TWM612425U

TWM612425U - 足弓之足墊

Info

Publication number: TWM612425U
Application number: TW110202142U
Authority: TW
Inventors: 卓銘錫
Original assignee: 卓銘錫
Priority date: 2021-02-26
Filing date: 2021-02-26
Publication date: 2021-05-21

Abstract

一種足弓之足墊，尤特指將遠紅外線負離子粉包覆在該足墊的內部，藉以刺激人體腳底的穴道；同時，可以防止遠紅外線負離子粉氧化或遺失，其特徵在於：該足墊的表面披覆一層銀離子粉末層，使其兼具有除臭、殺菌的效果者。

Description

足弓之足墊

本創作所提供足弓之足墊，主要是應用於足墊的表面披覆一層銀離子粉末，使其具有除臭、殺菌效果的技術上。

按，扁平足又俗稱「鴨母蹄」，簡單來說，扁平足就是患者腳內側的縱弓出了毛病而引致腳弓下塌。扁平足的人站立時，會感覺身體的重量集中在雙腳的內側部位，腳底內側的腳弓較不明顯或消失、腳後跟的跟骨往外傾斜……等，會因為足部失去吸震、緩衝、減壓之作用，較會引起走遠路或跑步時下肢易疲勞、足底肌膜炎、大腳趾變形關節疼痛、膝關節炎、踝關節扭傷、腰酸背痛、脊柱側彎、骨盆歪斜、長短腳等問題。同時，腳底的穴位按摩首選是腎經的湧泉穴，位於腳底中間凹陷處，在足掌的前三分之一處；刺激此穴，有強精益髓、補腎壯陽、健筋壯骨的效果，也可有安眠的作用，另外亦可以促進血液循環，達到調節陰陽平衡，強身健體的作用。

惟，傳統習用的足弓墊在實際應用時，至少存在下列四項尚待克服解決的問題與缺失。

一、傳統習用的足弓墊主要是將遠紅外線粉體局部摻混於足弓墊材料中所製作而成的，由於遠紅外線粉體外露於足弓墊表面，所以會導致遠紅外線粉體氧化或脫落，將減少遠紅外線粉體的正常使用壽命及功效。

二、傳統習用的足弓墊主要是將遠紅外線粉體局部摻混於足弓墊的某一區域，無法涵蓋整個穿戴者的足部，促進血液循環，強身健體的效果並不明顯。

三、傳統習用的足弓墊並不具有除臭與殺菌效果。

四、傳統習用的足弓墊與原有的底墊之間沒有固定，實際穿戴行走或跑步時，該足弓墊與該底墊之間容易因為滑動而顯得不舒服。

本創作人目前從事相關產品的製造、設計，累積多年的實務經驗與心得，針對傳統習用的足弓墊所既存的問題與缺失，積極地投入創新與改良的精神，所完成的足弓之足墊。

新型解決問題所應用的技術手段係在於：足墊對應人體腳底的腳掌位置處設有複數個凹陷的凹槽，藉以在相鄰的凹槽之間形成若干個間隔體，該足墊對應人體腳底的腳跟處亦設有足跟部，該間隔體與該足跟部設有遠紅外線負離子粉，利用腳掌與腳底這兩個部位的遠紅外線負離子粉刺激人體腳底的穴道，達到強健身體的目的；同時，該足墊的表面披覆一層銀離子粉末；另外，該足墊的底面設有一底墊者。

新型解決問題所應用的技術手段以及對照先前技術的功效係在於：

一、製作時，將遠紅外線負離子粉包覆在足墊內部，可以防止遠紅外線負離子粉氧化或遺失，確保遠紅外線負離子粉正常使用的壽命及功效。

二、該足墊主要是將遠紅外線粉體全面摻混於整個區域，使其遠紅外線粉體涵蓋整個穿戴者的足部，使其促進血液循環，強身健體的效果明顯。

三、該足墊的表面披覆一層銀離子粉末，使其穿戴上具有除臭、殺菌的效果。

四、該足墊的底面設有一底墊，，該底墊設有一容置空間，作為容納設置該足墊之用，使其穿戴上更加舒服。

10:足墊

11:足弓部

12:護板

13:凹槽

14:間隔體

15:足跟部

16:標示部

20:遠紅外線負離子粉

30:銀離子粉末層

40:底墊

41:容置空間

第一圖：係本創作實施例一之正視立體組合示意圖。

第二圖：係本創作實施例一之底視立體組合示意圖。

第三圖：係本創作實施例一之立體分解局部剖面示意圖。

第四圖：係本創作實施例一之俯視平面組合示意圖。

第五圖：係第四圖之B-B剖面與D部放大示意圖。

第六圖：係本創作實施例一之使用狀態示意圖。

第七圖：係本創作實施例二之立體組合示意圖。

第八圖：係本創作實施例二之立體分解示意圖。

第九圖：係本創作實施例二之俯視平面組合示意圖。

第十圖：係第九圖之E-E剖面與M部放大示意圖。

第十一圖：係本創作實施例二之使用狀態示意圖。

為使專精熟悉此項技藝之人仕業者易於深入瞭解本創作的構造內容以及所能達成的功能效益，茲列舉一具體實施例，並配合圖式詳細介紹說明如下：

一種足弓之足墊，敬請參閱第一、二圖所示：係本創作實施例一之正視、底視立體組合示意圖。與第三圖所示：係本創作實施例一之立體分解局部剖面示意圖。以及第四、五圖所示：係本創作實施例一之俯視平面組合及第四圖之B-B剖面與D部放大示意圖。主要在於：足墊10係依據人體腳底的形狀熱壓一體成型，該足墊10對應於人體腳底內側的縱弓處設有一足弓部11，該足弓部11的形狀符合正常人體腳底弧度，做為矯正人走路時腳底壓力的平衡之用，讓腳底各點的支撐力達到平衡，使其完全符合行走時的人體工學，該足墊10不但具有鋼性而且又具有彈性，具有質輕、彈性好、不變形的特性；

該足墊10的左、右兩側及後側外圍設有向上延伸的護板12，讓穿戴者的腳可以獲得絕佳的包覆效果；該足墊10對應人體腳底湧泉穴的位置處設有複數個凹陷的凹槽13，相鄰的凹槽13之間形成間隔體14，該足墊10對應人體腳跟處設有一足跟部15；製作時，將遠紅外線負離子粉20全面摻混包覆在該足墊10的內部，藉以刺激人體腳底的穴道，同時將該遠紅外線負離子粉20包覆在該足墊10內部，可以防止氧化或遺失；

該足墊10對應於人體腳底的大拇指處設有一突出的標示部16，讓穿戴者可以輕易辨別出該足墊10為左腳專用或右腳專用，而無混淆錯亂之虞；

該足墊10的表面披覆一層銀離子粉末層30，具有除臭、殺菌效果者。

上述本創作所提供的足弓之足墊，其中：該足墊10的該足弓部11、該間隔體14與該足跟部15可以由不同軟硬程度的材質製成，藉以製作成內硬外軟或內軟外硬形式，不同硬度可以隨意調整，以利於足弓形成最佳狀態，使人於行走時感到最佳舒適感者。

藉由上述各元件結構所組合而成之本創作，係在提供一種足弓之足墊，在實際操作應用時：

敬請參閱第六圖所示：係本創作實施例一之使用狀態示意圖。穿戴時，該足墊10可以利用對應於人體腳底內側的縱弓處的該足弓部11，符合正常人體腳底弧度，藉以矯正人走路時腳底壓力的平衡，使其完全符合行走時的人體工學；同時，利用該遠紅外線負離子粉20刺激人體腳底的穴道；而且，藉由該銀離子粉末層30達到除臭、殺菌的效果者。

一種足弓之足墊，敬請參閱第七、八圖所示：係本創作實施例二之立體組合與立體分解示意圖。與第九、十圖所示：係本創作實施例二之俯視平面組合及第九圖之E-E剖面與M部放大示意圖。主要在於：足墊10係依據人體腳底的形狀熱壓一體成型，該足墊10對應於人體腳底內側的縱弓處設有一足弓部11，該足弓部11的形狀符合正常人體腳底弧度，做為矯正人走路時腳底壓力的平衡之用，讓腳底各點的支撐力達到平衡，使其完全符合行走時的人體工學，該足墊10不但具有鋼性而且又具有彈性，具有質輕、彈性好、不變形的特性；

該足墊10的表面披覆一層銀離子粉末層30，具有除臭、殺菌效果；

該足墊10的底面一體成型設有一底墊40，該底墊40設有一容置空間41，作為容納設置該足墊10之用，具有固定止滑作用者。

上述本創作所提供的足弓之足墊，其中：該足墊10的該足弓部11、該間隔體14、該足跟部15與該底墊40可以由不同軟硬程度的材質製成，藉以製作成內硬外軟或內軟外硬形式，不同硬度可以隨意調整，以利於足弓形成最佳狀態，使人於行走時感到最佳舒適感者。

敬請參閱第十一圖所示：係本創作實施例二之使用狀態示意圖。穿戴時，該足墊10可以利用對應於人體腳底內側的縱弓處的該足弓部11，符合正常人體腳底弧度，藉以矯正人走路時腳底壓力的平衡，使其完全符合行走時的人體工學；同時，利用該遠紅外線負離子粉20刺激人體腳底的穴道；而且，藉由該銀離子粉末層30達到除臭、殺菌的效果者。

綜合上述所陳，本創作係在提供一種足弓之足墊，經過本創作人實際製做完成以及反覆操作測試之後，證實的確可以達到本創作所預期的功能效益，同時又為目前坊間尚無見聞之首先創作，具有產業上的利用價值，誠然已經符合新型專利實用性與進步性之成立要義，爰依專利法之規定，向鈞局提出新型專利之申請。