TWM568066U - Manicure device with light absorbing chamber - Google Patents

Manicure device with light absorbing chamber Download PDF

Info

Publication number
TWM568066U
TWM568066U TW107205126U TW107205126U TWM568066U TW M568066 U TWM568066 U TW M568066U TW 107205126 U TW107205126 U TW 107205126U TW 107205126 U TW107205126 U TW 107205126U TW M568066 U TWM568066 U TW M568066U
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
light absorbing
lower cover
nail
upper cover
layer
Prior art date
Application number
TW107205126U
Other languages
English (en)
Inventor
鄭國章
Original Assignee
鄭國章
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 鄭國章 filed Critical 鄭國章
Priority to TW107205126U priority Critical patent/TWM568066U/zh
Priority to US16/022,646 priority patent/US10750837B2/en
Publication of TWM568066U publication Critical patent/TWM568066U/zh

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A45HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45DHAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D29/00Manicuring or pedicuring implements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • B01J19/123Ultraviolet light
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A45HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45DHAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D2200/00Details not otherwise provided for in A45D
    • A45D2200/20Additional enhancing means
    • A45D2200/205Radiation, e.g. UV, infrared
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A45HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45DHAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D29/00Manicuring or pedicuring implements
    • A45D29/22Finger-supports
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0873Materials to be treated
    • B01J2219/0877Liquid
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/12Processes employing electromagnetic waves
    • B01J2219/1203Incoherent waves

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)

Abstract

本創作係提供一種具有光吸收腔室的美甲裝置,包括:一下蓋、至少一紫外光發光二極體模組、一上蓋、至少一充電式電池、一控制模組以及一底盤。所述下蓋係包括封閉的一壁面以及位於其一側的一開口,所述開口與壁面之間構成一腔室。所述上蓋係可拆卸地固定於下蓋上並且覆蓋所述下蓋,上蓋的一側具有通往腔室的一上蓋開口,且上蓋具有作為一隱藏式把手的一凹部。控制模組係設置於上蓋,用以控制紫外光發光二極體模組的啟動與否,並且可以顯示美甲裝置的運作資訊。其中,底盤以及下蓋位於腔室中的各個表面上分別設置有一光吸收層,所述的光吸收層係完全吸收紫外光發光二極體燈發出之光線。

Description

具有光吸收腔室的美甲裝置
本創作係關於一種美甲裝置,特別係關於一種利用紫外光發光二極體對人體的手指甲或腳趾甲上的液態膠進行固化,並且內部腔室表面具有光吸收特性的美甲裝置。
在藝術指甲的領域中,使用UV光源來照射塗布於手指甲或腳趾甲上之UV液態膠已為通用的技術。例如仿間可見一種指(趾)甲專用之UV固化裝置,其外觀概呈倒U型,手指頭可平放於缺口處,烘照指(趾)甲;亦可手握該固化裝置並將固化裝置旋轉180度,使光源對著腳指頭進行腳趾甲照射。此種固化裝置的缺點在於,照射腳趾甲時,需手持固化裝置,並保持對準腳趾甲照射的姿勢,經一段時間後,身體會感到痠痛及疲勞。
另一種習知的指(趾)甲專用的固化裝置,也是最常見的一種,是在一機殼內包覆有紫外光發光二極體的光源,機殼一端設置可供手指伸入的一開口,藉此讓使用者將手指伸入該開口進行指(趾)甲照射。由於使用者的肉眼無法看到紫外光發光二極體光源照射的位置處,在使用者將手指或腳趾放進機器中後,往往無法使其指(趾)甲對準光源,致使光源對指(趾)甲的照射固化效率無法達到最佳化;此外,這種裝置在使用時,UV光更會直接或是經由反射而接觸到使用者的皮膚或眼睛,進而造成使用者的 不適或傷害。
基於上述理由,本創作的目的在於提供一種具有光吸收腔室的美甲裝置,其腔室內部的表面係經過黑體塗裝的表面處理,可以完全吸收紫外光發光二極體燈所發出的紫外光,進而避免紫外光經由反射而接觸到人體的皮膚或眼睛的情形,並且大幅增進美甲裝置使用時的舒適性。
為達成前述目的,本創作係提供一種具有光吸收腔室的美甲裝置,包括:一下蓋、至少一紫外光發光二極體模組、一上蓋、至少一充電式電池、一控制模組以及一底盤。所述下蓋係包括封閉的一壁面以及位於其一側的一開口,所述開口與壁面之間構成一腔室。紫外光發光二極體模組係設置於下蓋上,並且在啟動時以一紫外光發光二極體燈照射腔室。所述上蓋係可拆卸地固定於下蓋上並且覆蓋所述下蓋,上蓋的一側具有通往腔室的一上蓋開口,且上蓋具有作為一隱藏式把手的一凹部。充電式電池係固定於下蓋上並且係為美甲裝置提供電力。控制模組係設置於上蓋。控制模組包括至少一控制鈕以及一顯示器,其中,控制鈕係用以控制紫外光發光二極體模組的啟動與否以及啟動時間,而顯示器係顯示美甲裝置的運作資訊。所述底盤係透過複數個腳墊可拆卸地與下蓋固定,底盤上設置有至少一指部定位結構,且指部定位結構係位於腔室中。其中,底盤以及下蓋位於腔室中的各個表面上分別設置有一光吸收層,所述的光吸收層係完全吸收紫外光發光二極體燈發出之光線。
根據本創作的一實施例,所述的光吸收層係黑體塗裝之表面處理所形成的結構層,且光吸收層為電著層、陽極處理層、粉體烤漆層及 高溫/低溫的液體烤漆層的其中之一。此外,在某些實施例中,光吸收層可以由奈米散熱塗料所製成。光吸收層可以吸收波長介於350nm~450nm之間的紫外光。再者,在某些實施例中,光吸收層上可以進一步形成有一光觸媒層。
根據本創作的一實施例,該等腳墊中的每一者為一矽膠軟墊,且該等矽膠軟墊係透過卡合的方式將底盤與下蓋可拆卸地結合。此外,下蓋的底面靠近於開口的兩端分別設置有可收折的一增高腳架。當底盤與下蓋分離時,增高腳架可以展開並切換至站立模式,藉此將美甲裝置的開口側以一角度撐起。
根據本創作的一實施例,指部定位結構為呈弧狀排列的複數個突部,藉此讓使用者的手指或腳趾更容易於腔室中定位。
根據本創作的一實施例,美甲裝置進一步包括設置於下蓋上的至少一散熱器。
根據本創作的一實施例,具有光吸收腔室的美甲裝置進一步包括設置於上蓋的側邊的一充電埠,其中,充電埠係與充電式電池電性連接,藉以透過外部電源為充電式電池充電。
100‧‧‧美甲裝置
10‧‧‧上蓋
101‧‧‧上蓋開口
102‧‧‧隱藏式把手
20‧‧‧下蓋
201‧‧‧開口
202‧‧‧壁面
203‧‧‧腔室
21‧‧‧紫外光發光二極體模組
22‧‧‧充電式電池
221‧‧‧充電埠
23‧‧‧散熱器
24‧‧‧增高腳架
30‧‧‧底盤
31‧‧‧指部定位結構
32‧‧‧腳墊
321‧‧‧卡合部
40‧‧‧控制模組
41‧‧‧顯示器
42‧‧‧控制鈕
43‧‧‧控制電路板
本領域中具有通常知識者在參照附圖閱讀下方的詳細說明後,可以對本發明的各種態樣以及其具體的特徵與優點有更良好的了解,其中,該些附圖包括:圖1A為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的立體分解圖;圖1B為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的另一角度的立體分 解圖;圖2為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的立體圖;圖3為顯示根據本創作的較佳實施例的腳墊的卡合方式的示意圖;圖4為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的增高腳架撐起時的示意圖;圖5為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的俯視圖。
以下配合圖式及元件符號對本創作的實施方式做更詳細的說明,俾使熟習該項技藝者在研讀本說明書後能據以實施。
圖1A為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的立體分解圖。圖1B為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的另一角度的立體分解圖。圖2為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的立體圖。如圖1A、圖1B以及圖2所示,本創作所提供之具有光吸收腔室的美甲裝置100係包括:一上蓋10、一下蓋20及一底盤30。上蓋10係可拆卸地固定於下蓋20上,而底盤30則是透過複數個腳墊32可拆卸地與下蓋20固定。以下,將針對美甲裝置100的各個元件進行詳細說明。
上蓋10係可拆卸地固定於下蓋20上並且將下蓋20覆蓋。上蓋10的一側具有一上蓋開口101。上蓋10的上側設置有由凹部所形成的一隱藏式把手102,使用者可以透過隱藏式把手102握持或提取美甲裝置100。此外,上蓋10的上側設置有一控制模組40,用於控制美甲裝置100的運作。控制模組40的組成與功能將會在下文中詳細說明。
下蓋20包括位於其一側的一開口201以及封閉的一壁面 202,如圖1A所示,開口201與壁面202之間係構成一腔室203。除了構成美甲裝置100的腔室203以外,下蓋20可以用於固定美甲裝置100中的各個元件。如圖1A~圖1B所示,本創作的美甲裝置100中進一步包括了設置於下蓋20上的複數組紫外光發光二極體模組21、至少一個充電式電池22以及一散熱器23。
紫外光發光二極體模組21係分別固定於下蓋20的側表面以及上表面上,並且在啟動時分別以紫外光發光二極體模組21中的紫外光發光二極體燈照射腔室203。在本創作的較佳實施例中,美甲裝置100係包括兩個充電式電池22,其係固定於下蓋20上,用於為美甲裝置100中的元件提供電力。如圖1B所示,美甲裝置100的後側設置有與充電式電池22電性連接的一充電埠221。如此一來,使用者可以將充電埠221與外部電源連接來為充電式電池22進行充電。再者,美甲裝置100的下蓋20上更設置有散熱器23,藉此加速散發紫外光發光二極體模組21啟動時所產生的熱能。在本創作的較佳實施例中,散熱器23為一風扇,但其並不受限於此,散熱器23也可以是如散熱鰭片等其他具有散熱功能的習知散熱元件。
如圖1A與圖1B所示,底盤30上設置有複數個指部定位結構31。該些指部定位結構31係位於腔室203之中,以供使用者在手指或腳趾置入腔室203中時,可以透過觸摸的方式直接將手指或腳趾置放在紫外光發光二極體燈照射的位置,藉此增進使用者在使用美甲裝置時的效率,並且也可以避免使用者透過眼睛直接與紫外光發光二極體燈的光源接觸,減少紫外光對使用者眼睛的傷害。在本創作的較佳實施例中,指部定位結 構31是成弧狀排列的複數個橢圓形突部,但其形態並不受限於此。
上述的底盤30係透過複數個腳墊32可拆卸地與下蓋20固定。圖3為顯示根據本創作的較佳實施例的腳墊的卡合方式的示意圖。如圖3所示,在本創作的較佳實施例中,該等腳墊32中的每一者為一矽膠軟墊,且該等矽膠軟墊係透過卡合的方式將底盤30與下蓋20可拆卸地結合。更進一步來說,矽膠軟墊可以具有呈倒鉤狀的一卡合部321。由於矽膠軟墊本身具有一定彈性的特性,在將底盤30與下蓋20結合時,可以直接對矽膠軟墊施加力量以使卡合部321通過底盤30與下蓋20上對應的孔洞,藉此將底盤30與下蓋20相互固定。如此一來,使用者可以輕易地根據需求將底盤30拆除或更換。值得一提的是,將底盤30與下蓋20結合的方式並不受限於此,舉例來說,也可以透過螺絲等可拆卸的元件配合腳墊32將下蓋20與底盤30固定。
另一方面,下蓋20的底面靠近於開口201的兩端分別設置有可收折的一增高腳架24。增高腳架24在美甲裝置100正常運作時係被收折在與下蓋20貼平的收折位置。當使用者需要使用增高腳架24時,需要先將底盤30與下蓋20分離開來,再將增高腳架24展開至站立模式,藉此可以將美甲裝置100的開口側以一角度撐起,如圖4所示。
圖5為顯示根據本創作的較佳實施例的美甲裝置的俯視圖。請同時參照圖1A~圖2以及圖5,設置於上蓋10的控制模組40係進一步包括一顯示器41以及複數個控制鈕42。控制模組40係與設置在下蓋20上的一控制電路板43電性連接。使用者可以透過控制鈕42啟動美甲裝置100,更具體來說,啟動紫外光發光二極體模組21以透過紫外光發光二極 體燈照射腔室203。在本創作的較佳實施例中,控制模組40係包括複數個控制鈕42,該些控制鈕42分別可以以不同的時間長度啟動美甲裝置100。舉例來說,四個控制鈕42分別可以使美甲裝置以10秒、30秒、60秒及90秒的時間長度啟動。然而,按鈕的功能並不受限於此,設計者可以根據需求對其進行調整,例如,將其設定為不同的時間長度,或者將其調整為可以設定任意的啟動時間。此外,顯示器41可以顯示關於美甲裝置的運作資訊,例如,美甲裝置的啟動時間、電池的剩餘電量等資訊。
在本創作的較佳實施例中,腔室203中的各個表面上,即,下蓋20構成腔室203的各個表面以及底盤30位於腔室203中的表面上分別形成有一光吸收層(未標示於圖中)。所述的光吸收層係由黑體塗裝之表面處理所形成的結構層。根據本創作的較佳實施例,光吸收層可以是電著層、陽極處理層、粉體烤漆層及高溫/低溫的液體烤漆層的其中之一,並且可以吸收波長介於350nm~450nm之間的紫外光。
透過黑體塗裝表面處理所形成的光吸收層,腔室203中的各個表面可以完全吸收紫外光發光二極體燈所發出的紫外光,並且使得腔室203完全不反射任何的紫外光。如此一來,本創作所提供的美甲裝置100可以達到完全阻擋紫外光因反射而刺激到人的皮膚及眼睛之機率,對使用者而言不只大大地減少了紫外光對皮膚及眼睛的傷害,更大幅提升了美甲裝置使用過程的舒適性。在某些實施例中,光吸收層可以由奈米散熱塗料所製成,藉此使得腔室203的表面同時達到吸收紫外光以及散熱的功能。
在某些實施例中,光吸收層上可以進一步塗佈由二氧化鈦所形成的一光觸媒層(未顯示於圖中)。由於光觸媒層具有能夠吸收紫外線產 生光觸媒作用的特性,其透過氧化作用可以達到殺菌、除臭以及防霉等功效。
綜上所述,本創作所提供的美甲裝置100透過腔室中各個表面上由黑體塗裝之表面處理所形成的光吸收層,可以達到完全阻擋紫外光因反射而刺激人眼或皮膚的機率,進而提升裝置使用的舒適性以及安全性。此外,透過矽膠軟墊所構成的腳墊32,使用者可以輕易地將底盤30與下蓋20之間拆卸開來,增進使用時的方便性。再者,藉由充電式電池22以及隱藏式手把102的設計,使用者可以輕易地提取美甲裝置100,尤其是在對腳趾進行照射時尤其方便,大大地提昇了裝置的便利性。
由以上實施例可知,本創作所提供之美甲裝置確具產業上之利用價值,惟以上之敘述僅為本創作之較佳實施例說明,凡精於此項技藝者可依據上述之說明而作其它種種之改良,惟這些改變仍屬於本創作之精神及以下所界定之專利範圍中。

Claims (10)

  1. 一種具有光吸收腔室的美甲裝置,包括: 一下蓋,該下蓋包括封閉的一壁面以及位於其一側的一開口,該開口與該壁面之間構成一腔室; 至少一紫外光發光二極體模組,設置於該下蓋上,並且在啟動時以一紫外光發光二極體燈照射該腔室; 一上蓋,可拆卸地固定於該下蓋上並且覆蓋該下蓋,該上蓋的一側具有通往該腔室的一上蓋開口,且該上蓋具有作為一隱藏式把手的一凹部; 至少一充電式電池,固定於該下蓋上,用於為該美甲裝置提供電力; 一控制模組,設置於該上蓋,該控制模組包括至少一控制鈕以及一顯示器,其中,該控制鈕係用以控制該紫外光發光二極體模組的啟動以及啟動時間,該顯示器係顯示該美甲裝置的運作資訊;以及 一底盤,透過複數個腳墊可拆卸地與該下蓋固定,該底盤上設置有至少一指部定位結構,且該指部定位結構係位於該腔室中; 其中,該底盤以及該下蓋位於該腔室中的各個表面上分別設置一光吸收層,該光吸收層係完全吸收該紫外光發光二極體燈發出之光線。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置,其中,該光吸收層係黑體塗裝之表面處理所形成的結構層,且該光吸收層為電著層、陽極處理層、粉體烤漆層及高溫/低溫的液體烤漆層的其中之一。
  3. 根據申請專利範圍第1項或第2項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置,其中,該光吸收層係吸收波長介於350nm~450nm之間的紫外光。
  4. 根據申請專利範圍第1項或第2項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置,其中,該光吸收層係由奈米散熱塗料所製成。
  5. 根據申請專利範圍第1項或第2項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置,其中,該光吸收層上係形成有一光觸媒層。
  6. 根據申請專利範圍第1項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置,其中,該等腳墊中的每一者為一矽膠軟墊,且該等矽膠軟墊係透過卡合的方式將該底盤與該下蓋可拆卸地結合。
  7. 根據申請專利範圍第1項或第6項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置,該下蓋的底面靠近於該開口的兩端分別設置有可收折的一增高腳架。
  8. 根據申請專利範圍第1項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置,其中,該指部定位結構為呈弧狀排列的複數個突部。
  9. 根據申請專利範圍第1項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置進一步包括設置於該下蓋上的至少一散熱器。
  10. 根據申請專利範圍第1項所述之具有光吸收腔室的美甲裝置進一步包括設置於該上蓋的側邊的一充電埠,其中,該充電埠係與該充電式電池電性連接,藉以透過外部電源為該充電式電池充電。
TW107205126U 2018-04-19 2018-04-19 Manicure device with light absorbing chamber TWM568066U (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW107205126U TWM568066U (zh) 2018-04-19 2018-04-19 Manicure device with light absorbing chamber
US16/022,646 US10750837B2 (en) 2018-04-19 2018-06-28 Nail polish curing device with a light absorbing chamber

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW107205126U TWM568066U (zh) 2018-04-19 2018-04-19 Manicure device with light absorbing chamber

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWM568066U true TWM568066U (zh) 2018-10-11

Family

ID=64871180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107205126U TWM568066U (zh) 2018-04-19 2018-04-19 Manicure device with light absorbing chamber

Country Status (2)

Country Link
US (1) US10750837B2 (zh)
TW (1) TWM568066U (zh)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011014149B4 (de) * 2011-03-16 2013-04-04 Wilde Cosmetics Gmbh Lichthärtender Nagellack
US8242475B1 (en) * 2011-08-16 2012-08-14 Cosmex Co., Ltd. UV liquid gel solidifying device for nail art
JP6364796B2 (ja) * 2014-02-06 2018-08-01 カシオ計算機株式会社 描画装置及び描画装置の描画方法
US20170006993A1 (en) * 2014-02-11 2017-01-12 Coty Inc. Nail station
US10357094B1 (en) * 2014-09-05 2019-07-23 LeChat Nail lamp with light emitting diodes powered by power cord or rechargeable battery pack for cordless operation

Also Published As

Publication number Publication date
US20190320775A1 (en) 2019-10-24
US10750837B2 (en) 2020-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11821685B2 (en) UV LED curing apparatus with improved housing and switch controller
TWI702065B (zh) 多功能護膚美容儀
US10016043B1 (en) Detachable beauty gel curing device
US6762425B1 (en) Portable device for curing gel nail preparations
WO2014171441A1 (ja) ネイル樹脂用光照射装置
KR101803868B1 (ko) 핸드용 피부 관리 장치
CN109549831B (zh) 具有美容配件的多功能美容仪
JP2008543417A (ja) 電磁波による人間の体部手当て用装置
JP5036015B1 (ja) ネイル用led光照射装置
KR102118572B1 (ko) 살균 및 마사지 기능을 갖는 화장용 퍼프 장치 및 이를 포함하는 화장품 케이스
TWM594925U (zh) 可調式光波照射裝置
TWM531175U (zh) 光固裝置
TWM568066U (zh) Manicure device with light absorbing chamber
CN208096350U (zh) 具有光吸收腔室的美甲装置
TW201204425A (en) Face mask having light emitting elements
TWM483061U (zh) 手持式光療儀
TWM632759U (zh) 具有磁吸功能的直立式美甲裝置
JP3119513U (ja) 携帯式光子照射装置
JP3215498U (ja) 取り外し可能な美容用硬化装置
CN209770842U (zh) 具有美容配件的多功能美容仪
JP2005052462A (ja) 光照射器
TWM543608U (zh) 可拆式美容固化裝置
US20230232957A1 (en) Nail UV/LED Products Curing Lamp
US20030200978A1 (en) Nail dryer
TWM281647U (en) Hand-held photon irradiation device

Legal Events

Date Code Title Description
MM4K Annulment or lapse of a utility model due to non-payment of fees