M267921 八、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係有關於一種迴轅 司呈-下-上組合設置良，係由底座及華 迴轉基座之設計下，使該上;= 效避免噪音之產生’亦達旋轉實施順暢者。 【先前技術】 按，請參閱第二圖所示，目铪她 /1Π0Ν 剐辦么座椅（10)之椅座（101) =有上：大都内置有_2°)，使該支桿 (1。2 ;有升雨及下降之功能’並於支桿(_底端設置有 椅腳=該椅腳(103)與氣壓棒⑽相樞接，使椅腳⑽) 與支补（102)間具有旋轉之功能；而為使椅腳⑽）與氣壓 棒（20)相樞接有省力及減少摩擦之效果，故於兩者之間具 有一媒介，此媒介係以潤滑裝置為主。 請參閱第二圖所示，係為早期使用之潤滑裝置⑴，該 潤滑裝置（1)係包含一上一下間隔設置的上板片（11)與下 板片（12)，一設在前述兩板片（11)、（12)之間的滾珠單元 (13)，以及一上一下相互組接之上殼座（14)及下殼座 (15)，其中，該上、下殼座（14)、（15)中心分別具有一貫 通之穿孔（141)、（145)。 ' 而上述之氣壓棒（20)可利用其固定端〔以下通稱軸向 元件（201)〕，由該上殼座（14)之穿孔（141)依序穿過該上板 片（11)、滾珠單元（13)，以及下板片（12)，並由該下殼座 (15)之穿孔（151)穿出而與該椅腳（1〇3)之定位元件（1〇4) 組裝結合。 M267921 依此，該潤滑裝置（1)係由上板片（11)與氣壓棒（20)之 軸向元件（201)相靠接，且該下板片（12)係與所述之定位元 件（103)相對處靠接固定，再透過該滾珠單元（13)的作用使 該軸向元件（201)可與定位元件（1〇4)作相對之轉動。 然而，該潤滑裝置（1)内的滾珠單元（13)成本較高，且 於軸向元件（201)與定位元件（1〇4)之作動下，使上板片（11) 在受軸向元件（201)施壓情況下與滾珠單元（13)旋轉，以致 兩者相互摩擦而有噪音之產生，造成該產品之品質受 響。 其次，由於上述潤滑裝置（1)的結構多，以致產製成本 高’相對組裝亦顯費時，實不符該產業之經濟效益。 〃再者，请參閱第三圖所示，後經業界改良開發有公告 第580874號「潤滑座」新型專利案之結構設計，企圖改善 上述缺失，故其技術内容如下·· 3滑座⑵，係由一基座⑶與旋轉片⑷所組成；其 r ή二:座（3)具有一沿—中心轴環繞之侧壁（31 )，此側壁 /、Ρ艮位肋（313)，以及—徑向銜接該側壁（31)之一 底壁(32) ’該底壁(32)具有-上-下相反設置之 你番21與下表面(322) ’以及-形成於該底壁(32)中 =置並轴向連通該丨、下表面（321)、（322)之轴孔 3 3) ’此轴孔（323)為供輛向元件（201)穿置，並於上表面 内壁面界定出-開口朝上之組裝空 向下凹入且Γ來積存二該底壁(32)之上表面(321 桦1;而时脂之緩衝空間（34)〔環繞凹 曰 “疋 係組裝於基座（3)之限位肋（313)與上 M267921 表面（321)之間，並會與上表面（321)的環繞凹槽⑽有些 餘裕空間。 — 然而，雖上述潤滑座（2)利用基座（3)上表面（321)處塗 抹油脂，企圖改善噪音，但因其旋轉片（4)與基座（3)上表 面（321)之間的接觸面積越大，以致兩者旋轉作動不甚順 暢、’再加上旋轉片⑷與基座⑶上表面（321)之間有黏稠狀 之油脂，以致旋轉片（4)在受壓下會與基座 之間形成相互利之真空狀態，如此t基座⑶受^轉3^ 即會有順勢連動著旋轉片⑷，卻又礙於旋轉片⑷上方壓 阻’不僅造成兩者相對間有僵持情形，而且也 呈 旋轉片（4)之形變。 參閱第四圖所示，前案潤滑座（2)於基座⑶有採另 一貝靶例之運用，係於基座（3)位於凹狀組裝空間（扣）之上 表面（321)設讀個間隔式的凹孔（35)，而細孔⑽）與旋 轉片⑷間形成密封’故當該旋轉片⑷與上表面（321)呈直 工緊貼又讀轉片⑷來自上方的長期下壓以致旋轉片 ⑷變形及上表面（321)下陷，造成兩者有卡 使其旋轉更差。 月/也双鲁 又’如第三圖所示’前案潤滑座⑵在安襄於軸向元件 (201)與定位兀件（104)之前，必須於基座⑶頂端配人 =()3下〇)壓裝力置道其間，為供承受緩衝該氣壓棒（2〇)料縮段 然而’兹因前案潤滑座⑵其基座⑶㈣置旋轉片⑷ 頂端有-段限位肋（313)，故使該緩衝墊⑽）至基座⑶之 間留有一間隙（36) ’如此-來’容易致使緩衝塾（3〇)中間 7 M267921 處而經長期施壓下，而加速該缓衝墊（3〇)變形而損壞。 緣是，今本創作者有鑑於上述無論是潤滑裝置或潤滑 座之結構在製作上及實際使用上存有缺失處，故而積極的 尋求解決之道，同時亦在此期間，藉助多年來所累積的專 業知識與设计製造經驗，且經多方巧思和試驗後，方研發 設計出本創作迴轉基座之改良，以期提供一種相當好用、 實用之產品者。 【新型内容】 本創作係提供一種迴轉基座之改良，該迴轉基座係包 括有一底座及一華司所組成，以適用於辦公設備設有氣壓 棒之辦公座椅；而該底座具有一轴孔，為供軸向元件穿置， 並於頂端設有環凹槽，且於底端置於定位元件上；該華司 係相對裝没於底座上，受軸向元件壓制，而該華司之外徑 大於，座之作用面；藉由上述，使兩者結合設立於轴向元 件與定位元件之間於作動下，可有效避免噪音之產生，且 =司大於底座之設計，如此其受力處位靠軸a處， 司與底座接觸面積小，俾使旋轉實施更為順暢者。 其次，本創作之底座於頂端之環凹槽可塗佈龙 =槽處的徑向方位設有凹溝，此凹溝形成一；二【 可有使華司與底座之間藉黃油形成相對作動^ 了：放避免產生兩者呈真空緊貼，以達旋轉順利無阻】 【貫施方式】 、有。 茲有關本創作迴轉基座之改良，所採運用 結構特徵〕及達成的目的功效，為以 ^段 面說明及圖示參照號數來作詳述如下：知例配合圖 M267921 首先，請參閱第五圖所示，本創作係提供一種迴轉基 座之改良，該迴轉基座（5)係包括： 一底座（51)，該底座（51)具有一軸孔（511)，為供軸向 元件（201)穿置〔如第七圖所示〕，該底座（51)之周壁至頂 端之間形成向上漸縮之切緣（512 )，並於底座（51)之頂端表 面設有環凹槽（513)，此環凹槽（513)之斷面底部可呈圓弧 形，可配合添加定量之黃油（514)，且於環凹槽（513)處的 徑向方位設有凹溝（515)，此凹溝（515)形成一個有空氣之 緩衝空間；且該底座（51)底部具有減料空間（516)〔如第六 圖所示〕；而對該底座（51)之底端為供設置於定位元件（104) 上〔如第七圖所示〕； 一華司（52)，該華司（52)為設置底座（51)之頂端，且 於相對底座（51)之轴孔（511)設有通孔（521)，而該華司（52) 之外徑大於底座（51)之頂端。 再者，請參閱第七圖所示，將華司（52)相對設置底座 (51)之頂端，且軸向元件（201)穿置兩者之通孔（521)、轴 孔（511)，並使底座（51)固定於定位元件（104)上，而軸向 元件（201)底端亦限位於定位元件（1〇4)下，即完成本創作 迴轉基座（5)之實施運用。 據此，藉由上述之設計，本創作迴轉基座（5)於實際使 用時，該華司（52)係相對裝設於底座（51)上，並於底座（51) 上之環凹槽（51)添加定量之黃油（511)，使迴轉基座（5)設 立於軸向元件（201)與定位元件（1〇4)之間的實施作動下， 可有效避免噪音之產生，且該華司（52)受轴向元件（201)向 下壓制時，由於該華司（52)之外徑大於底座（51)之頂端， M267921 故其受力處位靠軸心處，使華司（52)與底座（51)接觸面積 小，進而減少摩擦阻力，俾使旋轉實施更為順暢。 、 復，本創作之底座（51)於頂端之環凹槽（513)塗佈黃油 (511)，使華司（52)與底座（51)之間藉黃油（514)在形成潤 滑之作動時，而於環凹槽（512)處的徑向方位設有凹溝 (515)，此凹溝（515)形成一個有空氣之緩衝空間，可有效 避免底座（51)、華司（52)兩者呈真空緊貼，以達旋轉作動 得以順利無阻者。 其次’藉由本創作迴轉基座（5)結合底座（51)與華司 (52)之設計，因此當迴轉基座（5)安裝於轴向元件（2〇1)與春 定位元件（104)之前，須於頂端配合一緩衝墊（3〇)裝置其間. 時，由於華司（52)與底座（51)係呈密實相靠設，且緩衝墊 (30)亦與華司（52)形成整面接觸配合，使三者間具有極佳 穩固之結構強度’可均勻承受及減緩該氣壓棒（2〇)其伸縮 段（202)之下壓力道，可有效降低該緩衝墊（3〇)之受損機 率，進而延長該緩衝墊（30)及迴轉基座（5)之使用壽命。 ^另外，請參閱第八圖至第十一圖所示，經由上述結構 叹计下，該底座（51)之外形可作花瓣波浪形體〔如第八、鲁 =圖所示〕或多邊切面形體〔如第十、十一圖所示〕多樣 造型之變化，有別傳統侷限結構的單純，以達提升該產業 市場之競爭力。 ^綜上所述，本創作實施例確能達到所預期之使用功 效’又其所揭露之具體構造，不僅未曾見於同類產品中， 亦未冒公開於申請前，誠已完全符合專利法之規定與要 求，爰依法提出新型專利之申請，懇請惠予審查，並賜准 專利，則實感德便。 10 M267921 【圖式簡單說明】 第一圖··習知運用辦公座椅之結構示意圖 第二圖：習知之其一結構分解圖 第二圖：習知之其二結構組設示意圖 第四圖：習知之其三結構分解圖 第五圖：本創作之結構分解圖 第六圖··本創作結構底部立體圖 第七圖：本創作結構組設示意圖 第八圖：本創作另一造型示意圖 第九圖：本創作另一造型之底部示意圖 第十圖：本創作另二造型示意圖 第十一圖··本創作另二造型之底部示意圖 【主要元件符號說明】 (10) 辦公座椅 (102) 支桿 (104) 定位元件 (201) 軸向元件 (1) 潤滑裝置 (12) 下板片 (14) 上殼座 (15) 下殼座 (2) 潤滑座 (31) 側壁 (36) 間隙 (101) 椅座 (103) 椅腳 (20) 氣壓棒 (202) 伸縮段 (11) 上板片 (13) 滾珠單元 (141) 穿孔 (151) 穿孔 (3) 基座 (313) 限位肋 (32) 底壁 M267921 (321) 上表面 (323) 軸孔 (34) 緩衝空間 (30) 緩衝墊 (5) 迴轉基座 (511) 軸孔 (513) 環凹槽 (515) 凹溝 (52) 華司 (322) 下表面 (33) 組裝空間 (35) 凹孑L (4) 旋轉片 (51) 底座 (512) 切緣 (514) 黃油 (516) 減料空間 (521) 通孔 12