WO1990000632A1 - Metallizations and substrates obtained by vacuum evaporation of a plurality of metals from a source - Google Patents

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WO1990000632A1
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Georges Jean Clausse
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Georges Jean Clausse
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon

Definitions

  • Ia present invention relates to a multilayer deposition process or homogeneous alloy from the intimate mixture of several powdered metals in each source of evaporation of a vacuum installation by Joule effect, relates to a specific deposit obtained depending on the vaporized elements which form a shield against electromagnetic fields, relates to substrates thus treated for the protection of living or inert matter and relates to the device making it possible to obtain, by consecutive evaporations during the same vacuum cycle, a determined thickness of the deposit of the metallic mixture with additions of evaporation of intermediate products.
  • the “multilayer by joule effect” training technique is in fact already used, but using several sources of vapor in various fields for the manufacture, for example, of integrated circuits and the like.
  • a destination of the invention is, among other things, to obtain a layer of thickness chosen in the event of metallization for a specific purpose such as for example shielding against electromaometic fields.
  • the substrates to be treated are therefore treated with metals with adequate magnetic reactions.
  • a solution for protection can be the evaporation under vacuum of pure nickel to form a deposit on the substrate.
  • a solution for protection can evaporation of pure copper to form this deposit on the substrate.
  • the preferred solution is to do in one passage under vacuum a binary evaporation by source of evaporation by the Copper followed by the Nickel, which allows thus covering the Copper by the Nickel to prevent oxidation of the surface of the copper deposit.
  • the copper-nickel deposit is obtained by the ⁇ of the vapor pressures of copper and nickel in their powder mixture and by other physical parameters used. such as the specific vacuum, the distance from the crucible to the substrate, the induction current, the type of crucible, this list not being limiting.
  • the method itself has a new direction for the definition of vacuum metallization of substrates, in this case delicate surfaces with several metals in a single operation, and in this case, in order to add to the substrate the ability to be the desired shielding against electromagnetic fields.
  • the shields against electromagnetic disturbing fields are known and are part of a choice of Fer-Nickel alloys with high magnetic permeability. These shields made from pure iron and nickel must necessarily undergo after machining and shaping a thermal cycle either under cracked ammonia, or under pure and dry hydrogen to avoid oxidation of these and to remove impurities. This treatment followed by controlled cooling is done at 1200oC. It is also necessary to avoid, after this heat treatment, any physical deformation of the shielding which would risk greatly reducing its efficiency. Evaporation of a Fer-Nickel alloy on a substrate under vacuum has been tried but the results obtained have not been sufficiently conclusive, especially since the costly treatments undergone by this alloy in foundries for obtaining the desired crystal structure, are lost during evaporation. The search for an efficient and economical method to obtain high performance shielding results without starting from an already formed alloy was undertaken.
  • evaporation under vacuum should therefore allow a metallic deposit in a single operation from the different metals chosen and mixed in each source of evaporation.
  • the surface vapor pressure temperatures of the chosen metals are only close for some of them.
  • the scale of evaporation temperatures it was necessary to obtain the following result; under well-defined conditions as to the specificity of the vacuum to be obtained, at the evaporation temperature, that of the substrate, the particle size of the covering materials, the mixture of these, and other parameters, the metals had to be deposited not in stratified layers but to form an alloy of the ⁇ type. For this, it was also necessary that the conditions required for adhesion to the substrate be fulfilled. It is known that surfaces made of organic polymers (especially flat surfaces) pose problems due to their intrinsic physicochemical complexity.
  • adhesion between metals and organic materials is not well defined because it is not known whether it is due to surface energies, dispersion forces or charge transfers. These surfaces can in some places suffer from micro-crevices. In this case, they must be treated beforehand to modify these defects and obtain good adhesion of the thin metallization layer.
  • the treatment of delicate substrates is done in a simple way by cold soaking in an adequate solution because all the other usual methods such as by heating at high temperature to separate them from their volatile impurities thus gue by other methods including acid soaking or exposure to ultraviolet light in the presence of Oxygen (03) which volatilizes the contaminant (for example Co or CO2) irreparably damages fragile substrates.
  • Oxygen for example Co or CO2
  • Imperative maintenance of the dimensional stability of the substrate and its initial stiffness rate by controlling its temperature during the evaporation process.
  • This choice makes it possible to avoid undesirable anisotrepic fluctuations and makes it possible to create a film close to zero of magnetostriction, the two main components of which, after evaporation, are found in the alloy obtained at the rate of aux for Nickel and 15% for Iron for a layer thick enough for defined shielding.
  • a low temperature of the substrate was maintained without damage to it, which retains its dimensional stability and its initial strength. This low temperature also helps to get good crystalline orientation.
  • the substrate was held in place on a cylindrical iron substrate holder of the planetary system in the horizontal vacuum chamber of the deposition installation by two flexible strips of magnetized ferrite which, in addition to holding the substrate in place, were chosen to help a little the crystalline orientation of the elements during their deposition.
  • the four metals were used in the form of ultra-fine powders and mixed in the proportions given above.
  • a very thin layer of the melanqe was spread over the evaporation source (crucible) to obtain the determined coverage.
  • the equipment used A JEOL JSM 35 CF scanning microscope combined with. a TRACOR 5500 X-ray dispersive energy analysis spectrometer.
  • the abovementioned analyzes in addition to the four elements of the alloy, made it possible to detect in particular titanium, zinc, a surplus of copper, calcium, chlorine, phosphorus, and some other background elements. They were eliminated by the established differential analyzes. Indeed these elements come from either from the pretreatment layer of the filter network, or from the composition of its filaments (titanium), or from the sample holder and also from the enclosure (chlorine and zinc) and are found in identical proportions, as the source of evaporation (crucible) is either molybdenum or tungsten.
  • the alloy itself is well composed of the four basic elements used during the vacuum evaporation process.
  • the quantitative values are as follows for the overall surface of the sample of the filter network subjected to the tests:
  • the quantitative analysis is subject to variations of the order of +/- 3% for the percentages of high weight. These variations are inversely proportional to the weights of the components.
  • the deposits consist of Ni, Fe, Cu, Cr.
  • the substrate is polyester, polyamide and carbon polyamide.
  • the peaks analyzed are as follows (the bond energies are indicated for information in parentheses):
  • the network surface used for the analysis is part of the same sample as that used for the TRACOR analysis.
  • the analyzes were carried out with the K ⁇ line of aluminum.
  • the Nickel Auger peaks are superimposed on the 2P3 / 2 iron peaks, a second series of analyzes was therefore carried out with the K ⁇ line of magnesium. In that case, the iron peaks are no longer disturbed and it was possible to evaluate the sensitivity factor corresponding to Fe 2P1 / 2, the only iron peak measurable with the Aluminum source.
  • Each sample is eroded using a beam of Argon ions (4 KeV, 3 ⁇ A). Scanning on a square of 8 mm side for approximately 90 minutes. This erosion is stopped at regular intervals to allow the acquisition of spectra
  • the results read as follows: The thickness of the analyzed metallic monolayer, evaluated from 30 to 50 nanometers, is determined from the concentration profiles of the
  • Nickel and Carbon by comparison with profiles obtained for layers of the same thickness of NiCr / SiO2.
  • the Nickel-Iron concentration is homogeneous over the entire thickness of the deposit, then that of Chrome is less so that of Copper which tends towards a maximum at the metal layer interface. -substrate.
  • the weight percentages defined by integration on the thicknesses for 3 and 4 successive evaporations of 120 seconds each are Ni 80/81%. Fe 14/15%, Cu 3%, Cr 2%. These results confirm those obtained with TRACOR 5500, namely an increase in the weight percentage of Nickel compared to that of iron which tends towards the desired percentages for the deposit of alloy (80% Ni / 15% Fe) + others.
  • the thicknesses obtained show an increase in increment thereof by evaporation layer of the order of 80% of the thickness of the previous layer (Tables 13 and 14).
  • the layers formed by successive evaporations in the same enclosure under constant or variable vacuum allow, by the metering and filling system of the crucible (s) at each power-up successive close together, alternating or creating different layers of alloy at each of the evaporations, one or more of these layers being able to be starting from a single metal or from other materials in order to create a multi-layer stratification of thicknesses chosen on the substrate for required properties.
  • the Joule evaporation system comprises an evaporation chamber (1) provided with a door (14) by which a planetary assembly is an epicyclic system made of a cradle (7) which holds two planet carrier rings (2) whose planets (3) are the substrate carriers, the cradle being provided with friction rollers (6) whose one is rotated by a motor (8), the planetary system being provided by the chain (15) and its tensioner (16).
  • a plate (9) serves as a platform for the sources of evaporation or crucibles (4) each supplied with current by the nickel-plated copper electrodes (5) which include a common neutral to the crucibles and a phase arrival separated by crucible to allow precise adjustment of each of them.
  • Series of buckets (11) with their pouring spouts (13) move forward or backward by manual or automatic control along rails (10) provided with lugs (12) which regulate the filling of the crucibles (4) before each energization d evaporation of these depending on the choice of alloy or other material to deposit and the sequence to follow.
  • the pouring spouts (13) have the desired length and are at a sufficient distance from the crucibles (4) during evaporation so as not to disturb the cones of evaporation (17). It is clear that a substrate formed from wound material such as polymer sheet can be treated in the same way, the substrate unwinding from a coil on one side of the vacuum chamber (1) to wind on the other side, after having passed over two thin and parallel rollers between which the surface to be treated takes place which scrolls slowly over the crucible systems (4) and their measuring cups (11).
  • the unwind-wind system for roll or reel substrates is not shown in Figure 1.
  • the substrates chosen were a woven network metallized by the Fe-Ni-Cr-Cu mixture forming an alloy and a 0.3 mm thick PVC film covered with the same alloy. Samples of these measuring 200 mm x 200 mm were glued to 4 mm thick glass plates. These assemblies were then placed in an aerial analyzer (generator and receiver), (Figure 5).
  • the aerials are loop antennas (or frames), low impedance, diameter 30 cm. They consist of one or more turns of copper wire.
  • the "generator-aerial transmission" and “receiver-aerial reception” connection cables are coaxial cables having a shielding efficiency compatible with the performance of the shielding to be measured.
  • the shielding efficiency of the receiver and the coaxial connection cable must be such that, When these are placed in the reference electric field after replacing the receiving aerial with a shielded charge of equivalent impedance, no signal is detected by the receiver.
  • emitter assembly generator and loop
  • receiver assembly consisting of a loop similar to the previous one and a field meter
  • the two loops are positioned in the same plane, perpendicular to the wall to be tested but oriented in any way at a distance "d" from one another without any obstacle between them.
  • One reads the level A (in dB) indicated by the field strength meter.
  • the two loops are placed on either side of the wall to be tested, in the same relative positions and at the same distance "d" from each other.
  • the level B (in dB) indicated by the field meter is noted.
  • the difference A - B represents the attenuation (in dB) of the wall, ie of the substrates under test for the magnetic field, at the frequencies considered.

Abstract

The present invention relates to a multilayer or homogeneous alloy deposition from an intimate mixture of a plurality of pulverulent metals in each source of evaporation of a vacuum installation by Joule effect. It also relates to a specific alloy deposition obtained as a function of the vaporized mixture which forms an armour against electromagnetic fields, and it also relates to substrates thus treated for the protection of living or inert materials and also relates to the device allowing to obtain by consecutive evaporations during the same vacuum cycle a predetermined thickness of the metal mixture deposition with additions of intermediary evaporated products. To this effect, the evaporation sources (4) are supplied by the pourers (13) of cups (11) filled with products to be evaporated and going and coming on rails (10) according to the selected sequence.

Description

s Métallisations et substrats obtenus par evaporation sous vide de plusieurs métaux à partir d'une source. s Metallizations and substrates obtained by vacuum evaporation of several metals from a source.
Ia présente invention concerne un procédé de dépôt multicouche ou d'alliage homogène à partir du mélange intime de plusieurs métaux pulvérulents dans chaque source d'evaporation d'une installation sous vide par effet Joule, concerne un dépôt spécifique obtenu en fonction des éléments vaporisés qui forment un blindage contre les champs électromagnétiques, concerne des substrats ainsi traités pour la protection de la matière vivante ou inerte et concerne le dispositif permettant d'obtenir par des évaporations consécutives durant le même cycle de vide, une épaisseur déterminée du dépôt du mélange métallique avec ajouts d'évaporation de produits intercalaires.  Ia present invention relates to a multilayer deposition process or homogeneous alloy from the intimate mixture of several powdered metals in each source of evaporation of a vacuum installation by Joule effect, relates to a specific deposit obtained depending on the vaporized elements which form a shield against electromagnetic fields, relates to substrates thus treated for the protection of living or inert matter and relates to the device making it possible to obtain, by consecutive evaporations during the same vacuum cycle, a determined thickness of the deposit of the metallic mixture with additions of evaporation of intermediate products.
l 'état de la technique peut se résumer par les brevets suivants :  the state of the art can be summarized by the following patents:
1200437 C23c Rhône-Poulenc 23.06.58 France 1200437 C23c Rhône-Poulenc 23.06.58 France
1263198 C23c Elektroschmelzwerk 26.07.60 France1263198 C23c Elektroschmelzwerk 26.07.60 France
1281255 C23c C22c H01c IBM 25.08.60 France1281255 C23c C22c H01c IBM 25.08.60 France
1285029 C23c G06k Thomson-Houston 28.03.61 France1285029 C23c G06k Thomson-Houston 28.03.61 France
1391859 C23c C03c H03k Lignes Télégr & Téléph 24.01.64 France1391859 C23c C03c H03k Telegr & Telephone lines 24.01.64 France
147618a C23c C03c Philips 15.04.66 France147618a C23c C03c Philips 15.04.66 France
1589125 C23c S.E.V. Marchai 04.09.68 France1589125 C23c S.E.V. Marchai 04.09.68 France
1456665 C23c G11b IBM 04.08.65 France1456665 C23c G11b IBM 04.08.65 France
1593416 C23c G21c EURATOM 26.11.68 France1593416 C23c G21c EURATOM 26.11.68 France
2024258 C23c AIR Réduction Co 28.11.60 France2024258 C23c AIR Reduction Co 28.11.60 France
2024315 C23c C22c Robert Bosch 27.10.69 France2024315 C23c C22c Robert Bosch 27.10.69 France
2123091 C23c C22c U.K & Northern Ireland 13.07.73 France2123091 C23c C22c U.K & Northern Ireland 13.07.73 France
2383241 C23c HO11 Hitachi 08.03.78 France2383241 C23c HO11 Hitachi 08.03.78 France
0134722 C23c G03g XFROX Corp. 09.09.83 Europe 0134722 C23c G03g XFROX Corp. 09.09.83 Europe
La technique de formation «tulticouche par effet joule est en effet déjà utilisée mais à partir de plusieurs sources de vapeurs dans divers domaines pour la fabrication par exemple de circuits intégrés et analogues. The “multilayer by joule effect” training technique is in fact already used, but using several sources of vapor in various fields for the manufacture, for example, of integrated circuits and the like.
le dépôt de couches d'alliages par evaporation sous vide par effet Joule a également déjà été utilisé et un cas d'espèce précise l'emploi d'un creuset en enceinte sous vide rempli d'un alliage en fusion dont les deux composants ont des températures d'évaporation différentes. Pour pallier cet inconvénient un liquide inerte et retardant sur la surface du plasma d'alliage fait que l'élément au point de tension de vapeur le plus bas rejoint l'élément au point de tension de vapeur le plus haut en une evaporation la plus simultanée possible.  the deposition of layers of alloys by vacuum evaporation by the Joule effect has also already been used and a specific case specifies the use of a crucible in a vacuum enclosure filled with a molten alloy, the two components of which have different evaporation temperatures. To overcome this drawback, an inert liquid retarding on the surface of the alloy plasma causes the element at the lowest vapor pressure point to join the element at the highest vapor pressure point in the most simultaneous evaporation. possible.
D'autres cas montrent l'utilisation de creusets multiples, un par élément de l'alliage à obtenir, chauffés différemment séquentiellement et en température, avec des plaques directionnelles pour obtenir les concentrations requises. Tout ceci rend l'opération très coûteuse, spécialement au vu du temps requis pour avoir des résultats acceptables car sinon ils sont décevants au vu des concentrations très aléatoires obtenues. Ce qui précède a été utilisé dans le cas d'alliages photo conducteurs à des températures d'evaporation aux alentours de seulement 300 Cº.  Other cases show the use of multiple crucibles, one per element of the alloy to be obtained, heated differently sequentially and in temperature, with directional plates to obtain the required concentrations. All this makes the operation very expensive, especially in view of the time required to have acceptable results because otherwise they are disappointing in view of the very random concentrations obtained. The above has been used in the case of photoconductive alloys with evaporation temperatures around only 300 Cº.
Pour des alliages où les tensions de vapeur des composants se situent à de bien plus hautes températures, des évaporations séquentielles de métaux séparés ont été faites. Ceci produit des dépôts stratifiés qui, pour former un alliage doivent être ensuite recuits à des températures variant selon le cas, mais qui dépassent largement celle supportable par certains substrats définis plus loin.  For alloys where the vapor pressures of the components are at much higher temperatures, sequential evaporations of separate metals have been made. This produces stratified deposits which, to form an alloy must then be annealed at temperatures varying according to the case, but which greatly exceed that which can be supported by certain substrates defined below.
Des essais par divers laboratoires pour former sous vide des alliages, pour la plupart, binaires, ont été réalisés dans le passé au départ de sources d'evaporation séparées pour chaque matériau de déposition. Ce système, par effet Joule, a donné des résultats, mais le contrrôle de chaque creuset séparé est compliqué et les différentes densités de vapeur métal l iques émises font que la couverture du substrat n'est pas éqale à cause des mouvements aléatoires des éléments vaporisés les plus légers d'une par t , et de la distance entre les sources d'évaporation d'autre part. Il est également nécessaire dans certains cas de contrôler riqoureusement les évaporations par un oscillateur à quartz. En partant directement de l'alliaqe Nickel-Fer, qui peut être évaporé, dans certains cas, assez facilement au départ d'un creuset, une température du substrat d'environ 200º C est nécessaire, température totalement inadéquate pour les substrats en polymères ou autres ne supportant pas ces températures. Tests by various laboratories to form vacuum alloys, mostly binary, have been carried out in the past from separate evaporation sources for each deposition material. This system, by the Joule effect, has given results, but the control of each separate crucible is complicated and the different densities of metal vapor emitted mean that the cover of the substrate is not equal because of the random movements of the vaporized elements. the lightest one per t, and the distance between the sources of evaporation on the other. It is also necessary in certain cases to control the evaporation with a quartz oscillator. Starting directly from the Nickel-Iron alloy, which can be evaporated, in some cases, quite easily from a crucible, a substrate temperature of around 200º C is necessary, a temperature totally inadequate for polymer substrates or others do not support these temperatures.
Un arrangement de sources multiples pour dépôt d'alliage en production constante par effet Joule dans ces conditions ne semble pas exister à ce our ni, à fortiori, à partir d'une source unique.  An arrangement of multiple sources for depositing an alloy in constant production by the Joule effect under these conditions does not seem to exist at this time nor, a fortiori, from a single source.
tn plus des essais décrits ci-dessus qui ont été exécutés dans une chambre sous vide, par l'évaporation des matériaux de déposition par effet Joule, d'autres essais effectués par différentes institutions au moyen de systèmes d'évaporation sous vide autres que par effet Joule (dispositifs à faisceau électronique, bombardement ionique, implantation ionique etc...) ont été réalisés avec une certaine réussite. La plupart du temps ce fut entrepris pour obtenir des alliages binaires, mais il faut surtout se rappeler que certains essais ont des résultats ponctuels basés sur des modèles théoriques. Toutefois des couches de composition quaternaire formant un alliage de protection sont utilisées pour une application connue qui est le dépôt par faisceau électronique de l'alliage M -Cr-Al-Y sur les pales de rotors de moteurs à réactionutilisés en milieu marin (M est soit du Cobalt, du Nickel ou du ter). Cette technologie est appliquée en production notamment aux U.S.A et en U.K.S.S. In addition to the tests described above which were carried out in a vacuum chamber, by the evaporation of the deposition materials by the Joule effect, other tests carried out by different institutions by means of vacuum evaporation systems other than by Joule effect (electron beam devices, ion bombardment, ion implantation, etc.) have been achieved with some success. Most of the time it was undertaken to obtain binary alloys, but it should especially be remembered that certain tests have specific results based on theoretical models. However, layers of quaternary composition forming a protective alloy are used for a known application which is the electron beam deposition of the alloy M -Cr-Al-Y on the blades of jet engine rotors used in the marine environment (M is either Cobalt, Nickel or ter). This technology is applied in production especially in the USA and UKSS
D'autres dépots d'alliaqes divers sont utilisés en microélectronique et pour les bandes magnétiques où une coercivité et une mémorisation importantes sont nécessaires. Ces dépôts sont faits par evaporation et condensation de produits uitrafins sur des surfaces froides en présence d'un gaz à haute pression. De toutes ces méthodes, (expérimentales ou non ), aucune n'est valablement applicable aux surfaces décrites plus loin , que ce soit du à des facteurs soit techniques, soit physiques ou bien encore économiques, ces facteurs étant d'ailleurs le plus souvent concomitants.  Other deposits of various allies are used in microelectronics and for magnetic tapes where significant coercivity and memorization are necessary. These deposits are made by evaporation and condensation of uitrafins products on cold surfaces in the presence of a high pressure gas. Of all these methods, (experimental or not), none is validly applicable to the surfaces described below, whether due to technical, physical or even economic factors, these factors being moreover often concomitant .
Une destination de l'invention est entre autre l'obtention d'une couche d'épaisseur choisie en cas d'une métallisation a but spécifique tel que par exemple le blindage contre les champs électromaométiques.  A destination of the invention is, among other things, to obtain a layer of thickness chosen in the event of metallization for a specific purpose such as for example shielding against electromaometic fields.
Pour obtenir ce bimdage on peut retenir deux solutions dont la première est une métallisation à dépôt multicouche et la seconde une métallisation à dépôt d'alliage.  To obtain this bimdage, two solutions can be adopted, the first of which is a metallization with a multilayer deposition and the second a metallization with an alloy deposition.
Pour la première solution, les substrats à traiter le sont donc avec des métaux aux réactions magnétiques adéquates. Dans la bande des 10KHz à 15KHz d'émissions de champs électromagnétiques une solution pour la protection peut être l'evaporation sous vide de Nickel pur pour former un dépôt sur le substrat. Contre les émissions de 15KHz à 27KHz une solution pour la protection peutatre l'evaporation de Cuivre pur pour former ce dépôt sur le substrat. Aux fins d'assurer une protection plus complète contre les émissions électromagnétiques allant, par exemple, de 10KHz à 27KHz au plus la solution préférée est de faire en un seul passage sous vide une évaporation binaire par source d'évaporation par le Cuivre suivie par le Nickel, Ce qui permet en couvrant ainsi le Cuivre par le Nickel d'empêcher l'oxydation de la surface du dépôt cuivré. Ce procédé permet également de maintenir en dernier dépôt une surface non-oxydable et brillante comme requise pour certains produits finis. Le dépôt cuivre- nickel s'obtient par Le Δ des tensions de vapeur du Cuivre et du Nickel dans leur mélange en poudre et par d'autres paramétres physiques utilisés. tels que le vide spécifique, la distance du creuset au substrat, le courant d'induction, le type de creuset, cette énumération n'étant pas limitative. For the first solution, the substrates to be treated are therefore treated with metals with adequate magnetic reactions. In the band from 10KHz to 15KHz of electromagnetic field emissions, a solution for protection can be the evaporation under vacuum of pure nickel to form a deposit on the substrate. Against emissions from 15KHz to 27KHz a solution for protection can evaporation of pure copper to form this deposit on the substrate. In order to provide more complete protection against electromagnetic emissions ranging, for example, from 10KHz to 27KHz at most, the preferred solution is to do in one passage under vacuum a binary evaporation by source of evaporation by the Copper followed by the Nickel, Which allows thus covering the Copper by the Nickel to prevent oxidation of the surface of the copper deposit. This process also makes it possible to maintain a non-oxidizable and shiny surface as a last deposit as required for certain finished products. The copper-nickel deposit is obtained by the Δ of the vapor pressures of copper and nickel in their powder mixture and by other physical parameters used. such as the specific vacuum, the distance from the crucible to the substrate, the induction current, the type of crucible, this list not being limiting.
D'autres métaux a caractère magnétique adéquat peuvent être utilisés de façon binaire, ternaire ou plus, selon le principe ci-dessus et selon les fréquences électromagnétiques présentes. De plus une solution préférée même de cette métal lisation sous vide est de ne traiter qu'un seul côté du substrat si besoin en est. Ce substrat transparent ou tissé et monté autour ou devant un appareil émettant des champs électromagnétiques parasites tel que par exemple un poste à tube cathodique forme de fait un blindage contre ces champs gui sont réputés nocifs pour les cel lules vivantes.  Other metals with an adequate magnetic character can be used in a binary, ternary or more manner, according to the above principle and according to the electromagnetic frequencies present. In addition, a preferred solution even for this vacuum metalization is to treat only one side of the substrate if necessary. This transparent or woven substrate mounted around or in front of a device emitting parasitic electromagnetic fields such as for example a cathode ray tube station in fact forms a shield against these fields which are deemed to be harmful to living cells.
Pour la seconde solution qui est celle préférée et qui pourrait provoquer un traitement plus agressif, il est bien entendu que la métallisation de structures fraqiles ne peut se faire que de façon délicate si l'on veut obtenir les paramètres recherchés. Des essais de métal lisation par une evaporation sous vide (effet Joule) comme décrite plus loin ont été appuyés par un programme de recherche et ont abouti à une méthode et des résultats définis ci-après.  For the second solution which is the preferred one and which could provoke a more aggressive treatment, it is understood that the metallization of fraqiles structures can only be done in a delicate manner if one wants to obtain the desired parameters. Trials of metalization by evaporation under vacuum (Joule effect) as described below have been supported by a research program and have led to a method and results defined below.
La méthode elle-mème a pour obiet une direction nouvelle pour la définition de la métallisation sous vide de substrats, en l'occurence des surfaces délicates par plusieurs métaux en une seule opération, et dans un cas d'espèce, dans le but d'ajouter au substrat la faculté d'être le blindage recherché contre les champs électromagnétiques. The method itself has a new direction for the definition of vacuum metallization of substrates, in this case delicate surfaces with several metals in a single operation, and in this case, in order to add to the substrate the ability to be the desired shielding against electromagnetic fields.
Les blindages contre les champs perturbateurs électromagnétiques sont connus et font partie d'un choix d'alliages Fer-Nickel à haute perméabilité magnétique. Ces blindages réalisés à partir de Fer pur et de Nickel doivent obligatoirement subir après usinage et façonnage un cycle thermique soit sous ammoniac craqué, soit sous hydrogène pur et sec pour éviter une oxydation de ceux-ci et pour éliminer les impuretés. Ce traitement suivi d'un refroidissement contrôlé se fait à 1200ºC. Il faut de plus éviter après ce traitement thermique, toute déformation physique du blindage qui risquerait de diminuer largement son efficacité. L'évaporation sous vide sur un substrat, d'un alliage Fer-Nickel a été essayée mais les résultats obtenus n'ont pas été suffisamment concluants, d'autant plus que les traitements coûteux subis par cet alliage en fonderie pour l'obtention de la structure cristalline recherchée, sont perdus pendant l'evaporation. La recherche d'une méthode efficace et économique pour obtenir des résultats de blindage à haute performance sans partir d'un alliage déjà formé, fut entreprise.  The shields against electromagnetic disturbing fields are known and are part of a choice of Fer-Nickel alloys with high magnetic permeability. These shields made from pure iron and nickel must necessarily undergo after machining and shaping a thermal cycle either under cracked ammonia, or under pure and dry hydrogen to avoid oxidation of these and to remove impurities. This treatment followed by controlled cooling is done at 1200ºC. It is also necessary to avoid, after this heat treatment, any physical deformation of the shielding which would risk greatly reducing its efficiency. Evaporation of a Fer-Nickel alloy on a substrate under vacuum has been tried but the results obtained have not been sufficiently conclusive, especially since the costly treatments undergone by this alloy in foundries for obtaining the desired crystal structure, are lost during evaporation. The search for an efficient and economical method to obtain high performance shielding results without starting from an already formed alloy was undertaken.
A cet effet, l'évaporation sous vide devait donc permettre un dépôt métallique en une seule opération au départ des différents métaux choisis et mélangés dans chaque source d'évaporation. A vide constant (10-5 Torr), les températures de tension de vapeur de surface des métaux choisis ne sont proches que pour certains d'entre eux. En condensant l'échelle des températures d'évaporation il fallait obtenir le résultat suivant ; sous des conditions bien définies quant a la spécificité du vide a obtenir, à la température d'évaporation, à celle du substrat, à la qranulométrie des matériaux de couverture, au mélange de ceux-ci, et a d'autre paramètres, les métaux devaient se déposer non pas en couches stratifiées mais former un alliage de type μ . Pour cela, il fallait également que les conditions requises pour l'adhésion au substrat soient remplies. Un sait que les surfaces en Polymères organiques (surtout les surfaces planes) posent des problèmes dus à leur complexité intrinsèque physico-chimique. To this end, evaporation under vacuum should therefore allow a metallic deposit in a single operation from the different metals chosen and mixed in each source of evaporation. At constant vacuum (10 -5 Torr), the surface vapor pressure temperatures of the chosen metals are only close for some of them. By condensing the scale of evaporation temperatures it was necessary to obtain the following result; under well-defined conditions as to the specificity of the vacuum to be obtained, at the evaporation temperature, that of the substrate, the particle size of the covering materials, the mixture of these, and other parameters, the metals had to be deposited not in stratified layers but to form an alloy of the μ type. For this, it was also necessary that the conditions required for adhesion to the substrate be fulfilled. It is known that surfaces made of organic polymers (especially flat surfaces) pose problems due to their intrinsic physicochemical complexity.
De plus, l'adhésion entre métaux et matières organiques n'est pas bien définie car on ne sait pas si elle est due aux énergies de surface, aux forces de dispersion ou aux transferts de charge. Ces surfaces peuvent en certains endroits souffrir de micro-crevasses. Elles doivent dans ce cas être préalablement traitées pour modifier ces défauts et obtenir une bonne adhésion de la couche mince de métallisation.  In addition, the adhesion between metals and organic materials is not well defined because it is not known whether it is due to surface energies, dispersion forces or charge transfers. These surfaces can in some places suffer from micro-crevices. In this case, they must be treated beforehand to modify these defects and obtain good adhesion of the thin metallization layer.
A cet effet, le traitement des substrats délicats est fait de façon simple par trempage à froid dans une solution adéquate car toutes les autres méthodes habituelles comme par chauffage a haute température pour les séparer de leurs impuretés volatiles ainsi gue par d'autres méthodes dont le trempage en milieu acide ou l'exposition aux ultra-violets en présence d'Oxygène (03) qui volatilise le contaminant (par exemple Co ou CO2) abiment irrémédiablement les substrats fragiles.  For this purpose, the treatment of delicate substrates is done in a simple way by cold soaking in an adequate solution because all the other usual methods such as by heating at high temperature to separate them from their volatile impurities thus gue by other methods including acid soaking or exposure to ultraviolet light in the presence of Oxygen (03) which volatilizes the contaminant (for example Co or CO2) irreparably damages fragile substrates.
Dans les cas où l'on recherche la formation d'une couche d'alliage sur un substrat, dans le but de former un blindage contre des champs électromagnétiques, il faut créer la métallisation magnétiquement la plus perméable possible. Les essais de métallisation par évaporation sous vide effectués pour prouver l'invention selon la méthode décrite ci-après, l'ont été avec des métaux formant un alliage à haute perméabilité magnétique appliqué sur un substrat défini comme un réseau en monotilaments de polymère tissés. In cases where it is sought to form an alloy layer on a substrate, in order to form a shield against electromagnetic fields, it is necessary to create the magnetically permeable metallization possible. The vacuum evaporation metallization tests carried out to prove the invention according to the method described below were carried out with metals forming an alloy with high magnetic permeability applied to a substrate defined as a network of woven polymer monotilaments.
La solution retenue pour le programme d'essais sur ce réseau prétraité comme décrit plus haut a donc été l'evaporation sous vide par effet Joule, dans une installation sous vide classique qui fut définie comme la plus adéquate pour le projet (figure 1). Le profil du modèle théorique a été basé sur plusieurs paramètres dont les suivants sont les plus importants :  The solution chosen for the test program on this pretreated network as described above was therefore vacuum evaporation by the Joule effect, in a conventional vacuum installation which was defined as the most suitable for the project (Figure 1). The profile of the theoretical model was based on several parameters of which the following are the most important:
1) Formation d'une ou de plusieurs couches métallisées comprenant chacune plusieurs métaux a déposer dans le but de former au moment du dépôt sur un substrat un alliage, préférablement pour ce cas d'espèce, à haute perméabilité magnétique ( minimum 2kAºd'épaisseur de peau totale)  1) Formation of one or more metallized layers each comprising several metals to be deposited with the aim of forming at the time of deposition on a substrate an alloy, preferably for this case, with high magnetic permeability (minimum 2kAº of thickness of total skin)
2) Choix de métaux prémélangés à vaporiser permettant l'orientation cristalline la plus adéquate pour obtenir cette perméabilité.  2) Choice of premixed metals to vaporize allowing the most adequate crystalline orientation to obtain this permeability.
3) Utilisation de trains d'aimants permanents pour maintenir les substrats pendant le processus d'évaporation et pour aider cette orientation cristalline des éléments.  3) Use of permanent magnet trains to maintain the substrates during the evaporation process and to help this crystalline orientation of the elements.
4) Choix de métaux dont l'alliage offre une surface à haut indice de réflexion.  4) Choice of metals whose alloy offers a surface with high index of reflection.
5) Evaporation simultanée de tous les éléments du prémélange pour obtenir les points précédents sans écai liage, tache et fissurage de fatigue, et calcul du temps de montée en température et du temps de maintien de la température maximale définie.  5) Simultaneous evaporation of all the elements of the premix to obtain the preceding points without scaling, stain and cracking of fatigue, and calculation of the time of rise in temperature and the time of maintenance of the defined maximum temperature.
6 ) Choix de la granulométrie de chacun des métaux pour obtenir cette evaporation simultanée. 7) Choix des paramètresphysiques, que sont le poids du mélange, l'intensité du vide, la distance entre les creusets et celle des creusets aux substrats, la vitesse de rotation planétaire par rapport aux cônes d'évaporation en fonction du point 6 ci-dessus pour obtenir les points 1 et 5 ci-dessus. 6) Choice of the particle size of each of the metals to obtain this simultaneous evaporation. 7) Choice of physical parameters, such as the weight of the mixture, the intensity of the vacuum, the distance between the crucibles and that of the crucibles to the substrates, the planetary speed of rotation relative to the evaporation cones according to point 6 below. above to get points 1 and 5 above.
8) Annulation de l 'anisotropie et de la magnétostriction pour rendre les parois de Bloch très mobiles.  8) Cancellation of anisotropy and magnetostriction to make the walls of Bloch very mobile.
9) Elimination des obstacles aux mouvements des parois, qui sont formés principalement par les impuretés.  9) Elimination of obstacles to the movements of the walls, which are formed mainly by impurities.
10) Bénéfice d'un traitement thermique dans le vide par le processus même de l'evaporation simultanée des éléments requis.  10) Benefit from vacuum heat treatment by the very process of simultaneous evaporation of the required elements.
11) L'absence d'un vieillissement magnétique aux basses inductions.  11) The absence of magnetic aging at low inductions.
12) Bonne adhésion au substrat de la couche mince résultante et des couches successives entre elles en cas de couches répétées semblables ou différentes.  12) Good adhesion to the substrate of the resulting thin layer and of the successive layers with one another in the event of similar or different repeated layers.
13) Maintien impératif de la stabilité dimensionnelle du substrat et de son taux de rigidité initial par le contrôle de sa température pendant le processus d'évaporation.  13) Imperative maintenance of the dimensional stability of the substrate and its initial stiffness rate by controlling its temperature during the evaporation process.
14) Production horaire adéquate pour la viabilité économique du produit.  14) Hourly production adequate for the economic viability of the product.
15) Obtention de l 'evaporation simultanée requise au départ d'une ou plusieurs sources d'évaporation, chacune chargée des matériaux de déposition pré-mélangés et recharge des sources par godets multiples pendant le même cycle de mise sous vide de la chambre d'évaporation.  15) Obtaining the simultaneous evaporation required from one or more sources of evaporation, each loaded with pre-mixed deposition materials and recharging the sources by multiple cups during the same vacuuming cycle of the chamber evaporation.
16) Choix de sources réfractaires ou métal ligues ou autres adéquates pour éviter gue les éléments à vaporiser ne s'allient à la source.  16) Choice of refractory sources or metal leagues or other suitable to avoid that the elements to be vaporized do not combine with the source.
17) Adaptation de l'application du procédé à tous substrats tels que réseaux tissésenmatières plastiques ou textiles, films souples de diverses matières plastiques, papier, plaques de verre , métaux calandres ou non de films divers, objets faits de ces matières, cette liste n'étant pas limitative. 17) Adaptation of the application of the process to all substrates such as woven networks in plastics or textiles, flexible films of various plastic materials, paper, glass plates, calendered or non-calendered metals of various films, objects made of these materials, this list not being exhaustive.
Des sources d'évaporation de toutes tailles et épaisseurs ont été essayées et le tunqstène a le mieux résisté aux opérations, la plupart des autres sources s'alliant aux éléments de l'alliage à obtenir.  Evaporation sources of all sizes and thicknesses have been tested and the tunqstene has withstood the operations the best, most of the other sources combining with the elements of the alloy to be obtained.
Des substances de déposition variées passibles de résulter en des dépôts maqnétiquement perméables ont été utilisées dans des proportions pré-établies et divers alliages binaires, ternaires ou quaternaires en ont été issus. Un alliage quaternaire a été finalement sélectionné pour le programme d'essais dont les composants sont pré-mélangés dans les pourcentages suivants: Nickel (+/-75%) Cuivre (+/- 5%), Fer (+/- 18%) et Chrome (+/- 2%). Tous ont une forme cristalline soit à cristaux cubiques à face centrée, soit à cristaux centrés (tableau 9). Ce choix permet d'éviter des fluctuations anisotrepiques indésirables et permet de créer un film proche de zéro de magnétostriction, dont les deux composants principaux après evaporation se retrouvent dans l'alliage obtenu à raison de aux pour le Nickel et 15% pour le Fer pour une couche suffisamment épaisse pour un blindage défini.  Various deposition substances liable to result in maqnetically permeable deposits were used in pre-established proportions and various binary, ternary or quaternary alloys were produced. A quaternary alloy was finally selected for the test program, the components of which are pre-mixed in the following percentages: Nickel (+/- 75%) Copper (+/- 5%), Iron (+/- 18%) and Chrome (+/- 2%). All of them have a crystalline form either with centered face cubic crystals or with centered crystals (Table 9). This choice makes it possible to avoid undesirable anisotrepic fluctuations and makes it possible to create a film close to zero of magnetostriction, the two main components of which, after evaporation, are found in the alloy obtained at the rate of aux for Nickel and 15% for Iron for a layer thick enough for defined shielding.
Un temps d'évaporation économiquement valable a été calculé, qui donne une couche mince faite d'une seule evaporation du mélange ou de plusieurs évaporations de celui-ci ( épaisseur de peau adéquate) pour les fréquences impliquées.  An economically valid evaporation time has been calculated, which gives a thin layer made of a single evaporation of the mixture or of several evaporations of it (adequate skin thickness) for the frequencies involved.
Une température basse du substrat a été maintenue sans dommage pour celui-ci qui garde sa stabilité dimensionnelle et sa tenue initiale. Cette température basse aide également à obtenir une bonne orientation cristalline. A low temperature of the substrate was maintained without damage to it, which retains its dimensional stability and its initial strength. This low temperature also helps to get good crystalline orientation.
Le substrat a été maintenu en place sur un porte- substrats cylindrique en fer du système planétaire dans la chambre a vide horizontale de l'installation de dépôt par deux bandes souples en ferrite aimantée qui, en plus du maintien en place du susbtrat, ont été choisies pour aider tant soit peu l'orientation cristalline des éléments pendant leur déposition.  The substrate was held in place on a cylindrical iron substrate holder of the planetary system in the horizontal vacuum chamber of the deposition installation by two flexible strips of magnetized ferrite which, in addition to holding the substrate in place, were chosen to help a little the crystalline orientation of the elements during their deposition.
L'évaporation s'est déroulée sous un vide s'approchant de 10 -5 Torr aux fins de rétrécir l'échelle absolue des deltas de températures de tension de vapeur de chacun des matériaux de déposition selon un schéma d'alliages en chaîne ( tableau 9 ). The evaporation took place under a vacuum approaching 10 -5 Torr in order to shrink the absolute scale of the deltas of vapor pressure temperatures of each of the deposition materials according to a diagram of chain alloys (table 9).
Les quatre métaux ont été utilisés sous forme de poudres ultra-fines et mélanqés dans les proportions reprises ci-dessus. The four metals were used in the form of ultra-fine powders and mixed in the proportions given above.
Une couche très fine du mélanqe a été étendue sur la source d'évaporation (creuset) pour obtenir la couverture déterminée. A very thin layer of the melanqe was spread over the evaporation source (crucible) to obtain the determined coverage.
La visualisation durant l'opération a montré, a leur température d'évaporation vérifiée au pyromètre optique, une evaporation des éléments sans "crachin", nette et continue. The visualization during the operation showed, at their evaporation temperature verified with the optical pyrometer, an evaporation of the elements without "drizzle", clear and continuous.
L'exawen des substrats après différents temps de métallisation n'a pas indiqué une couverture de ceux-ci préférablement par l'un des métaux plutôt que par les autres. The examination of the substrates after different metallization times did not indicate a coverage of these preferably by one of the metals rather than by the others.
Aux premiers examens les résultats ont indiqué qu'un alliaqe homogène magnétiquement perméable a été obtenu et qu'il représente l'alliage V- recherché ( tableau 10 ).  At the first examinations, the results indicated that a homogeneous magnetically permeable alloy was obtained and that it represents the desired V-alloy (Table 10).
la méthode et les résultats qui en découlent tels qu'ils sont décrits aux paragraphes précédents et qui ont trait a la métallisation par evaporation sous vide d'un substrat par plusieurs métaux en poudre pré-mélangés dans une seule source d'évaporation sont adaptables à de nombreux autres substrats pour d'autres applications. La confirmation de l'interaction des données variables énumérées de 1) à 17) aux pages 8, 9 et 10 sans que cette énumération soit limitative, et des points de tension de vapeur des métaux du préraélange qui sont des données constantes, a été démontrée, car toute modification de l'une ou de plusieurs des données variables change les résultats et on peut ainsi au choix obtenir soit un dépôt multicouche soit un alliage homogène. the method and the results which result therefrom as described in the preceding paragraphs and which relate to metallization by evaporation under vacuum of a substrate by several powdered metals premixed in a single source of evaporation are adaptable to many other substrates for other applications. Confirmation of the interaction of the variable data listed from 1) to 17) on pages 8, 9 and 10 without this list being limiting, and of the vapor pressure points of the pre-mixture metals which are constant data, has been demonstrated , because any modification of one or more of the variable data changes the results and it is thus possible to choose either a multilayer deposit or a homogeneous alloy.
Les réseaux métallisés sous vide selon ce procédé pendant le programme d'essai ont été soumis a des tests rigoureux à l'Ecole Nationale Supérieure des Mines de Paris - Département Surface et Tribologie - Sophia Antipolis. (CEMEF).  The metallized vacuum networks according to this process during the test program were subjected to rigorous tests at the National School of Mines of Paris - Department of Surface and Tribology - Sophia Antipolis. (CEMEF).
Le matériel employé : Un microscope à balayage JEOL JSM 35 CF jumelé à. un spectromètre d'analyse en énergie dispersive par rayons X TRACOR 5500.  The equipment used: A JEOL JSM 35 CF scanning microscope combined with. a TRACOR 5500 X-ray dispersive energy analysis spectrometer.
L'édition des tests fait suite ( Tableaux de 1 a 7).  The edition of the tests follows (Tables 1 to 7).
Objet du test :  Object of the test:
1) Analyse du côté métallisé du réseau et de la composition de l'alliage obtenu.  1) Analysis of the metallized side of the network and of the composition of the alloy obtained.
2) Analyse du côté opposé du réseau pour déterminer les composants des filaments et de l'apprêt.  2) Analysis of the opposite side of the network to determine the components of the filaments and the primer.
3) Vérification du porte-échantillon pour définir des impuretés résiduelles sur celui-ci.  3) Verification of the sample holder to define residual impurities on it.
4) Analyse du mélange résiduel des 4 éléments de base dans les creusets ( sources d'évaporation ).  4) Analysis of the residual mixture of the 4 basic elements in the crucibles (sources of evaporation).
5) Evaluation des différentiels obtenus et des résultats.  5) Evaluation of the differentials obtained and the results.
Les analyses précitées, ont, en plus des quatre éléments de l'alliage, permis de déceler notamment du titane, du zinc, un surplus de cuivre, du calcium, du chlore, du phosphore, et quelques autres éléments de fond. Ils ont été éliminés par les analyses différentielles établies. En effet ces éléments provien nent, soit de la couche du prétraitement du réseau filtrant, soit de la composition des filaments de celui-ci (titane), soit du porte-échantillon et également de l'enceinte (chlore et zinc) et se retrouvent en proportions identiques, que la source d'évaporation (creuset) soit en molybdène ou en tungstène. The abovementioned analyzes, in addition to the four elements of the alloy, made it possible to detect in particular titanium, zinc, a surplus of copper, calcium, chlorine, phosphorus, and some other background elements. They were eliminated by the established differential analyzes. Indeed these elements come from either from the pretreatment layer of the filter network, or from the composition of its filaments (titanium), or from the sample holder and also from the enclosure (chlorine and zinc) and are found in identical proportions, as the source of evaporation (crucible) is either molybdenum or tungsten.
L'alliage lui-même est bien composé des quatre éléments de base utilisés durant le processus d'évaporation sous vide. Les valeurs quantitatives sont les suivantes pour la surface globale de l'échantillon du réseau filtrant soumis aux essais :  The alloy itself is well composed of the four basic elements used during the vacuum evaporation process. The quantitative values are as follows for the overall surface of the sample of the filter network subjected to the tests:
% poids Test % poids dans le mélange prévaporisation % weight Test% weight in the pre-vaporization mixture
Cr 1.02% 2% Cr 1.02% 2%
Fe 16.71% 18%  Fe 16.71% 18%
Ni 78.81% 76%  Ni 78.81% 76%
Cu 3.47% 4%  Cu 3.47% 4%
L'analyse quantitative est soumise à des variations de l'ordre de +/- 3% pour les pourcentages de poids élevés. Ces variations sont inversement proportionnelles aux poids des composants.  The quantitative analysis is subject to variations of the order of +/- 3% for the percentages of high weight. These variations are inversely proportional to the weights of the components.
Il est à noter que ni le tungstène, ni le molybdène formant les sources d'évaporation utilisées, ne se retrouvent sur le substrat et que Ni et Fe ne se retrouvent pas non plus dans ces sources alors que ce sont les deux éléments qui tentent habituellement de s'associer a elles . Ceci semblerait prouver que la formation de vapeur des quatre éléments en présence dans la source est au départ d'une tension de surface qui empêche une telle association à la source.  It should be noted that neither the tungsten nor the molybdenum forming the sources of evaporation used, are found on the substrate and that Ni and Fe are not found either in these sources whereas these are the two elements which usually try to associate with them. This would seem to prove that the formation of vapor of the four elements present in the source is at the start of a surface tension which prevents such an association with the source.
Pendant le test global de surface lors du balayage du substrat par le bombardement de particules du côté non métallisé du réseau sous analyse, des déformations importantes et des coulages de matière ont pu être remarqués visuellement à l'écran du microscope. ( figure 2 ). During the overall surface test during the scanning of the substrate by the bombardment of particles on the non-metallized side of the network under analysis, significant deformations and flow of material could be visually noticed. the microscope screen. (figure 2).
Par contre, le côté métallisé sous analyse ne souffrait d'aucune déformation sur aucune partie de sa surface. Ceci semble indiguer une évacuation parfaite des charges électromagnétiques auxquelles était soumise cette surface et une protection totale du matériau sous-jacent. Même pendant l'analyse ponctuelle, lorsque le bombardement électronique était focalisé sur l'équivalent d'un diamètre de moins du micron, seule une encoche de cette taille apparaissait sur la surface métallisée sans déformation aucune de la matière sous-jacente (figure 3).  On the other hand, the metallized side under analysis did not suffer from any deformation on any part of its surface. This seems to induce a perfect evacuation of the electromagnetic charges to which this surface was subjected and a total protection of the underlying material. Even during the point analysis, when the electron bombardment was focused on the equivalent of a diameter of less than a micron, only a notch of this size appeared on the metallized surface without any deformation of the underlying material (Figure 3) .
Pour parfaire les analyses obtenues par le TRACOR 5500, une analyse par spectrométrie A érosion ESCA (XPS) toujours dans l'enceinte de l'Ecole des Mines, a été mise en place.  To complete the analyzes obtained with the TRACOR 5500, an analysis by ESCA erosion spectrometry (XPS), still within the confines of the Ecole des Mines, was implemented.
Les résultats se lisent de la façon suivante :  The results read as follows:
Les dépôts sont constitués de Ni, Fe, Cu, Cr. Le substrat est en polyester, polyamide et polyamide carboné. Les pics analysés sont les suivants (les énergies de liaisons sont indiquées A titre indicatif entre parenthèses):  The deposits consist of Ni, Fe, Cu, Cr. The substrate is polyester, polyamide and carbon polyamide. The peaks analyzed are as follows (the bond energies are indicated for information in parentheses):
Ni 2P1/2 - 2P3/2 (873-855 eV)  Ni 2P1 / 2 - 2P3 / 2 (873-855 eV)
Fe 2P1/2 - 2P3/2 (723-710 eV)  Fe 2P1 / 2 - 2P3 / 2 (723-710 eV)
Cu 2P1/2 - 2P3/2 (954-934 eV)  Cu 2P1 / 2 - 2P3 / 2 (954-934 eV)
Cr 2P1/2 - 2P3/2 (536-577 eV)  Cr 2P1 / 2 - 2P3 / 2 (536-577 eV)
O 1S (531 eV)  O 1S (531 eV)
C 1S (287 eV)  C 1S (287 eV)
La surface du réseau utilisé pour l'analyse, fait partie du même échantillon gue celui utilisé pour l'analyse au TRACOR The network surface used for the analysis is part of the same sample as that used for the TRACOR analysis.
5500. Les analyses ont été effectuées avec la raie K α de l'aluminium. Comme dans ce cas, les pics Auger du Nickel se superposent aux pics 2P3/2 du fer, une deuxième série d'analyses a donc été réalisée avec la raie Kα du magnésium. Dans ce cas, les pics du fer ne sont plus perturbés et il a été possible d'évaluer le facteur de sensibilité correspondant à Fe 2P1/2, seul pic du fer mesurable avec la source Aluminium. 5500. The analyzes were carried out with the K α line of aluminum. As in this case, the Nickel Auger peaks are superimposed on the 2P3 / 2 iron peaks, a second series of analyzes was therefore carried out with the Kα line of magnesium. In that case, the iron peaks are no longer disturbed and it was possible to evaluate the sensitivity factor corresponding to Fe 2P1 / 2, the only iron peak measurable with the Aluminum source.
Chague échantillon est érodé au moyen d'un faisceau d'ions Argon (4 KeV, 3μA ) A balayage sur un carré de 8 mm de côté pendant environ 90 minutes. Cette érosion est arrêtée à intervalles réguliers pour permettre l'acquisition des spectres Each sample is eroded using a beam of Argon ions (4 KeV, 3μA). Scanning on a square of 8 mm side for approximately 90 minutes. This erosion is stopped at regular intervals to allow the acquisition of spectra
( l'acquisition se fait sur une surface d'environ 8 mm2). La surface sous les pics, après retrait du bruit de fond, est ensuite mesurée et utilisée pour le calcul des concentrations atomiques. Ces concentrations sont calculées à partir des coefficients de sensibilité donnés dans le manuel XPS ( X-ray(acquisition takes place over an area of approximately 8 mm2). The area under the peaks, after removing the background noise, is then measured and used for the calculation of the atomic concentrations. These concentrations are calculated from the sensitivity coefficients given in the XPS manual (X-ray
Photoelectronic Spectrometry). Photoelectronic Spectrometry).
Les résultats se lisent comme suit s L'épaisseur de la mono-couche métallique analysée évaluée de 30 A 50 nanomètres, est déterminée à partir des profils de concentration du The results read as follows: The thickness of the analyzed metallic monolayer, evaluated from 30 to 50 nanometers, is determined from the concentration profiles of the
Nickel et du Carbone, par comparaison avec des profils obtenus pour des couches de Même épaisseur de NiCr/SiO2. Nickel and Carbon, by comparison with profiles obtained for layers of the same thickness of NiCr / SiO2.
Pour cette première couche qui peut rester unique selon le besoin la concentration Nickel-Fer est homogène sur toute l'épaisseur du dépôt alors gue celle du Chrome l'est moins ainsi gue celle du Cuivre gui tend vers un maximum à l'interface couche métallique-substrat.  For this first layer which can remain unique as needed, the Nickel-Iron concentration is homogeneous over the entire thickness of the deposit, then that of Chrome is less so that of Copper which tends towards a maximum at the metal layer interface. -substrate.
Les concentrations atomiques des 6 éléments (Ni ,Fe , Cu, Cr, U, C) sont reportées sur le tableau 11. Sur le tableau 12, ces concentrations sont reportées sans tenir compte du carbone ni de l'oxygène. Une intégration de ces valeurs sur l'épaisseur totale de la couche donne les pourcentages suivants qui sont beaucoup plus précis que ceux obtenus par le Tracor 5500.  The atomic concentrations of the 6 elements (Ni, Fe, Cu, Cr, U, C) are reported in Table 11. In Table 12, these concentrations are reported without taking carbon or oxygen into account. An integration of these values over the total thickness of the layer gives the following percentages which are much more precise than those obtained with the Tracor 5500.
Cr: 2% Fe: 18% Cr: 2% Fe: 18%
Ni : 76%.  Ni: 76%.
Cu : 4%  Cu: 4%
C : (dits de "pollution" disparaissent pendant  C: (so-called "pollution" disappear during
O : les 5 premières minutes de l'érosion).  O: the first 5 minutes of erosion).
Ces pourcentaqes sont ceux des éléments au départ du mélange pré-vaporisation. Toutefois pour une épaisseur de couche plus importante de l'alliage ainsi formé, par évaporations successives par exemple, une diminution du pourcentage du Nickel au profit de celui du Fer apparaîtra, comme on le verra ci-dessous, le Cuivre et le Chrome ne subissant que de faibles diminutions. On se diriqe vers un alliage recherché de composition 80% Ni/ 15% Fe/ + Cu + Cr.  These percentages are those of the elements from the pre-spray mixture. However, for a greater layer thickness of the alloy thus formed, by successive evaporations for example, a decrease in the percentage of Nickel in favor of that of Iron will appear, as will be seen below, the Copper and the Chromium not undergoing only small decreases. We are heading towards a desired alloy with a composition of 80% Ni / 15% Fe / + Cu + Cr.
Des échantillons pour essais supplémentaires traités par des évaporations successives additives sur des substrats faits de réseau en tous points identique à celui utilisé pour tous les essais précédents furent créés selon le mode suivant :  Samples for additional tests treated by additive successive evaporations on substrates made of network in all points identical to that used for all the previous tests were created according to the following mode:
- vide constant 10-5 Torr - constant vacuum 10 -5 Torr
- poids constant de 0,15 qrs de mélange prémétallisation dans le creuset calibré en tungstène.  - constant weight of 0.15 qrs of pre-metallization mixture in the crucible calibrated in tungsten.
- ampérage constant de 14A.  - constant amperage of 14A.
- temps d'évaporation constant de 120 secondes.  - constant evaporation time of 120 seconds.
De ces préparations trois échantillons furent retenus, l'un métallisé deux fois successivement, l'autre trois fois successivement et le dernier quatre fois successivement.  Three samples were retained from these preparations, one metallized twice successively, the other three times successively and the last four times successively.
Les échantillons furent soumis à une analyse au Spectromètre The samples were analyzed by the Spectrometer
TRACOR 5500 à l'Ecole des Mines. Le tracé est net et définit parfaitement les Pics des divers éléments. Les pourcentages de poids obtenus pour l'échantillon soumis à quatre évaporations successives, se lisent: 3,52% Cr TRACOR 5500 at the Ecole des Mines. The layout is clear and perfectly defines the peaks of the various elements. The weight percentages obtained for the sample subjected to four successive evaporations read: 3.52% Cr
4,24% Fe  4.24% Fe
77,92% Ni  77.92% Ni
4,33% Cu  4.33% Cu
Cette analyse quantitative ( Tableau 8 ) soumise aux tolérances du TRACOR 5500 indique un Δ % plus important entre Ni et Fe pour cette couche à épaisseur largement plus importante que celle analysée précédemment (tableaux de 1 a 7).  This quantitative analysis (Table 8) subject to the tolerances of TRACOR 5500 indicates a greater Δ% between Ni and Fe for this layer with a thickness significantly greater than that analyzed previously (Tables 1 to 7).
Ces échantillons étudiés également par érosion ESCA donnent les résultats suivants:  These samples also studied by ESCA erosion give the following results:
Le peu d'hétérogénéité Cu-Cr visible pour la première couche mince évaporée directement sur le substrat (tableaux 11 et 12), disparaît pour montrer une homogénéité parfaite pour les couches suivantes successives. On peut voir que les paramètres des mailles cristallines d'une couche sur l'autre créent une épitaxie optimale vu leur identité et l'orientation cristalline constante ainsi créée. Les " atomes-vapeur" résultant de l 'evaporation pluri éléments reçoivent du substrat un "appel de collage" et qlissent le long de la surface de réception jusqu'à un moment fini où ils s'unissent entre eux en îlots totalement adsorbés parmi les atomes de cette surface. A ce moment fini, ils deviennent solides par un processus de condensation exothermique et les multiples îlots s'unissent entre eux, alors même qu'ils se forment, pour créer une couche d'épaisseur homogène.  The little Cu-Cr heterogeneity visible for the first thin layer evaporated directly on the substrate (Tables 11 and 12) disappears to show perfect homogeneity for the following successive layers. We can see that the parameters of the crystal meshes from one layer to the other create an optimal epitaxy given their identity and the constant crystal orientation thus created. The "vapor atoms" resulting from multi-element evaporation receive from the substrate a "bonding bond" and which smooth along the receiving surface until a finite moment when they unite with one another in totally adsorbed islands among the atoms of this surface. At this finished moment, they become solid by a process of exothermic condensation and the multiple islets join together, even as they form, to create a layer of homogeneous thickness.
Le "collage" de départ des "atomes-vapeur", est initié probablement par leur énergie cynétigue quelle que soit la température du substrat. La pénétration d'adsorption crée de fait une soudure atomique au point d'interface de couches faites d'alliages identiques soit une épitaxie de "continuité".  The initial "bonding" of the "vapor atoms" is probably initiated by their kinetic energy whatever the temperature of the substrate. Adsorption penetration effectively creates an atomic weld at the interface point of layers made of identical alloys, ie an epitaxy of "continuity".
Les pourcentages de poids définis par intéqration sur les épaisseurs ontenues pour 3 et 4 évaporations successives de 120 secondes chacune sont Ni 80/81%. Fe 14/15%, Cu 3%, Cr 2%. Ces résultats confirment ceux obtenus au TRACOR 5500, A savoir une augmentation du pourcentage de poids de Nickel par rapport a celui du fer gui tend vers les pourcentages recherchés pour le dépôt d'alliaqe (80% Ni / 15% Fe) + autres. The weight percentages defined by integration on the thicknesses for 3 and 4 successive evaporations of 120 seconds each are Ni 80/81%. Fe 14/15%, Cu 3%, Cr 2%. These results confirm those obtained with TRACOR 5500, namely an increase in the weight percentage of Nickel compared to that of iron which tends towards the desired percentages for the deposit of alloy (80% Ni / 15% Fe) + others.
Les épaisseurs obtenues montrent une progression d'incrément de celles-ci par couche d'évaporation de l'ordre de 80% de l'épaisseur de la couche précédente (tableaux 13 et 14).  The thicknesses obtained show an increase in increment thereof by evaporation layer of the order of 80% of the thickness of the previous layer (Tables 13 and 14).
Des essais supplémentaires furent entrepris qui avaient pour but de définir des courbes représentatives des incréments de volumes et épaisseurs de métallisation.  Additional tests were undertaken which aimed to define curves representative of the volume increments and metallization thicknesses.
A cet effet 3 cm2 de chacun des 3 échantillons furent enrobés d'une résine à deux composants de dureté égale à celle du substrat.  For this purpose, 3 cm 2 of each of the 3 samples were coated with a two-component resin of hardness equal to that of the substrate.
Deux des trois échantillons référencés sous les numéros 22 et 23 et représentant respectivement les pièces soumises A trois et quatre évaporations successives furent finalement sélectionnés.  Two of the three samples referenced under numbers 22 and 23 and representing respectively the parts subjected to three and four successive evaporations were finally selected.
Des lames formées par Cryo-ultramicrotomie et ultramicrotomie furent observées au microscope électronique de type CM12 Philips à 100 KeV au centre commun de Microscopie appliquée de la Faculté des Sciences de l'Université de Nice. Pour pallier les écrasements et les arrachements qui peuvent arriver durant les coupes des lames, chaque échantillon fut débité en un nombre n de fois trois lames de directions de coupe différentes A) de bas en haut B) de haut en bas et C) latéralement (figure 4 et tableau 15).  Slides formed by Cryo-ultramicrotomy and ultramicrotomy were observed with an electron microscope type CM12 Philips at 100 KeV at the joint center of Applied Microscopy of the Faculty of Sciences of the University of Nice. To compensate for the crushing and tearing which can occur during the cutting of the blades, each sample was cut in a number n of times three blades with different cutting directions A) from bottom to top B) from top to bottom and C) laterally ( Figure 4 and Table 15).
Un établit ensuite une moyenne selon:
Figure imgf000021_0001
An then establishes an average according to:
Figure imgf000021_0001
Les épaisseurs de couche obtenues par cette méthode se lisent comme suit : 1) épaisseur de couche de l'échantillon 22 = 225 nm, 2) épaisseur de couche de l'échantillon 23 = 405 nm.  The layer thicknesses obtained by this method read as follows: 1) layer thickness of sample 22 = 225 nm, 2) layer thickness of sample 23 = 405 nm.
En joiqnant les épaisseurs évaluées au cours des analyses précédentes pour une evaporation unique et pour deux évaporations successives a celles obtenues ci-dessus on obtient la courbe du tableau 15.  By joining the thicknesses evaluated during the preceding analyzes for a single evaporation and for two successive evaporations to those obtained above, the curve of table 15 is obtained.
Un peut remarquer qu'à chaque épaisseur supplémentaire on obtient un incrément presqu'égal à l'épaisseur de la couche précédente. Ceci a été vérifié jusqu'à quatre évaporations successives.  One can notice that with each additional thickness an increment almost equal to the thickness of the previous layer is obtained. This has been verified up to four successive evaporations.
L'ensemble des études et leurs résultats ont permis d'entreprendre la fabrication du prototype d'un système de mise sous tension des creusets en alternance, avec dosage et remplissage automatique de ceux-ci pour maintenir une métallisation en continu dans la chambre sous vide constant. Cette evaporation "continue" composée en fait d'évaporations successives sans temps d'arrêt, permet d'obtenir sur le ou les mêmes substrats par des systèmes d'enroulement en va-et-vient ou à planétaire en continu, les épaisseurs requises pour des blindages définis, par exemple en cas de protection contre les champs électromagnétiques (figure 1)  All of the studies and their results made it possible to undertake the manufacture of the prototype of a tensioning system for crucibles alternately, with dosing and automatic filling thereof to maintain continuous metallization in the vacuum chamber constant. This "continuous" evaporation composed in fact of successive evaporations without stopping time, makes it possible to obtain on the same substrate (s) by continuous back-and-forth or planetary winding systems, the thicknesses required for defined shields, for example in the event of protection against electromagnetic fields (figure 1)
Les couches formées par évaporations successives dans la même enceinte sous vide constant ou variable selon le cas par la méthode qui est un des sujets de l'invention permettent, par le système de dosage et de remplissage du ou des creusets à chacune des mises sous tension successives rapprochées, d'alterner ou de créer des couches d'alliage différents à chacune des évaporations, l'une ou plusieurs de ces couches pouvant être au départ d'un métal seul ou d' autres matériaux aux fins de créer une stratification de multi-couches d'épaisseurs choisies sur le substrat pour des propriétés requises. On peut aussi faire alterner 2 ou 3 couches évaporées du même alliage à plusieurs composants, ceci résultant comme on l'a vu, en une épaisseur d'alliage homogène, et faire suivre cela d'une evaporation de matériau isolant, réfractaire ou autre et ainsi de suite avec les varlances voulues. ceci pouvant également être exécuté différemment pour chaque creuset afin de créer plusieurs bandes longitudinales de dépôts dissemblables sur le même substrat. The layers formed by successive evaporations in the same enclosure under constant or variable vacuum according to the case by the method which is one of the subjects of the invention allow, by the metering and filling system of the crucible (s) at each power-up successive close together, alternating or creating different layers of alloy at each of the evaporations, one or more of these layers being able to be starting from a single metal or from other materials in order to create a multi-layer stratification of thicknesses chosen on the substrate for required properties. We can also alternate 2 or 3 evaporated layers of the same alloy with several components, this resulting as we have seen, in a homogeneous thickness of alloy, and follow this with an evaporation of insulating, refractory or other material and so on with the desired varlances. this can also be carried out differently for each crucible in order to create several longitudinal strips of dissimilar deposits on the same substrate.
Dans la méthode choisie pour exécuter la mise en oeuvre des principes de l'invention ( figure 1 ) le système par evaporation par effet Joule comporte une chambre d'évaporation ( 1 ) munie d'une porte (14) par laquelle on fait glisser un ensemble planétaire soit un système épicycloïdal fait d'un berceau ( 7) qui maintient deux couronnes porte-planètes (2) dont les planètes (3) sont les porte-substrats, le berceau étant muni de galets à friction (6) dont l'un est mû rotativement par un moteur (8), le système épicycloïdal étant assuré par la chaîne (15) et son tendeur (16).  In the method chosen for carrying out the implementation of the principles of the invention (FIG. 1) the Joule evaporation system comprises an evaporation chamber (1) provided with a door (14) by which a planetary assembly is an epicyclic system made of a cradle (7) which holds two planet carrier rings (2) whose planets (3) are the substrate carriers, the cradle being provided with friction rollers (6) whose one is rotated by a motor (8), the planetary system being provided by the chain (15) and its tensioner (16).
Au centre de l'ensemble planétaire un plateau (9) sert de plateforme aux sources d'évaporation ou creusets (4) alimentés chacun en courant par les électrodes en cuivre nickelé (5) qui comprennent un neutre commun aux creusets et une arrivée de phase séparée par creuset pour permettre un réglage précis de chacun d'eux. Des séries de godets (11) avec leur becs verseurs (13) avancent ou reculent sur commande manuelle ou automatique le long de rails (10) munis de caeses (12) qui règlent le remplissage des creusets (4) avant chaque mise sous tension d'évaporation de ceux-ci selon le choix de l'alliage ou d'un autre marériau à déposer et de la séguence à suivre. Ceci se passe comme décrit pendant un cycle de mise à vide, les qodets étant prédosés avant la fermeture de la porte (14). Le nombre de godets par creuset permet un nombre égal d'évaporations successives pour ce creuset et la méthode permet l'utilisation d'un nombre important de creusets. In the center of the planetary assembly a plate (9) serves as a platform for the sources of evaporation or crucibles (4) each supplied with current by the nickel-plated copper electrodes (5) which include a common neutral to the crucibles and a phase arrival separated by crucible to allow precise adjustment of each of them. Series of buckets (11) with their pouring spouts (13) move forward or backward by manual or automatic control along rails (10) provided with lugs (12) which regulate the filling of the crucibles (4) before each energization d evaporation of these depending on the choice of alloy or other material to deposit and the sequence to follow. This takes place as described during a vacuuming cycle, the qodets being pre-dosed before the door (14) is closed. The number of cups per crucible allows an equal number of successive evaporations for this crucible and the method allows the use of a large number of crucibles.
Les becs verseurs (13) ont la lonqueur voulue et sont à une distance suffisante des creusets (4) pendant l'evaporation pour ne pas créer des perturbations aux cônes d'évaporations (17). Il est clair qu'un substrat formé de matériau enroulé telle que de la feuille en polymère, peut être traité de la même façon, le substrat se déroulant d'une bobine d'un côté de la chambre à vide (1) pour s'enrouler de l'autre côté, après être passé sur deux rouleaux fins et parallèles entre lesquels se déroule la surface à traiter qui défile lentement au-dessus des systèmes de creusets (4) et de leur godets-doseurs (11). Le système de déroulement-enroulement pour des substrats en rouleaux ou bobines n'est pas montré à la figure 1.  The pouring spouts (13) have the desired length and are at a sufficient distance from the crucibles (4) during evaporation so as not to disturb the cones of evaporation (17). It is clear that a substrate formed from wound material such as polymer sheet can be treated in the same way, the substrate unwinding from a coil on one side of the vacuum chamber (1) to wind on the other side, after having passed over two thin and parallel rollers between which the surface to be treated takes place which scrolls slowly over the crucible systems (4) and their measuring cups (11). The unwind-wind system for roll or reel substrates is not shown in Figure 1.
Pour prouver l'efficacité des substrats métallisés par le procédé de l'invention pour créer un blindage contre les champs électromagnétiques, des essais d'atténuation de ces champs par ces substrats furent entrepris. Il fallait prouver le degré de protection obtenu pour les matières vivantes entr'autres l'être humain gui peut être soumis aux champs émis par les écrans de visualisation et gui sont considérés comme nocifs. Il fallait également prouver le degré de protection offert aux matières inertes, entr'autres des produits finis tels gue les produits électroniques et informatiques, dans leur utilisation quotidienne ou par exemple pendant leur transport. Les substrats traités selon un modèle de la méthode décrite furent soumis à des essais rigoureux pour définir la qualité des blindages obtenus. To prove the effectiveness of metallized substrates by the method of the invention for creating shielding against electromagnetic fields, tests of attenuation of these fields by these substrates were undertaken. It was necessary to prove the degree of protection obtained for living materials between others, the human being which can be subjected to the fields emitted by the display screens and which are considered as harmful. It was also necessary to prove the degree of protection offered to inert materials, among other finished products such as electronic and computer products, in their daily use or for example during their transport. The substrates treated according to a model of the described method were subjected to rigorous tests to define the quality of the shieldings obtained.
Ces essais usuels en la matière ont été établis pour calculer l'atténuation d'un champ électrique E et d'un champ magnétique H par les substrats métallisés avec l'alliage de type H, soit la modification de la propagation du rayonnement magnétique H en dehors de sa direction primitive. Ceci est obtenu par sa diffusion au travers d'un milieu homogène et perméable tel que l'épaisseur de peau de la métallisation du substrat traité. L'efficacité du blindage contre les champs nocifs est exprimé en dB d'atténuation.  These usual tests in this area have been established to calculate the attenuation of an electric field E and a magnetic field H by substrates metallized with the H type alloy, ie the modification of the propagation of the magnetic radiation H in outside of its primitive direction. This is obtained by its diffusion through a homogeneous and permeable medium such as the skin thickness of the metallization of the treated substrate. The shielding efficiency against harmful fields is expressed in dB attenuation.
Les substrats choisis furent un réseau tissé métallisé par le mélange Fe-Ni-Cr-Cu formant alliage et un film en PVC de 0,3 mm d'épaisseur couvert du même alliage. Des échantillons de ceux-ci mesurant 200 mm x 200 mm furent collés sur des plaques de verre de 4 mm d'épaisseur. Ces ensembles furent ensuite placés dans un analyseur à aériens ( générateur et récepteur ), (figure 5).  The substrates chosen were a woven network metallized by the Fe-Ni-Cr-Cu mixture forming an alloy and a 0.3 mm thick PVC film covered with the same alloy. Samples of these measuring 200 mm x 200 mm were glued to 4 mm thick glass plates. These assemblies were then placed in an aerial analyzer (generator and receiver), (Figure 5).
Les aériens sont des antennes boucles (ou cadres), basse impédance, de diamètre 30 cm. Ils sont constitués d'une ou de plusieurs spires de fil de cuivre.  The aerials are loop antennas (or frames), low impedance, diameter 30 cm. They consist of one or more turns of copper wire.
Les cables de liaison "générateur-aérien d'émission" et "récepteur-aérien de réception" sont des câbles coaxiaux ayant une efficacité de blindage compatible avec les performances du blindage à mesurer.  The "generator-aerial transmission" and "receiver-aerial reception" connection cables are coaxial cables having a shielding efficiency compatible with the performance of the shielding to be measured.
L'efficacité de blindage du récepteur et du câble coaxial de raccordement doit être telle que, Lorsque ceux-ci sont placés dans le champ électrique de référence après avoir substitué à l'aérien de réception une charge blindée d'impédance équivalente, aucun signal ne soit détecté par le récepteur. The shielding efficiency of the receiver and the coaxial connection cable must be such that, When these are placed in the reference electric field after replacing the receiving aerial with a shielded charge of equivalent impedance, no signal is detected by the receiver.
Les procédures de mesures sont établies pour trois niveaux d'impédance d'onde soit :  The measurement procedures are established for three levels of wave impedance:
- champ maqnétique basse impédance  - low impedance magnetic field
- champ maqnétique haute impédance  - high impedance magnetic field
- onde plane (E/H = 377Ω)  - plane wave (W / O = 377Ω)
Dans le cas des substrats sous essai les mesures les plus importantes étaient celles définies pour un niveau d'onde maqnétique de basse impédance. Les principes de mesures sont les suivants :  In the case of substrates under test, the most important measurements were those defined for a low impedance maqnetic wave level. The measurement principles are as follows:
Un utilise d'une part un ensemble émetteur (générateur et boucle) qui produit en régime entretenu un champ magnétique, d'autre part un ensemble récepteur constitué d'une boucle semblable à la précédente et d'un mesureur de champ.  One uses on the one hand an emitter assembly (generator and loop) which produces in steady state a magnetic field, on the other hand a receiver assembly consisting of a loop similar to the previous one and a field meter.
Dans un premier temps les deux boucles sont positionnées dans un même plan, perpendiculaire à la paroi à tester mais orienté de façon quelconque à une distance "d" l'une de l'autre sans aucun obstacle entre elles. Un relève le niveau A (en dB) indiqué par le mesureur de champ.  Initially the two loops are positioned in the same plane, perpendicular to the wall to be tested but oriented in any way at a distance "d" from one another without any obstacle between them. One reads the level A (in dB) indicated by the field strength meter.
Dans un second temps, les deux boucles sont placées de part et d'autre de la paroi à tester, dans les mêmes positions relatives et à la même distance "d" l'une de l'autre. Sans modifier le réglage du générateur, on relève le niveau B (en dB) indiqué par le mesureur de champ. In a second step, the two loops are placed on either side of the wall to be tested, in the same relative positions and at the same distance "d" from each other. Without modifying the generator setting, the level B (in dB) indicated by the field meter is noted.
La différence A - B représente l'atténuation (en dB) de la paroi soit des substrats sous essai pour le champ magnétique, aux fréquences considérées.  The difference A - B represents the attenuation (in dB) of the wall, ie of the substrates under test for the magnetic field, at the frequencies considered.
Les essais ont été effectués en conformité avec les normes MIL-SID.285 et GAM.1.20 et selon le processus repris ci-dessus. Les résultats obtenus se lisent comme suit : The tests were carried out in accordance with MIL-SID.285 and GAM.1.20 and according to the process listed above. The results obtained read as follows:
FREQUENCES Atténuation en dB par les substrats métallisés des champs par 4 évaporations consécutives de mélange E - M Fe-Ni-Cr-Cu durant le même cycle de vide 10 KHz 14 dB  FREQUENCIES Attenuation in dB by metallized substrates of the fields by 4 consecutive evaporations of E - M Fe-Ni-Cr-Cu mixture during the same vacuum cycle 10 KHz 14 dB
20 KHz 17 dB  20 KHz 17 dB
50 KHz 20 dB  50 KHz 20 dB
100 KHz 22 dB  100 KHz 22 dB
1 MHz 41 dB  1 MHz 41 dB
10 MHz 54 dB  10 MHz 54 dB
Les essais furent également faits pour prouver l'atténuation des champs E qui s'avéra être de l'ordre de 99.99 %.  Tests were also done to prove the attenuation of the E fields which turned out to be around 99.99%.
Une mise à la terre de ces substrats à blindage est nécessaire lorsqu'une accumulation d'électricité statique doit être évacuée.  Grounding of these shielded substrates is necessary when static electricity buildup is to be removed.

Claims

REVEND ICAT IONS RESELL ICAT IONS
1) Procédé d'évaporation de métaux sur des substrats caractérisé par le fait que plusieurs métaux pulvérulents sont intimement mélangés et que ce mélange placé dans chacune des sources d'évaporation d'une installation sous vide est vaporisé par effet Joule sans protection de crachin pour former au choix un dépôt multicouches par évaporations consécutives des métaux du mélange, ou un alliage homogène par evaporation simultanée du mélange selon la façon dont on modifie l'interaction des paramètres physiques constants que sont les températures de tension de vapeur des métaux du mélange et des paramètres physiques qu'on choisit de faire varier et qui sont la composition et le poids du mélange placé dans chaque source d'évaporation ou creuset, la granulométrie de chaque métal du mélange, les dimensions et la matière du creuset qui ne doit s'allier a aucun des métaux du mélange, la distance entre les creusets et celle entre chague creuset et le ou les substrats, la vitesse de passage des substrats face à chaque cône d'évaporation du mélange, la température interne de l'enceinte sous vide et la température des substrats, l'intensité du vide, ia durée de la montée en température du creuset jusqu'à un maximum, la définition de ce maximum de température, la durée du maintien de ce maximum de température du creuset. 1) Method of evaporation of metals on substrates characterized in that several powdered metals are intimately mixed and that this mixture placed in each of the evaporation sources of a vacuum installation is vaporized by Joule effect without drizzle protection for optionally forming a multilayer deposit by consecutive evaporations of the metals in the mixture, or a homogeneous alloy by simultaneous evaporation of the mixture depending on how the interaction of the constant physical parameters is modified, which are the vapor pressure temperatures of the metals of the mixture and of the physical parameters which one chooses to vary and which are the composition and the weight of the mixture placed in each source of evaporation or crucible, the granulometry of each metal of the mixture, the dimensions and the material of the crucible which should not be combined to none of the metals in the mixture, the distance between the crucibles and that between each crucible and the bstrates, the speed of passage of the substrates opposite each cone of evaporation of the mixture, the internal temperature of the vacuum chamber and the temperature of the substrates, the intensity of the vacuum, the duration of the rise in temperature of the crucible to at a maximum, the definition of this maximum temperature, the duration of the maintenance of this maximum temperature of the crucible.
2) Métallisation selon la revendication 1) caractérisée par le fait que le mélangge des métaux est composé de fer, de nickel et de un de ou plusieurs autres métaux d'appoint comme le cuivre et le chrome dans des proportions déterminées et que le dépôt sur le substrat est dans tous les cas d'espèce de la revendication 1) une forme de blindage contre les champs électromagnétiques et dans le cas précis d'un alliage, un blindage à haute perméabilité magnétique contre ces mêmes champs électromagnétiques pour protéger efficacement les matières vivantes et inertes contre ces derniers. 2) metallization according to claim 1) characterized in that the mixture of metals is composed of iron, nickel and one or more other auxiliary metals such as copper and chromium in predetermined proportions and that the deposit on the substrate is in all cases of claim 1) a form of shielding against electromagnetic fields and in the specific case of an alloy, a shielding with high magnetic permeability against these same electromagnetic fields to effectively protect living materials and inert against them.
3) Procédé de métallisation selon les revendications 1) et 2) caractérisé par le fait que l'on utilise des bandes souples aimantées pour maintenir les substrats aux cylindres de fer du système planétaire de l'enceinte sous vide et pour aider l'orientation cristalline du dépôt d'alliage.  3) metallization process according to claims 1) and 2) characterized in that one uses flexible magnetic strips to maintain the substrates to the iron cylinders of the planetary system of the enclosure under vacuum and to assist the crystalline orientation of the alloy deposit.
4) Métallisation selon la revendication 1) caractérisée par le fait qu'elle est seule à pouvoir être utilisée sur des substrats fragiles comme des réseaux tissés en textile ou en matière plastique, des films fins en matière plastique, ou tout autre substrat, qui doivent garder une stabilité dimensionnelle parfaite, et ceci en raison de la basse température à laquelle ces substrats peuvent être maintenus et qu'elle forme une protection pour le substrat.  4) Metallization according to claim 1) characterized in that it is the only one that can be used on fragile substrates such as woven networks of textile or plastic, thin films of plastic, or any other substrate, which must keep a perfect dimensional stability, and this because of the low temperature at which these substrates can be maintained and that it forms a protection for the substrate.
5) Procédé de métallisation selon les revendications 1) et 2), caractérisé par le fait que pendant le même cycle de vide de la chambre d'évaporation, plusieurs évaporations identiques sont faites successivement pour auqmenter l'épaisseur du dépôt et obtenir une couche dont l'épaisseur peut être définie d'avance et que cette couche forme un dépôt d'alliage homogène sur tous substrats dont ceux calandres de film isolant.  5) metallization process according to claims 1) and 2), characterized in that during the same vacuum cycle of the evaporation chamber, several identical evaporations are carried out successively to increase the thickness of the deposit and obtain a layer of which the thickness can be defined in advance and that this layer forms a homogeneous alloy deposit on all substrates including those with calenders of insulating film.
6) Procédé d'évaporation sous vide sur tout substrat selon les revendications 1) et 2), caractérisé par le fait que pendant le même cycle de vide de la chambre d'évaporation, plusieurs évaporations non identiques ou partiellement identiques sont faites successivement pour former des couches d'èpaisseurs variables séparées selon le choix par des couches d'autres matériaux et même pour former des couches totalement différentes les unes des autres, le tout formant ainsi une couche finale stratifiée selon les variances désirées. 6) A method of vacuum evaporation on any substrate according to claims 1) and 2), characterized in that during the same vacuum cycle of the evaporation chamber, several non-identical or partially identical evaporations are made successively to form layers of variable thicknesses separated as desired by layers of other materials and even to form completely different layers from each other, the whole thus forming a final layer stratified according to the desired variances.
7) Dispositif d'évaporation sous vide selon les revendica tions 1), 2), 5), et 6) caractérisé par le fait que des qodets munis d'un bec verseur, qu'on fait mouvoir en va et vient sur des rails le long des creusets selon une séquence pré-établie, sont préalablement dosés de contenus à évaporer qui doivent être déversés selon la séquence dans les creusets avant leur mise sous tension d'évaporation et ceci pendant un même cycle de mise sous vide.  7) Vacuum evaporation device according to claims 1), 2), 5), and 6) characterized in that qodets provided with a pouring spout, which are moved back and forth on rails along the crucibles according to a pre-established sequence, are dosed beforehand with contents to be evaporated which must be poured according to the sequence into the crucibles before they are put under evaporation tension and this during the same vacuuming cycle.
8) Substrats métallisés selon l'ensemble des revendications précédentes caractérisés par le fait qu'ils sont fabriqués à partir de tissages ou de films en matières plastiques rendus conducteurs de l'électricité, pouvant être mis à la terre, et qu'ils sont couverts d'un dépôt de blindage contre les champs électromagnétiques qui protège les matières vivantes contre ces derniers dont ceux issus d'écrans de visualisation et considérés nocifs pour l'être humain et que ces substrats ayant un seul côté métallisé par le blindage à haut indice de reflexion, sont placés devant ou autour des écrans de visualisation.  8) Metallized substrates according to all of the preceding claims, characterized in that they are made from weavings or films of plastic materials made electrically conductive, which can be earthed, and that they are covered of a deposit of shielding against electromagnetic fields which protects living materials against the latter including those from display screens and considered harmful to humans and that these substrates having only one side metallized by the high index shielding of reflection, are placed in front of or around the display screens.
9) Substrats métallisés selon l'ensemble des revendications précédentes caractérisés par le fait qu'ils protègent les matières inertes que sont les produits finis du secteur électronique et informatique contre les champs électromagnétiques pendant leur utilisation quotidienne et leur transport.  9) Metallic substrates according to all the preceding claims, characterized in that they protect the inert materials that are the finished products of the electronic and computer sector against electromagnetic fields during their daily use and transport.
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