TWM418664U - Root structure of dental implant - Google Patents

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TWM418664U
TWM418664U TW100202441U TW100202441U TWM418664U TW M418664 U TWM418664 U TW M418664U TW 100202441 U TW100202441 U TW 100202441U TW 100202441 U TW100202441 U TW 100202441U TW M418664 U TWM418664 U TW M418664U
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TW
Taiwan
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root
micropores
root structure
implant
concave
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TW100202441U
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English (en)
Inventor
Geng-Liang Ou
Guo-Cai Su
Original Assignee
Taiwan Shan Yin Internat Co Ltd
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五、新型說明: 【新型所屬之技術領域】 [0001] 本創作係有關於一種植牙之牙根構造,特別是指該 牙根本體之表面連續環設有若干凹陷紋,該等凹陷紋之 表面則環佈設有若干之第一微孔,又於該等凹陷紋及第 一微孔之表面環佈設有若干之第二微孔,藉以具有均勻 分散壓力,避免應力集中,而可延長該牙根本體使用壽 命之功效。 【先前技術】 [0002] 目前一般所常見用以植牙的方式,是以外科手術將 取代牙根之植體(通常用鈦合金)埴入顎骨的牙床組織中 ,由於骨骼倶自然整合特性(即骨整合),使得植體植入 後,骨骼自然生長包圍植體,使植體得以固定,因此植 入的鈦合金植體十分堅固,可以像天然的牙齒一樣自然 〇 ’ · , /. .V ' .
[0003] 而目前所常見之植體係以螺紋段螺入牙床組織,如 中華民國99年3月21日所公告之新型第M376268號「人工 牙根之結構改良(六)」專利寒,其係揭露有:於人工 牙根之外周緣設有螺紋,而内部設有搭配可螺固假牙之 牙柱心的槽孔;其改良是在:該人工牙根為採牙柱段與 螺紋段呈一體成型形態設立,並對此該螺紋段是作大小 螺紋相間設置;據此,該人工牙根在與牙齦(牙肉)及牙 床骨(齒槽骨)作方位接觸時,則可獲得十分穩固且緊密 的最佳包合力,俾使牙枉段上之假牙可發揮如同真牙般 效果。 表單編號A0101 第3頁/共13頁 [0004]M418664 又有中華民國96年7月21日所公告之新型第M315571 號「植牙之改良式植根」專利案,其係於一植根 (implant root)的粗螺紋部上在垂直方向形成至少兩個 以上螺旋狀的處理面,每一處理面以氫氧磷灰石覆蓋 (hydroxyapatite coating)處理。藉由該HA覆蓋處理 面的面積擴大,而可在植入牙床内的骨頭後,讓骨頭快 速生長,以包覆住植根,縮減植根植入後到裝置牙套的 療程。 [0005] 然而上述該二件專利前案在進行骨整合過程中,人 工牙根或植根過大的位移(一般為超過100微米)會導致骨 整合失敗,而前述人工牙根或植根係以螺紋段與骨骼密 合時,骨骼組織僅可能與人工牙根或植根的表面貼合, 導致人工牙根或植根的位移鬆脫之機率加大,而遭致植 牙手術後失敗,而需再次進行植牙手術。 [0006] 另有中華民國99年10月1日所公開之發明第 201 034642號「骨骼植入物成形方法」專利案,其係揭 露有:用於成形一待植入於生物骨骼之植入物,其方法 包含:一表面塑性加工步驟:係於一胚料外表面形成該 骨骼植入物之粗糙加工處理面,該粗糙加工處理面係複 數凸紋或凹紋排列於該骨骼植入物之一植入部外表面, 而成一表面粗糙部;以及一螺牙部成形加工步驟:係於 該胚料外表面成形螺牙,而成一螺牙部,該表面粗糙部 之粗糙加工處理面為該螺牙部之螺牙所分割。該骨骼植 入物具有明顯的複數凸紋或凹紋,使之呈多接觸表面, 使與骨骼有較為多角度與更多面的接觸,可有效提升手 表單編號A0101 第4頁/共13頁 [0007] 術後與增長的骨骼結合的速度,並可提高植入物在骨骼 中之穩定性。其製成物骨骼植入物係為人造植牙之植入 物或人工骨釘。 該專利前案僅揭露於骨骼植入物之表面設有複數凸 紋或凹紋之技術特徵,但該等凸紋或凹紋所能增加的表 面積有限,因此在與牙床骨頭生長的過程中,結合強度 仍稍嫌不足,並無法與其緊密結合,所以在使用上仍然 有其缺點存在。 【新型内容】 [0008] 爰此,有鑑於目前植牙用之牙根構造,於使用時具 有上述之缺點,故本創作提供一種植牙之牙根構造,係 設有一牙根本體,該牙根本體之表面係環設有若干凹陷 紋,該等凹陷紋之表面則環佈設有若干之第一微孔,該 等第一微孔之孔徑係為100奈米至500奈米,深度則為 0.1微米至1微米,又於該等凹陷紋及該等第一微孔之表 面環佈有若干之第二微孔,該等第二微孔之孔徑係為10 奈米至40奈米,深度則為5奈米至20奈米。 [0009] [0010] [0011] 上述凹陷紋之寬度係為0. 26厘米,深度則為0. 25厘 米。 上述凹陷紋係呈等距斜向排列。 上述第一微孔係以雷射加工法、放電加工法、電化 學加工法或電漿加工法施以多點熔融處理後而形成。 上述第二微孔係以雷射加工法、放電加工法、電化 學加工法或電漿加工法施以多點熔融處理後而形成。 表單編號A0101 第5頁/共13頁 [0012] M418664 [0013] [0014] [0015] [0016] 上述牙根本體之頂緣係凹設有一固定部。 上述第一微孔係呈現規則性陣列。 本創作具有下列之優點: 1. 本創作係於牙根本體之表面連續環設有凹陷紋, 該等凹陷紋之表面則環佈設有第一微孔,又於該等凹陷 紋及第一微孔之表面環佈設有第二微孔,藉以能增加與 牙床骨骼組織之接觸面積,而與其緊密結合,不易鬆脫 晃動,藉以可延長該牙根本體之使用壽命。 [0017] 2. 本創作係於該牙根本體形成3D多孔性緻密結構, 其孔隙度不僅在於植牙牙根表面,而是在整個結構體, 使鈦金屬植牙之牙根植入人體後,可以達到最大程度的 骨整合,同時也降低材料的剛性,進而解決應力集中等 遮蔽效應產生的問題。 【實施方式】 [0018] 首先,請參閱第一圖及第二圖所示,本創作係包括 有一鈦合金材料所製成之牙根本體(1),該牙根本體(1) 係設呈為一圓桿狀,於該牙根本體(1)之表面係連續環設 有若干等距斜向排列之凹陷紋(11),該等凹陷紋(Π)之 寬度為0. 26厘米,深度則為0. 25厘米,又該等凹陷紋 (11)之表面則環佈設有若干之第一微孔(12)〔如第三圖 所示〕,而該等第一微孔(12)係利用雷射加工法、放電 加工法、電化學加工法或電楽·加工法等方式施以多點溶 融處理後而形成,該等第一微孔(12)係呈圓弧形,其孔 徑為100奈米至500奈米,深度則為0. 1微米至0. 9微米, 表單編號A0101 第6頁/共13頁 且/或(and/or)該等第一微孔(12)係呈現規則性陣列, 又於該等凹陷紋(11)及該等第一微孔(12)之表面另外環 佈有若干之第二微孔(13),該等第二微孔(13)係呈圓弧 形,其孔徑為10奈米至40奈米,深度則為5奈米至2〇奈米 ,而該等第二微孔(13)同樣係利用雷射加工法、放電加 工法、電化學加工法或電漿加工法等方式施以多點熔融 處理後而形成,另該牙根本體(丨)之頂緣係凹設有一固定 部(14),藉以可固接一假牙於其中。 [0019] 使用時,如第四圖所示,其係先將該牙根本體(〇植 入於一牙床(A)内部固定後,使該牙床(A)周圍骨骼會自 然生長進行骨整合,使其骨骼組織會與該牙根本體(1)的 表面接觸,並深入於該牙根本體(〇之凹陷紋内,而 與該凹陷紋(11)表面深淺不一且緻密排列之第一微孔 (12)及第二微孔(13)緊密的結合,使該牙根本體(丨)與 該牙床(A)周圍的骨骼形成緊密結合,並增加其結合強度 ,再於該固定部(14)内植入結合有一假牙(B),因此,藉 由該牙根本體(1)上所形成之凹陷紋(11)、第一微孔 (12)及第二微孔(13)可以使得結合更為深入,而且利用 該等凹陷紋(11)、第一微孔(12)及第二微孔(13)可以大 幅增加其結合之表面積,使得該牙根本體與牙床 骨骼組織之接觸面積增加,藉以使該牙根本體上的假 牙(B)於咬合咀嚼時,可以均勻的分散壓力,提高其所能 承文之垂直壓力、水平張力及旋轉扭力,避免應力集中 之現象,使其不易損壞,得以延長該牙根本體(丨)之使用 舞命。 表·單編號A0101 第7頁/共13頁 M418664 [0020] [0021] [0022] [0023] [0024] [0025] 表單编號A0101 惟,以上所述僅為本創作其中之一最佳實施例,當 不能以此限定本創作之申請專利保護範圍,舉凡依本創 作之申請專利範圍及說明書内容所作之簡單的等效變化 與替換,皆應仍屬於本創作申請專利範圍所涵蓋保護之 範圍内。 【圖式簡單說明】 第一圖係為本創作之立體外觀圖。 第二圖係為本創作凹陷紋表面上之第一微孔的部份 放大示意圖。 第三圖係為本創作凹陷紋及第一微孔表面上之第二 微孔的部份放大示意圖。 第四圖係為本創作牙根本體植入於一牙床内部後之 示意圖。 【主要元件符號說明】 (1 ) 牙根本體 (1 1 )凹陷紋 (1 2 )第一微孔 (1 3)第二微孔 (1 4 )固定部 (A ) 牙床 (B) 假牙 第8頁/共13頁

Claims (1)

  1. M418664 六、申請專利範圍· 1 . 一種植牙之牙根構造,其係設有一牙根本體,該牙根本體 之表面係環設有若干凹陷紋,該等凹陷紋之表面則環佈設 有若干之第一微孔,該等第一微孔之孔徑係為100奈米至 500奈米,深度則為0. 1微米至1微米,又於該等凹陷紋及 該等第一微孔之表面環佈有若干之第二微孔,該等第二微 孔之孔徑係為10奈米至40奈米,深度則為5奈米至20奈米 〇 2. 如申請專利範圍第1項所述植牙之牙根構造,其中,該等 凹陷紋之寬度係為0. 26厘米,深度則為0. 25厘米。 3. 如申請專利範圍第2項所述植牙之牙根構造,其中,該等 凹陷紋係呈等距斜向排列。 4. 如申請專利範圍第1、2或3項所述植牙之牙根構造,其中 ,該等第一微孔係呈現規則性陣列。 5. 如申請專利範圍第4項所述植牙之牙根構造,其中,該等 第一微扎係以雷射加工法、放電加工法、電化學加工法或 電槳加工法施以多點熔融處理後而形成。 6. 如申請專利範圍第4項所述植牙之牙根構造,其中,該等 第二微扎係以雷射加工法、放電加工法、電化學加工法或 電漿加工法施以多點熔融處理後而形成。 7. 如申請專利範圍第1項所述植牙之牙根構造,其中,該牙 根本體之頂緣係凹設有一固定部。 100202441 表單編號A0101 第9頁/共13頁 1002007068-0
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI594734B (zh) * 2012-08-13 2017-08-11 康洛格生物科技公司 次要零件、套組、牙植體、牙齦形成物、壓印零件、牙植體系統及用於製造植體的方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWI594734B (zh) * 2012-08-13 2017-08-11 康洛格生物科技公司 次要零件、套組、牙植體、牙齦形成物、壓印零件、牙植體系統及用於製造植體的方法

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