ例えば、へキサン、ヘプタン、リグ口イン又は石油エーテルのような脂肪 族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;メチレン クロリド、クロロホノレム、四塩ィ匕炭素、 1, 2—ジクロ口エタン、クロ口ベンゼン又はジクロ 口ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル 、酢酸ブチル又は炭酸ジェチルのようなエステル類;ジェチルエーテル、ジイソプロ ピルエーテル、 tert ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラ ヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン又はジエチレングリコールジメチルエーテ ルのようなエーテル類;アセトン、ェチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホ ロン又はシクロへキサノンのようなケトン類;ニトロェタン又はニトロベンゼンのような二 トロ化合物類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル又はイソブチ口-トリルのような-トリル 類;ホルムアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミド、 N—メ チルピロリジノン又はへキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキ シド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類を挙げることができる。 The inert solvent used is not particularly limited as long as it does not impair the reaction and dissolves the starting material. For example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, lignin or petroleum ether; benzene , Aromatic hydrocarbons such as toluene or xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chlorohonolem, tetrasalt-carbon, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene or dichlorobenzene; , Esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate; such as jetyl ether, diisopropyl ether, tert butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether Ethers; acetone, ethylmethyl Ketones such as ketones, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexanone; nitrogen compounds such as nitroethane or nitrobenzene; -tolyls such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyric-tolyl; formamide, N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide, N- Mention may be made of amides such as tilpyrrolidinone or hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane.
第 2工程は、化合物(1)の一級水酸基を、不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存 在下で、脱離基 Yに変換することにより、化合物(2)を製造する工程である。  The second step is a step of producing the compound (2) by converting the primary hydroxyl group of the compound (1) into a leaving group Y in the presence or absence of a base in an inert solvent.
[0066] 使用される不活性溶媒は、例えば、へキサン、ヘプタン、リグ口イン又は石油エーテ ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化 水素類;メチレンクロリド又はクロロホノレム、四塩化炭素、 1, 2—ジクロロエタン、クロ口 ベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸ェチル、酢酸ェ チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジェチルのようなエステル類;ジェチルェ テル、ジイソプロピルエーテル、 tert ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチ ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン又はジエチレングリコー ルジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトン、ェチルメチルケトン、イソブチルメ チルケトン、イソホロン又はシクロへキサノンのようなケトン類;ニトロェタン又は-トロ ベンゼンのような-トロ化合物類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル又はイソブチ口-トリ ルのような-トリル類;ホルムアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァ セトアミド、 N—メチルピロリジノン又はへキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類; ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類;メタノール 、エタノール、プロパノール又はブタノールのようなアルコール類;水;又はこれらの混 合液であり得、好適には、芳香族炭化水素類、エーテル類、二トリル類、水又はその 混合物であり、更に好適には、トルエン、テトラヒドロフラン、ァセトニトリル、水又はそ の混合物である。 [0066] Inert solvents used are, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, lignin or petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; methylene chloride Or halogenated hydrocarbons such as chlorohonolem, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black benzene or dichlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or decyl carbonate; Ethers such as ter, diisopropyl ether, tert butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl methyl ketone, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexyl Ketones such as sanone; -toro compounds such as nitroethane or -torobenzene; -tolyls such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyric-tolyl; formamide, N, N dimethylformamide, N, N dimethyla Amides such as cetamide, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphorotriamide; Sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol or butanol; Water; or a mixture thereof It may be a mixed solution, preferably aromatic hydrocarbons, ethers, nitriles, water or a mixture thereof, more preferably toluene, tetrahydrofuran, acetonitrile, water or a mixture thereof.
[0067] 使用される塩基は、例えば、水酸化リチウム、水酸ィ匕ナトリウム又は水酸ィ匕カリウム のようなアルカリ金属水酸化物類;水酸化カルシウム又は水酸化バリウムのようなアル カリ土類金属水酸ィ匕物類;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチ ゥム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸 カルシウム又は炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩類;水素化リチウム、水 素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リン酸三カリウム又 はリン酸三ナトリウムのようなアルカリ金属リン酸塩;リチウムメトキシド、リチウムェトキ シド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム tert ブトキシド、カリウムメ トキシド、カリウムエトキシド又はカリウム tert ブトキシドのようなアルカリ金属アルコ キシド類;又は N—メチルモルホリン、トリメチルァミン、トリエチルァミン、トリプロピルァ ミン、トリブチルァミン、 N, N ジイソプロピルェチルァミン、ジシクロへキシルァミン、 N—メチノレビペリジン、 N—メチノレピロリジン、ピリジン、 4 ピロリジノピリジン、ピコリン 、 4 ジメチルァミノピリジン、 2, 6 ジ(tert—ブチル)—4—メチルピリジン、イミダゾ ール、 N—メチルイミダゾール、キノリン、 N, N ジメチルァニリン、 N, N ジェチル ァ-リン、 1 , 5 ジァザビシクロ [4. 3. 0]ノナ一 5 ェン(DBN)、 1 , 4 ジァザビシ クロ [2. 2. 2]オクタン(DABCO)又は 1 , 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]ゥンデ力一 7 ーェン (DBU)のような有機アミン類であり得、好適にはアルカリ金属水酸化物類で あり、特に好適には、水酸ィ匕ナトリウム又は水酸ィ匕カリウムである。 [0067] Bases used are, for example, alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; alkali earths such as calcium hydroxide or barium hydroxide Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metals such as calcium carbonate or barium carbonate Carbonates; alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxide, lithium ether Sid, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert butoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide or alkali metal alkoxides such as potassium tert butoxide; or N-methylmorpholine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, Tributylamine, N, N Diisopropylethylamine, Dicyclohexylamine, N-Methylenobiperidine, N-Methylolpyrrolidine, Pyridine, 4 Pyrrolidinopyridine, Picoline, 4 Dimethylaminopyridine, 2, 6 Di (Tert-butyl) -4-methylpyridine, imidazole, N-methylimidazole, quinoline, N, N dimethylaniline, N, N jetylline, 1, 5 diazabicyclo [4. 3. 0] nona 5 (DBN), 1, 4 Jazabishi Black [2.2.2] Octane (DABCO) May be organic amines such as 1,8 diazabicyclo [5.4.0] unde force (DBU), preferably alkali metal hydroxides, particularly preferably hydroxy Sodium or potassium hydroxide.
使用される塩基の量は、好適には、 1当量の化合物 (4)に対して 2当量乃至 60当 量であり、更に好適には、 10当量乃至 25当量であり、かかる塩基は、一度に若しくは 徐々に加えることができる。  The amount of the base used is preferably 2 equivalents to 60 equivalents, more preferably 10 equivalents to 25 equivalents, relative to 1 equivalent of compound (4). Or can be added gradually.
塩基としてアルカリ金属水酸ィ匕物類を用いる場合、その粒度は、好適には、 425 μ m以下であり、更に好適には、 212 m以下であり、特に好適には、 180 m以下で ある。  When alkali metal hydroxides are used as the base, the particle size is preferably 425 μm or less, more preferably 212 m or less, and particularly preferably 180 m or less. .
脱離基 Yを形成する試薬としては対応するハロゲン化物を使用し、かかる試薬とし ては、好適には、メタンスルホ-ルクロリド、ベンゼンスルホ-ルクロリド、 4 メチルベ ンゼンスノレホニノレクロリド、 4 クロ口ベンゼンスノレホニノレクロリド、 2 ニトロベンゼンス ルホ-ルクロリド又は 4 -トロベンゼンスルホユルクロリドであり、特に好適には、 4 クロ口ベンゼンスルホニルクロリドである。  The corresponding halide is used as a reagent for forming the leaving group Y, and as such a reagent, methanesulfuryl chloride, benzenesulfuryl chloride, 4-methylbenzenesulphoninorechloride, 4-chlorobenzenes Honinole chloride, 2-nitrobenzenesulfur chloride or 4-trobenzenesulfuryl chloride, particularly preferably 4-chlorobenzenesulfonyl chloride.
反応温度は、好適には 40°C乃至 0°C (更に好適には、 35°C乃至 25°C又は — 5°C乃至 0°C、特に好適には— 35°C乃至— 25°C)であり、反応時間は、反応温度 等によっても異なる力 通常、 15分間乃至 24時間(好適には、 30分間乃至 2時間) である。  The reaction temperature is preferably 40 ° C to 0 ° C (more preferably 35 ° C to 25 ° C or — 5 ° C to 0 ° C, particularly preferably —35 ° C to —25 ° C The reaction time varies depending on the reaction temperature and the like, and is usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 2 hours).
第 3工程は、化合物 (2)を、不活性溶媒中、塩基の存在下で環化させて、化合物( 3)を製造する工程である。 [0068] 使用される不活性溶媒は、例えば、へキサン、ヘプタン、リグ口イン又は石油エーテ ルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化 水素類;メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、 1, 2—ジクロ口エタン、クロ口べ ンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸ェチル、酢酸ェチ ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジェチルのようなエステル類;ジェチルエー テル、ジイソプロピルエーテル、 tert ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチル エーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン又はジエチレングリコール ジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトン、ェチルメチルケトン、イソブチルメチ ルケトン、イソホロン又はシクロへキサノンのようなケトン類;ニトロエタン又は-トロベン ゼンのような-トロ化合物類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル又はイソブチ口-トリルの ような-トリル類;ホルムアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセト アミド、 N—メチル 2—ピロリドン、 N—メチルピロリジノン又はへキサメチルホスホロト リアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド類 又はスルホン類;メタノール、エタノール、プロパノール又はブタノールのようなアルコ ール類;水;又はこれらの混合液であり得、好適には、芳香族炭化水素類、エーテル 類、二トリル類、水又はその混合物であり、更に好適には、トルエン、テトラヒドロフラン 、ァセトニトリル、水又はその混合物である。 The third step is a step of producing compound (3) by cyclizing compound (2) in the presence of a base in an inert solvent. [0068] Inert solvents used are, for example, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, lignin or petroleum ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; methylene chloride , Halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloro ethane, chlorobenzene, or dichlorobenzene; ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate Such esters; ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, tert butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; acetone, ethyl methyl ketone, isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclo Hexa Ketones such as non; nitroethane or -tro compounds such as trobenzene; to-tolyls such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyric-tolyl; formamide, N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide Amides such as N-methyl 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidinone or hexamethyl phosphorotriamide; sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane; alcohols such as methanol, ethanol, propanol or butanol Water; or a mixture thereof, preferably aromatic hydrocarbons, ethers, nitriles, water or a mixture thereof, more preferably toluene, tetrahydrofuran, acetonitrile, water Or a mixture thereof.
[0069] 使用される塩基は、例えば、水酸化リチウム、水酸ィ匕ナトリウム又は水酸ィ匕カリウム のようなアルカリ金属水酸化物類;水酸化カルシウム又は水酸化バリウムのようなアル カリ土類金属水酸ィ匕物類;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチ ゥム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸 カルシウム又は炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩類;水素化リチウム、水 素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リン酸三カリウム又 はリン酸三ナトリウムのようなアルカリ金属リン酸塩;リチウムメトキシド、リチウムェトキ シド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム tert—ブトキシド、カリウムメ トキシド、カリウムエトキシド又はカリウム tert ブトキシドのようなアルカリ金属アルコ キシド類;又は N—メチルモルホリン、トリメチルァミン、トリエチルァミン、トリプロピルァ ミン、トリブチルァミン、 N, N ジイソプロピルェチルァミン、ジシクロへキシルァミン、 N—メチノレビペリジン、 N—メチノレピロリジン、ピリジン、 4 ピロリジノピリジン、ピコリン 、 4 ジメチルァミノピリジン、 2, 6 ジ(tert—ブチル)—4—メチルピリジン、イミダゾ ール、 N—メチルイミダゾール、キノリン、 N, N ジメチルァニリン、 N, N ジェチル ァ-リン、 1 , 5 ジァザビシクロ [4. 3. 0]ノナ一 5 ェン(DBN)、 1 , 4 ジァザビシ クロ [2. 2. 2]オクタン(DABCO)又は 1 , 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]ゥンデ力一 7 ーェン (DBU)のような有機アミン類であり得、好適にはアルカリ金属水酸化物類で あり、特に好適には、水酸ィ匕ナトリウム又は水酸ィ匕カリウムである。 [0069] Bases used are, for example, alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; alkali earths such as calcium hydroxide or barium hydroxide Metal hydroxides; alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate or potassium hydrogen carbonate; alkaline earth metals such as calcium carbonate or barium carbonate Carbonates; alkali metal hydrides such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxide, lithium ethoxide Sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert-butoxide, potassium methoxide, potassium Alkali metal alcoholates Kishido, such as Umuetokishido or potassium tert-butoxide; or N- methylmorpholine, Torimechiruamin, Toriechiruamin, Toripuropirua Min, Kishiruamin Toribuchiruamin, N, N-diisopropyl E chill § Min, dicyclohexyl, N-Methylolobiperidine, N-Methylolpyrrolidine, Pyridine, 4 Pyrrolidinopyridine, Picoline, 4 Dimethylaminopyridine, 2, 6 Di (tert-butyl) -4-Methylpyridine, Imidazole, N— Methylimidazole, quinoline, N, N dimethylaniline, N, N jetylaline, 1,5 diazabicyclo [4.3.0] nona5en (DBN), 1,4 diazabicyclo [2. 2. 2] Organic amines such as octane (DABCO) or 1,8 diazabicyclo [5.4.0] Unde force 7-en (DBU), preferably alkali metal hydroxides, particularly preferred Is sodium hydroxide or potassium hydroxide.
使用される塩基の量は、好適には、 1当量の化合物 (4)に対して 2当量乃至 60当 量であり、更に好適には、 10当量乃至 25当量であり、かかる塩基は、一度に若しくは 徐々に加えることができる。  The amount of the base used is preferably 2 equivalents to 60 equivalents, more preferably 10 equivalents to 25 equivalents, relative to 1 equivalent of compound (4). Or can be added gradually.
塩基としてアルカリ金属水酸ィ匕物類を用いる場合、その粒度は、好適には、 425 μ m以下であり、更に好適には、 212 m以下であり、特に好適には、 180 m以下で ある。  When alkali metal hydroxides are used as the base, the particle size is preferably 425 μm or less, more preferably 212 m or less, and particularly preferably 180 m or less. .
反応温度は、通常、—40°C乃至 20°C (好適には、—40°C乃至 0°C、更に好適には 、— 35°C乃至— 25°C又は— 5°C乃至 0°C、特に好適には— 35°C乃至— 25°C)であ り、反応時間は、反応温度等によっても異なるが、通常、 15分間乃至 24時間(好適 には、 30分間乃至 6時間)である。  The reaction temperature is usually -40 ° C to 20 ° C (preferably -40 ° C to 0 ° C, more preferably -35 ° C to -25 ° C or -5 ° C to 0 °. C, particularly preferably -35 ° C to -25 ° C), and the reaction time varies depending on the reaction temperature, etc., but usually 15 minutes to 24 hours (preferably 30 minutes to 6 hours) It is.
[0070] 化合物(1)及びィ匕合物(2)は単離することなぐ第 1、第 2及び第 3工程を連続的に 行うことちでさる。 [0070] Compound (1) and compound (2) can be obtained by continuously performing the first, second and third steps without isolation.
上記化合物(3)を用いて、下記く 法>にしたがって反応を行うことにより、ニュー 口キュン受容体括抗剤 [化合物 (5) ]を製造することができる。 A novel Kyun receptor antagonist [compound ( 5 )] can be produced by reacting the compound (3) according to the following method.
[0071] [化 20] [0071] [Chemical 20]
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000027_0001
[0072] (式中、 ロアル
Figure imgf000027_0002
[0072] (where
Figure imgf000027_0002
カンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ-ルォキシ基、又は置換基群 j8か  Can sulfo-loxy group, C—C alkane sulfo-loxy group, or substituent group j8
1 4  14
ら選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C C ァリールスルホニルォキ  C C arylsulfonyloxy optionally substituted with 1 to 3 groups selected from
6 10  6 10
シ基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C— Cアルキル基及び C— C  Substituent group j8 represents a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and C—C.
1 4 1 ハロゲンィ匕アルキル基力 なる群を示す。 )  1 4 1 Halogenated alkyl group. )
4  Four
本工程は、化合物(3)と化合物(6)とを、不活性溶媒中、塩基の存在下で反応させ て化合物(5)を製造する工程である。  This step is a step for producing compound (5) by reacting compound (3) and compound (6) in the presence of a base in an inert solvent.
[0073] 使用される不活性溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するも のであれば特に限定はないが、例えば、へキサン、ヘプタン、リグ口イン又は石油ェ 一テルのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族 炭化水素類;ジクロロメタン、クロ口ホルム、四塩化炭素、 1, 2—ジクロロエタン、クロ口 ベンゼン又はジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;蟻酸ェチル、酢酸ェ チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジェチルのようなエステル類;ジェチルェ テル、ジイソプロピルエーテル、 tert ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、 ジォキサン、 1, 2—ジメトキシェタン又はジエチレングリコールジメチルエーテルのよ うなエーテル類;アセトン、ェチルメチルケトン、イソブチルメチルケトン、イソホロン又 はシクロへキサノンのようなケトン類;ニトロエタン又は-トロベンゼンのような-トロイ匕 合物類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル又はイソブチ口-トリルのような-トリル類;ホ ルムアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミド、 N—メチルー 2—ピロリドン、 N メチルピロリジノン又はへキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド 類;或いは、ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン 類であり得、好適には、アミド類、ェ—テル類又は-トリル類であり、更に好適には、 二トリル類であり、特に好適には、ァセトニトリルである。 [0073] The inert solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. For example, hexane, heptane, lignin or petroleum ether Aliphatic hydrocarbons such as; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; halogenated carbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, chloroform or dichlorobenzene Hydrogens; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate; jetyl ether, diisopropyl ether, tert butyl methyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, 1,2-dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether Such ethers; acetone, ethyl methyl ketone , Ketones such as isobutyl methyl ketone, isophorone or cyclohexanone; troethanes such as nitroethane or -trobenzene; -tolyls such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyryl-tolyl; Lumamide, N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide, N-methyl- Amides such as 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidinone or hexamethylphosphoric triamide; or sulfoxides or sulfones such as dimethyl sulfoxide or sulfolane, preferably amides, ethers or -tolyls More preferred are nitriles, and particularly preferred is acetonitrile.
[0074] 使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば 、特に限定はないが、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム若しくは炭酸リチウムのよ うなアルカリ金属炭酸塩類;炭酸カルシウム若しくは炭酸バリウムのようなアルカリ土 類金属炭酸塩類;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム若しくは炭酸水素リチウムの ようなアルカリ金属炭酸水素塩類;水素化リチウム、水素化ナトリウム若しくは水素化 カリウムのようなアルカリ金属水素化物類;水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム若しくは 水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類;又は水酸ィ匕カルシウム若しくは水 酸化バリウムのようなアルカリ土類金属水酸化物類;:或いは、 N メチルモルホリン、 トリエチルァミン、トリプロピルァミン、トリブチルァミン、 N, N ジイソプロピルェチルァ ミン、ジシクロへキシルァミン、 N—メチルビペリジン、ピリジン、 4 ピロリジノピリジン、 ピコリン、 4 ジメチルァミノピリジン、 2, 6 ジ(tert—ブチル) 4—メチルピリジン、 キノリン、 N, N ジメチルァニリン、 N, N ジェチルァニリン、 1, 5 ジァザビシクロ [4. 3. 0]ノンー5 ェン(DBN)、 1, 4ージァザビシクロ [2. 2. 2]オクタン(DABC O)又は 1, 8 ジァザビシクロ [5. 4. 0]ゥンデカー 7 ェン(DBU)のような有機塩 基類であり得、好適には、無機塩基類であり、最も好適には、アルカリ金属炭酸水素 塩類である。尚、反応を促進させる目的で、触媒量の沃化カリウム若しくは沃化ナトリ ゥムのようなアルカリ金属沃化物類を添加することも有用である。  [0074] The base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in a normal reaction. For example, alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate or lithium carbonate; calcium carbonate Or alkaline earth metal carbonates such as barium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or lithium hydrogen carbonate; alkali metal hydrogen such as lithium hydride, sodium hydride or potassium hydride Or alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or lithium hydroxide; or alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide or barium hydroxide; , N-methylmorpholine, triethylamine, tripropylamine , Tributylamine, N, N diisopropylethylamine, dicyclohexylamine, N-methylbiperidine, pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, picoline, 4 dimethylaminopyridine, 2,6 di (tert-butyl) 4-methylpyridine , Quinoline, N, N Dimethylaniline, N, N Jetylaniline, 1,5 Diazabicyclo [4.3.0] Non-5 (DBN), 1,4-Diazabicyclo [2.2.2] octane (DABC O) Or 1, 8 diazabicyclo [5. 4. 0] organic carbonates such as undecaker 7 (DBU), preferably inorganic bases, most preferably alkali metal hydrogen carbonates It is. For the purpose of promoting the reaction, it is also useful to add a catalytic amount of an alkali metal iodide such as potassium iodide or sodium iodide.
[0075] 反応温度は、例えば、 0°C乃至 150°Cであり得、好適には、 20°C乃至 120°Cである  [0075] The reaction temperature may be, for example, 0 ° C to 150 ° C, and preferably 20 ° C to 120 ° C.
[0076] 反応時間は、主に反応温度、原料化合物、反応試薬又は使用される不活性溶媒 の種類によって異なる力 30分間乃至 48時間であり得、好適には、 1時間乃至 12時 間である。 [0076] The reaction time can vary from 30 minutes to 48 hours, and preferably 1 hour to 12 hours, depending mainly on the reaction temperature, the raw material compound, the reaction reagent or the type of inert solvent used. .
反応終了後、 目的化合物は常法に従って、反応混合物から採取される。  After completion of the reaction, the target compound is collected from the reaction mixture according to a conventional method.
[0077] 例えば、反応混合物に水を加えトルエンのような混和しな 、有機溶剤で抽出し、抽 出液を水等で洗浄し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥した後、溶剤を留去することに よって得られる。 [0077] For example, water is added to the reaction mixture, and the mixture is not miscible with toluene. The effluent is washed with water and dried over anhydrous magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off.
[0078] 得られたィ匕合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿、又は、シリカゲル力 ラムクロマトグラフィーで分離、精製することができる。  [0078] If necessary, the obtained compound can be separated and purified by a conventional method such as recrystallization, reprecipitation, or silica gel force chromatography.
上記く A法〉において、化合物 (4)の光学活性体、即ち化合物 (4' )、を用いること により、化合物(1)、化合物(2)及びィ匕合物(3)の光学活性体を製造することができ 、化合物(3)の光学活性体を用いて < 法>にしたがって反応を行うことにより、化 合物(5)の光学活性体を製造することができる。  In the above <Method A>, by using the optically active form of compound (4), that is, compound (4 ′), the optically active form of compound (1), compound (2) and compound (3) is obtained. The optically active form of compound (5) can be produced by carrying out the reaction according to <Method> using the optically active form of compound (3).
[0079] 化合物(4' )において、 R3が水酸基であり、 G3がエチレン基である化合物は、例え ば、下記く C法〉により製造することがで ^る。 [0079] In the compound (4 '), a compound in which R 3 is a hydroxyl group and G 3 is an ethylene group can be produced by, for example, the following method C.
<じ法>  <Oji method>
[0080] [化 21]
Figure imgf000029_0001
第 4工程 第 5工程
[0080] [Chemical 21]
Figure imgf000029_0001
4th process 5th process
(7) (9)  (7) (9)
Figure imgf000029_0002
Figure imgf000029_0002
[0081] (式中、 R2及び G1は前記と同意義を示す。 ) [In the formula, R 2 and G 1 are as defined above.]
第 4工程は、プロペン誘導体(7)とパラホルムアルデヒドとを反応させて 3—ブテン —1—オールィ匕合物(8)を製造する工程である。本工程は、岡地らの方法 (Organic Letters 2002, 4, 1667-1669)に従って実施する力 又は、トリフルォロボラン錯ィ匕合 物(例えば、トリフルォロボラン;トリフルォロボラン'メチルエーテル錯体、トリフルォロ ボラン ·ェチルエーテル錯体、トリフルォロボラン · n—ブチルエーテル錯体のようなト リフルォロボラン .C -Cアルキルエーテル錯体;トリフルォロボラン'メチルスルフイド The fourth step is a step of producing a 3-butene-1-ol compound (8) by reacting the propene derivative (7) with paraformaldehyde. This step can be carried out according to the method of Okachi et al. (Organic Letters 2002, 4, 1667-1669) or a trifluoroborane complex compound (for example, trifluoroborane; trifluoroborane 'methyl ether complex). Trifluoroboranes such as trifluoroborane · ethyl ether complexes, trifluoroborane · n -butyl ether complexes. C -C alkyl ether complexes; trifluoroborane 'methylsulfide
1 4  14
錯体のようなトリフルォロボラン 'C— Cアルキルスルフイド錯体;又はトリフルォロボラ  Trifluoroborane 'C—C alkylsulfide complexes such as complexes; or trifluorobora
1 4  14
ン'テトラヒドロフラン錯体であり得、好適にはトリフルォロボラン 'C— Cアルキルェ 一テル錯体であり、更に好適にはトリフルォロボラン'ェチルエーテル錯体である。 ) 及び塩基 (例えば、水酸化リチウム、水酸ィ匕ナトリウム又は水酸ィ匕カリウムのようなァ ルカリ金属水酸化物類;炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、 炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩類;水素化リチ ゥム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リン酸三力 リウム又はリン酸三ナトリウムのようなアルカリ金属リン酸塩;リチウムメトキシド、リチウ ムェトキシド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム tert ブトキシド、力 リウムメトキシド、カリウムエトキシド又はカリウム tert ブトキシドのようなアルカリ金属 アルコキシド類;又は N—メチルモルホリン、トリエチルァミン、トリブチルァミン、 N, N ージイソプロピルェチルァミン、ジシクロへキシルァミン、 N—メチルビペリジン、ピリジ ン、 4 ピロリジノピリジン、ピコリン、 4ージメチルァミノピリジン、 2, 6 ジ(tert—ブチ ル)—4—メチルピリジン、キノリン、 N, N ジメチルァニリン又は N, N ジェチルァ 二リンのような有機アミン類であり得、好適にはアルカリ金属水酸ィ匕物類、アルカリ金 属アルコキシド類又は有機アミン類であり、更に好適には、アルカリ金属アルコキシド 類又は有機アミン類であり、特に好適には、ナトリウムメトキシド又はトリェチルァミンで ある。 )の存在下でプロペン誘導体(7)とパラホルムアルデヒドとを反応させることによ り実施することができる。 'Tetrahydrofuran complex, preferably trifluoroborane' C—C alkyl One ter complex, more preferably a trifluoroborane'ethyl ether complex. ) And bases (e.g., alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide; lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium bicarbonate or potassium bicarbonate) Alkali metal carbonates such as lithium hydride, alkali metal hydrides such as sodium hydride or potassium hydride; alkali metal phosphates such as tripotassium phosphate or trisodium phosphate; lithium methoxy , Lithium methoxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium tert butoxide, strong alkali metal alkoxides such as methoxide, potassium ethoxide or potassium tert butoxide; or N-methylmorpholine, triethylamine, tributylamine N, N-diisopro Pyrethylamine, dicyclohexylamine, N-methylbiperidine, pyridine, 4 pyrrolidinopyridine, picoline, 4-dimethylaminopyridine, 2,6 di (tert-butyl) -4-methylpyridine, quinoline, N, N dimethylamine It can be organic amines such as niline or N, N jetyl dilin, preferably alkali metal hydroxides, alkali metal alkoxides or organic amines, more preferably alkali metal alkoxides. Or organic amines, particularly preferably sodium methoxide or triethylamine.) It can be carried out by reacting propene derivative (7) with paraformaldehyde in the presence of.
後者の方法については、好適には、反応は不活性溶媒 (例えば、ベンゼン、トルェ ン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル 、酢酸ブチル又は炭酸ジェチルのようなエステル類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル 又はイソブチ口-トリルのような-トリル類;又はジクロロメタン、クロ口ホルム、四塩化 炭素、 1, 2—ジクロロエタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロメチノレベン ゼン又はトリフルォロメチルベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類であり得、好適に は、ハロゲンィ匕炭化水素類であり、更に好適にはジクロロメタンである。 )中でおこな われる。  For the latter method, preferably the reaction is carried out in an inert solvent (e.g. aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate). Esters; -tolyls such as acetonitrile, propio-tolyl or isobutyric-tolyl; or dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black benzene, dichlorobenzene, trichloromethylolene benzene or It may be a halogenated hydrocarbon such as trifluoromethylbenzene, preferably a halogenated hydrocarbon, and more preferably dichloromethane.
使用されるパラホルムアルデヒドの量は、 1当量のプロペン誘導体(7)に対し、 1. 0 乃至 10. 0当量 (好適には、 1. 0当量乃至 2. 0当量)であり、使用されるトリフルォロ ボラン錯ィ匕合物の量は、 1当量のプロペン誘導体(7)に対し、 1. 0乃至 10. 0当量( 好適には、 1. 0当量乃至 3. 0当量)であり、使用される塩基の量は 1当量のプロペン 誘導体(7)に対し、 0. 1当量乃至 1. 0当量 (好適には、 0. 3当量乃至 0. 8当量)で ある。反応温度は、通常、 10°C乃至 20°C (好適には、 5°C乃至 5°C)であり、反 応時間は、通常、 1時間乃至 20時間(好適には、 1時間乃至 8時間)である。 The amount of paraformaldehyde used is 1.0 to 10.0 equivalents (preferably 1.0 to 2.0 equivalents) relative to 1 equivalent of the propene derivative (7). The amount of borane complex compound is 1.0 to 10.0 equivalents per 1 equivalent of propene derivative (7) ( The amount of the base used is preferably 0.1 equivalent to 1.0 equivalent (preferably 0 equivalent) to 1 equivalent of the propene derivative (7). 3 equivalents to 0.8 equivalents). The reaction temperature is usually 10 ° C to 20 ° C (preferably 5 ° C to 5 ° C), and the reaction time is usually 1 hour to 20 hours (preferably 1 hour to 8 ° C). Time).
[0083] 尚、前者の方法(岡地らの方法)を実施する場合には、プロペン誘導体(7)の重量 と同量のモレキュラーシーブを使用しなければならず、モレキュラーシーブの回収再 利用は困難であり産業廃棄物となるので、前者の方法には工業的な実施には適さな いという欠点がある。これに対し、後者の方法は、モレキュラーシーブを使用すること なく 3 ブテン 1 オール化合物(8)を製造することができるので、工業的な実施 【こ; して 0 [0083] When carrying out the former method (Okachi et al. Method), it is necessary to use the same amount of molecular sieve as the weight of the propene derivative (7), and it is difficult to recover and reuse the molecular sieve. However, the former method is disadvantageous in that it is not suitable for industrial implementation. In contrast, the latter method, it is possible to produce 3-butene 1-ol compound (8) without the use of molecular sieves, industrial practice [this; to 0
第 5工程は、 3 ブテン— 1—オールィ匕合物(8)を不斉エポキシ化し、化合物(9)を 製造する工程である。本工程は、岡地らの方法(Organic Letters 2003, 5, 85-87)に 従って実施するか、又は、不活性溶媒中、モレキュラーシーブス及びジルコニウム (I V)アルコキシド(例えば、ジルコニウム(IV)エトキシド、ジルコニウム(IV)プロポキシ ド、ジルコニウム(IV)イソプロポキシド、ジルコニウム(IV)ブトキシド又はジルコニウム (IV) tert ブトキシドであり、好適にはジルコニウム(IV)イソプロポキシド又はジルコ -ゥム (IV) tert ブトキシドである。)と光学活性な酒石酸ジエステル (例えば、酒石 酸ジメチル、酒石酸ジェチル、酒石酸ジイソプロピル、酒石酸ジブチル又は酒石酸ジ tert ブチル酒石酸)とから調製される不斉触媒の存在下、酸化剤(例えば、 m— クロ口過安息香酸、 3, 5—ジニトロ過安息香酸、 o カルボキシ過安息香酸、過酢酸 、過トリフルォロ酢酸、過フタル酸、タメンヒドロペルォキシド、イソプロピルクミルヒドロ ペルォキシドであり得、好適には、タメンヒドロペルォキシド又はイソプロピルクミルヒド 口ペルォキシドであり、最も好適には、タメンヒドロペルォキシドである。)を作用させて 不斉エポキシ化することにより、実施することができる。  The fifth step is a step for producing compound (9) by asymmetric epoxidation of 3-butene-1-ol compound (8). This step is carried out according to the method of Okachi et al. (Organic Letters 2003, 5, 85-87), or in an inert solvent, molecular sieves and zirconium (IV) alkoxide (for example, zirconium (IV) ethoxide, zirconium (IV) propoxide, zirconium (IV) isopropoxide, zirconium (IV) butoxide or zirconium (IV) tert butoxide, preferably zirconium (IV) isopropoxide or zirconium (IV) tert butoxide And an optically active tartaric acid diester (eg, dimethyl tartrate, decyl tartrate, diisopropyl tartrate, dibutyl tartrate or di tert butyl tartrate tartrate) in the presence of an asymmetric catalyst (eg, m — Black perbenzoic acid, 3, 5-dinitroperbenzoic acid, o Carboxyperbenzoic acid, peracetic acid, pertriflu It can be rosacetic acid, perphthalic acid, tamen hydroperoxide, isopropyl cumyl hydroperoxide, preferably tamen hydroperoxide or isopropyl cumyl hydroperoxide, most preferably tamen hydroperoxide It can be carried out by asymmetric epoxidation with the action of hydroperoxide).
[0084] 使用される不活性溶媒は、例えば、ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族 炭化水素類;蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジェチ ルのようなエステル類;メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、 1, 2—ジクロロェ タン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジェチルエー テル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン又は ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類アセトン又はメチルェチル ケトンのようなケトン類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル又はイソブチ口-トリルのような 二トリル類又は上記の混合溶媒を挙げることができ、更に好適には、芳香族炭化水 素類又はハロゲンィ匕炭化水素類であり、特に好適には、トルエンである。 [0084] The inert solvent used is, for example, an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene; an ester such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or ethyl carbonate; methylene chloride Halogenated hydrocarbons such as black mouth form, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black mouth benzene and dichlorobenzene; Ethers such as tellurium, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, or diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone or methylethyl ketone; Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons and halogenated hydrocarbons, and particularly preferable is toluene.
使用されるモレキュラーシーブスの量は、 3 ブテン 1 オール化合物(8)の重 量に対し 0. 02乃至 1倍量の重量であり、好適には 0. 05乃至 0. 15倍量の重量であ る。  The amount of molecular sieve used is 0.02 to 1 times the weight of the 3 butene 1 ol compound (8), preferably 0.05 to 0.15 times the weight. The
使用されるジルコニウム(IV)アルコキシドの量は、 1当量の 3 ブテン一 1—オール 化合物(8)に対して 0. 01乃至 1当量であり、好適には 0. 1乃至 0. 5当量である。 使用される光学活性な酒石酸ジエステルの量は、 1当量の 3 ブテン 1 オール 化合物(8)に対して 0. 02乃至 2. 2当量であり、好適には 0. 21乃至 1. 1当量である  The amount of zirconium (IV) alkoxide used is 0.01 to 1 equivalent, preferably 0.1 to 0.5 equivalent, relative to 1 equivalent of 3-butene-1-ol compound (8). . The amount of the optically active tartaric acid diester used is 0.02 to 2.2 equivalents, preferably 0.21 to 1.1 equivalents, relative to 1 equivalent of the 3 butene 1 ol compound (8).
[0085] 使用される酸化剤の量は、好適には、 1当量の 3 ブテン 1 オールィ匕合物(8) に対して 0. 5乃至 10当量であり、好適には 1乃至 1. 5当量である。 [0085] The amount of the oxidizing agent used is preferably 0.5 to 10 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, with respect to 1 equivalent of 3 butene 1-ol compound (8). It is.
[0086] 反応温度は、通常、 0°C乃至 80°C (好適には、 10°C乃至 30°C)であり、反応時間 は、通常、 1時間乃至 5日間(好適には、 2時間乃至 2日間)である。  [0086] The reaction temperature is usually 0 ° C to 80 ° C (preferably 10 ° C to 30 ° C), and the reaction time is usually 1 hour to 5 days (preferably 2 hours). 2 days).
第 6工程は、不斉エポキシィ匕合物(9)とァミノアルコールィ匕合物(10)とを、不活性 溶媒 (例えば、ベンゼン、トルエン又はキシレンのような芳香族炭化水素類;蟻酸ェチ ル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル又は炭酸ジェチルのようなエステル類; メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、 1, 2—ジクロロエタン、クロ口ベンゼン又 はジクロ口ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類;ジェチルエーテル、ジイソプロピ ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン又はジエチレングリコー ルジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトン又はメチルェチルケトンのようなケト ン類;ァセトニトリル、プロピオ-トリル又はイソブチ口-トリルのような-トリル類;ホル ムアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミド、 N—メチルー 2 —ピロリドン、 N—メチルピロリジノン又はへキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類; ジメチルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド又はスルホン類であり得、 好適には、芳香族炭化水素類又はハロゲンィ匕炭化水素類であり、更に好適には、ト ルェンである。 )中で反応させることにより、化合物 (4' a)を製造する工程である。 In the sixth step, the asymmetric epoxy compound (9) and the amino alcohol compound (10) are combined with an inert solvent (for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; Esters such as acetyl, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate or jetyl carbonate; halogenated like methylene chloride, black mouth form, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, black mouth benzene or dichloro mouth benzene Hydrocarbons; ethers such as jetyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane or diethylene glycol dimethyl ether; ketones such as acetone or methyl ethyl ketone; acetonitrile, propio-tolyl or isobutyl -Tolyls such as -Tolyl; Formamide, N, N Dimethylforma De, N, N-dimethyl § Seto amides, N- methyl-2 - pyrrolidone, amides such as N- methylpyrrolidinone or to Kisamechirurin triamide; dimethylsulfoxide or sulfoxide or sulfones such as sulfolane obtained, Preferred are aromatic hydrocarbons or halogenated hydrocarbons, and more preferred is toluene. ) In which the compound (4′a) is produced.
[0087] 反応温度は、通常、— 20°C乃至 150°C (好適には、 30°C乃至 80°C)であり、反応 時間は、通常、 10分間乃至 3日間(好適には、 30分間乃至 1日間)である。 [0087] The reaction temperature is usually -20 ° C to 150 ° C (preferably 30 ° C to 80 ° C), and the reaction time is usually 10 minutes to 3 days (preferably 30 ° C). Minutes to 1 day).
更に、化合物 (4)、化合物 (4' )、化合物 (4' a)並びに化合物(5)及びその光学活 性体は、所望に応じて酸(当該酸は、例えば、塩化水素、硫酸若しくは燐酸のような 無機酸;又は、酢酸、シユウ酸、フマル酸若しくはコハク酸のような有機酸であり得る。 )を用いて常法にしたがって処理することにより、容易に塩、又は薬理上許容される塩 に導くことができる。  Further, the compound (4), the compound (4 ′), the compound (4′a), the compound (5) and the optically active substance thereof may be an acid (the acid is, for example, hydrogen chloride, sulfuric acid or phosphoric acid) as desired. Or an organic acid such as acetic acid, oxalic acid, fumaric acid, or succinic acid), and a salt or pharmacologically acceptable. Can lead to salt.
[0088] 上記 < B法 >及び < C法 >において出発原料として用いられる化合物は、例えば、 米国特許第 6159967号、米国特許第 6511975号及び、 David T. M. et al, J. Ame r. Chem. Soc, 69, 851 (1947)に開示されている力 これらに開示されている化合物 から容易に製造することができる。  [0088] The compounds used as starting materials in the above <Method B> and <Method C> are, for example, US Pat. No. 6,159,967, US Pat. No. 6511975, and David TM et al, J. Amer. Chem. Soc. 69, 851 (1947) can be easily produced from the compounds disclosed therein.
発明の効果  The invention's effect
[0089] 本発明により、従来では合成が難しかった N—カルボニル飽和複素環類を工業的 に高収率で得られる。  [0089] According to the present invention, N-carbonyl saturated heterocycles that have been difficult to synthesize in the past can be obtained industrially in high yield.
発明を実施するための最良の形態  BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0090] 以下に実施例及び参考例をあげて、本発明を更に具体的に説明するが、本発明 はこれらに限定されるものではない。 [0090] The present invention will be described more specifically with reference to the following examples and reference examples, but the present invention is not limited to these examples.
[0091] 尚、各実施例におけるェナンチォマー過剰率は、いずれも、高速液体クロマトダラ フィー (HPLC)による分析に基づく値であり、ェナンチォマー過剰率は下記「HPLC 条件」の条件で分析した。 [0091] The enantiomeric excess in each example was a value based on analysis by high performance liquid chromatography (HPLC), and the enantiomeric excess was analyzed under the conditions of the following "HPLC conditions".
<HPLC条件 >  <HPLC conditions>
カラム: CHRALCEL AD (商品名、ダイセルィ匕学工業 (株)製)  Column: CHRALCEL AD (Brand name, manufactured by Daicel Engineering Co., Ltd.)
4. 6 X 250mm  4. 6 X 250mm
移動層: Hexane: EtOH = 94 : 6  Moving layer: Hexane: EtOH = 94: 6
カラム温度: 40°C  Column temperature: 40 ° C
検出: UV(220nm) PPP) 9Z'Z '(Ηΐ 'ΖΗ 6'f 're '9'Π=ί 'ΡΡΡ) SO : d g (QO αつ 'ζ 00 ) Η顺- HT Detection: UV (220nm) PPP) 9Z'Z '(Ηΐ' ΖΗ 6'f 're'9'Π = ί 'ΡΡΡ) SO: dg (QO α' ζ 00) Η 顺 -H T
。 频0 /0 · ¾Γ%8 ·96^Μ)ΈΖ 呦^] ¾遨 粼¾丁¾翻01、 つ。 OS止 S教。:ふ.频 0/0 · ¾Γ% 8 · 96 ^ Μ) Έ Ζ呦^] ¾遨粼¾ Ding ¾ transliteration 01, one. OS stop S teaching. : F
q ifT«^^os M^o0o oioz °^q ifT« q ifT «^^ os M ^ o 0 o oioz ° ^ q ifT«
^翻" [ ¾^、つ止縱 继缀 08ベ )(ΐοππυ ο - D^i 'L 。 ·Π¾ tii )つ。 o ^n mo^—/^ mo^z ^ ^m -M^ ^ ^ 翻 "[¾ ^ 、 つ 縱 縱 08 ベ) (ΐοππυ ο-D ^ i 'L. · Π¾ tii). O ^ n m o ^ — / ^ m o ^ z ^ ^ m -M ^ ^
^ ( ^エ ^ p 、 — s)]— 一( / ェ cm^^― 'ε)— ε— ( ) (z M )^ (^ D ^ p, — s)] — One (/ é cm ^^ — 'ε) — ε— () (z M)
•es-8^T 'erssi 'ο 'ιει '^·τεΐ 'IS'SSI ' ΓEs-8 ^ T 'erssi' ο 'ιει' ^ · τεΐ 'IS'SSI' Γ
9ZI '9S"9Z '9S"T9 '8S 9 '89"8S 'SL'Z '0V£f : ^dd g (QO^QD 'ZH 001) H N-DgI 9ZI '9S "9Z'9S" T9 '8S 9 '89 "8S'SL'Z'0V £ f: ^ dd g (QO ^ QD' ZH 001) H ND gI
•(HI 'ZH Z'Z=[ 'P) S9"Z• (HI 'ZH Z'Z = [' P) S9 "Z
'(HI 'ZH S"8=f 'P) LVL '(HI '^H Z'Z 'S"8=f 'PP) 9S"Z '(HI '^H S"9 '6"Ζ '0·ΐΐ=ί" 'PPP ) S9'S '{HZ <ZH 'S=f 8ST '(HI 'ZH 6'f '8·9 '0·ΐΐ=ί" 'PPP) ZVZ '(Ηΐ '^Η S I=f 'Ρ) WZ '(Ηΐ 'ΖΗ ζ·ζΐ=Γ 'Ρ) 98 '{HZ 'ΖΗ 'S=f ' ) S9 '(Ηΐ '^Η 8·9 '6"Ζ ' · ΐ=ί" ' ρρρ) ει '(ΗΪ 'ΖΗ 6' 'ε·9 'νη=ί 'ΡΡΡ) 6"ΐ: ^dd g (α〇εαつ 'ZHW OO^) H N-HT
Figure imgf000034_0001
。 ·ηί¾¾ 一ェ / べ 、っ^ 'fi »氺 つ
'(HI' ZH S "8 = f 'P) LVL' (HI '^ H Z'Z'S" 8 = f 'PP) 9S "Z' (HI '^ HS"9' 6 "Ζ '0 · ΐΐ = ί "'PPP) S9'S' {HZ <Z H 'S = f 8ST' (HI 'ZH 6'f' 8 · 9 '0 · ΐΐ = ί"' PPP) ZVZ '(Ηΐ' ^ Η SI = f 'Ρ) WZ' (Ηΐ 'ΖΗ ζ · ζΐ = Γ' Ρ) 98 '(HZ' Ζ Η 'S = f') S9 '(Ηΐ' ^ Η 8 · 9 '6 "Ζ' · ΐ = ί "'ρρρ) ει' (ΗΪ 'ΖΗ 6''ε · 9' νη = ί 'ΡΡΡ) 6" ΐ: ^ dd g (α〇 ε α one' Z HW OO ^) H NH T
Figure imgf000034_0001
. · Ηί¾¾ 一 / /
氺 止纖 OSS邈 izioui
Figure imgf000034_0002
继缀 Ira0 氺 )(ΐοπ υο9 · 9)§
邈 纖 OSS 邈 izi oui
Figure imgf000034_0002
继 缀 I ra 0 氺) (ΐοπ υο9 9) §
9 ^W^{\°^\9 ·Ι)¾9 ·86 /— ^ェ,^ —S^继缀べエ βΟΗ/— ^ェ [ / y-Z- - 'ε) -z- ) ] -S^¾ ^Sp}% 9 ^ W ^ {\ ° ^ \ 9 · Ι) ¾9 · 86 / — ^ e, ^ —S ^ 继 缀 bee βΟΗ / — ^ e [/ yZ--'ε) -z-)] -S ^ ¾ ^ Sp}%
/— ベ : -ε Ί-[ ^
Figure imgf000034_0003
― 'ε)— ε— ( ) d W )
/ — Be: -ε Ί- [^
Figure imgf000034_0003
― 'Ε) — ε— () d W)
(圏第)  (Zone number)
MSlT0/S00Zdf/X3d 9 丽900 OAV f氺^ ¾。 _nffl iraos 一エ
Figure imgf000035_0001
MSlT0 / S00Zdf / X3d 9 丽 900 OAV f 氺 ^ ¾. _nffl i ra os
Figure imgf000035_0001
Figure imgf000035_0002
ベ :— S ' I - [ ^ . {Λ^-^^ ^ -Ζ) →- - 'S)-S-(HS)
Figure imgf000035_0002
B: — S 'I-[^. (Λ ^-^^ ^ -Ζ) →--' S) -S- (HS)
^ ( ^エ ^ p 、 — s)]— 一( / ェ cm^^― 'ε)— ε— { ) (^ M ) ^ (^ D ^ p, — s)] — One (/ é cm ^^ — 'ε) — ε— () (^ M)
6·ΐε 'ID 'ZZ'f 'N '8S-S Ή 'SVZf 'D : puno^ -iYZ£ 'ID '. Z' 'N -6V Ή :6S'S 'D :1つ H^O^Iつ H D ^ opo  6 · ΐε 'ID' ZZ'f 'N' 8S-S Ή 'SVZf' D: puno ^ -iYZ £ 'ID'. Z '' N -6V Ή: 6S'S 'D: 1 H ^ O ^ I HD ^ opo
•(HI 'ZH Z'Z=[ 'P) SZ • (HI 'ZH Z'Z = [' P) SZ
•Z '(HI 'ZH S"8=f 'P) ZS'Z '(HI '^H Z'Z 'S"8=f 'PP) S Z HZ 'ΖΗ Υ =ί 8 T '(H ΐ 'ΖΗ Vf '0·6 '0·ΐΐ=ί" 'ΡΡΡ) Ζ9Τ '(Ηΐ '^Η 6· 'V '0·ΐΐ=ί" 'ΡΡΡ) 6ST '(Ηΐ '^Η Ζ ΐ=Γ 'Ρ) VZ '(Ηΐ 'ΖΗ Ζ 1=1" 'Ρ) Ζτ '{ΗΖ '^) SI'S- SO'S '(Ηΐ 'ZH V '0·6 '6^ΐ=Γ ' PPP) fZ'Z '(Ηΐ 'ΖΗ '6'η=ί 'ΡΡΡ) SO : ^dd g (aO^D '^H 00^) H N-HT 。 ·29*¾ί)§Ι 呦 ^^¾遨 粼¾丁¾翻01 っ。 OS止 S教
Figure imgf000035_0003
會 Γ ·Π 鷇 S教、つ止縱 aouraj6 OS)™ 'οτ继缀 厶 /^邈 S— ιつ H
Z '(HI' ZH S "8 = f 'P) ZS'Z' (HI '^ H Z'Z'S" 8 = f 'PP) SZ HZ' Ζ Η Υ = ί 8 T '(H ΐ ' Ζ Η Vf' 0 · 6 '0 · ΐΐ = ί "' ΡΡΡ) Ζ9Τ '(Ηΐ' ^ Η 6 · 'V' 0 · ΐΐ = ί"'ΡΡΡ)6ST' (Ηΐ '^ Η Ζ ΐ = Γ 'Ρ) VZ' (Ηΐ 'ΖΗ = 1 1 = 1 "' Ρ) Ζτ '{ΗΖ' ^) SI'S- SO'S '(Ηΐ' ZH V '0 · 6' 6 ^ ΐ = Γ 'PPP) fZ'Z' (Ηΐ 'ΖΗ'6'η = ί 'ΡΡΡ) SO : ^ dd g (aO ^ D' ^ H 00 ^) H NH T. · 29 * ¾ί) §Ι 呦 ^^ ¾ 遨 粼 ¾ 丁 ¾ 翻 01 OS stop S teaching
Figure imgf000035_0003
Our Γ · Π 鷇 S teaching, a ouraj 6 OS) ™ 'οτ 继 缀 厶 / ^ 邈 S— ι つ H
Ζΐοιυε、^继缀 ποοτ 濯 SO)(Ioraras ' LZ)^Z ·8 /—^^べ^ :— S ' I - { iJ. {Λ^-^^ ^ -Ζ) →- {Λ^—^^ ^ ^ - 'S)-S-(HS) Ζΐοιυε 、 ^ 继 缀 ποοτ Rin SO) (Ioraras 'LZ) ^ Z · 8 / — ^^ Be ^: — S' I-{iJ. (Λ ^-^^ ^ -Ζ) →-{Λ ^ — ^ ^ ^ ^-'S) -S- (HS)
w - Λ^^ ^ - ε Ί-[ ^ ( ^エ ^ p 、 — s)]— 一( / ェ cm^^― 'ε)— ε— { ) (ε ¾ϊ第) w-Λ ^^ ^-ε Ί- [^ (^ e ^ p, — s)] — One (/ é cm ^^ ― 'ε) — ε— () (ε ¾ϊ 第)
•06·, S -9S 2 'ID :60·, 'Ν -62"S Ή :6Γΐ 'D: puno^ · 9· f 'S -99 2 'ID :80·, 'N -62"S Ή :66·ΐ 'D: OS HS - ON ID H D P^PD -P • 06 ·, S -9S 2 'ID: 60 ·,' Ν -62 "S Ή: 6Γΐ 'D: puno ^ · 9 · f' S -99 2 'ID: 80 ·,' N -62" S Ή : 66 · ΐ 'D: OS HS-ON ID HDP ^ PD -P
•(HI 'ZH Z'Z=[ 'P) SZ"Z • (HI 'ZH Z'Z = [' P) SZ "Z
'(HI 'ZH S"8=f 'P) 9S"Z '(HI '^H Z'Z 'S"8=f 'PP) 9^" '(H2 '^H 'S=f 6ZT '(HI 'z H 6· '6·8 '0·ΐΐ=ί" 'ΡΡΡ) 99·ε '(Ηΐ '^Η Γ3 '9'S '0·ΐΐ=ί" 'ΡΡΡ) SST '(Ηΐ '^Η Ζ 1=1"'(HI' ZH S "8 = f 'P) 9S" Z' (HI '^ H Z'Z' S "8 = f 'PP) 9 ^"' (H2 '^ H' S = f 6ZT '( HI 'z H 6 ·' 6 · 8 '0 · ΐΐ = ί "' ΡΡΡ) 99 · ε '(Ηΐ' ^ Η Γ3 '9'S' 0 · ΐΐ = ί" 'ΡΡΡ) SST' (Ηΐ '^ Η Ζ 1 = 1 "
'ρ) sex '(ΗΪ 'ΖΗ ζ i=f 'ρ) ζζτ '{ηζ 'ΖΗ 's=f π·ε '(HI 'ZH 9'S '6·8 '^ =[ ' 'ρ) sex' (ΗΪ 'ΖΗ ζ i = f' ρ) ζζτ '{ηζ' Ζ Η 's = f π · ε' (HI 'ZH 9'S' 6 · 8 '^ = ['
MSll0/S00Zdf/X3d εε 9 丽900 OAV をシクロペンチルメチルエーテル 25mlで抽出した。有機層を合致し、 20%塩ィ匕ナトリ ゥム水溶液 25mlで洗浄し、減圧濃縮した。得られた油状物にアセトン 50ml及びメタ ノーノレ 0. 2mlをカロ免 40乃至 50oCにカロ熱した。シュゥ酸 1. 84g (14. 6mmol)をカロ免 、同温で 1時間以上撹拌した。 20乃至 30°Cに冷却し、 30分間以上撹拌した。析出し た結晶をろ取し、減圧下 50°Cで 10時間以上乾燥し、標記化合物 4. 35g (純度 98. 0%、収率 77. 6%)を得た。 MSll0 / S00Zdf / X3d εε 9 丽 900 OAV Was extracted with 25 ml of cyclopentyl methyl ether. The organic layers were matched, washed with 25 ml of 20% aqueous sodium chloride solution, and concentrated under reduced pressure. To the obtained oily substance, 50 ml of acetone and 0.2 ml of methanol were heated to 40 to 50 ° C. 1.84 g (14.6 mmol) of oxalic acid was calorie-free and stirred at the same temperature for 1 hour or more. Cool to 20-30 ° C and stir for more than 30 minutes. The precipitated crystals were collected by filtration and dried at 50 ° C. under reduced pressure for 10 hours or more to obtain 4.35 g of the title compound (purity 98.0%, yield 77.6%).
JH-NMR (400 MHz, CD OD) δ ppm: 2.03 (ddd, J=14.6, 4.9, 4.4 Hz, IH), 2.23 (ddd J H-NMR (400 MHz, CD OD) δ ppm: 2.03 (ddd, J = 14.6, 4.9, 4.4 Hz, IH), 2.23 (ddd
3  Three
, J=14.6, 9.0, 5.4 Hz, IH), 3.02—3.12 (m, 2H), 3.34 (d, J=12.7 Hz, IH), 3.45 (d, J=l 2.7 Hz, IH), 3.58 (ddd, J=11.0, 5.4, 4.9 Hz, IH), 3.67 (ddd, J=11.0, 9.0, 4.4 Hz, 1 H), 3.77 (t, J=5.4 Hz, 2H), 7.44 (dd, J=8.5, 2.2 Hz, IH), 7.57 (d, J=8.5 Hz, IH), 7. 75 (d, J=2.2 Hz, IH).  , J = 14.6, 9.0, 5.4 Hz, IH), 3.02—3.12 (m, 2H), 3.34 (d, J = 12.7 Hz, IH), 3.45 (d, J = l 2.7 Hz, IH), 3.58 (ddd , J = 11.0, 5.4, 4.9 Hz, IH), 3.67 (ddd, J = 11.0, 9.0, 4.4 Hz, 1 H), 3.77 (t, J = 5.4 Hz, 2H), 7.44 (dd, J = 8.5, 2.2 Hz, IH), 7.57 (d, J = 8.5 Hz, IH), 7.75 (d, J = 2.2 Hz, IH).
Anal. Calcd for C H CI NO -(COOH): C, 43.77; H, 4.98; N, 3.65; CI, 18.46. Fo  Anal. Calcd for C H CI NO-(COOH): C, 43.77; H, 4.98; N, 3.65; CI, 18.46. Fo
12 17 2 3 2  12 17 2 3 2
und: C, 43.58; H, 4.93; N, 3.67; CI, 18.08. und: C, 43.58; H, 4.93; N, 3.67; CI, 18.08.
(実施例 5) 2- [ (2R) - 2- (3, 4—ジクロロフエ-ル)一 4— (3, 4, 5—トリメトキシ ベンゾィル)モルホリン 2 ィル]ェチル 4 クロ口ベンゼンスルホナート  Example 5 2-[(2R) -2- (3,4-Dichlorophenol) 4- (3,4,5-Trimethoxybenzoyl) morpholine 2yl] ethyl 4-chlorobenzene sulfonate
(3R)— 3— (3, 4 ジクロロフエ-ル)一 4— [ (2 ヒドロキシェチル)ァミノ]— 1, 3 —ブタンジオール ·0. 5硫酸塩 9. 56g(27. 9mmol)のァセトニトリル 100ml溶液にト リエチルァミン 5. 64g (55. 7mmol)をカ卩え、 20乃至 25°Cで 10分間以上撹拌した。 混合液に水 5mlを添加後、 0乃至 5°Cに冷却した。次に、トリメトキシベンゾイルクロリ ド 6. 75g (29. 3mmol)のトルエン 34ml溶液を 5°C以下で滴下し、 0乃至 5°Cで 30分 間撹拌した。この混合液を— 20乃至— 10°Cに冷却後、 4 クロ口ベンゼンスルホ- ルクロリド 12. 05g (57. lmmol)のァセトニトリル 50ml溶液を添カロした。次いで、粒 度 180 /z m以下の水酸化ナトリウム 5. 57g (139. 3mmol)を— 5°C以下で添カ卩した 。—20乃至— 10°Cに冷却後、更に、粒度 180 m以下の水酸ィ匕ナトリウム 16. 71g (417. 8mmol)を— 5°C以下で添カ卩した。 15°Cで 2時間撹拌後、水 120mlを 5°C 以下で滴下し、不溶物をろ過し有機層を分離した。有機層を濃縮し、トルエン 100ml と水 50mlを添加後、有機層を分離した。次いで、分離した有機層を 25mlとなるまで 濃縮し、 50°Cで約 1時間撹拌した。 0乃至 5°C冷却後、更に 1時間撹拌した。析出し た結晶をろ取し、減圧下 50°Cで 15時間乾燥し、標記化合物 14. 6g (純度 99. 1 %、 収率 80. 5%)を得た。 (3R) — 3— (3, 4 Dichlorophenol) 4-[(2 Hydroxyethyl) amino] — 1, 3 — Butanediol 0.5 Sulfate 9. 56 g (27.9 mmol) Acetonitrile 100 ml Triethylamine 5.64 g (55.7 mmol) was added to the solution, and the mixture was stirred at 20 to 25 ° C. for 10 minutes or more. After adding 5 ml of water to the mixture, it was cooled to 0-5 ° C. Next, a solution of 6.75 g (29.3 mmol) of trimethoxybenzoyl chloride in 34 ml of toluene was added dropwise at 5 ° C. or lower and stirred at 0 to 5 ° C. for 30 minutes. This mixture was cooled to −20 to −10 ° C., and then added with 50 ml of a solution of 12.05 g (57. lmmol) of 4-chlorobenzene chlorochloride in 50 ml of acetonitrile. Next, 5.57 g (139.3 mmol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 / zm or less was added at −5 ° C. or less. After cooling to −20 to −10 ° C., 16.71 g (417.8 mmol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 m or less was added at −5 ° C. or less. After stirring at 15 ° C for 2 hours, 120 ml of water was added dropwise at 5 ° C or lower, the insoluble matter was filtered, and the organic layer was separated. The organic layer was concentrated, and after adding 100 ml of toluene and 50 ml of water, the organic layer was separated. The separated organic layer was then concentrated to 25 ml and stirred at 50 ° C. for about 1 hour. After cooling at 0 to 5 ° C, the mixture was further stirred for 1 hour. Precipitate The crystals were collected by filtration and dried at 50 ° C. under reduced pressure for 15 hours to obtain 14.6 g of the title compound (purity 99.1%, yield 80.5%).
1H-NMR (400 MHz, CDC1 ) δ ppm: 2.00-2.25 (m, 1H), 2.25—2.50 (m, 1H), 3.30—3.  1H-NMR (400 MHz, CDC1) δ ppm: 2.00-2.25 (m, 1H), 2.25—2.50 (m, 1H), 3.30—3.
3  Three
90 (m, 6H), 3.86 (s, 9H), 4.00—4.15 (m, 1H), 4.15—4.30 (m, 1H), 6.52 (s, 2H), 6.70— 7.90 (m, 7H).  90 (m, 6H), 3.86 (s, 9H), 4.00—4.15 (m, 1H), 4.15—4.30 (m, 1H), 6.52 (s, 2H), 6.70— 7.90 (m, 7H).
(実施例 6) 2 - [ (2R) - 2 - (3, 4 ジクロロフエ-ル)一 4— (3, 4, 5 トリメトキシ ベンゾィル)モルホリン 2 ィル]ェチル 4 クロ口ベンゼンスルホナート  Example 6 2-[(2R)-2-(3, 4 Dichlorophenol) 1 4- (3, 4, 5 Trimethoxybenzoyl) morpholine 2 yl] ethyl 4 Chlorobenzene sulfonate
(3R)— 3— (3, 4 ジクロロフエ-ル)一 4— [ (2 ヒドロキシェチル)ァミノ]— 1 , 3— ブタンジオール · 0. 5硫酸塩 4. 78g(13. 9mmol)のァセトニトリル 50ml溶液にトリエ チルァミン 2. 82g (27. 9mmol)を加え、 20乃至 25。Cで 10分間以上撹拌した。混 合液に水 2. 5mlを添加後、 0乃至 5°Cに冷却した。次に、トリメトキシベンゾイルクロリ ド 3. 37g ( 14. 6mmol)のトルエン 17ml溶液を 5°C以下で滴下し、 0乃至 5°Cで 30分 間撹拌した。この混合液を— 30乃至— 35°Cに冷却後、 4 クロ口ベンゼンスルホ- ルクロリド 6. 03g (28. 6mmol)のァセトニトリル 25ml溶液を添カロした。次いで、—35 乃至— 25°Cを保ちながら、粒度 180 m以下の水酸化ナトリウム 0. 28g (7. Ommol )を 1. 5乃至 3分間の間隔で 40回添加した。 35乃至 25°Cで 3時間乃至 4時間 撹拌後、水 75mlを 5°C以下で滴下し、不溶物をろ過し有機層を分離した。有機層を 濃縮し、トルエン 50mlと 5%重曹水 25mlを添加し、有機層を分離した。次いで、分 離した有機層を 30mlとなるまで濃縮し、 50°Cで 1時間撹拌した。ェチルシクロへキサ ン 10mlを添カ卩し、同温で 1時間撹拌した。 20乃至 25°Cに冷却し 1時間撹拌した後、 析出した結晶をろ取した。結晶を減圧下 50°Cで 15時間乾燥し、標記化合物 7. 24g (純度 99. 0%、収率 79. 8%)を得た。 (3R) — 3-— (3,4-Dichlorophenol) 4-[(2 Hydroxyethyl) amino] — 1, 3-Butanediol 0.5 Sulfate 4. 78 g (13.9 mmol) Acetonitrile 50 ml Add 2.82 g (27.9 mmol) of triethylamine to the solution, 20-25. Stir at C for 10 min. After adding 2.5 ml of water to the mixed solution, it was cooled to 0 to 5 ° C. Next, a solution of 3.37 g (14.6 mmol) of trimethoxybenzoyl chloride in 17 ml of toluene was added dropwise at 5 ° C. or lower and stirred at 0 to 5 ° C. for 30 minutes. The mixture was cooled to −30 to 35 ° C., and then added with 25 ml of a solution of 6.03 g (28.6 mmol) of acetonitrile and 25 ml of acetonitrile. Next, while maintaining −35 to −25 ° C., 0.28 g (7 Ommol) of sodium hydroxide having a particle size of 180 m or less was added 40 times at intervals of 1.5 to 3 minutes. After stirring at 35 to 25 ° C. for 3 to 4 hours, 75 ml of water was added dropwise at 5 ° C. or lower, and the insoluble matter was filtered to separate the organic layer. The organic layer was concentrated, 50 ml of toluene and 25 ml of 5% sodium bicarbonate solution were added, and the organic layer was separated. Next, the separated organic layer was concentrated to 30 ml and stirred at 50 ° C. for 1 hour. Ethylcyclohexane (10 ml) was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. After cooling to 20 to 25 ° C. and stirring for 1 hour, the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were dried under reduced pressure at 50 ° C. for 15 hours to obtain 7.24 g of the title compound (purity 99.0%, yield 79.8%).
(実施例 7) tert—ブチル 2 - (3, 4 ジクロロフエ-ル)—2— [2— (トリチルォキ シ)ェチル]モルホリン 4 カルボキシラート  (Example 7) tert-butyl 2- (3,4-dichlorophenyl) -2— [2- (trityloxy) ethyl] morpholine 4 carboxylate
トルエン 120ml及びアセトン 240ml混合溶液に、 3— (3, 4ージクロ口フエ-ル) 3 —ブテュル トリチルエーテル 28. 2g (61. 4mmol)を添カ卩し、次いで炭酸水素ナトリ ゥム 16. 4g ( 195. 2mmol)を添加した。 OXONE™40. Og (65. Ommol)の水 240 ml溶液を 30°C以下で滴下した。 25乃至 30°Cで 2時間撹拌後、チォ硫酸ナトリウム 五水和物 3. 23g (13. Ommol)の水 30ml溶液を添カ卩し、 10分間撹拌した。液量が 390mlとなるまで減圧濃縮し、塩化メチレン 240mlを添加した。抽出後、有機層を水 210mlで洗浄し、減圧濃縮した。 To a mixed solution of 120 ml of toluene and 240 ml of acetone was added 2—2 g (61.4 mmol) of 3— (3,4-dichloromethane) 3-butyl trityl ether, and then 16.4 g of sodium bicarbonate ( 195.2 mmol) was added. A solution of OXONE ™ 40. Og (65. Ommol) in 240 ml of water was added dropwise at 30 ° C or lower. After stirring for 2 hours at 25-30 ° C, sodium thiosulfate A solution of pentahydrate 3.23 g (13. Ommol) in 30 ml of water was added and stirred for 10 minutes. The solution was concentrated under reduced pressure until the liquid volume became 390 ml, and 240 ml of methylene chloride was added. After extraction, the organic layer was washed with 210 ml of water and concentrated under reduced pressure.
[0092] この混合物にトルエンをカ卩ぇ液量 120mlに調整し、エタノール 90mlを加えた。次に 、過塩素酸リチウム三水和物 15. 6g (97. 2mmol)及び 2 アミノエタノール 19. 6m 1 (326. 5mmol)を加え、 7時間還流した。冷却後、トルエン 210ml及び水 120mlを 加え、抽出し有機層を水 120mlで洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥 し、減圧濃縮した。 [0092] To this mixture, toluene was adjusted to a cask liquid volume of 120 ml, and 90 ml of ethanol was added. Next, 16.6 g (97.2 mmol) of lithium perchlorate trihydrate and 19.6 ml (326.5 mmol) of 2 aminoethanol were added and refluxed for 7 hours. After cooling, 210 ml of toluene and 120 ml of water were added for extraction, and the organic layer was washed with 120 ml of water. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure.
[0093] 得られた油状物の 6分の 1をトルエン 10mlに溶解し、ジ—tert ブチル ジカーボ ネート 2. 61g (12. Ommol)を添カ卩し、 25乃至 30°Cで 1. 5時間撹拌した。混合液を — 10°C以下に冷却後、トリェチルァミン 1. 69g (16. 7mmol)を加え、 5°C以下でメ タンスルホ-ルクロリド 1. 65g (14. 4mmol)のトルエン 5ml溶液を滴下した。—10乃 至 0°Cで 3時間撹拌後、 0乃至 1°Cの水 25ml及び 0乃至 1°Cの飽和炭酸水素ナトリウ ム水溶液 25mlで有機層を順次洗浄した。  [0093] One-sixth of the obtained oily substance was dissolved in 10 ml of toluene, and 2.61 g (12. Ommol) of di-tert butyl dicarbonate was added thereto, and the mixture was stirred at 25-30 ° C for 1.5 hours. Stir. The mixture was cooled to −10 ° C. or lower, 1.69 g (16.7 mmol) of triethylamine was added, and 5 ml of toluene in 1.65 g (14.4 mmol) of methanesulfur chloride was added dropwise at 5 ° C. or lower. After stirring for 10 hours at 0 ° C to 0 ° C, the organic layer was washed successively with 25 ml of water at 0 to 1 ° C and 25 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution at 0 to 1 ° C.
[0094] 分離した有機層に 0乃至 1°Cのエタノール 20ml及び 0乃至 1°Cのトルエン 37. 5ml を加え、混合液を— 15乃至— 10°Cに冷却した。 28%ナトリウムメトキシド—メタノー ル溶液 5. 25g (27. 2mmol)を— 10°C以下で滴下した。 20°Cに加温し、 1. 5時間 撹拌した。水 25mlで 2回洗浄し有機層を分離後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧濃縮した。得られた粗生成物を HPLCによる絶対検量線法で定量した結果、標 記化合物が 5. 69g (収率 89. 9%)含有されることが示された。  [0094] To the separated organic layer, 20 ml of 0 to 1 ° C ethanol and 37.5 ml of 0 to 1 ° C toluene were added, and the mixture was cooled to -15 to -10 ° C. 28% sodium methoxide-methanol solution (5.25 g, 27.2 mmol) was added dropwise at a temperature of -10 ° C or lower. The mixture was warmed to 20 ° C and stirred for 1.5 hours. The organic layer was separated by washing twice with 25 ml of water, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. As a result of quantifying the obtained crude product by the absolute calibration curve method by HPLC, it was shown that 5.69 g (yield: 89.9%) of the target compound was contained.
1H-NMR (400 MHz, CDC1 ) δ ppm: 1.42 (s, 9H), 1.80—2.00 (m, 1H), 2.05—2.25 (m,  1H-NMR (400 MHz, CDC1) δ ppm: 1.42 (s, 9H), 1.80—2.00 (m, 1H), 2.05—2.25 (m,
3  Three
1H), 2.45-2.65 (m, 1H), 2.95—3.14 (m, 2H), 3.15—3.30 (m, 1H), 3.30—3.50 (m, 1H), 3.50-3.65 (m, 1H), 3.65—3.80 (m, 1H), 4.55-4.75 (m, 1H), 7.06-7.48 (m, 18H). (実施例 8) 2-[(2R) - 2- (3, 4ージクロ口フエ-ル)ー4 (フエ-ルァセチル)モ ルホリン 2 ィル]ェチル 4 クロ口ベンゼンスルホナート  1H), 2.45-2.65 (m, 1H), 2.95—3.14 (m, 2H), 3.15—3.30 (m, 1H), 3.30—3.50 (m, 1H), 3.50-3.65 (m, 1H), 3.65— 3.80 (m, 1H), 4.55-4.75 (m, 1H), 7.06-7.48 (m, 18H). (Embodiment 8) 2-[(2R)-2- (3, 4-dichrome mouth file)- 4 (Fulacetyl) morpholine 2yl] ethyl 4 black mouth benzenesulfonate
(3R)—3— (3, 4 ジクロロフエ-ル) 4— [ (2 ヒドロキシェチル)ァミノ]ブタン一 1, 3 ジオール ·0. 5硫酸塩 14. 3g (41. 8mmol)のァセトニトリル 225ml溶液にト リエチルァミン 10. 6g (104. 3mmol)及び水 15mlをカ卩え、 20乃至 25°Cで 10分間
Figure imgf000039_0001
m止纖 继 m0l ^^^O) (louiuig '8^) §01 ·6ベ ベ >^/- l — — cm^^
(3R) —3— (3,4 dichlorophenol) 4— [(2 Hydroxyethyl) amino] butane mono 1,3 diol 0.5 sulphate 14.3 g (41.8 mmol) in 225 ml acetonitrile Add triethylamine (10.6 g, 104.3 mmol) and water (15 ml) at 20-25 ° C for 10 minutes.
Figure imgf000039_0001
m 纖纖 继 m0l ^^^ O) (louiuig '8 ^) §01 · 6be> ^ /-l — — cm ^^
-Ζ Ί^ ^Ι、つ llij¾g¾ (lorarag '6^)§99 ·ΐ、 ¾^ マ έ 、 止纖 (ΐουι -Ζ Ί ^ ^ Ι, llij¾g¾ (lorarag '6 ^) §99 · ΐ, ¾ ^ Ma 、, 纖 (纖ουι
- D I '6:#驟 一エ / ェ 峯
Figure imgf000039_0002
、つ
Figure imgf000039_0003
HZ 'ω) SI' l— 1' I HZ 'ω) SS'Z— 6 '(Ηΐ '^Η 2"2=f 'Ρ) 8S"Z '(Ηΐ '^Η S"8=f ' Ρ) 9S"Z '(HS 'ω) 6ΓΖ-^ΓΖ '(Ηΐ '^Η Ζ·Ζ 'S'8=f 'ΡΡ) ZVL '{ΗΖ 'ω) 10 — 6·9 '(Ηΐ 'ζ Η 6'εΐ=ί" 'Ρ) I 'f '(Ηΐ 'ΖΗ ε·9 '9·9 'ε·0ΐ=ί" 'ΡΡΡ) SO' '(HI 'ΖΗ 8·9 'ΓΖ 'ε'οι=ί" 'ΡΡ
-DI '6: # 驟 一 e / 峯
Figure imgf000039_0002
, One
Figure imgf000039_0003
HZ 'ω) SI' l— 1 'I HZ' ω) SS'Z— 6 '(Ηΐ' ^ Η 2 "2 = f 'Ρ) 8S"Z' (Ηΐ '^ Η S "8 = f' Ρ ) 9S "Z '(HS' ω) 6ΓΖ- ^ ΓΖ '(Ηΐ' ^ Η Ζ · Ζ 'S'8 = f' ΡΡ) ZVL '{ΗΖ' ω) 10 — 6 · 9 '(Ηΐ' ζ ω 6'εΐ = ί "'Ρ) I' f '(Ηΐ' ΖΗ ε · 9 '9 · 9' ε · 0ΐ = ί"'ΡΡΡ)SO''(HI' ΖΗ 8 · 9 'ΓΖ'ε'οι = ί "'ΡΡ
Ρ) 8 Τ '(Ηΐ 'ΖΗ 0"3ΐ=Γ 'Ρ) 89·ε '(Ηΐ '^Η 0"3ΐ=Γ 'Ρ) S9T '{ΗΖ '^) 9 'S- 9S'S '(Ηΐ '  Ρ) 8 Τ '(Ηΐ' ΖΗ 0 "3ΐ = Γ 'Ρ) 89 · ε' (Ηΐ '^ Η 0" 3ΐ = Γ' Ρ) S9T '{ΗΖ' ^) 9 'S-9S'S' (Ηΐ '
9ε·ε— 9ζ·ε '(ΗΪ 'ΖΗ 6·εΐ=ί" 'ρ) ζτ '(ΗΪ 'ω) sre-sox '(HI 'ΖΗ ε·9 '8·9 '9~ =ί 9ε · ε— 9ζ · ε '(ΗΪ' ΖΗ 6 · εΐ = ί "'ρ) ζτ' (ΗΪ 'ω) sre-sox' (HI 'ΖΗ ε · 9' 8 · 9 '9 ~ = ί
'ΡΡΡ) fVZ '(Ηΐ 'ΖΗ 9·9 'ΓΖ '9· ΐ=ί" 'ΡΡΡ) : d g ( 3Q3 'z 00 ) 顺- HT 'ΡΡΡ) fVZ' (Ηΐ 'ΖΗ 9 · 9' ΓΖ '9 · ΐ = ί "' ΡΡΡ): dg (3Q3 'z 00 ) 顺-H T
m^^ m ^ m^ o^m^ m^ ^w^ m 、つ止縱 止 «0。m ^^ m ^ m ^ o ^ m ^ m ^ ^ w ^ m, stop «0.
Figure imgf000039_0004
つ。 S— ¾aourai0 Ό
Figure imgf000039_0004
One. S— ¾a ourai 0 Ό
)§08
Figure imgf000039_0005
) § 08
Figure imgf000039_0005
、" DijQ L^aj¾aoura¾ Έ2) 6 マ ^邈氺^止^111"^^^^。:
Figure imgf000039_0006
[S600]
, "DijQ L ^ aj¾a ou ra¾ Έ2) 6 Ma ^ 邈 氺 ^ Stop ^ 111 " ^^^^. :
Figure imgf000039_0006
[S600]
(%S ·Ζ9 ¾ί)39 ΊΙΛ^ ^ /—^Δ-Ζ- {Λ^-^^ ^-Ζ) -Ν-[ / (% S · Ζ9 ¾ί) 3 9 ΊΙΛ ^ ^ / — ^ Δ-Ζ- (Λ ^-^^ ^ -Ζ) -Ν- [/
■^ ^pd、 ¾^— ( / ェ cm^ ^— '£)-Ζ- (HS)]-N、つ攝慰 一 ■ ^^ pd, ¾ ^ — (/ é cm ^ ^ — '£) -Ζ- (HS)]-N
^^ム!^マ f 、¾<¾ ^^ 鷇 »斜萆 °^m^ m
Figure imgf000039_0007
。 _η止纖 止 «Q。s¾ p¾i^/fH-4^ 《 dora ras ·8 )
Figure imgf000039_0008
^^ ^ Ma f, ¾ <¾ ^^ 鷇 »tilt ° ^ m ^ m
Figure imgf000039_0007
. _η Stop «Q. s¾ p¾i ^ / fH-4 ^ "d ora ra s · 8)
Figure imgf000039_0008
MSll0/S00Zdf/X3d ζε 9 丽900 OAV 、 掣MSll0 / S00Zdf / X3d ζε 9 丽 900 OAV , 掣
W寨ェ 濰峯驚 ¾¾ -^ / 一 Ν Π鐮 ¾ Τ^½¾^ [9600] W 寨 e 濰 峯 Amazing ¾¾-^ / 一 Π 鐮 ¾ Τ ^ ½¾ ^ [9600]
•(HI 'ZHO =1" 'Ρ) SVL '(Ηΐ 'ZH S'8=f 'Ρ) ZVL '( HI 'ZH O'Z 'ε·8=ί" 'ΡΡ) ZZ'L HZ ZL'£ '(HI '^H 0"S=f 'P) ZVZ '(HI '^H 0"S=f 'P • (HI 'ZHO = 1 "' Ρ) SVL '(Ηΐ' ZH S'8 = f 'Ρ) ZVL' (HI 'ZH O'Z' ε · 8 = ί" 'ΡΡ) ZZ'L HZ ZL' £ '(HI' ^ H 0 "S = f 'P) ZVZ' (HI '^ H 0" S = f' P
) ZVZ '(HI 'ZH 9'S '9·9 '6'W=f 'PPP) 9VZ '(HI '^H S'S '9·9 '6'W=f 'PPP) OVZ '(H ΐ '( ) s) ΐ6·ΐ: ^dd g ( 3Q3 'ZH 00,) H N-HT (%6 ·) ZVZ '(HI' ZH 9'S '9 · 9'6'W = f 'PPP) 9VZ' (HI '^ HS'S' 9 · 9 '6'W = f' PPP) OVZ '(H ΐ' () s ) ΐ6 · ΐ: ^ dd g (3Q3 'ZH 00,) H NH T (% 6 ·
88 賊 ii—ム^^べ ェ 、0 /0 ·68 ¾ί) 9 -££% ^ m 88 bandits ii--time ^^ base E, 0/0 · 68 ¾ί) 9 - ££% ^ m
CHdH 缀べエ ί ^ Μ^^ -^-^^ ^、つ 翻 W っ。 丟 CHdH 缀 Baye ί ^ Μ ^^-^-^^ ^丟
ζ。 つ止纖 继缀 μ«οεベエ ί )(ΐου^¾ ·χ9ΐ)§90 ·9ε /— —" [—ベ : ζ.纖 μ «οε beet ί) (ΐ ου ^ ¾ · χ9ΐ) § 90 · 9ε / — —” [—Be:
— 止縱¾ (ΐοπ υζε ΈΙ %OS M)s — 縱 縱 ¾ (ΐοπ υζε ΈΙ% OS M) s
98
Figure imgf000040_0001
。 つ ½翻" [" Hfi¾ (ΐου υοε ·ζ
98
Figure imgf000040_0001
. ½ translation "[" Hfi¾ (ΐ ου υ οε · ζ
S)¾9 -Z ^— ^ o 、 ^P^m :/ (ΛΙ)マ - r: / ^ ^。:S) ¾9 -Z ^ — ^ o , ^ P ^ m: / (ΛΙ) Ma-r: / ^ ^. :
½ οε、 tiip ^難 (ΐου υτ '69)§92 · 91 - α ΐ Έο ·
Figure imgf000040_0002
、ェ、 ¾^つ。 ζΤ0Ζ、止^^峯暴
½ οε, tiip ^ difficult (ΐ ου υ τ '69) §92 · 91-α ΐ Έ ο ·
Figure imgf000040_0002
, Ye, ¾ ^. ζΤ0Ζ, stop ^^
/—  / —
Figure imgf000040_0003
、 oj ςτο m止縱 继
Figure imgf000040_0003
, Oj ςτο m
Figure imgf000040_0004
(Touiuig -92) §26
Figure imgf000040_0004
(Touiuig -92) §26
Figure imgf000040_0005
、 止縱 ¾ (ΐ〇 rarag -Z )V^L9 '9:# / 一ェ ^エ; ^峯 Κ、 三。 つ ^コ5っ。"[ ζΤθ
Figure imgf000040_0006
^エ rwコ ベ ^?^ 、止^^峯暴
Figure imgf000040_0005
, 縱 ¾ (ΐ〇 rarag -Z) V ^ L9 '9: # / 1e ^ e; ^ 峯 Κ, 3. Tsu ^ 5. "[ζΤθ
Figure imgf000040_0006
^ D rw kobe ^? ^
--^-χ-^ :-ε- 'ε)— ε {zu -^-χ- ^: -ε- 'ε) — ε (zu
。 $ ^ :^^ $萆琴(%τ
Figure imgf000040_0007
. $ ^: ^^ $ lyre (% τ
Figure imgf000040_0007
MSlT0/S00Zdf/X3d 8ε 9 丽900 OAV MSlT0 / S00Zdf / X3d 8ε 9 丽 900 OAV

Claims

請求の範囲  The scope of the claims
下記一般式 (1) The following general formula (1)
[化 1]  [Chemical 1]
Figure imgf000041_0001
Figure imgf000041_0001
(式中、 R1は、水素原子、 C— Cアルコキシ基、置換基群 j8から選択される 1乃至 3 (Wherein R 1 is selected from a hydrogen atom, a C—C alkoxy group, and a substituent group j8 1 to 3
1 4  14
個の基で置換されていてもよい C— C ァラルキルォキシ基又は置換基群 α力 選 C—C aralkyloxy group which may be substituted with one group or substituent group α force selection
7 11  7 11
択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基を示し、 R2は、 1又は 2個 のハロゲン原子で置換されたフエ二ル基を示し、 R3は、水素原子、水酸基、保護され た水酸基、 C—Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ -ルォ R 1 represents a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 selected groups, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and R 3 represents hydrogen. Atom, hydroxyl group, protected hydroxyl group, C—C haloalkanesulfo-loxy group, C—C alkanesulfo-luo group
1 4 1 4  1 4 1 4
キシ基、又は置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C -Xi group or substituent group j8 force C 1-3 which may be substituted with 1 to 3 selected groups
66
C ァリールスルホニルォキシ基を示し、 G1は、 C— Cアルキレン基を示し、 G2は、C represents a arylsulfonyloxy group, G 1 represents a C—C alkylene group, and G 2 represents
10 1 6 10 1 6
単結合又はメチレン基を示し、 G3は、 C— Cアルキレン基、 C— Cアルケニレン基 A single bond or a methylene group, G 3 is a C—C alkylene group, a C—C alkenylene group
2 3 2 3  2 3 2 3
又は C— Cアルキニレン基を示し、置換基群ひは、水酸基、 C— Cアルコキシ基、Or a C—C alkynylene group, the substituent group is a hydroxyl group, a C—C alkoxy group,
2 3 1 4 2 3 1 4
C— Cハロゲンィ匕アルキル基及びテトラゾリルカもなる群を示し、置換基群 j8は、二 C—C represents a group that is also a halogenated alkyl group and tetrazolylca, and substituent group j8 is
1 4 14
トロ基、ハロゲン原子、 c -cアルキル基及び c -cハロゲン化アルキル基からな Tro group, halogen atom, c-c alkyl group and c-c halogenated alkyl group
1 4 1 4  1 4 1 4
る群を示す)を有する化合物を、下記一般式 (2) A compound having the following general formula (2):
[化 2]  [Chemical 2]
Figure imgf000041_0002
Figure imgf000041_0002
(式中、
Figure imgf000041_0003
G2及び G3は、前記と同意義を示し、 Yは、脱離基を示す。 ) を有する化合物に変換し、次いで、一般式 (2)を有する化合物を塩基で処理すること により、下記一般式 (3)
(Where
Figure imgf000041_0003
G 2 and G 3 are as defined above, and Y represents a leaving group. ), And then treating the compound having the general formula (2) with a base to give the following general formula (3)
[化 3]
Figure imgf000042_0001
G3は、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製 造する方法。
[Chemical 3]
Figure imgf000042_0001
G 3 has the same meaning as described above. ).
[2] R1が、 C— Cアルコキシ基又は置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で置換さ [2] R 1 is substituted with 1 to 3 groups selected from a C—C alkoxy group or a substituent group α force.
1 4  14
れて ヽてもよ ヽフエニル基である、請求項 1に記載された方法。  The method of claim 1, wherein the method is a phenyl group.
[3] R1が、置換基群 α力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基 である、請求項 1に記載された方法。 [3] The method according to claim 1 , wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups which also select a substituent group α force.
[4] R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である、請求項[4] The R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms.
1乃至請求項 3から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。 4. The method according to claim 1, wherein the force is selected from 1 to claim 3.
[5] R3が、水酸基又は保護された水酸基であり、 G3が C— C [5] R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is C—C
2 3アルキレン基である、請求 項 1乃至請求項 4力 選択されるいずれ力 1項に記載された方法。  The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the selected force is a 2 3 alkylene group.
[6] R3が、置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C— C ァ [6] R 3 may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group j8 force C—C
6 10 リールスルホニルォキシ基であり、 G3が C Cアルキレン基である、請求項 1乃至請 6 10 Reylsulfonyloxy group, and G 3 is a CC alkylene group.
2 3  twenty three
求項 4から選択されるいずれか 1項に記載された方法。  The method according to any one of Claims 4 selected from Claim 4.
[7] R3が、水素原子であり、 G3がビュル基である、請求項 1乃至請求項 4から選択される Vヽずれか 1項に記載された方法。 [7] The method according to any one of claims 1 to 4, wherein R 3 is a hydrogen atom, and G 3 is a bur group.
[8] G1が、メチレン又はエチレンである、請求項 1乃至請求項 7から選択されるいずれ力 1 項に記載された方法。 [8] G 1 is methylene or ethylene, the method described in any force 1 wherein is selected from claims 1 to 7.
[9] G1が、エチレンである、請求項 1乃至請求項 7から選択されるいずれか 1項に記載さ れた方法。 [9] The method according to any one of claims 1 to 7, wherein G 1 is ethylene.
[10] G2が、単結合である、請求項 1乃至請求項 9から選択されるいずれか 1項に記載され た方法。 [10] The method according to any one of [1] to [9], wherein G 2 is a single bond.
[11] G3が、エチレンである、請求項 1乃至請求項 10から選択されるいずれ力 1項に記載 された方法。 [11] The method G 3 is, to an ethylene, as described in any force 1 wherein is selected from claims 1 to 10.
[12] γ力 クロ口ベンゼンスルホニルォキシである、請求項 1乃至請求項 11から選択され る!、ずれか 1項に記載された方法。 下記一般式 (4) [12] γ force is selected from claims 1 to 11 which is chlorobenzene benzenesulfonyloxy !, a method according to any one of the above. The following general formula (4)
[化 4] [Chemical 4]
Figure imgf000043_0001
Figure imgf000043_0001
(式中、 ITは、 1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示し、 R3は、水素 原子、水酸基、保護された水酸基、 C Cハロアルカンスルホニルォキシ基、 C (Wherein IT represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, R 3 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a CC haloalkanesulfonyloxy group, C
1 4 1 1 4 1
Cアルカンスルホ -ルォキシ基、又は置換基群 |8カゝら選択される 1乃至 3個の基で1 to 3 groups selected from C alkanesulfo-loxy group or substituent group | 8 groups
4 Four
置換されていてもよい C — C ァリールスルホニルォキシ基を示し、 G1は、 C — Cァ C 1 represents an optionally substituted C — C aryloloxy group, G 1 represents a C — C
6 10 1 6 ルキレン基を示し、 G3は、 C — Cアルキレン基、 C — Cアルケニレン基又は C — C 6 10 1 6 represents a alkylene group, G 3 represents a C — C alkylene group, a C — C alkenylene group, or a C — C
2 3 2 3 2 3 アルキニレン基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C — Cアルキル基  2 3 2 3 2 3 Indicates an alkynylene group, and the substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, and a C — C alkyl group.
1 4  14
及び C Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物又はその塩And a group consisting of a C C halogenated alkyl group. Or a salt thereof
1 4 14
と、下記一般式 (5) And the following general formula (5)
[化 5] [Chemical 5]
0  0
X人 G2. R1 (5) X person G 2. R 1 (5)
(式中、 R1は、水素原子、 C — Cアルコキシ基、置換基群 j8から選択される 1乃至 3 (In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C—C alkoxy group, or a substituent group j8.
1 4  14
個の基で置換されていてもよい C — C ァラルキルォキシ基又は置換基群 α力 選 C — C aralkyloxy group or substituent group which may be substituted with one group
7 11  7 11
択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ二ル基を示し、 G2は、単結合又 はメチレン基を示し、 Xは、水酸基、 C —Cアルキルカルボ-ルォキシ基、 C —Cァ A phenyl group which may be substituted with 1 to 3 selected groups, G 2 represents a single bond or a methylene group, X represents a hydroxyl group, a C—C alkyl carboxy-oxy group, C —C
1 4 1 4 ルコキシカルボ-ルォキシ基又はハロゲン原子を示し、置換基群 aは、水酸基、 C -Cアルコキシ基、 C —Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリルカ なる群を示す 1 4 1 4 represents a alkoxycarbonyl-oxy group or a halogen atom, and the substituent group a represents a group consisting of a hydroxyl group, a C 1 -C alkoxy group, a C—C halogenated alkyl group, and a tetrazolyl group.
4 1 4 4 1 4
。)を有する化合物とを塩基存在下、反応させて下記一般式 (1)  . ) In the presence of a base and the following general formula (1)
[化 6] [Chemical 6]
2 〇  2 〇
R II 1 R II 1
R G3 人 (1) R G 3 (1)
OH G1OH G 1 ,
OH (式中、
Figure imgf000044_0001
G2及び G3は、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製 造し、一般式(1)を有する化合物を下記一般式 (2)
OH (Where
Figure imgf000044_0001
G 2 and G 3 are as defined above. And a compound having the general formula (1) is represented by the following general formula (2)
[化 7]  [Chemical 7]
Figure imgf000044_0002
Figure imgf000044_0002
(式中、
Figure imgf000044_0003
G2及び G3は、前記と同意義を示し、 Yは、脱離基を示す。 ) を有する化合物に変換し、次いで、一般式 (2)を有する化合物を塩基で処理すること により、下記一般式 (3)
(Where
Figure imgf000044_0003
G 2 and G 3 are as defined above, and Y represents a leaving group. ), And then treating the compound having the general formula (2) with a base to give the following general formula (3)
[化 8]  [Chemical 8]
Figure imgf000044_0004
G3は、前記と同意義を示す。)を有する化合物を製 造する方法。
Figure imgf000044_0004
G 3 has the same meaning as described above. ).
[14] R1が、 C -Cアルコキシ基又は置換基群 a力 選択される 1乃至 3個の基で置換さ [14] R 1 is substituted with 1 to 3 groups selected from C 1 -C alkoxy group or substituent group a force
1 4  14
れて 、てもよ 、フ ニル基である、請求項 13に記載された方法。  14. The method according to claim 13, wherein the method is a phenyl group.
[15] R1が、置換基群 α力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基 である、請求項 13に記載された方法。 [15] The method according to claim 13, wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups of which substituent group α force is also selected.
[16] R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である、請求項[16] R 2 is a 1 or 2 fluorine atoms or substituted phenyl group with a chlorine atom, claim
13乃至請求項 15から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。 The method of any one of claims 1 to 15, wherein the force is selected from 13 to 15.
[17] R3が、水酸基又は保護された水酸基であり、 G3が C —Cアルキレン基である、請求 [17] The claim, wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, and G 3 is a C—C alkylene group.
2 3  twenty three
項 13乃至請求項 16から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。  17. The method according to claim 1, wherein the force is selected from items 13 to 16.
[18] R3が、置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C —C ァ [18] R 3 may be substituted with 1 to 3 groups selected from the substituent group j8 force C —C
6 10 リールスルホニルォキシ基であり、 G3が C —Cアルキレン基である、請求項 13乃至 A 6 10 -reylsulfonyloxy group, and G 3 is a C 1 -C alkylene group.
2 3  twenty three
請求項 16から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。  The method according to claim 1, wherein any force selected from claim 16.
[19] R3が、水素原子であり、 G3がビュル基である、請求項 13乃至請求項 16から選択され る!、ずれか 1項に記載された方法。 [20] G1が、メチレン又はエチレンである、請求項 13乃至請求項 19から選択されるいずれ カゝ 1項に記載された方法。 [19] The method according to any one of claims 13 to 16, wherein R 3 is a hydrogen atom and G 3 is a bur group! [20] The method G 1 is, that is methylene or ethylene, as described in any mosquitoゝ1 wherein is selected from claims 13 to claim 19.
[21] G1が、エチレンである、請求項 13乃至請求項 19から選択されるいずれ力 1項に記載 された方法。 [21] G 1 is ethylene, the method described in any force 1 wherein is selected from claims 13 to claim 19.
[22] G2が、単結合である、請求項 13乃至請求項 21から選択されるいずれか 1項に記載 された方法。 [22] The method G 2 is a single bond, as described in item 1 one selected from claims 13 to claim 21.
[23] G3が、エチレンである、請求項 13乃至請求項 22から選択されるいずれ力 1項に記載 された方法。 [23] G 3 is ethylene, the method described in any force 1 wherein is selected from claims 13 to claim 22.
[24] Xが、塩素原子又は臭素原子である、請求項 13乃至請求項 23から選択されるいず れカ 1項に記載された方法。  [24] The method according to any one of claims 13 to 23, wherein X is a chlorine atom or a bromine atom.
[25] γ力 クロ口ベンゼンスルホニルォキシである、請求項 13乃至請求項 24から選択され る!、ずれか 1項に記載された方法。  [25] The γ force is selected from claims 13 to 24, which is chlorobenzene benzenesulfonyloxy !, the method according to any one of the above.
[26] 下記一般式 (4)  [26] General formula (4)
[化 9]  [Chemical 9]
Figure imgf000045_0001
Figure imgf000045_0001
(式中、 R2は、 1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示し、 ITは、水酸 基、 C—Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ -ルォキシ基(In the formula, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, IT represents a hydroxyl group, a C—C haloalkanesulfo-loxy group, a C—C alkanesulfo-loxy group.
1 4 1 4 1 4 1 4
、又は置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C— C 了  Or substituent group j8 force optionally substituted with 1 to 3 selected groups C—C
6 10 リールスルホニルォキシ基を示し、 G1は、 C— Cアルキレン基を示し、 G3は C— C 6 10 represents a reelsulfonyloxy group, G 1 represents a C—C alkylene group, and G 3 represents a C—C
1 6 2 3 アルキレン基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C— Cアルキル基及  1 6 2 3 represents an alkylene group, and the substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group, and
1 4  14
びじ Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す)を有する化合物又はその塩。  Or a salt thereof having a group consisting of C-halogenated alkyl groups.
1 4  14
[27] R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である、請求項 26に記載されたィ匕合物又はその塩。 27. The compound or the salt thereof according to claim 26, wherein R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms.
[28] R3が、水酸基である、請求項 26又は請求項 27に記載されたィ匕合物又はその塩。 [28] The compound or salt thereof according to claim 26 or claim 27, wherein R 3 is a hydroxyl group.
[29] G1が、メチレン又はエチレンである、請求項 26乃至請求項 28から選択されるいずれ 力 1項に記載されたィ匕合物又はその塩。 [30] G1が、エチレンである、請求項 26乃至請求項 28から選択されるいずれ力 1項に記載 された化合物又はその塩。 [29] The compound or the salt thereof according to any one of claims 26 to 28, wherein G 1 is methylene or ethylene. [30] The compound or salt thereof according to any one of claims 26 to 28, wherein G 1 is ethylene.
[31] G3がエチレンである、請求項 26乃至請求項 30から選択されるいずれか 1項に記載さ れたィ匕合物又はその塩。 [31] G 3 is ethylene, I匕合or a salt thereof as described in 1, wherein any one selected from claims 26 to claim 30.
[32] 一般式 (4)が、下記一般式 (4' ) [32] General formula (4) is replaced by the following general formula (4 ')
[化 10]
Figure imgf000046_0001
[Chemical 10]
Figure imgf000046_0001
である、請求項 26乃至請求項 31から選択されるいずれ力 1項に記載された化合物 又はその塩。  32. The compound or salt thereof according to any one of claims 26 to 31, which is selected from the group consisting of:
[33] R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基であり、 R3が、 水酸基であり、 G1が、エチレンであり、 G3が、エチレンである、請求項 32に記載され た化合物又はその塩酸塩、硫酸塩若しくはシユウ酸塩。 [33] R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms, R 3 is a hydroxyl group, G 1 is ethylene, and G 3 is ethylene. 33. A compound according to claim 32 or a hydrochloride, sulfate or oxalate thereof.
[34] 下記一般式(1)  [34] The following general formula (1)
[化 11]  [Chemical 11]
Figure imgf000046_0002
Figure imgf000046_0002
(式中、 R1は、水素原子、又は置換基群 α力も選択される 1乃至 3個の基で置換され ていてもよいフエ-ル基を示し、 R2は、 1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ- ル基を示し、 R3は、水酸基、保護された水酸基、 C —Cハロアルカンスルホ -ルォ (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups of which substituent group α force is also selected, and R 2 represents 1 or 2 halogen atoms. Represents a phenyl group substituted with an atom. R 3 represents a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C—C haloalkanesulfo-luo
1 4  14
キシ基、 C —Cアルカンスルホ-ルォキシ基、又は置換基群 j8から選択される 1乃  Selected from the group consisting of a xyl group, a C—C alkanesulfo-loxy group, or a substituent group j8
1 4  14
至 3個の基で置換されていてもよい C — C ァリールスルホニルォキシ基を示し、 G1 Represents a C — C arylsulfonyloxy group optionally substituted with up to 3 groups, G 1
6 10  6 10
は、 C — Cアルキレン基を示し、 G2は、単結合又はメチレン基を示し、 G3は C — CRepresents a C — C alkylene group, G 2 represents a single bond or a methylene group, and G 3 represents C — C
1 6 2 3 アルキレン基、 C —Cアルケニレン基又は C —Cアルキニレン基を示し、置換基群 1 6 2 3 represents an alkylene group, a C—C alkenylene group or a C—C alkynylene group, a substituent group
2 3 2 3  2 3 2 3
aは、水酸基、 C Cアルコキシ基、 C Cハロゲン化アルキル基及びテトラゾリル  a is a hydroxyl group, a C C alkoxy group, a C C halogenated alkyl group and tetrazolyl
1 4 1 4  1 4 1 4
力 なる群を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C — Cアルキル基及び cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。)を有する化合物。 The substituent group j8 includes a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and c represents a group consisting of halogenated alkyl groups. ).
4  Four
力 C -Cアルコキシ基又は置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で置換さ れて 、てもよ 、フエニル基である、請求項 34に記載されたィ匕合物。  35. The compound according to claim 34, wherein the compound is substituted with 1 to 3 groups selected from a force C 1 -C alkoxy group or a substituent group α force, and is a phenyl group.
[36] R1が、置換基群 α力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基 である、請求項 34に記載されたィ匕合物。 [36] The compound according to claim 34, wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups of which substituent group α force is also selected.
[37] R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である、請求項[37] R 2 is a 1 or 2 fluorine atoms or substituted phenyl group with a chlorine atom, claim
34乃至請求項 36から選択されるいずれ力 1項に記載された化合物。 37. The compound according to claim 1, wherein the compound is selected from 34 to 37.
[38] R3が、水酸基又は保護された水酸基である、請求項 34乃至請求項 37から選択され[38] Selected from claims 34 to 37, wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group.
¾ ヽずれか 1項に記載された化合物。 ¾ Any one of the compounds described in 1.
[39] G1が、メチレン又はエチレンである、請求項 34乃至請求項 38から選択される 、ずれ カゝ 1項に記載された化合物。 [39] The compound according to item 1 , wherein G 1 is methylene or ethylene, selected from claims 34 to 38.
[40] G1が、エチレンである、請求項 34乃至請求項 38から選択されるいずれ力 1項に記載 された化合物。 [40] The compound according to any one of claims 34 to 38, wherein G 1 is ethylene.
[41] G2が、単結合である、請求項 34乃至請求項 40から選択されるいずれか 1項に記載 された化合物。 [41] G 2 is a single bond, compounds described in 1, wherein any one selected from claims 34 to claim 40.
[42] G3が、エチレンである、請求項 34乃至請求項 41から選択されるいずれ力 1項に記載 された化合物。 [42] G 3 is ethylene, compounds described in any force 1 wherein is selected from claims 34 to claim 41.
[43] 一般式(1)が、下記一般式(1 ' ) [43] General formula (1) is the following general formula (1 ')
[化 12]  [Chemical 12]
Figure imgf000047_0001
Figure imgf000047_0001
である、請求項 34乃至請求項 42から選択される 、ずれか 1項に記載された化合物。  43. A compound according to any one of claims 34 to 42, selected from:
[44] R1が、置換基群 aカゝら選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基 であり、 R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基であり、[44] R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups selected from substituent group a, and R 2 is 1 or 2 fluorine atoms or chlorine A phenyl group substituted with an atom;
R3が、水酸基又は保護された水酸基であり、 G1が、エチレンであり、 G2が、単結合で あり、 G3がエチレンである、請求項 43に記載された化合物。 44. The compound according to claim 43, wherein R 3 is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group, G 1 is ethylene, G 2 is a single bond, and G 3 is ethylene.
[45] 実質的に下記工程 A、工程 B、及び工程 C力もなることを特徴とする、一般式 (5) [化 13] [45] General formula (5) characterized by substantially including the following Step A, Step B, and Step C forces [Chemical 13]
Figure imgf000048_0001
Figure imgf000048_0001
(式中、 R1は、水素原子、 C — Cアルコキシ基、置換基群 j8から選択される 1乃至 3 (In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a C—C alkoxy group, or a substituent group j8.
1 4  14
個の基で置換されていてもよい C — C ァラルキルォキシ基又は置換基群 α力 選 C — C aralkyloxy group or substituent group which may be substituted with one group
7 11  7 11
択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基を示し、 R2は、 1又は 2個 のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示し、 G1は、 C — Cアルキレン基を示し、 R 1 represents a phenyl group optionally substituted with 1 to 3 selected groups, R 2 represents a phenyl group substituted with 1 or 2 halogen atoms, and G 1 represents C 1 — Represents a C alkylene group,
1 6  1 6
G2は、単結合又はメチレン基を示し、 G3は C — Cアルキレン基を示し、 G4は、 >C G 2 represents a single bond or a methylene group, G 3 represents a C—C alkylene group, and G 4 represents> C
2 3  twenty three
— OH又は > S→0を示し、置換基群 αは、水酸基、 C — Cアルコキシ基、 C — C  — OH or> S → 0, the substituent group α is a hydroxyl group, C — C alkoxy group, C — C
1 4 1 4 ハロゲンィ匕アルキル基及びテトラゾリルカもなる群を示し、置換基群 βは、ニトロ基、 ハロゲン原子、 C —Cアルキル基及び C —Cハロゲン化アルキル基からなる群を  1 4 1 4 represents a group consisting of a halogenoalkyl group and tetrazolylca, and the substituent group β is a group consisting of a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group and a C—C halogenated alkyl group.
1 4 1 4  1 4 1 4
示す。 )を有する化合物又はその薬理上許容される塩の製造方法: Show. Or a pharmacologically acceptable salt thereof:
{ここで、工程 Αは、一般式(1)  {Where, step Α is the general formula (1)
[化 14] [Chemical 14]
Figure imgf000048_0002
Figure imgf000048_0002
[式中、
Figure imgf000048_0003
G2及び G3は前記と同意義を示し、 R3は、水酸基、保護された水 酸基、 C —Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C —Cアルカンスルホ-ルォキシ
[Where
Figure imgf000048_0003
G 2 and G 3 are as defined above, and R 3 is a hydroxyl group, a protected hydroxyl group, a C 1 -C haloalkane sulfo-oxy group, a C 2 -C alkane sulfo-loxy group.
1 4 1 4 1 4 1 4
基、又は置換基群 j8力 選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C —C Group or substituent group j8 force C —C optionally substituted with 1 to 3 selected groups
6 10 ァリールスルホニルォキシ基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C —C アルキル基及び C Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。 ]  6 10 represents an arylsulfonyloxy group, and the substituent group j8 represents a group consisting of a nitro group, a halogen atom, a C—C alkyl group, and a C C halogenated alkyl group. ]
4 1 4  4 1 4
を有する化合物を、一般式 (2) A compound having the general formula (2)
[化 15]
Figure imgf000049_0001
G2及び G3は前記と同意義を示し、 R3及び Yは、それぞれ、 Ci - Cハロアルカンスルホ-ルォキシ基、 C—Cアルカンスルホ-ルォキシ基、又は置
[Chemical 15]
Figure imgf000049_0001
G 2 and G 3 have the same meanings as defined above, R 3 and Y are each, C i - C halo alkanesulfonyl - Ruokishi group, C-C alkanesulfonyl - Ruokishi group, or location
4 1 4 4 1 4
換基群 j8力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C— C ァリールス Substituent group j8 may also be substituted with one to three selected groups C—C aryls
6 10 ルホニルォキシ基を示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C -Cアルキル  6 10 represents a sulfonyloxy group, the substituent group j8 is a nitro group, a halogen atom, a C 1 -C alkyl
1 4 基及び C Cハロゲン化アルキル基からなる群を示す。 ]を有する化合物に変換す  A group consisting of 14 groups and a C C halogenated alkyl group is shown. Is converted to a compound having
1 4  14
る工程であり、 Process,
工程 Bは、工程 Aで得られたィ匕合物(2)を塩基で処理することにより、一般式(3)In step B, the compound (2) obtained in step A is treated with a base to give a general formula (3)
[化 16] [Chemical 16]
ロアルカンス
Figure imgf000049_0002
Rocanans
Figure imgf000049_0002
ルホニルォキシ基、 C Cアルカンスルホニルォキシ基、又は置換基群 から選択 Selected from sulfonyloxy group, CC alkanesulfonyloxy group, or substituent group
1 4  14
される 1乃至 3個の基で置換されていてもよい C -C ァリールスルホニルォキシ基を A C 1 -C arylsulfonyloxy group which may be substituted with 1 to 3 groups
6 10  6 10
示し、置換基群 j8は、ニトロ基、ハロゲン原子、 C -C The substituent group j8 is a nitro group, a halogen atom, C 1 -C
1 4アルキル基及び C -C  1 4 alkyl group and C -C
1 4ハロ ゲンィ匕アルキル基力もなる群を示す。 ]を有する化合物に変換する工程であり、 工程 Cは、工程 Bで得られた化合物(3)と一般式 (6)  1 4 A group of halogenoalkyl groups. In which the compound (3) obtained in Step B and the general formula (6)
[化 17]  [Chemical 17]
Figure imgf000049_0003
Figure imgf000049_0003
[式中、 G4は前記と同意義を示す。 ]を有する化合物とを反応させて、一般式 (5)を 有する化合物を製造する工程である。 }。 [Wherein G 4 is as defined above. And a compound having the general formula (5) to produce a compound having the general formula (5). }.
R1が、 C— Cアルコキシ基又は置換基群 α力 選択される 1乃至 3個の基で置換さ れて 、てもよ 、フ ニル基である、請求項 45に記載された方法。 R 1 is substituted with 1 to 3 groups selected from a C—C alkoxy group or a substituent group α force. 46. The method of claim 45, wherein the method is a phenyl group.
[47] R1が、置換基群 α力も選択される 1乃至 3個の基で置換されていてもよいフエ-ル基 である、請求項 45に記載された方法。 [47] The method according to claim 45, wherein R 1 is a phenyl group which may be substituted with 1 to 3 groups, the substituent group α force of which is also selected.
[48] R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である、請求項[48] The R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms.
45乃至請求項 47から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。 48. A method according to any one of the preceding claims, wherein the force is selected from 45 to 47.
[49] 化合物(1)の R3が、水酸基又は保護された水酸基である、請求項 45乃至請求項 48 から選択される ヽずれか 1項に記載された方法。 [49] The method according to any one of claims 45 to 48, wherein R 3 of the compound (1) is a hydroxyl group or a protected hydroxyl group.
[50] G1が、メチレン又はエチレンである、請求項 45乃至請求項 49から選択されるいずれ カゝ 1項に記載された方法。 [50] The method G 1 is, that is methylene or ethylene, as described in any mosquitoゝ1 wherein is selected from claims 45 to claim 49.
[51] G1が、エチレンである、請求項 45乃至請求項 49から選択されるいずれ力 1項に記載 された方法。 [51] G 1 is ethylene, the method described in any force 1 wherein is selected from claims 45 to claim 49.
[52] G2が、単結合である、請求項 45乃至請求項 51から選択されるいずれか 1項に記載 された方法。 [52] The method G 2 is a single bond, as described in item 1 one selected from claims 45 to claim 51.
[53] G3が、エチレンである、請求項 45乃至請求項 52から選択されるいずれ力 1項に記載 された方法。 [53] G 3 is ethylene, the method described in any force 1 wherein is selected from claims 45 to claim 52.
[54] 化合物(2)及び化合物(3)の R3及び Υがクロ口ベンゼンスルホ-ルォキシである、請 求項 45乃至請求項 53から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。 [54] The method according to any one of claims 45 to 53, wherein R 3 and Υ of compound (2) and compound (3) are black benzenesulfoloxy.
[55] 一般式 (7)  [55] General formula (7)
[化 18]
Figure imgf000050_0001
[Chemical 18]
Figure imgf000050_0001
(式中、 R2は、 1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示す。)を有する 化合物とパラホルムアルデヒドとを、トリフルォロボラン錯化合物及び塩基の存在下で 反応させて一般式 (8) (Wherein R 2 represents a phenol group substituted with 1 or 2 halogen atoms) and paraformaldehyde are reacted in the presence of a trifluoroborane complex compound and a base. General formula (8)
[化 19]
Figure imgf000050_0002
[Chemical 19]
Figure imgf000050_0002
(式中、 R2は前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法。 [56] 一般式 (7) (Wherein R 2 is as defined above). [56] General formula (7)
[化 20]
Figure imgf000051_0001
[Chemical 20]
Figure imgf000051_0001
(式中、 R2は、 1又は 2個のハロゲン原子で置換されたフエ-ル基を示す。)を有する 化合物とパラホルムアルデヒドとを、トリフルォロボラン錯化合物及び塩基の存在下で 反応させて一般式 (8) (Wherein R 2 represents a phenol group substituted with 1 or 2 halogen atoms) and paraformaldehyde are reacted in the presence of a trifluoroborane complex compound and a base. General formula (8)
[化 21]
Figure imgf000051_0002
[Chemical 21]
Figure imgf000051_0002
(式中、 R2は前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造し、次いで、一般式 (8) ( 式中、 R2は前記と同意義を示す。)を有する化合物に、不活性溶媒中、モレキュラー シーブス及びジルコニウム(IV)アルコキシドと光学活性な酒石酸ジエステルと力 調 製される不斉触媒の存在下、酸化剤を作用させて、一般式 (9) (Wherein R 2 has the same meaning as described above), and then the compound having the general formula (8) (wherein R 2 has the same meaning as described above) In an active solvent, an oxidizing agent is allowed to act in the presence of molecular sieves and zirconium (IV) alkoxide, an optically active tartaric acid diester, and an asymmetric catalyst to be prepared, and the general formula (9)
[化 22]
Figure imgf000051_0003
[Chemical 22]
Figure imgf000051_0003
(式中、 R2は前記と同意義を示す。)を有する化合物を製造する方法。 (Wherein R 2 is as defined above).
[57] R2が、 1又は 2個のフッ素原子又は塩素原子で置換されたフエニル基である、請求項[57] The R 2 is a phenyl group substituted with 1 or 2 fluorine atoms or chlorine atoms.
55又は請求項 56に記載された方法。 57. A method according to claim 55 or claim 56.
[58] トリフルォロボラン錯ィ匕合物がトリフルォロボラン ' C — Cアルキルエーテル錯体であ  [58] The trifluoroborane complex is a trifluoroborane 'C — C alkyl ether complex.
1 4  14
る、請求項 55乃至請求項 57から選択されるいずれか 1項に記載された方法。  58. A method according to any one of claims 55 to 57 selected from.
[59] トリフルォロボラン錯ィ匕合物がトリフルォロボラン.ェチルエーテル錯体である、請求 項 55乃至請求項 57から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。  [59] The method according to any one of claims 55 to 57, wherein the trifluoroborane complex compound is a trifluoroborane-ethyl ether complex.
[60] 塩基がアルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属アルコキシド類又は有機アミン類であ る、請求項 55乃至請求項 59から選択されるいずれか 1項に記載された方法。  [60] The method according to any one of claims 55 to 59, wherein the base is an alkali metal hydroxide, an alkali metal alkoxide, or an organic amine.
[61] 塩基がアルカリ金属アルコキシド類又は有機アミン類である、請求項 55乃至請求項 5 9から選択されるいずれか 1項に記載された方法。 [61] The claims 55 to 5 wherein the base is an alkali metal alkoxide or an organic amine. 9. The method according to any one of the above, selected from 9.
[62] 塩基がナトリウムメトキシド又はトリェチルァミンである、請求項 55乃至請求項 59から 選択される ヽずれか 1項に記載された方法。 [62] The method according to any one of claims 55 to 59, wherein the base is sodium methoxide or triethylamine.
[63] ジルコニウム(IV)アルコキシドがジルコニウム(IV)イソプロポキシド又はジルコニウム [63] zirconium (IV) alkoxide is zirconium (IV) isopropoxide or zirconium
(IV) tert—ブトキシドである、請求項 56乃至請求項 62から選択されるいずれ力 1項 に記載された方法。  64. The method of any one of claims 56 to 62, wherein (IV) tert-butoxide is selected.
[64] 光学活性な酒石酸ジエステルが酒石酸ジイソプロピルである、請求項 56乃至請求項 64. The optically active tartaric acid diester is diisopropyl tartrate.
63から選択されるいずれか 1項に記載された方法。 63. The method according to any one of the above, selected from 63.
[65] 酸化剤がタメンヒドロペルォキシド又はイソプロピルクミルヒドロペルォキシドである、 請求項 56乃至請求項 64から選択されるいずれ力 1項に記載された方法。 [65] The process according to any one of claims 56 to 64, wherein the oxidizing agent is tamen hydroperoxide or isopropylcumyl hydroperoxide.
PCT/JP2005/011514 2004-06-24 2005-06-23 Method for producing n-carbonyl saturated heterocyclic rings and synthetic intermediate thereof WO2006001326A1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004-186455 2004-06-24
JP2004186455 2004-06-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006001326A1 true WO2006001326A1 (en) 2006-01-05

Family

ID=35781782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/011514 WO2006001326A1 (en) 2004-06-24 2005-06-23 Method for producing n-carbonyl saturated heterocyclic rings and synthetic intermediate thereof

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TW200602299A (en)
WO (1) WO2006001326A1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5046675A (en) * 1972-08-11 1975-04-25
JPH1143490A (en) * 1997-05-30 1999-02-16 Sankyo Co Ltd Salt of optically active sulfoxide derivative
JP2000034288A (en) * 1998-01-23 2000-02-02 Sankyo Co Ltd Spiropiperidine derivative

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5046675A (en) * 1972-08-11 1975-04-25
JPH1143490A (en) * 1997-05-30 1999-02-16 Sankyo Co Ltd Salt of optically active sulfoxide derivative
JP2000034288A (en) * 1998-01-23 2000-02-02 Sankyo Co Ltd Spiropiperidine derivative

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
FIRESTONE R. ET AL.: "Selective Delivery of Cytotoxic Compounds to Cells by the LDL Pathway.", J.MED.CHEM., vol. 27, no. 8, 1984, pages 1037 - 1043, XP002991759 *
JINBO Y. ET AL.: "Synthesis and Antibacterial Activity of Thiazolopyrazine-incorporated Tetracyclic Quinolone Antibacterial Agents.", J.MED.CHEM., vol. 37, no. 17, 1994, pages 2791 - 2796, XP002991758 *
OKACHI T. ET AL.: "Catalytic Enantioselective Epoxidation of Homoallylic Alcohols by Chiral Zirconium Complexes.", ORGANIC LETTERS, vol. 5, no. 1, 2003, pages 85 - 87, XP002991757 *
OKACHI T. ET AL.: "Practical Carbonyl-Ene Reactions of beta-Methylstyrenes with Paraformaldehyde Promoted by a Combined System of Boron Trifluoride and Molecular Sieves 4A.", ORGANIC LETTERS, vol. 4, no. 10, 2002, pages 1667 - 1669, XP002991761 *
SHOWELL G. ET AL.: "Binding of 2.4-disubstituted morpholines at human D4, dopamine receptors.", BIOORGANIC & MEDICINAL CHEMISTRY., vol. 6, no. 1-8, 1998, pages 1 - 8, XP002991760 *

Also Published As

Publication number Publication date
TW200602299A (en) 2006-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7553989B2 (en) Malonic acid monoesters and process for producing the same
US20080032964A1 (en) Process for the synthesis of azetidinone
HU227492B1 (en) Intermediates for the preparation of agents having antifungal activity, processes for the preparation thereof
JP6275881B2 (en) Improved method for producing prodrugs of duocarmycin
JPWO2005016880A1 (en) Process for producing cis-4-fluoro-L-proline derivative
CZ2008317A3 (en) Process for preparing (3R,4S)-1-(4-fluorphenyl)-3-[(3S)-3-(4-fluorophenyl)-3-hydroxypropyl)]-4-(4-hydroxyphenyl)-2-azetidinone
FR2649100A1 (en) NOVEL AZETIDINES, THEIR PREPARATION AND THEIR APPLICATION AS INTERMEDIATES FOR THE PREPARATION OF COMPOUNDS WITH ANTIMICROBIAL ACTIVITY
WO2006001326A1 (en) Method for producing n-carbonyl saturated heterocyclic rings and synthetic intermediate thereof
JP4481829B2 (en) Novel synthetic intermediate of carbapenem compound for oral administration and process for producing the same
JP2965539B2 (en) Synthetic intermediate for sulfonylurea derivatives
JP5477983B2 (en) Process for producing optically active 4,4-disubstituted oxazolidine derivatives
JPWO2004043961A1 (en) Method for producing carbapenem compounds for oral administration
JP6961595B2 (en) Method for producing 4-alkoxy-3-trifluoromethylbenzyl alcohol
WO2003104240A1 (en) Process for producing cyclic thioether and synthetic intermediate thereof
WO2005080339A1 (en) Sulfonyloxy derivatives
TWI601713B (en) Process for the preparation of optionally substituted phenyl and pyridyl pyrrolidines
KR101953575B1 (en) Synthesis of new statin intermediates for hyperlipidemia therapy and synthetic process development for rosuvastatin
JP5024851B2 (en) Optically active 4,4-disubstituted oxazolidine derivatives and process for producing the same
JP6690887B2 (en) Process for producing mercaptophenol compound and intermediate thereof
US6906085B2 (en) Tetrahydropyran derivatives as neurokinin receptor antagonists
JP2000095780A (en) Production of crystal of carbamate compound
JPH10212287A (en) Production of epoxytriazole compound
JPWO2004099136A1 (en) Method for producing pyrrolidine derivative
JP4236311B2 (en) Method for producing cycloheptimidazole derivative
JP2921051B2 (en) Method for producing 3-hydroxybutyl sulfide derivative

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP