UA145509U - GEL BASE COMPOSITION FOR NAILS - Google Patents
GEL BASE COMPOSITION FOR NAILS Download PDFInfo
- Publication number
- UA145509U UA145509U UAU202005124U UAU202005124U UA145509U UA 145509 U UA145509 U UA 145509U UA U202005124 U UAU202005124 U UA U202005124U UA U202005124 U UAU202005124 U UA U202005124U UA 145509 U UA145509 U UA 145509U
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- nails
- nail
- gel base
- gel
- composition
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 18
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 6
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims abstract description 5
- 235000012216 bentonite Nutrition 0.000 claims abstract description 3
- 235000019813 microcrystalline cellulose Nutrition 0.000 claims abstract description 3
- 239000008108 microcrystalline cellulose Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229940016286 microcrystalline cellulose Drugs 0.000 claims abstract description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 claims description 2
- 210000000282 nail Anatomy 0.000 description 55
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 210000004904 fingernail bed Anatomy 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010048886 Onychoclasis Diseases 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 239000013527 degreasing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940083159 ethylene distearamide Drugs 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- RKISUIUJZGSLEV-UHFFFAOYSA-N n-[2-(octadecanoylamino)ethyl]octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCCNC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC RKISUIUJZGSLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- 230000002085 persistent effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 230000001225 therapeutic effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
Abstract
Композиція гель-бази для нігтів містить акрилатний кополімер, бутилацетат, бентоніт, мікрокристалічний віск та ацетобутират целюлози, у такому співвідношенні компонентів (мас. %): акрилатний кополімер 30-70 бутилацетат 5-20 бентоніт 1-3 мікрокристалічний віск 1-3 ацетобутират целюлози 5-10.The composition of the gel base for nails contains acrylate copolymer, butyl acetate, bentonite, microcrystalline wax and cellulose acetobutyrate, in the following ratio (wt.%): Acrylate copolymer 30-70 butyl acetate 5-20 bentonite 1-3 microcrystalline wax 5-10.
Description
Корисна модель належить до галузі косметології, а саме до допоміжних декоративних засобів для нігтів, що призначені для догляду та їх впорядкування для покращення зовнішнього вигляду, створення основи для нанесення лаків та захисту від ушкоджень.The utility model belongs to the field of cosmetology, namely auxiliary decorative means for nails, intended for the care and arrangement of nails to improve the appearance, create a base for applying varnishes and protect against damage.
Сучасний манікюр включає не тільки фарбування нігтів, але й догляд за нігтьовою пластиною, лікувально-відновлювальні процедури для нігтів, полірування та надання нігтям певної форми тощо. З часом нігтьова пластина може змінюватись, а саме вона може ставати нерівною, з утворенням на ній заглибин та інших деформації, а також може змінювати колір. Від частого полірування і застосування різних лаків для нігтів, нігтьова пластина стає тонкою і ламкою, що заважає виконанню якісного манікюру. Саме для вирішення цих проблем і застосовуються різні безкольорові лаки та базові покриття, що дозволяють зміцнити та вирівняти нігтьову пластину.Modern manicure includes not only painting of nails, but also care of the nail plate, therapeutic and restorative procedures for nails, polishing and giving nails a certain shape, etc. Over time, the nail plate can change, namely it can become uneven, with the formation of depressions and other deformations on it, and it can also change color. From frequent polishing and the use of various nail polishes, the nail plate becomes thin and fragile, which prevents the performance of a high-quality manicure. It is precisely to solve these problems that various colorless varnishes and base coatings are used, which make it possible to strengthen and align the nail plate.
Відомий лак для нігтів (патент України на корисну модель Мо ША 118324 ША, 25.07.2017), який містить такі компоненти (90 мас.): етоксильований (5) пентаеритритол тетракрилат 10-35, 2-гідрокспропіл метакрилат 10-35, триметилолпропан триакрилат 5-20, 2- гідроксиетил метакрилат 5-20, 1-гідроксициклогексил феніл кетон 1-5, М,М-диметилакриламід 1-5, 2,4,6- триметилбензоіїлдифеніл фосфін оксид 1-5, фенілбіс(2,4,6-триметилбензоіл) фосфін оксид 1-5, етилен дистеарамід 0,1-1, який відрізняється тим, що додатково містить віддушку у кількості 0,5-Well-known nail polish (patent of Ukraine for utility model Mo SHA 118324 SHA, 25.07.2017), which contains the following components (90 wt.): ethoxylated (5) pentaerythritol tetraacrylate 10-35, 2-hydroxypropyl methacrylate 10-35, trimethylolpropane triacrylate 5-20, 2-hydroxyethyl methacrylate 5-20, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1-5, M,M-dimethylacrylamide 1-5, 2,4,6- trimethylbenzoyldiphenyl phosphine oxide 1-5, phenylbis(2,4,6 -trimethylbenzoyl) phosphine oxide 1-5, ethylene distearamide 0.1-1, which differs in that it additionally contains perfume in the amount of 0.5-
З до мас. Відомий лак має стійкий приємний запах, що нейтралізує запах хімічних компонентів композиції.From to mass. The well-known varnish has a persistent pleasant smell, which neutralizes the smell of the chemical components of the composition.
Недоліками відомого лаку для нігтів є те, що він при нанесенні точно повторює поверхню нігтьової пластини і не приховує її дефекти.The disadvantages of known nail polish are that when applied, it exactly repeats the surface of the nail plate and does not hide its defects.
Також відомий лак для нігтів (патент РФ Мо КО 2020925 С1, 15.10.1994), що містить колоксилін, сечовино-формальдегідну смолу, розчинники та пластифікатори низькомолекулярного каучуку СКН-18-1А. Відомий лак підвищує фізико-механічні властивості, вологостійкість, адгезію до нігтя та блиск.Nail polish is also known (patent RF Mo KO 2020925 C1, 15.10.1994), which contains koloxylin, urea-formaldehyde resin, solvents and plasticizers of low-molecular rubber SKN-18-1A. The well-known varnish increases physical and mechanical properties, moisture resistance, adhesion to the nail and shine.
Недоліками відомого лаку для нігтів є його недостатні захисні властивості від механічних ушкоджень, короткий термін стійкості та неможливість виправлення або маскування дефектів нігтьової пластини.The disadvantages of the known nail varnish are its insufficient protective properties against mechanical damage, a short period of stability and the impossibility of correcting or masking the defects of the nail plate.
Найбільш близьким аналогом корисної моделі за технічною суттю є гель-лак для нігтів таThe closest analogue of a useful model in terms of technical essence is gel nail polish and
Зо спосіб його виробництва і застосування (патент США Мо О5 1044914182, 22.10.2019), в якому суміш гель-лаку для нігтів містить аліфатичний уретанакрилат як перший хімічний компонент, полімерний акрилатний олігомер як другий хімічний компонент, одновимірний розчинник як третій хімічний компонент та фотоініціатор як четвертий хімічний компонент і забарвлюючий засіб, змішаний із зазначеним гель-лаком для нігтів, таким чином, що зазначена суміш гель-лаку для нігтів здатна до висушування під впливом світлового середовища, що включає вплив ГЕО- світла, УФ-світла і сонячного світла.From the method of its production and application (US patent Mo О5 1044914182, 22.10.2019), in which the nail gel polish mixture contains aliphatic urethane acrylate as the first chemical component, polymer acrylate oligomer as the second chemical component, one-dimensional solvent as the third chemical component and photoinitiator as a fourth chemical component and coloring agent mixed with said gel nail polish such that said gel nail polish mixture is capable of drying under exposure to a light environment including exposure to GEO light, UV light, and sunlight.
Недоліками найбільш близького аналога є те, що гель-лак не здатний приховувати всі вади нігтьової пластини та має низький ступінь захисту від механічних пошкоджень.The disadvantages of the closest analogue are that gel polish is not able to hide all the defects of the nail plate and has a low degree of protection against mechanical damage.
В основу корисної моделі поставлена задача створити композицію гель-бази для нігтів, що забезпечує вирівнювання нігтьової пластини, нарощування сколів, зламів та подовження нігтьового ложа без втрати стійкості та забезпечення механічного захисту нігтів у вигляді запобігання розшаруванню та сколам.The useful model is based on the task of creating a gel-base composition for nails that provides alignment of the nail plate, build-up of chips, fractures and lengthening of the nail bed without loss of stability and providing mechanical protection of nails in the form of prevention of delamination and chips.
Технічний результат полягає у забезпеченні можливості застосування на нігтях у будь-якому стані, у забезпеченні самовирівнювання нігтьової пластини, у забезпеченні нарощування сколів, зламів та подовження нігпьового ложа, у забезпеченні механічного захисту нігтів від розшарування та сколів та у подовжені стійкості манікюру за рахунок запропонованих складових компонентів та їх співвідношення.The technical result consists in ensuring the possibility of application on nails in any condition, in ensuring self-leveling of the nail plate, in ensuring the build-up of chips, fractures and lengthening of the nail bed, in providing mechanical protection of nails against delamination and chips, and in prolonged stability of the manicure due to the proposed components components and their ratio.
Поставлена задача вирішується тим, що композиція гель-бази для нігтів, згідно з корисною моделлю, містить акрилатний кополімер, бутилацетат, бентоніт, мікрокристалічний віск та ацетобутират целюлози у такому співвідношенні компонентів (мас. Ос): акрилатний кополімер 30-70 бутилацетат 5-20 бентоніт 1-3 мікрокристалічний віск 1-3 ацетобутират целюлози 5-10.The task is solved by the fact that the composition of the nail gel base, according to the useful model, contains acrylate copolymer, butyl acetate, bentonite, microcrystalline wax and cellulose acetobutyrate in the following ratio of components (by weight): acrylate copolymer 30-70 butyl acetate 5-20 bentonite 1-3 microcrystalline wax 1-3 cellulose acetobutyrate 5-10.
Запропонована композиція гель-бази для нігтів має густу консистенцію, що не розтікається, при цьому вона придатна для нанесення за будь-якою відомою технологією нанесення, наприклад як тонким шаром за класичною технологією, так і крапельним методом за технологією зміцнення нігтів та вирівнювання нігтьової пластини. Нанесення тонким шаром застосовують у разі, якщо нігтьова пластина перебуває у відмінному стані і не потребує коригування. Нанесення товстим шаром дозволяє наростити зламані ділянки нігтя, виправити сколи, глибокі нерівності та інші вади нігтьової пластини, що не перевищують 2-5 мм. Крім того, після висихання композиція гель-бази для нігтів може піддаватися механічній обробці, такій як полірування або надання необхідної форми. Також композиція є безкольоровою, що дозволяє використовувати її з гель-лаками будь-якого кольору.The proposed composition of the gel base for nails has a thick consistency that does not spread, while it is suitable for application by any known application technology, for example, both a thin layer according to the classic technology and a drop method according to the technology of strengthening the nails and leveling the nail plate. Applying a thin layer is used if the nail plate is in excellent condition and does not need correction. Applying a thick layer allows you to build up broken areas of the nail, correct chips, deep irregularities and other defects of the nail plate that do not exceed 2-5 mm. In addition, after drying, the nail gel base composition can be subjected to mechanical processing, such as polishing or shaping. Also, the composition is colorless, which allows you to use it with gel polishes of any color.
Запропонована композиція гель-бази для нігтів є незамінною для слабких нігтів та для відновлення та реставрації зламаних нігтів і може застосовуватись для штучного подовження нігтьового ложа. Також композиція гель-бази для нігтів забезпечує плавний перехід поруч із кутикулою.The proposed composition of gel base for nails is indispensable for weak nails and for the recovery and restoration of broken nails and can be used for artificial extension of the nail bed. Also, the composition of the gel base for nails provides a smooth transition next to the cuticle.
Застосовують запропоновану композицію гель-бази для нігтів таким чином.Apply the proposed composition of the gel base for nails as follows.
Здійснюють стандартну підготовку нігтів, що включає зняття попереднього покриття, видалення кутикули та надання їм необхідної форми. Після чого нігтьову пластину старанно очищують та дезінфікують за допомогою дезінфікуючого та знежирюючого засобів. За необхідності додатково наносять безкислотний засіб для забезпечення додаткової адгезії гель- бази із нігттьовою пластиною.They carry out standard preparation of nails, which includes removing the previous coating, removing the cuticle and giving them the necessary shape. After that, the nail plate is carefully cleaned and disinfected with a disinfectant and degreaser. If necessary, an acid-free agent is additionally applied to ensure additional adhesion of the gel base to the nail plate.
Далі на нігтьову пластину наносять композицію гель-бази для нігтів за обраною технологією та висушують її за допомогою УФ-лампи або І ЕЮ-лампи. Після висихання, за необхідності, наносять другий шар покриття і знову висушують. Покриття у декілька шарів застосовують у разі, якщо нігтьова пластина має помітні нерівності поверхні або значні ушкодження. Після висихання композиції гель-бази для нігтів нігтьова пластина готова до подальшого нанесення лаків або інших косметичних засобів.Next, a gel-base composition for nails is applied to the nail plate according to the selected technology and dried with the help of a UV lamp or an EU lamp. After drying, if necessary, apply a second layer of coating and dry again. Coating in several layers is used if the nail plate has noticeable surface irregularities or significant damage. After drying the composition of the gel base for nails, the nail plate is ready for further application of varnishes or other cosmetics.
Нанесена у такий спосіб композиція гель-бази для нігтів забезпечує стійкість на ній будь- якого гель-лаку до 21 дня, попереджає розшарування та сколи, дозволяє вирівняти нігтьову пластину та надати нігтю ідеальної форми перед покриттям лаками.The composition of the nail gel base applied in this way ensures the stability of any gel polish on it for up to 21 days, prevents delamination and chips, allows you to align the nail plate and give the nail an ideal shape before coating with varnishes.
Таким чином, композиція гель-бази для нігтів забезпечує можливість застосування на нігтях у будь-якому стані, забезпечує самовирівнювання нігтьової пластини, забезпечує нарощування сколів, зламів та подовження нігьового ложа, забезпечує механічний захист нігтів від розшарування та сколів та забезпечує подовження стійкості манікюру за рахунок запропонованих складових компонентів та їх співвідношення.Thus, the composition of the gel base for nails provides the possibility of application on nails in any condition, provides self-leveling of the nail plate, provides the build-up of chips, fractures and lengthening of the nail bed, provides mechanical protection of nails from delamination and chips, and provides extension of the durability of the manicure due to proposed constituent components and their ratio.
Коо)Coo)
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAU202005124U UA145509U (en) | 2020-08-07 | 2020-08-07 | GEL BASE COMPOSITION FOR NAILS |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAU202005124U UA145509U (en) | 2020-08-07 | 2020-08-07 | GEL BASE COMPOSITION FOR NAILS |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA145509U true UA145509U (en) | 2020-12-10 |
Family
ID=74104520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UAU202005124U UA145509U (en) | 2020-08-07 | 2020-08-07 | GEL BASE COMPOSITION FOR NAILS |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| UA (1) | UA145509U (en) |
-
2020
- 2020-08-07 UA UAU202005124U patent/UA145509U/en unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6803394B2 (en) | Radiation curable nail coatings and artificial nail tips and methods of using same | |
| JP5756604B2 (en) | Compositions for removable gel applications for nails and methods for their use | |
| US5456905A (en) | Quick-drying nail coating method and composition | |
| US5407666A (en) | Removable, hard, durable, nail coating | |
| US5435994A (en) | Quick-drying nail coating method and composition | |
| EP3076936B1 (en) | Photo-crosslinkable varnish compositions as base coating and application methods | |
| MX2012004065A (en) | Removable protective topcoat for artificial nail coatings and methods therefore. | |
| CN105073094A (en) | Artificial nail composition, artificial nail, method for forming artificial nail, method for removing artificial nail, and nail art kit | |
| JP2017210457A (en) | Photocurable artificial nail composition for self-nail application comprising hydrophobic urethane(meth acrylate oligomer | |
| ES2437492T3 (en) | Use of radiation curable nail coatings that can be removed by soaking | |
| JP7105225B2 (en) | Gel nail cosmetic composition, method of use thereof, nail cosmetic composition and nail cosmetic resin | |
| UA145509U (en) | GEL BASE COMPOSITION FOR NAILS | |
| RU2689128C2 (en) | Method of nail design using photo-crosslinkable lacquer compositions | |
| UA145508U (en) | COMPOSITION OF BASE-CORRECTOR FOR NAILS | |
| CN110200848A (en) | A kind of nail polish system and its manicure method | |
| JP2017507898A (en) | Photocrosslinkable varnish composition as base coating and coating method | |
| JP2016539158A (en) | Photocrosslinkable varnish composition as base coating and coating method | |
| WO2017112373A1 (en) | Nail compositions containing alkyd resin | |
| UA145510U (en) | FINISHING WITH UV FILTERS FOR GEL VARNISHES | |
| JP2016539162A (en) | Photocrosslinkable varnish composition as base coating and coating method | |
| US20150297486A1 (en) | Nail makeup method with photocrosslinkable varnish compositions | |
| Schoon et al. | Nail Cosmetics for Abnormal and Pathological Nails | |
| US10206866B2 (en) | Nail compositions containing silicone-organic polymer hybrid compound | |
| US10307364B2 (en) | Nail compositions containing silicone-organic polymer hybrid compound and alkyd resin | |
| IT201800005494A1 (en) | Formulated for the cosmetic treatment of nails based on a UV photopolymerizable difunctional polyester urethane acrylate. |