TWM516840U - 去氨增氧裝置及其應用 - Google Patents

Description

去氨增氧裝置及其應用

本創作係一種去氨增氧裝置，尤指一種能抑制水中藻類生長，增加魚類食量並調整水中PH值之去氨增氧裝置及其應用。

按，一般飼養魚類的水池中倘若水中藻類過分滋長不僅會導致水中氧氣含量降低，嚴重者則會讓水池內產生優養化的狀態，使原本健康的水池逐漸成為有毒的水池。同時水池內的魚類則會因含氧量降低而影響魚類的活動力以及食慾，最後則導致魚群暴斃死亡。

為改善此問題，現在不僅是魚塭或是一般的飼養魚缸皆會利用打氣的設備將空氣打入水中，以增加或維持水中的含氧量，不僅能抑制水中藻類的滋長，同時讓保持魚類的活動力以及食慾。以飼養魚缸為例，此種打氣設備僅單純的利用馬達透過輸送管將氣體打入水中，此種打氣設備雖可增加水中含氧量，但整體效果十分有限，其原因在於氣體被打入水中後並無法有效地擴散到四周圍，被打入的氣體與水結合後，因空氣與水的接觸面積少因此實際提升水中含氧量的效果則不如預期。

以下在實施方式中詳細敘述本創作之詳細特徵以及優點，其內容足以使任何熟習相關技藝者瞭解本創作之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式，任何熟習相關技藝者可 輕易地理解本創作相關之目的及優點。

本創作之主要目的在於：應用於水池時，去氨增氧裝置結合泵浦同時利用大自然的空氣達到讓水活化之功效，符合節能減碳之目標。

為達上述目的，本創作係一種去氨增氧裝置及其應用，其包括：一容置槽，其形成一容置空間，並於頂部設置一與該容置空間相通之進氣口；一第一分水盤，其形成複數第一分流孔並裝設於該容置空間內且位於該容置槽上方位置，該第一分水盤將該容置空間界定出一入水空間；一第二分水盤，其形成複數第二分流孔並裝設於該容置空間內且位於該容置槽下方位置，該第二分水盤將該容置空間界定出一集水空間；一輸水管件，其具備一進水口及一出水口，該出水口設置於該容置槽頂部且連通該入水空間；及一排水管件，其裝設於該容置槽底部且連通該集水空間。

根據本創作之一實施例，更包括一連接該輸水管件、一第一進水管件及一第二進水管件之三通閥，該第一進水管件另連接至該容置槽且連通該集水空間。

根據本創作之一實施例，更包括一泵浦，其連接該第二進水管件。

根據本創作之一實施例，更包括一裝設於該輸水管件之開關控制閥。

根據本創作之一實施例，更包括一裝設於該第二進水管件之逆止閥。

結合上述目的之一種去氨增氧裝置及其應用，其包括：一水 池，其界定一儲水區、複數鄰近該儲水區之沉澱區及一連接該沉澱區之清水區，其中該沉澱區與該清水區相連通且各於底部設置一排汙管件；一容置槽，其形成一容置空間，並於頂部設置一與該容置空間相通之進氣口；一第一分水盤，其形成複數第一分流孔並裝設於該容置空間內且位於該容置槽上方位置，該第一分水盤將該容置空間界定出一入水空間；一第二分水盤，其形成複數第二分流孔並裝設於該容置空間內且位於該容置槽下方位置，該第一分水盤將該容置空間界定出一集水空間；一輸水管件，其具備一進水口及一出水口，該出水口設置於該容置槽頂部且連通該入水空間，該進水口則設置於該清水區；及一排水管件，其一端裝設於該容置槽底部且連通該集水空間，另一端則位於該儲水區。

根據本創作之一實施例，其中該水池底部係形成複數排水孔。

根據本創作之一實施例，更包括一連接該輸水管件、一第一進水管件及一第二進水管件之三通閥，該第一進水管件另連接至該容置槽且連通該集水空間。

根據本創作之一實施例，更包括一泵浦，其連接該第二進水管件。

根據本創作之一實施例，更包括一裝設於該輸水管件之開關控制閥。

根據本創作之一實施例，更包括一裝設於該第二進水管件之逆止閥。

根據本創作之一實施例，其中該排水管件位於該集水空間界 定為入口端，而該排水管件係形成一彎折角度使該入口端朝向該容置槽內壁。

其中該入口端係遠離該容置槽底部。其中該入口端係遠離該容置槽底部。

本創作之次要目的在於：能抑制水中藻類生長，增加魚類食量並調整水中PH值。

本創作之另一目的在於：先將水打散成水滴狀以增加與空氣接觸的面積再將水集中，藉此能讓水包含了充分的氧氣，同時無需過多的打氣設備即可達到最佳的效果，有效達到節能減碳之目的。

1‧‧‧去氨增氧裝置

10‧‧‧容置槽

100‧‧‧容置空間

102‧‧‧進氣口

104‧‧‧入水空間

106‧‧‧集水空間

11‧‧‧第一分水盤

110‧‧‧第一分流孔

12‧‧‧第二分水盤

120‧‧‧第二分流孔

13‧‧‧輸水管件

130‧‧‧進水口

132‧‧‧出水口

134‧‧‧開關控制閥

14‧‧‧排水管件

140‧‧‧入口端

2‧‧‧泵浦

3‧‧‧水池

30‧‧‧儲水區

32‧‧‧沉澱區

34‧‧‧清水區

36‧‧‧排汙管件

38‧‧‧水孔

4‧‧‧三通閥

5‧‧‧進水管件

6‧‧‧第二進水管件

60‧‧‧逆止閥

圖1 為本創作去氨增氧裝置之示意圖。

圖2 為本創作去氨增氧裝置應用於水池之示意圖。

圖3 為本創作進行輸水並增氧之使用狀態示意圖。

圖4 為本創作去氨增氧裝置進行清洗之使用狀態示意圖。

以下藉由具體實施例說明本創作之實施方式，熟悉此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本創作之其他優點及功效。

本說明書所附圖式所繪示之結構、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示之內容，以供熟悉此技藝之人士之瞭解與閱讀，並非用以限定本創作可實施之限定條件，故不具技術上之實質意義，任何結構之修飾、比例關係之改變或大小之調整，在不影響本創作所能產生之功效及所能達成之目的下，均應仍落在本創作所揭示之技術內容得能涵蓋之範圍 內。同時，本說明書中所引用之如“一”、“兩”、“上”等之用語，亦僅為便於敘述之明瞭，而非用以限定本創作可實施之範圍，其相對關係之改變或調整，在無實質變更技術內容下，當亦視為本創作可實施之範疇。

請參閱圖1及圖2所示，為本創作去氨增氧裝置之示意圖及去氨增氧裝置應用於水池之示意圖。本創作係一種去氨增氧裝置及其應用，去氨增氧裝置1主要由容置槽10、第一分水盤11、第二分水盤12、輸水管件13及排水管件14組成，容置槽10形成一容置空間100，並於頂部設置一與該容置空間100相通之進氣口102，第一分水盤11形成複數第一分流孔110並裝設於該容置空間100內且位於該容置槽10上方位置，該第一分水盤11將該容置空間100界定出一入水空間104，第二分水盤12形成複數第二分流孔120並裝設於該容置空間100內且位於該容置槽10下方位置，該第二分水盤12將該容置空間100界定出一集水空間106。

至於輸水管件13則具備一進水口130及一出水口132，該出水口132設置於該容置槽10頂部且連通該入水空間104，另外的排水管件14則裝設於容置槽10底部且連通該集水空間106，其中排水管件14位於該集水空間106界定為入口端140，而該排水管件14係形成一彎折角度使該入口端140朝向該容置槽10內壁，另外入口端140係遠離該容置槽10底部。由於入口端140係遠離該容置槽10底部，所以進水時水面會由下往上上升，當上升至入口端140後，水再順著排水管件14排出，值得一提的是，彎折角度最佳的角度為90°，藉此能防止輸出的水回流。

一併參考圖3所示，為本創作進行輸水並增氧之使用狀態示意圖。圖中箭頭方向為水流方向。利用輸水管件13將水由進水口130引入後 再透過出水口132排到入水空間104，此時水會透過第一分水盤11上的第一分流孔110將水打散成水滴並流入容置空間100，此時進氣口102則是空氣進入的通道，因此容置槽10外的空氣則會與容置空間100內相通，所以每一顆水滴在尚未匯集在一起之前，其表面則會佈滿氧氣分子，當水滴落到第二分水盤12上方處時則開始第一次匯集，匯集後的水則會透過第二分水盤12上的第二分流孔120做第二次的分流而再次形成水滴，因此可再次與空氣結合，最後的水滴則會在集水空間106進行最後的匯集，充滿空氣的水則透過入口端140經由排水管件14排出。因此去氨增氧裝置1應用於水池時則可利用去氨增氧裝置1將以高含氧量的水注入水池內。請參考圖2，當去氨增氧裝置1結合於水池應用時，進水口130可加裝泵浦2，利用泵浦2將水透過輸水管件13注往去氨增氧裝置1的容置槽10內。水池3主要界定有一儲水區30、複數鄰近該儲水區30之沉澱區32及一連接該沉澱區32之清水區34，其中該沉澱區32與該清水區34相連通且各於底部設置一排汙管件36，因此欲使用外部的水注入到進入儲水區30之前，必須先經由各進行初步的沉澱，讓水中較大較重的雜質先行過濾，最後剩乾淨清水則會排至清水區34，運行一段時間後可利用沉澱區32及清水區34底部的排汙管件36將累積的雜質排出以維持沉澱區32與清水區34的蓄水量，以避免蓄水量被雜質的體積佔據而降低蓄水量。此時泵浦2可抽取清水區34中的水透過輸水管件13注往去氨增氧裝置1的容置槽10內。水透過圖3中的方式進行增氧，其中排水管件14一端裝設於該容置槽10底部且連通該集水空間106，另一端則位於該儲水區30，所以將增氧後的水透過排水管件14注入至儲水區30，利用大自然的空氣達到讓水活化之功效，符合節能減碳之目標，同時可有效抑制水中藻 類生長，增加魚類食量並調整水中PH值。

另外，在水池3底部係形成複數排水孔38，若欲進行水池3大規模的清潔或換水時，則可透過排水孔38將原有的水先行排出而後方可進行清潔或更換新的且充滿氧氣的水。

再者，值得一提的是，排水管件14出水口最佳的擺設位置是在水池水位以下10公分處，而此位置則可保持最佳的排水流速，最重要的是能有效防止因水池中的水壓過大導致由排水管件14逆流至容置槽10內。

上述中的去氨增氧裝置1僅以水的輸送以及增氧過程作為敘述，另外在圖4中則為本創作去氨增氧裝置進行清洗之使用狀態示意圖，一併參考圖3。主要在輸水管件13的進水口130處加裝三通閥4，而三通閥4另外再加裝第一進水管件5及第二進水管件6，第一進水管件5另連接至該容置槽10且連通該集水空間106，為可順利抽水因此第二進水管件6連接有泵浦2。另外輸水管件13上加裝有開關控制閥134，以及在第二進水管件6上裝設有逆止閥60。在進行輸水時，必須先將開關控制閥134調整到常開狀態，逆止閥60則調整到常閉狀態，此時輸入的水則會直接由第二進水管件6進入通過輸水管件13後直接進入到容置槽10進行增氧。

相反的，若要進行容置槽10或水持的清潔時，則須將開關控制閥134調整到常閉狀態，逆止閥60則調整到常開狀態，此時輸入的水則會藉由三通閥4轉向由第一進水管件5進入到容置槽10的集水空間106，此時則可直接利用排水管件14將大量的水排出到水池以便進行清潔。

經由上述結構可清楚了解，本創作的去氨增氧裝置1主要能夠能抑制水中藻類生長，增加魚類食量並調整水中PH值。應用於水池時， 去氨增氧裝置結合泵浦同時利用大自然的空氣達到讓水活化之功效，符合節能減碳之目標。

上述實施例僅為例示性說明本創作的原理及其功效，而非用於限制本創作。任何熟悉此項技藝的人士均可在不違背本創作的精神及範疇下，對上述實施例進行修改。因此本創作的權利保護範圍，應如後述申請專利範圍所列。

1‧‧‧去氨增氧裝置

13‧‧‧輸水管件

14‧‧‧排水管件

2‧‧‧泵浦

3‧‧‧水池

30‧‧‧儲水區

32‧‧‧沉澱區

34‧‧‧清水區

36‧‧‧排汙管件

38‧‧‧水孔

Claims (9)

1. 一種去氨增氧裝置及其應用，其包括：一容置槽，其形成一容置空間，並於頂部設置一與該容置空間相通之進氣口；一第一分水盤，其形成複數第一分流孔並裝設於該容置空間內且位於該容置槽上方位置，該第一分水盤將該容置空間界定出一入水空間；一第二分水盤，其形成複數第二分流孔並裝設於該容置空間內且位於該容置槽下方位置，該第二分水盤將該容置空間界定出一集水空間；一輸水管件，其具備一進水口及一出水口，該出水口設置於該容置槽頂部且連通該入水空間；及一排水管件，其裝設於該容置槽底部且連通該集水空間。
2. 如申請專利範圍第1項所述之去氨增氧裝置及其應用，更包括一連接該輸水管件、一第一進水管件及一第二進水管件之三通閥，該第一進水管件另連接至該容置槽且連通該集水空間，其中該輸水管件係裝設一開關控制閥。
3. 如申請專利範圍第2項所述之去氨增氧裝置及其應用，更包括一泵浦，其連接該第二進水管件，其中該第二進水管件設置一逆止閥。
4. 一種去氨增氧裝置及其應用，其包括：一水池，其界定一儲水區、複數鄰近該儲水區之沉澱區及一連接該沉澱區之清水區，其中該沉澱區與該清水區相連通且各於底部設置一排汙管件；一容置槽，其形成一容置空間，並於頂部設置一與該容置空間相通之進氣口；一第一分水盤，其形成複數第一分流孔並裝設於該容置空間內且位於該 容置槽上方位置，該第一分水盤將該容置空間界定出一入水空間；一第二分水盤，其形成複數第二分流孔並裝設於該容置空間內且位於該容置槽下方位置，該第一分水盤將該容置空間界定出一集水空間；一輸水管件，其具備一進水口及一出水口，該出水口設置於該容置槽頂部且連通該入水空間，該進水口則設置於該清水區；及一排水管件，其一端裝設於該容置槽底部且連通該集水空間，另一端則位於該儲水區。
5. 如申請專利範圍第4項所述之去氨增氧裝置及其應用，其中該水池底部係形成複數排水孔。
6. 如申請專利範圍第4項所述之去氨增氧裝置及其應用，更包括一連接該輸水管件、一第一進水管件及一第二進水管件之三通閥，該第一進水管件另連接至該容置槽且連通該集水空間，其中該輸水管件係裝設一開關控制閥。
7. 如申請專利範圍第6項所述之去氨增氧裝置及其應用，更包括一泵浦，其連接該第二進水管件，其中該第二進水管件設置一逆止閥。
8. 如申請專利範圍第4項所述之去氨增氧裝置及其應用，其中該排水管件位於該集水空間界定為入口端，而該排水管件係形成一彎折角度使該入口端朝向該容置槽內壁。
9. 如申請專利範圍第8項所述之去氨增氧裝置及其應用，其中該入口端係遠離該容置槽底部。