TWM620234U - 天線結構 - Google Patents
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Abstract
一種天線結構,其包含接地片、天線模組、開槽及金屬匹配塊。天線模組包含天線本體、輻射部及饋入部,輻射部由天線本體的一端延伸出,該饋入部由天線本體的一側延伸出,並透過饋入點連接接地片。開槽開設於接地片上,開槽與天線本體的距離,小於預設共振頻率的1/8波長,且開槽的長度在預設共振頻率的0.8至1.3波長的範圍。預設共振頻率與輻射部所對應的共振頻率不相同。金屬匹配塊的至少一部分位於開槽中。藉此增加除了輻射部外的共振頻率,進一步還可以調整共振頻率,能提供更簡單的結構及更寬廣的設計裕度。
Description
本創作係關於通訊領域,尤其涉及一種天線結構。
天線為各種電子裝置應用在無線通訊時不可或缺的必要元件。然而,近期電子裝置普及化,且通訊頻率增加,天線結構的設計更為複雜。進一步地,由於電子裝置的輕薄化、處理裝置高速運算效能、都導致了嚴重的信號干擾。
另外,近期許多電子產品為了提升產品的質感,採用金屬外殼,由於金屬的屏蔽效應,使得天線結構的設計裕度受到更嚴重的限縮。
為了解決前述的問題,在此提供一種天線結構,其包含接地片、天線模組、開槽及金屬匹配塊。天線模組包含天線本體、輻射部、及饋入部,輻射部由天線本體的一端延伸出,饋入部由天線本體的一側延伸出,並透過饋入點連接接地片。開槽開設於接地片上,開槽與天線本體的距離,小於預設共振頻率的1/8波長,且開槽的長度在預設共振頻率的0.8至1.3波長的範圍。預設共振頻率與輻射部所對應的共振頻率不相同。金屬匹配塊的至少一部分位於開槽中。
在一些實施例中,開槽與天線本體對接地片的垂直投影大致平行。
在一些實施例中,金屬匹配塊之延伸方向與開槽的長軸向大致平行。
進一步地,在一些實施例中,開槽包含第一長度,金屬匹配塊包含第二長度,第二長度與第一長度的比為0.6至1的範圍。
更進一步地,在一些實施例中,金屬匹配塊的一端與接地片連接。
在一些實施例中,金屬匹配塊之延伸方向與開槽的長軸向大致垂直。
進一步地,開槽具有第一高度,金屬匹配塊具有第二高度,第二高度與第一高度之比在0.6至0.9的範圍。
更進一步地,在一些實施例中,金屬匹配塊的一端與接地片連接。
在一些實施例中,金屬匹配塊包含第一匹配段及第二匹配段。第一匹配段的延伸方向大致平行於開槽的長軸向,第二匹配段的一端連接第一匹配段,且第二匹配段的延伸方向大致垂直於開槽的長軸向。
進一步地,在一些實施例中,第二匹配段遠離開第一匹配段的另一端連接接地片。
在一些實施例中,天線模組更包含第二輻射部及短路部,第二輻射部由天線本體遠離輻射部的另一端延伸出,短路部由天線本體的一側延伸出,且大致平行於饋入部,並與接地片連接。
由前述實施例可以理解的是,透過開槽及金屬匹配塊,天線結構可以應用於電子裝置的金屬外殼上,更達到增加除了天線模組之輻射部外的共振頻率,進一步還可以調整共振頻率,除了能有效地縮減天線的體積、更能提供更簡單、更寬廣的設計裕度。
在以下說明中,應當理解的是,元件被稱為「連接」或「設置」於另一元件時,可以表示元件是直接位另一元件上,或者可以也存中間元件,透過中間元件連接元件與另一元件。相反地,當元件被稱為「直接在另一元件上」或「直接連接到另一元件」時,可以理解的是,此時明確定義了不存在中間元件。
另外,術語「第一」、「第二」、「第三」這些術語僅用於將一個元件、部件、區域、或部分與另一個元件、部件、區域、層或部分區分開,而非表示其必然的先後順序。此外,諸如「下」和「上」的相對術語可在本文中用於描述一個元件與另一元件的關係,應當理解,相對術語旨在包括除了圖中所示的方位之外的裝置的不同方位。例如,如果一個附圖中的裝置翻轉,則被描述為在其他元件的「下」側的元件將被定向在其他元件的「上」側。此僅表示相對的方位關係,而非絕對的方位關係。
圖1係天線結構第一實施例的立體圖。圖2係天線結構第一實施例的俯視圖。圖3係天線結構一比較例的俯視圖。圖4係天線結構第一實施例與比較例的迴返損失圖。
如圖1及圖2所示,一種天線結構1包含接地片10、天線模組20、開槽30及金屬匹配塊40。天線模組20包含天線本體21、輻射部23、及饋入部27。輻射部23由天線本體21的一端延伸出,饋入部27由天線本體21的一側延伸出,且大致垂直於天線本體21,並透過饋入點F連接接地片10。在此,天線本體21為長條狀,但這僅為示例,而非限於此。
開槽30開設於接地片10上,開槽30與天線本體21的距離,小於預設共振頻率的1/8波長,較佳為小於1/16波長。開槽30的長度在預設共振頻率的0.8至1.3波長的範圍,較佳為1波長。預設共振頻率與輻射部23所對應的共振頻率不相同。金屬匹配塊40位於開槽30中。
進一步地,在此實施例中,天線模組20還包含第二輻射部25及短路部29。第二輻射部25由天線本體21遠離輻射部23的另一端延伸出,在此實施例中,天線本體21、輻射部23及第二輻射部25大致為一長條狀,但這僅為示例,而非用以限制。短路部29由天線本體21的一側延伸出,且大致平行於饋入部27,並與接地片10連接,天線模組20大致呈倒F的形狀。然而,天線的形狀僅為示例,實際上單極天線(monopole)、雙極天線(dipole)、耦合天線(coupling)或迴路天線(loop)也都是可以採用的結構。
如圖3所示,比較例與第一實施例,差異僅在於比較例不具有金屬匹配塊40。如圖4所示,頻率f1及f2分別是對應輻射部23及第二輻射部25的共振頻率。頻率f3為設置開槽30所產生的共振頻率,頻率f4為金屬匹配塊40所產生的共振頻率,可以理解的是,開槽30與金屬匹配塊40可以增加共振模態及增加共振頻寬的功效。
更詳細地,再次參照圖2,開槽30與天線本體21對接地片10的垂直投影大致平行,此外,金屬匹配塊40之延伸方向與開槽30的長軸向大致平行。較佳地,在一些實施例中,開槽30包含第一長度L1,金屬匹配塊40包含第二長度L2,第二長度L2與第一長度L1的比(L2/L1)為0.6至1的範圍。
圖5係天線結構第二實施例的俯視圖。如圖5所示,同時參照圖2,第二實施例與第一實施例不同之處在於,金屬匹配塊40的一端與接地片10連接。但實際上達到的效能與第一實施例雷同。
圖6係天線結構第三實施例的俯視圖。圖7係天線結構第三實施例與比較例的迴返損失圖。如圖6及圖7所示,同時參照圖2,第二實施例與第一實施例不同之處在於金屬匹配塊40之延伸方向與開槽30的長軸向大致垂直。另外,此方向的金屬匹配塊40,並未產生新的共振模態,但使得預設共振頻率的產生偏移。如此,可以透過金屬匹配塊40對共振頻帶進行微調。
進一步地,金屬匹配塊40的一端與接地片10連接。另外,開槽30具有第一高度H1,金屬匹配塊40具有第二高度H2,第二高度H2與第一高度H1之比在0.6至0.9的範圍,較佳為0.75至0.85的範圍。
圖8係天線結構第四實施例的俯視圖。如圖8所示,同時參見圖6,第四實施例與第三實施例不同處在於,金屬匹配塊40位於開槽30中,但不與接地片10連接。
圖9係天線結構第五實施例的俯視圖。如圖9所示,第五實施例與前述實施例不同之處在於,金屬匹配塊40包含第一匹配段41及第二匹配段43。第一匹配段41的延伸方向大致平行於開槽30的長軸向,第二匹配段43的一端連接第一匹配段41,且第二匹配段43的延伸方向大致垂直於開槽30的長軸向。
進一步地,第二匹配段43遠離開第一匹配段41的另一端連接接地片10。換言之,第五實施例是第一實施例與第三實施例的組合,可以達到產生新的共振模態,但使得預設共振頻率的產生偏移的功效。
綜上所述,透過開槽30及金屬匹配塊40的設計,天線結構1可以應用於電子裝置的金屬外殼上,更達到增加除了天線模組20原先設計之輻射部23、第二輻射部25之外的共振頻率,進一步還可以調整共振頻率,除了能有效地縮減天線的體積、更能提供更簡單、更寬廣的設計裕度。
透過上述之詳細說明,即可充分顯示本創作之目的及功效上均具有實施之進步性,極具產業之利用性價值,完全符合專利要件,爰依法提出申請。唯以上所述僅為本創作之較佳實施例而已,當不能用以限定本創作所實施之範圍。即凡依本創作專利範圍所作之均等變化與修飾,皆應屬於本創作專利涵蓋之範圍內,謹請 貴審查委員明鑑,並祈惠准,是所至禱。
1:天線結構
10:接地片
20:天線模組
21:天線本體
23:輻射部
25:第二輻射部
27:饋入部
29:短路部
30:開槽
40:金屬匹配塊
41:第一匹配段
43:第二匹配段
F:饋入點
圖1係天線結構第一實施例的立體圖。
圖2係天線結構第一實施例的俯視圖。
圖3係天線結構一比較例的俯視圖。
圖4係天線結構第一實施例與比較例的迴返損失圖。
圖5係天線結構第二實施例的俯視圖。
圖6係天線結構第三實施例的俯視圖。
圖7係天線結構第三實施例與比較例的迴返損失圖。
圖8係天線結構第四實施例的俯視圖。
圖9係天線結構第五實施例的俯視圖。
1:天線結構
10:接地片
20:天線模組
21:天線本體
23:輻射部
25:第二輻射部
27:饋入部
29:短路部
30:開槽
40:金屬匹配塊
F:饋入點
Claims (11)
- 一種天線結構,包含: 一接地片; 一天線模組,包含一天線本體、一輻射部、以及一饋入部,該輻射部由該天線本體的一端延伸出,該饋入部由該天線本體的一側延伸出,並透過一饋入點連接該接地片; 一開槽,開設於該接地片上,該開槽與該天線本體的距離,小於一預設共振頻率的1/8波長,且該開槽的長度在該預設共振頻率的0.8至1.3波長的範圍,且該預設共振頻率與該輻射部所對應的共振頻率不相同;以及 一金屬匹配塊,該金屬匹配塊的至少一部分位於該開槽中。
- 如請求項1所述之天線結構,其中該開槽與該天線本體對該接地片的垂直投影大致平行。
- 如請求項1所述之天線結構,其中該金屬匹配塊之延伸方向與該開槽的長軸向大致平行。
- 如請求項3所述之天線結構,其中該開槽包含一第一長度,該金屬匹配塊包含一第二長度,該第二長度與該第一長度的比為0.6至1的範圍。
- 如請求項4所述之天線結構,其中該金屬匹配塊的一端與該接地片連接。
- 如請求項1所述之天線結構,其中該金屬匹配塊之延伸方向與該開槽的長軸向大致垂直。
- 如請求項6所述之天線結構,其中該開槽具有一第一高度,該金屬匹配塊具有一第二高度,該第二高度與該第一高度之比在0.6至0.9的範圍。
- 如請求項7所述之天線結構,其中該金屬匹配塊的一端與該接地片連接。
- 如請求項1所述之天線結構,其中該金屬匹配塊包含一第一匹配段及一第二匹配段,該第一匹配段的延伸方向大致平行於該開槽的長軸向,該第二匹配段的一端連接該第一匹配段,且該第二匹配段的延伸方向大致垂直於該開槽的長軸向。
- 如請求項9所述之天線結構,其中該第二匹配段遠離開該第一匹配段的另一端連接該接地片。
- 如請求項1所述之天線結構,其中該天線模組更包含一第二輻射部及一短路部,該第二輻射部由該天線本體遠離該輻射部的另一端延伸出,該短路部由該天線本體的一側延伸出,且大致平行於該饋入部,並與該接地片連接。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW110209783U TWM620234U (zh) | 2021-08-18 | 2021-08-18 | 天線結構 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW110209783U TWM620234U (zh) | 2021-08-18 | 2021-08-18 | 天線結構 |
Publications (1)
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Family Applications (1)
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TW110209783U TWM620234U (zh) | 2021-08-18 | 2021-08-18 | 天線結構 |
Country Status (2)
Country | Link |
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CN (1) | CN216015694U (zh) |
TW (1) | TWM620234U (zh) |
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2021
- 2021-08-18 TW TW110209783U patent/TWM620234U/zh unknown
- 2021-10-29 CN CN202122616900.7U patent/CN216015694U/zh active Active
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CN216015694U (zh) | 2022-03-11 |
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