TWM479847U

TWM479847U - 具有防偽雷射雕刻保護膜

Info

Publication number: TWM479847U
Application number: TW103202734U
Authority: TW
Inventors: xin-hong Guo
Original assignee: xin-hong Guo
Priority date: 2014-02-18
Filing date: 2014-02-18
Publication date: 2014-06-11

Description

具有防偽雷射雕刻保護膜

本創作係有關於一種螢幕保護膜，尤其是有關於一種使得行動電子裝置螢幕呈現閃亮新穎之外觀並具有防污及防水之具有防偽雷射雕刻保護膜。

隨著科技日新月異，現代人幾乎和行動電子裝置脫不了關係，目前市場上的行動電子裝置有很多種類，例如：手機、PDA、GPS、電子書、筆記型電腦、MP3、MP4、數位相機‥等，都有設計螢幕甚至還設計成觸控式螢幕，由於長期使用這些行動電子裝置會導致螢幕的漸漸磨損，因此有為此而設計螢幕保護膜產生，現今的螢幕保護膜大都是在螢幕外表面進行加工，其處理方法有很多種，如在行動電子裝置螢幕表面進行貼膜或轉移膜之處理，螢幕經過處理之後，大都具有產品美化、不殘膠、方便重工、基礎防污及基礎防刮等功能；但如何能真正作到讓螢幕保護膜具有防偽品牌識別功能，一般現今保護膜卻是無法在保護膜作有效的防偽功能，如何有效地解決行動電子裝置螢幕之防偽識別等問題，才是最重要之課題。

有鑑於傳統螢幕保護膜問題仍存在有不完善之處，經創作人多年不斷的研究開發，終於研發出市面上前所未有，並在保護膜加上識別文字或圖形，其架構包括：其架構包括：一上方透明塑膠基材；一中間透明塑膠基材，其係位於上方透明塑膠基材下方，並使用低黏著無色透明黏膠與上方透明塑膠基材相連一防污易清潔保護層，其係覆著於中間透明塑膠基材表面；以及一下方透明塑膠基材，其係位於中間透明塑膠基材下方，並使用低黏著無色透明黏膠與中間透明塑膠基材相連，藉由如此設計，是在中間透明塑膠基材表面塗上樹脂、氟化合物及溶劑並經由UV紫外線光照射，並在密閉空間加入氮氣，以防止水氣與氟化合物混淆，讓氟化合物附著在其最表面藉以形成防污易清潔保護層，中間透明塑膠基材表面塗上低黏著無色透明黏膠並與上方塑膠基材緊密接合，可以用雷射雕刻方式從上方透明塑膠基材往中間透明塑膠基材表面將文字或圖案雕刻在中間透明塑膠基材表面，以作為防偽或品牌識別，保護膜其係應用於貼附行動電子裝置之觸控螢幕表面，藉以達到使得行動電子裝置螢幕呈現閃亮新穎之外觀並具有防污、防潑水、耐磨損及防偽之效果，本創作主要目的如下：

1.完全防潑水：由於本創作添加氟化合物其具有疏水疏油性功能，一般螢幕保護膜因沒有添加氟化合物，因此一遇水就容易散開，沒有防潑水功能，本創作因有添加氟化合物，且氟化合物會讓水與表面接觸角成110度，因此表面一遇水就會在螢幕上成水珠狀，輕輕一撥水就會快速彈開，以達到完全防潑水功能；且氟化合物會讓油與表面接觸角成65度，以達使用者在使用行動裝置時與使用者臉上作表面接觸後，螢幕表面更易清潔。

2.高耐磨損：由於本創作添加氟化合物與樹脂架橋緻密，一般螢幕保護膜經使用鋼絲絨重力1kg摩擦表面，其抗刮層磨損而消失，本創作特點高耐磨損，即使使用鋼絲絨重力1kg在本創作來回作數百次摩擦表面，幾乎成零磨擦力，因此不易產生磨損，表面的含氟保護層仍然存在所以防潑水仍舊存在。

3.完全防污易清潔：由本創作表面幾乎為零磨擦力且超低阻抗及披覆性佳，一般螢幕保護膜經麥克筆書寫就無法輕易擦拭其所產生筆墨，得配合酒精或其它化學清潔用品才能順利擦拭乾淨，本創作即便用麥克筆重複擦寫數十次以上，使用者隨便拿起擦拭布或隨身衣物擦拭都可以輕易將筆墨擦拭乾淨，不需要配合任何酒精或其它化學清潔用品，立即使螢幕立即換然一新。

4.具有防偽識別功能：由於市售螢幕保護膜有上萬種之多，完全沒有品牌識別功能，也沒有其它業者在保護膜雕刻圖案或文字加以防偽或品牌識別，本創作特點在於可以用雷射雕刻方式從上方透明塑膠基材往中間透明塑膠基材表面將文字或圖案雕刻在中間透明塑膠基材表面，亦或者可以反過來可以用雷射雕刻方式從下方透明塑膠基材往中間透明塑膠基材表面將文字或圖案雕刻在中間透明塑膠基材表面，讓保護膜可以真正到達防偽或品牌識別之功能，也讓消費者在選擇保護膜有一種依據可供選擇。

5.本創作由於是採用雷射雕刻方式，將文字或商標圖樣直接打在塑膠基材表面，有別於傳統直接將將文字或商標圖樣打在玻璃基材表面，此特點在於採用雷射雕刻直接打在塑膠基材表面的成本和直接打在玻璃基材成本差異極大，直接打在塑膠基材表面可以大幅減少成本，這是和一般傳統玻璃基材最大的差異。

為了能讓審查員能更易於了解本創作之特點，請參閱以下附圖及本創作之實施例說明。以下之實施例係進一步詳細說明本創作之觀點，但並非以任何觀點限制本創作之範疇，以下圖式僅以簡化之示意圖式說明本創作之基本構想，遂圖式中僅例示與本創作有關之元件而非按照實際實施時之元件數目、形狀及尺寸繪製，因此再實際實施時，各元件之型態、數量及比例並非以圖式為限，可依實際設計需要作變化，合先敘明。

W‧‧‧文字

10‧‧‧上方透明塑膠基材

20‧‧‧防污易清潔保護層

21‧‧‧樹脂

22‧‧‧氟化合物

23‧‧‧溶劑

24‧‧‧氮氣

25‧‧‧UV紫外線光

30‧‧‧黏膠

40‧‧‧中間透明塑膠基材

50‧‧‧下方透明塑膠基材

圖一係為本創作具有防偽雷射雕刻保護膜之架構示意圖；圖二係為本創作具有防偽雷射雕刻保護膜實施例(一)；圖三A係為本創作具有防偽雷射雕刻保護膜實施例(二)；圖三B係為本創作具有防偽雷射雕刻保護膜實施例(二)；圖三C係為本創作具有防偽雷射雕刻保護膜實施例(二)；

請參閱圖一，圖一所示係為本創作具有防偽雷射雕刻保護膜之架構示意圖，其架構包括：一上方透明塑膠基材10；一中間透明塑膠基材40，其係位於上方透明塑膠基材10下方，並使用低黏著無色透明黏膠30與上方透明塑膠基材10相連，一防污易清潔保護層20，其係覆著於中間透明塑膠基材40表面；以及一下方透明塑膠基材50，其係位於中間透明塑膠基材40下方，並使用低黏著無色透明黏膠30與中間透明塑膠基材40相連，請參閱圖二，圖二所示係為防偽雷射雕刻保護膜之防污易清潔保護層20形成實施例，藉由如此設計，是在中間透明塑膠基材40表面塗上樹脂21、氟化合物22及溶劑23。並經由UV紫外線光25照射(UV紫外線光之波長能量300~350mi/cm2/UV紫外線光塗佈照射速度為20m/min/UV紫外線光塗佈照射溫度為23度)，並在密閉空間加入氮氣24以防止水氣與氟化合物22混淆，藉以形成防污易清潔保護層，請參閱圖一，中間透明塑膠基材40表面塗上低黏著無色透明黏膠30並與上方塑膠基材10緊密接合，請參閱圖三A、閱圖三B、閱圖三C，上方透明塑膠基材表面10、中間透明塑膠基材40表面、下方透明塑膠基材50表面可用雷射雕刻方式刻上文字W以作為防偽或品牌識別，保護膜其係應用於貼附行動電子裝置之觸控螢幕表面，藉以達到使得行動電子裝置螢幕呈現閃亮新穎之外觀並具有防污、防潑水、耐磨損及防偽之效果。

值得一提的是，可以用雷射雕刻方式從上方透明塑膠基材往中間透明塑膠基材表面將文字或圖案雕刻在中間透明塑膠基材表面，亦或者可以反過來，從下方透明塑膠基材往中間透明塑膠基材表面將文字或圖案雕刻在中間透明塑膠基材表面。

另，其中透明塑膠基材，可以為聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸(PMMA)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)及聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)所組成之群組。

另，其中保護膜可運用於行動電話螢幕、筆記型電腦螢幕、個人數位電子產品螢幕、數位相機螢幕、掌上型電子遊樂器螢幕、MP3播放器螢幕、MP4播放器螢幕及汽車玻璃。

另，其中溶劑為異丁醇(lsobutanol5~10%)、乙酸正丁酯(lsobutyl acetate15~20%)、乙二醇丁醚(Ethylene glycol mono-n-butyl ether1 ~5%)、丙酮酸Acetone(25~30%)及環己烷(Cyclohexane1~5%)所組成。

以上所述僅是藉由較佳實施例詳細說明本創作，然而對於該實施例所作的任何修改與變化，例如：透明基材尺寸之變化以及保護膜運用產品等等之改變均不脫離本創作之精神與範圍。

由以上詳細說明可使熟知本項技藝者明瞭本創作的確可達成前述之目的，實已符合專利法之規定，爰依法提出新型專利申請。

10‧‧‧上方透明塑膠基材

20‧‧‧防污易清潔保護層

30‧‧‧黏膠

40‧‧‧中間透明塑膠基材

50‧‧‧下方透明塑膠基材

Claims

一種具有防偽雷射雕刻保護膜，其架構包括：一上方透明塑膠基材；一中間透明塑膠基材，其係位於上方透明塑膠基材下方，並使用低黏著無色透明黏膠與上方透明塑膠基材相連一防污易清潔保護層，其係覆著於中間透明塑膠基材表面；以及一下方透明塑膠基材，其係位於中間透明塑膠基材下方，並使用低黏著無色透明黏膠與中間透明塑膠基材相連，藉由如此設計，是在中間透明塑膠基材表面塗上樹脂、氟化合物及溶劑並經由UV紫外線光照射，並在密閉空間加入氮氣，以防止水氣與氟化合物混淆，讓氟化合物附著在其最表面藉以形成防污易清潔保護層，中間透明塑膠基材表面塗上低黏著無色透明黏膠並與上方塑膠基材緊密接合，可以用雷射雕刻方式從上方透明塑膠基材往中間透明塑膠基材表面將文字或圖案雕刻在中間透明塑膠基材表面，以作為防偽或品牌識別，保護膜其係應用於貼附行動電子裝置之觸控螢幕表面，藉以達到使得行動電子裝置螢幕呈現閃亮新穎之外觀並具有防污、防潑水、耐磨損及防偽之效果。
如申請專利範圍第1項所述之具有防偽雷射雕刻保護膜，其中UV紫外線光之波長能量300~350mi/cm² 。
如申請專利範圍第1或2項所述之具有防偽雷射雕刻保護膜，其中最下方透明塑膠基材表面，一樣可以用雷刻雕方式刻上文字或圖案，以作為作為仿偽或品牌識別功能。
如申請專利範圍第1項所述之具有防偽雷射雕刻保護膜，其中，UV紫外線光塗佈照射速度為20m/min。
如申請專利範圍第1項所述之具有防偽雷射雕刻保護膜，其中，UV紫外線光塗佈照射溫度為23度。
如申請專利範圍第1項所述之具有防偽雷射雕刻保護膜，其中，溶劑為異丁醇(lsobutanol5~10%)、乙酸正丁酯(lsobutyl acetate15~20%)、乙二醇丁醚(Ethylene glycol mono-n-butyl ether1~5%)、丙酮酸Acetone(25~30%)及環己烷(Cyclohexane1~5%)所組成。