TWI822160B - 矽藻土地毯之製法 - Google Patents
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Abstract
本發明係提供一種矽藻土地毯之製法，係先準備一地毯元件，該地毯元件包含一底層與設於該底層表面之一面層，再於該面層表面之預定部位塗設矽藻土漿，最後，使該面層表面之矽藻土漿乾燥，即可獲得矽藻土地毯。
Description
本發明係與地毯有關，更詳而言之是指一種矽藻土地毯之製法者。
為了改善傳統地墊不易迅速吸收腳底或鞋底之水分，導致將殘留水分帶入室內地板之缺點，近年來乃有業者研發、銷售硬式矽藻土吸水地墊，其主要係利用矽藻土為原料製成，可利用其多孔隙之材料特性迅速吸收水分，吸水速度較傳統地墊更快，惟，其有踩踏觸感不佳、易破裂及易滑移(需搭配止滑墊使用)等問題。
為此，發明人乃陸續研發出中華民國發明第I693909號、第I729845號與新型第M582806號、第M601062號等專利，其主要係以彈性材料添加矽藻土製成，不僅可快速吸收腳底或鞋底之水份，且踩踏感柔軟、不會滑移，確實可解決傳統地墊與硬式矽藻土吸水地墊使用上之缺點。
不過，發明人基於精益求精之創新精神，乃研發本『矽藻土地毯之製法』發明。
本發明之主要目的即在提供一種矽藻土地毯之
製法，其可刮除、吸收鞋子或腳底側所沾附之水分，將水分快速吸收、避免水分回滲到表面，以維持表面之乾燥，甚具實用價值。
緣是，為達成前述之目的，本發明係提供一種矽藻土地毯之製法，其至少包含有以下步驟：備取地毯元件：準備一地毯元件，該地毯元件包含一底層與設於該底層表面之一面層；塗設矽藻土：於該面層表面之預定部位塗設矽藻土漿；乾燥：使該面層表面之矽藻土漿乾燥後，即可獲得矽藻土地毯。
較佳地，該面層係包含複數突出部，各該突出部之高度相同，塗設矽藻土之步驟中，係將矽藻土漿塗設於各該突出部之頂端，矽藻土漿乾燥後可形成連接所有突出部頂端之一矽藻土層。
較佳地，各該突出部係絨毛，乾燥之步驟後更包含有一破碎之步驟，係施加外力將該矽藻土層破碎為僅固接於各突出部頂端之複數矽藻土塊。
較佳地，破碎之步驟，係彎曲該地毯元件與矽藻土層、使矽藻土層破碎。
較佳地，該面層係包含複數突出部，各該突出部之高度相同，塗設矽藻土之步驟中，係將矽藻土漿塗設於各該突出部之頂端，矽藻土漿乾燥後可於各該突出部頂端分別形成一矽藻土塊。
較佳地，塗設矽藻土之步驟中，矽藻土漿係經由接觸各該突出部之一塗佈裝置塗設於各該突出部之頂端。
較佳地，該面層係包含複數突出部，各該突出部之高度相同，塗設矽藻土之步驟中，係將矽藻土漿塗設於各該突出部之間的複數凹陷部位內，矽藻土漿乾燥後可於各該凹陷部位內分別固設有一矽藻土塊。
較佳地，塗設矽藻土之步驟中，係將矽藻土漿輸人一刮件之一側而塗佈於該面層，該刮件係可升降地抵接面層，用以可將該突出部上之矽藻土漿刮除，使矽藻土漿僅充填於各該凹陷部位內，且，可利用該刮件上升或下降改變其抵接於面層之深度，藉以改變各該凹陷部位內矽藻土漿之充填量、改變矽藻土塊之厚度。
較佳地，該面層係包含複數突出部，各該突出部之高度不同，塗設矽藻土之步驟中，係將矽藻土漿塗佈於各該突出部之若干側或/及各突出部間的複數凹陷部位內。
較佳地，塗設矽藻土之步驟中，係將矽藻土漿輸入一刮件之一側而塗佈於該面層，該刮件係可升降地抵接高度較低之突出部，用以可刮除該面層上多餘之矽藻土漿，，使矽藻土漿僅塗佈於高度更低之突出部頂端、高度較高之突出部若干側或/及各凹陷部位內。
100:矽藻土地毯之製法
110:備取地毯元件
120:塗設矽藻土
130:乾燥
140:破碎
1:地毯元件
2:底層
3:面層
4:突出部
5:矽藻土漿
6:矽藻土層
7:矽藻土塊
10:矽藻土地毯
11:塗佈裝置
12:滾輪
13:刮刀
14:刮件
15:凹陷部位
4a、4b:突出部
第一圖係本發明一較佳實施例之流程圖。
第二圖係本發明一較佳實施例中破碎步驟之示意圖。
第三圖係本發明一較佳實施例所製成之矽藻土地毯示意圖。
第四圖係本發明另一較佳實施例中塗設矽藻土步驟之示意圖。
第五圖係本發明再一較佳實施例中塗設矽藻土步驟之示意圖。
第六圖係本發明再一較佳實施例中另一塗設矽藻土步驟之示意圖。
第七圖係本發明又一較佳實施例中另一塗設矽藻土步驟之示意圖。
以下，茲舉本發明數個較佳實施例，並配合圖式做進一步之詳細說明如後：
首先，請參閱第一圖至第三圖所示，本發明一較佳實施例之矽藻土地毯之製法100，其第一步驟係備取地毯元件110：係先準備一地毯元件1，該地毯元件1概如習知表面具有複數絨毛之地毯，包含一底層2與設於底層2表面之一面層3，該底層2係以彈性發泡材質製成，其材料中添加有適量之矽藻土而具有吸水效果，該面層3係柔軟層、以紗線編織而成，具有複數突出部4，即絨毛，各該突出部4之高度相同。
本發明之第二步驟係塗設矽藻土120：利用塗佈
或噴塗等方式將矽藻土漿(即矽藻土混合水，二者混合之比例可視塗佈或噴塗製造上之需求調整)塗設於各該突出部4頂端。
本發明之第三步驟係乾燥130：利用風乾或加熱等方式使各該突出部4頂端矽藻土漿乾燥而形成連接所有突出部頂端之一矽藻土層6。
本發明之最後步驟係破碎140：係施加外力將該矽藻土層6破碎為僅固接於各突出部4頂端之複數矽藻土塊7，例如，彎曲該地毯元件1與矽藻土層6，即可使該矽藻土層6破碎，俾獲得一矽藻土地毯10。
藉此，本發明所製成之該矽藻土地毯10可鋪置於地面，其受到踩踏時，各該突出部4頂端之複數矽藻土塊7不僅可刮除、吸收鞋子或腳底側所沾附之水分，將水分經由各該突出部4導引至底層2而被底層2吸收，且，各該突出部4可避免水分回滲到該矽藻土地毯10表面，可使該面層3維持乾燥，而該底層2之止滑性可避免矽藻土地毯10受踩踏時於地面滑動。
其次，該地毯元件1之面層3亦可利用不織布熱壓成型，使各該突出部4成凸塊狀而有異於前述之絨毛狀，如第四圖所示，而塗設矽藻土120之步驟中，係利用一塗佈裝置11將矽藻土漿5塗設於各該突出部4之頂端，該塗佈裝置20係包含一滾輪12與一刮刀13，該滾輪12係接觸各該突出部4之頂端，該刮刀13係架設於滾輪12頂端，該矽藻土漿5係輸入刮刀13之一側而可透過旋轉之滾輪12表面塗佈於各突出
部4之頂端，矽藻土漿5乾燥後即可於各該突出部4頂端分別形成一矽藻土塊7。
此外，矽藻土漿5中更可添加離形劑、排斥物質或乳化劑、界面活性劑，以降低或增加矽藻土漿5黏著於各該突出部4頂端之黏著量。
再者，塗設矽藻土120之步驟中，亦可將矽藻土漿5塗設於各該突出部4之間的複數凹陷部位15內，其方式係將一刮件14可升降地抵接面層3(抵接突出部4頂端或伸入凹陷部位15內)，再將矽藻土漿5輸入該刮件14一側而塗佈於面層3(矽藻土漿5會覆蓋突出部4與凹陷部位15)，當該地毯元件1或刮件14移動時，該刮件14可將突出部4上之矽藻土漿5刮除，使矽藻土漿5僅充填於各該凹陷部位15內，則矽藻土漿5乾燥後可於各該凹陷部位15內分別固設有矽藻土塊7。
詳言之，調整該刮件14之高度(上升或下降)可改變其抵接於面層3之深度，藉以可改變各該凹陷部位15內矽藻土漿5之充填量，進而改變乾燥後各該矽藻土塊7之厚度。亦即，當該刮件14略抵接於突出部4之頂端時，僅突出各該突出部4頂端之矽藻土漿5會被刮件14刮除，使得各該凹陷部位15內會充滿矽藻土漿5，如第五圖所示，使得乾燥後之各該矽藻土塊7係填滿凹陷部位15。反之，若該刮件14下降而下壓突出部4或伸入凹陷部位15內時，不僅突出各該突出部4頂端之矽藻土漿5會被刮件14刮除，各該凹陷部位15內高於刮件14底端之矽藻土漿5亦會被刮除，將使各該凹陷部位15內僅底部有矽藻土漿5，如第六圖所示，乾燥後該矽藻
土塊7之厚度較薄。基此，透過各該矽藻土塊7厚度之變化，可改變該矽藻土地毯10之吸水力及踩踏感。
又，如第七圖所示，各該突出部4之高度與形狀亦可設為不同，則塗設矽藻土120之步驟中，該刮件14刮除矽藻土漿5時，受到各該突出部4不同高度之影響，僅有該刮件14接觸不到之各該突出部4之若干側及各凹陷部位15會塗佈矽藻土漿5，例如，當該刮件14係抵接於高度較低之突出部4a時，刮除矽藻土漿5後，矽藻土漿5僅塗佈於高度更低之突出部4a頂端、高度較高之突出部4b之刮件14未接觸側及各凹陷部位15內。藉此，可提升該矽藻土地毯10吸水力及踩踏感之變化性。
以上所述僅為本發明的數個較佳實施例而已，並非用以限制本發明，任何所屬技術領域中具通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之修改、更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100:矽藻土地毯之製法
110:備取地毯元件
120:塗設矽藻土
130:乾燥
140:破碎
Claims (4)
- 一種矽藻土地毯之製法，其至少包含有以下步驟：備取地毯元件：準備一地毯元件，該地毯元件包含一底層與設於該底層表面之一面層，該面層係包含複數突出部，係絨毛，各該突出部之高度相同；塗設矽藻土：於各該突出部之頂端塗設矽藻土漿；乾燥：使該面層表面之矽藻土漿乾燥後可形成連接所有突出部頂端之一矽藻土層；及破碎：施加外力將該矽藻土層破碎為僅固接於各突出部頂端之複數矽藻土塊，即可獲得矽藻土地毯。
- 如請求項1所述之矽藻土地毯之製法，其中，破碎之步驟，係彎曲該地毯元件與矽藻土層、使矽藻土層破碎。
- 一種矽藻土地毯之製法，其至少包含有以下步驟：備取地毯元件：準備一地毯元件，該地毯元件包含一底層與設於該底層表面之一面層，該面層係包含複數突出部，各該突出部之高度不同；塗設矽藻土：係將矽藻土漿塗佈於各該突出部之若干側或/及各突出部間的複數凹陷部位內；及乾燥：使該面層表面之矽藻土漿乾燥後，即可獲得矽藻土地毯。
- 如請求項3所述之矽藻土地毯之製法，其中，塗設矽藻土之步驟中，係將矽藻土漿輸入一刮件之一側而塗佈於該面層，該刮件係可升降地抵接高度較低之突出部頂端， 用以可刮除該面層上多餘之矽藻土漿，使矽藻土漿僅塗佈於高度更低之突出部頂端、高度較高之突出部若干側或/及各凹陷部位內。
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2022
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