TWM484656U - 氣控儀器之自動排水裝置 - Google Patents

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TWM484656U
TWM484656U TW103206845U TW103206845U TWM484656U TW M484656 U TWM484656 U TW M484656U TW 103206845 U TW103206845 U TW 103206845U TW 103206845 U TW103206845 U TW 103206845U TW M484656 U TWM484656 U TW M484656U
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TW103206845U
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Zhu-Ting Yang
Shang-Qing Yang
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Zhu-Ting Yang
Shang-Qing Yang
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    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D9/00—Level control, e.g. controlling quantity of material stored in vessel
    • G05D9/12—Level control, e.g. controlling quantity of material stored in vessel characterised by the use of electric means
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D22/00—Control of humidity
    • G05D22/02—Control of humidity characterised by the use of electric means

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Description

氣控儀器之自動排水裝置
本創作係有關於一種氣控儀器之自動排水裝置設計，尤指當感應機構偵測出積水腔內所通過之氣體含有水分時，可令氣控儀器之自動排水裝置連動之電磁閥啟動，使水分經由底座排氣孔排出，進而達到自動偵測、準確排水、有效阻絕水中雜質，並得以維持氣控儀器精準度之功效者。
按，一般之氣控儀器(如空壓機或所需之相關設備)於作動時，乃吸取氣控儀器周圍之氣體進行壓縮，而當氣控儀器於每次吸取氣體進出時，皆會於氣控儀器內凝聚氣體中所含之水分、灰塵或飄浮雜質等；因此，當氣控儀器運作一段時間後，則必須設法將氣控儀器內部之污水與雜塵排出，以避免阻塞氣控儀器，連帶弱化氣動工具之效率。
然，目前一般之清理作法，大多於氣控儀器之儲氣筒設置一排水閥，待使用至預定之時間後，再以人工手動之方式開啟排水閥進行排水之動作，如此不但造成人力資源之無謂浪費，亦容易因人為疏忽而產生排水不確實之缺失。
本創作之主要目的，係在於避免上述習用缺失持續存在，當感應機構偵測出積水腔內所通過之氣體含有水分時，可令氣控儀器之自動排水裝置連動之電磁閥啟動，使水分經由底座排氣孔排出，進而達到自動偵測、準確排水、有效阻絕水中雜質，並得以維持氣控儀器精準度之功效。
為達上述目的，本創作係一種氣控儀器之自動排水裝置，包含一設有積水腔之殼體；一與積水腔對應結合且具有一底座排氣孔之電磁閥；以及一設於殼體內且連動該電磁閥之感應機構。
1‧‧‧殼體
11‧‧‧容置單元
12‧‧‧積水腔
13‧‧‧隔板
14‧‧‧PCB封蓋
15‧‧‧濾網
16‧‧‧濾網清洗蓋
2‧‧‧電磁閥
21‧‧‧底座排氣孔
22‧‧‧線圈外殼
23‧‧‧線圈固定座
24‧‧‧可動鐵芯
241‧‧‧穿孔
25‧‧‧彈性元件
26‧‧‧導磁體
261‧‧‧螺接部
27‧‧‧線圈組
28‧‧‧墊片
3‧‧‧感應機構
31‧‧‧控制單元
32‧‧‧感測單元
33‧‧‧電源連接座
第一圖，係本創作之立體外觀示意圖。
第二圖，係本創作部分之立體分解示意圖。
第三圖，係本創作整體之立體分解示意圖。
第四圖，係本創作於使用狀態之剖面示意圖。
請參閱「第一、二、三以及第四圖」所示，係分別為本創作之立體外觀示意圖、本創作部分之立體分解示意圖、本創作整體之立體分解示意圖以及本創作於使用狀態之剖面示意圖。如圖所示：本創作一種氣控儀器之自動排水裝置，其至少係由一殼體1、一電磁閥2及一感應機構3所構成。
上述該殼體1係設有一容置單元11，該容置單元11之一側係設有一積水腔12，且該容置單元11與積水腔1 2之間係設有一隔板13，並於該容置單元11之另一側係設有PCB封蓋14，而該積水腔12內係設有一濾網15，且該積水腔12之一側係裝有封閉該濾網15之濾網清洗蓋16。
該電磁閥2係與殼體1之積水腔12對應結合，且該電磁閥2係具有一底座排氣孔21，而該電磁閥2係包括有一線圈外殼22、一設於線圈外殼22底部之線圈固定座23、一設於線圈固定座23內之可動鐵芯24、一設於可動鐵芯24內之彈性元件25、一設於線圈固定座23內之導磁體26、一套設於線圈固定座23外側之線圈組27，而所述之底座排氣孔21係設於線圈固定座23上，且該可動鐵芯24底部係設有與底座排氣孔21連通之穿孔241，並於該底座排氣孔21與可動鐵芯24之穿孔241間設有一墊片28，其中該導磁體26係配合一螺接部261與積水腔12連接。
該感應機構3係設於殼體1之容置單元11內且連動該電磁閥2，並利用容置單元11另一側之PCB封蓋14將感應機構3予以封閉，其中該感應機構3係包括有一與電磁閥2所設線圈組27連接之控制單元31、一與控制單元31連接且對應積水腔12位置處之感測單元32、及一與控制單元31連接且對應容置單元11底面之電源連接座33。如是，藉由上述結構組合成一全新氣控儀器之自動排水裝置。
當本創作於使用時，係與氣控儀器及其所需之設備(圖未示)連接，並以電源連接座33透過變壓器(圖未示)與外部電源連接，藉以擷取所需電力供操作時之運用；而當感應機構3之感測單元32偵測出通過積水腔12之氣體內含有水分時，即透過控制單元31啟動電磁閥2之線圈組27，使線圈組27激磁後帶動可動鐵芯24向上移動，並同時壓縮彈性元件25推動導磁體26，進而開啟底座排氣孔21與可動鐵芯24間之墊片28，使水分由穿孔241向底座排氣孔21排出，確實印證感測單元32可針對氣體所含有水分進行自動且靈敏之偵測與感應，並準確將氣體內含有之水分排出。
另，當含有水分之氣體由積水腔12進入時，可利用具超細網目之濾網15過濾氣體內之雜質後，再進行排出水分之動作，如此除了可於排水過程避免雜質淤塞之外，更可有效阻絕汙水與穢物，以維持氣控儀器之精準效能不受影響，而當使用一段時間後，亦可開啟濾網清洗蓋16進行濾網15之清洗或更換。
綜上所述，本創作氣控儀器之自動排水裝置確實有效改進習用缺失，當感應機構偵測出積水腔內所通過之氣體含有水分時，可令氣控儀器之自動排水裝置連動之電磁閥啟動，使水分經由底座排氣孔排出，進而達到自動偵測、準確排水、有效阻絕水中雜質，並得以維持氣控儀器精準度之功效，明 顯使本創作更進步、實用且符合使用者需求，理已具備專利申請之基本要件，爰依法提出新型申請。
惟以上所述者，僅為本創作之較佳實施例，當不得以此限定本創作實施之技術範圍，因此凡參考本創作申請專利範圍與說明書內容所作之簡單等效變化與修飾，皆應仍屬本創作日後取得專利所涵蓋之範圍內，特此一併陳明。
11‧‧‧容置單元
12‧‧‧積水腔
14‧‧‧PCB封蓋
15‧‧‧濾網
16‧‧‧濾網清洗蓋
21‧‧‧底座排氣孔
22‧‧‧線圈外殼
23‧‧‧線圈固定座
24‧‧‧可動鐵芯
241‧‧‧穿孔
25‧‧‧彈性元件
26‧‧‧導磁體
261‧‧‧螺接部
27‧‧‧線圈組
28‧‧‧墊片
3‧‧‧感應機構
31‧‧‧控制單元
32‧‧‧感測單元
33‧‧‧電源連接座

Claims (7)

  1. 一種氣控儀器之自動排水裝置，其包含有：一殼體，係設有一積水腔；一電磁閥，係與殼體之積水腔對應結合，且該電磁閥係具有一底座排氣孔；以及一感應機構，係設於殼體內且連動該電磁閥。
  2. 如申請專利範圍第1項所述氣控儀器之自動排水裝置，其中該殼體係設有一置放感應機構之容置單元，而所述之積水腔係位於容置單元之一側。
  3. 如申請專利範圍第2項所述氣控儀器之自動排水裝置，其中該容置單元與積水腔之間係設有一隔板，且該容置單元之一側係設有封閉感應機構之PCB封蓋。
  4. 如申請專利範圍第2項所述氣控儀器之自動排水裝置，其中該積水腔內係設有一濾網，且該積水腔之一側係裝有封閉該濾網之濾網清洗蓋。
  5. 如申請專利範圍第1項所述氣控儀器之自動排水裝置，其中該電磁閥係包括有一線圈外殼、一設於線圈外殼底部之線圈固定座、一設於線圈固定座內之可動鐵芯、一設於可動鐵芯內之彈性元件、一設於線圈固定座內之導磁體、一套設於線圈固定座外側且連接感應機構之線圈組，而所述之底座排氣孔係設於線圈固定座上，且該可動鐵芯底部係設有與底座排氣孔連通之穿孔，並於該底座排氣孔與可動鐵芯之穿孔間設 有一墊片。
  6. 如申請專利範圍第5項所述氣控儀器之自動排水裝置，其中該導磁體係配合一螺接部與積水腔連接。
  7. 如申請專利範圍第1項所述氣控儀器之自動排水裝置，其中該感應機構係包括有一與電磁閥連接之控制單元、一與控制單元連接且對應積水腔位置處之感測單元、及一與控制單元連接且對應殼體底面之電源連接座。
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