Черкасьий Філіал Київського Політехнічного Інституту Ім.50-Річчя Великої Жовтневої Соціалістичної Революції
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Черкасьий Філіал Київського Політехнічного Інституту Ім.50-Річчя Великої Жовтневої Соціалістичної РеволюціїfiledCriticalЧеркасьий Філіал Київського Політехнічного Інституту Ім.50-Річчя Великої Жовтневої Соціалістичної Революції
Priority to UA4896339ApriorityCriticalpatent/UA19762A/en
Publication of UA19762ApublicationCriticalpatent/UA19762A/en
A method for obtaining matted images on glass surfaces provides masking and etching by hydrofluoric acid. After masking the glass is heated in vacuum, is treated by electron beam and is etched for 1.5-15 minutes.
UA4896339A1990-12-041990-12-04Method for obtaining matted images on glass surface
UA19762A
(en)
Electron-Emitting Device and Method of Manufacturing the Same as Well as Electron Source and Image Forming Apparatus Comprising Such Electron-Emitting Devices