TWM574841U - Sole structure for simulating foot mechanics - Google Patents

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TWM574841U
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Taiwan
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sole
foot
slip
sole body
sole structure
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TW107216917U
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English (en)
Inventor
葉瑞嘉
洪翊鈞
莊紫妍
劉虣虣
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財團法人鞋類暨運動休閒科技研發中心
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  • Footwear And Its Accessory, Manufacturing Method And Apparatuses (AREA)

Abstract

一種模擬足部力學之鞋底結構,其包含:一鞋底本體,該鞋底本體包含一鞋底本體底面;一足底壓力軌跡線縱向延伸並凹設或凸設於該鞋底本體底面之表面;以及數個支撐止滑區塊,其在該足底壓力軌跡線左右橫向延伸之位置設置於該鞋底本體底面之表面;本新型運用步態之足底壓力分佈模擬,透過不同幾何形狀的模擬顆粒搭配,來設計鞋底結構的支撐止滑紋路,運用科學的方式提供精準的鞋底紋路設計開發。

Description

模擬足部力學之鞋底結構
一種鞋底結構,特別是一種利用模擬足部力學來決定其結構設置之鞋底結構。
一般鞋子,例如拖鞋、涼鞋或運動鞋等,都會在鞋底設計凹凸之紋路,用以增加鞋子與底面的抓地力,用以達到止滑之功能,讓使用者能更為穩固地行走於地面,降低滑倒的危險。
然而,隨著機能性鞋款的風潮漸起,鞋底紋路除了止滑的功能外,也逐漸衍生出具有更高支撐性的鞋底設計,此種設計主要是依據人體足部的足趾、足掌、足弓與足跟以概略性的輪廓印象設計搭配的紋路,雖然已足以達到相對於止滑鞋底更好的支撐性,但尚無法提供更為精準的支撐訴求。
為了解決目前既有的止滑鞋底或是僅針對足趾、足掌、足弓與足跟以概略性的輪廓印象設計之鞋底等,其無法提供精準的支撐訴求的問題,本新型提供一種模擬足部力學之鞋底結構,其包含:一鞋底本體,該鞋底本體包含一鞋底本體底面;一足底壓力軌跡線縱向延伸並凹設或凸設於該鞋底本體底面之表面;以及數個支撐止滑區塊,其在該足底壓力軌跡線左右橫向延伸之位置設置於該鞋底本體底面之表面。
其中,該支撐止滑區塊包含數條與該足底壓力軌跡線垂直之直線凸起紋路。
其中,該支撐止滑區塊包含數個A字型類三角、四角型或菱形的幾何凸塊。
其中,不同的該支撐止滑區塊具有不同形狀或尺寸大小的凸凹紋路設計
其中,數個該A字型類三角的幾何凸塊排列形成的連通溝槽。
藉由上述說明可知,本新型具有以下優點:
1. 透過模擬足部力學的概念,精準掌握了足底壓力的分佈情況,藉以模擬出足底壓力軌跡線以設計鞋底紋路,不僅提供使用者足部更為精準的支撐性外,更能達到客製化製造的高端市場需求。
2. 本新型運用步態之足底壓力分佈模擬,透過不同幾何形狀的模擬顆粒搭配,來設計鞋底結構的支撐止滑紋路,運用科學的方式提供精準的鞋底紋路設計開發。
請參考圖1,其為跑步時(下稱步態)足底壓力力學分佈圖,圖1中顏色較深的區塊為步態壓力較大的足部位置,主要分佈於腳掌與腳跟中間位置,而顏色較淺的區塊則為步態壓力較小的足部位置,本新型的鞋底結構即是模擬圖1之足底壓力力學分佈圖進行支撐止滑紋路的結構設計。
請進一步參考圖2,其為本新型一較佳實施例,包含一鞋底本體10,該鞋底本體10的外型對應人體足部的足趾、足掌、足弓與足跟的基本外廓,並包含一鞋底本體底面11,該鞋底本體底面11的表面設有縱向延伸一足底壓力軌跡線12,該足底壓力軌跡線12係根據圖1的足底壓力力學分佈圖中,自足掌至足跟之壓力較大的足部位置來定義,較佳地,該足底壓力軌跡線12係從足跟沿足中外側至前足之第一及第二蹠骨處縱向延伸一彎曲線條,並自該足底壓力軌跡線12為基準,左右橫向設有依據不同足部力學所模擬的數個支撐止滑區塊13。
上述該足底壓力軌跡線12設置在該鞋底本體10上,可以是凹設或是凸設的形式呈現;其中,該足體壓力軌跡線12若以凹設形式呈現時,主要是以其左右橫向設置的數個該支撐止滑區塊13所圍繞形成的凹陷軌跡;反之,其若凸設型設呈現,則係單純於鞋底成形一突出的曲線凸塊。
上述該支撐止滑區塊13主要包含以下數種較佳實施例:
1.垂直紋路設計:所謂的垂直紋路設計主要是在該支撐止滑區塊13設置與該足底壓力軌跡線12橫向垂直的直線紋路,該直線紋路因與該足底壓力軌跡線12垂直,可以抵消足部前衝的力量,增加鞋底的止滑效果。以本實施例而言,如圖2所示,該直線紋路設計的該支撐止滑區塊13設置位置,依據步態足部壓力力學模擬結果,較佳是設置於足掌與足跟壓力值最高區域的周圍,能達到最佳的止滑效果。
2.幾何顆粒設計:所謂的幾何顆粒設計主要是在該支撐止滑區塊13設置具有幾何形狀的凸起顆粒。透過電腦輔助模擬技術(CAE),目前最具止滑支撐的幾何形狀為A字型的類三角幾何顆粒132,但除此之外,與該A字型的類三角幾何顆粒132近似的多邊角形也可使用,例如三角形、四邊形或菱形等。該顆粒之尺寸大小則依據步態足部壓力力學所模擬的結果,在足部壓力大的區域使用尺寸較大之幾何顆粒,並以之遞減顆粒尺寸。以本實施例而言,如圖2所示,該幾何顆粒設計的分佈位置,依據足部壓力力學模擬的結果,較佳是以大塊狀分佈於足掌區域,不僅可提供良好的止滑功效,還能提供額外的支撐功能。
前述該幾何設計中,該A字型類三角的幾何顆粒132藉由排列設計,可使每個顆粒的各角間隔並排形成網狀的連通溝槽131,進一步提供鞋底排水的功能。
而其他種形狀的幾何顆粒設計,例如三角形、四邊形或菱形等則可依據該足底壓力力學分佈圖的模擬、美觀或其他機能性需求來設置於本新型的其他鞋底結構區域,於此不限定。
本新型的鞋底結構除了前述的支撐止滑結構設計外,其材質較佳係耐磨且止滑的材質,能達到更優異的支撐止滑效果,且前述數個該支撐止滑區塊13僅是本發明較佳實施範例而已,並非用以限定本新型主張的權利範圍,凡其它未脫離本新型所揭示的模擬足部力學鞋底設計所完成的等效改變或修飾,均應包括在本新型的申請專利範圍內。
10‧‧‧鞋底本體
11‧‧‧鞋底本體底面
12‧‧‧足底壓力軌跡線
13‧‧‧支撐止滑區塊
131‧‧‧連通溝槽
132‧‧‧A字型類三角的幾何顆粒
圖1為人體步態足部壓力力學分佈圖。 圖2為本新型較佳實施例底面示意圖。

Claims (5)

  1. 一種模擬足部力學之鞋底結構,其包含: 一鞋底本體,該鞋底本體包含一鞋底本體底面; 一足底壓力軌跡線縱向延伸並凹設或凸設於該鞋底本體底面之表面;以及 數個支撐止滑區塊,其在該足底壓力軌跡線左右橫向延伸之位置設置於該鞋底本體底面之表面。
  2. 如申請專利範圍第1項之模擬足部力學之鞋底結構,該支撐止滑區塊包含數條與該足底壓力軌跡線垂直之直線凸起紋路。
  3. 如申請專利範圍第1項之模擬足部力學之鞋底結構,該支撐止滑區塊包含數個A字型類三角、四角型或菱形的幾何凸塊。
  4. 如申請專利範圍第1項之模擬足部力學之鞋底結構,不同的該支撐止滑區塊具有不同形狀或尺寸大小的凸凹紋路設計。
  5. 如申請專利範圍第3項之模擬足部力學之鞋底結構,數個該A字型類三角的幾何凸塊排列形成的連通溝槽。
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