TWI806993B - 光路調整機構及其製造方法 - Google Patents

Abstract

一種光路調整機構包含承載座、光學元件以及一致動器。致動器接收一驅動信號，於驅動訊號的一周期時間的脈衝上升時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的第一平坦區段，於驅動訊號的一周期時間的脈衝下降時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的第二平坦區段，第一平坦區段及第二平坦區段的電壓值均位於驅動訊號的最高電位及最低電位之間。

Description

光路調整機構及其製造方法

本發明關於一種光路調整機構及其製造方法。

近年來，各種影像顯示技術已廣泛地應用於日常生活上。於一影像顯示裝置中，例如可設置一光路調整機構改變光線於裝置內的行進光路，以提供例如提高成像解析度、改善畫面品質等各種效果。然而，習知光路調整機構的構件數目、重量、體積均較大，難以進一步微型化。因此，亟需一種結構簡單、可靠度高且可大幅減少重量及體積的光路調整機構設計。

「先前技術」段落只是用來幫助了解本發明內容，因此在「先前技術」段落所揭露的內容可能包含一些沒有構成所屬技術領域中具有通常知識者所知道的習知技術。在「先前技術」段落所揭露的內容，不代表該內容或者本發明一個或多個實施例所要解決的問題，在本發明申請前已被所屬技術領域中具有通常知識者所知曉或認知。

本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例並配合所附圖式，作詳細說明如下。

根據本發明的一個觀點，提供一種光路調整機構，包含承載座、光學元件以及第一致動器。光學元件設在承載 座，第一致動器用以使光學元件以第一軸為軸心作動。第一致動器接收一第一驅動信號，於第一驅動訊號的一周期時間的脈衝上升時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的第一平坦區段，於第一驅動訊號的一周期時間的脈衝下降時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的第二平坦區段，第一平坦區段及第二平坦區段的電壓值均位於第一驅動訊號的一周期時間的最高電位及最低電位之間，且各個平坦區段的電壓值變化量小於最高電位及最低電位的差值的0.1%。

根據本發明的上述觀點，可降低中高頻段的頻率響應，減少光學元件作動的噪音並使擺動角度的控制更為穩定及精確。

根據本發明的一個觀點，提供一種光路調整機構，包含承載座、光學元件、第一致動器以及第二致動器。第一致動器及第二致動器用以使光學元件以第一軸為軸心作動，其中第一致動器及第二致動器位於第一軸的兩側，第一致動器接收一第一驅動信號，第二致動器接收一第二驅動信號，第一驅動信號具有一第一振幅，第二驅動信號具有一第二振幅，第二振幅大於第一振幅，且第二振幅相對第一振幅的比值等於或小於7/6。

根據本發明的上述觀點，可降低基頻外不同頻段的響應，且特別是偶數倍頻的頻段其降低響應的效果更佳，因此可減少光學元件作動的噪音並使擺動角度的控制更為穩定及精確。

本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例並配合所附圖式，作詳細說明如下。

100:光路調整機構

110:承載座

112:內框

114:外框

120:基座

130:磁鐵座

140:支架

140a:缺口

140c:凸耳結構

140d:開口

142:第一側

144:第二側

146:第三側

152:第一對可撓件

154:第二對可撓件

160、170:致動器

160a、160b、170a、170b:致動器部分

162、172:線圈

164、174:磁鐵

176:線圈座

180:光學元件

180a:鏡片

190:固定件

192:鏡片座

200:光學系統

210:光閥模組

210a:表面

212:玻璃保護蓋

220:稜鏡

310:照明系統

312:光源

312R、312G、312B:發光二極體

314:光束

314a:子影像

316:合光裝置

317:蠅眼透鏡陣列

318:光學元件組

319:全內反射稜鏡

320:光閥模組

350:螢幕

400、410:光學裝置

A1、A2:振幅

C:投影點

D1、D2:距離

F:平坦區段

L、M:位置

N:法線

P:焦點

Q:端點

S、S1、S2:驅動訊號

P1:最低電位區間

P2:脈衝上升時間

P3:最高電位區間

P4:脈衝下降時間

SV:最低電位

SP:最高電位

X1、X2、X3:位置

Y1、Y2、Y3:位置

θ:角度

圖1為本發明一實施例之光路調整機構的構件分解圖，圖2為圖1的光路調整機構於組裝後的平面示意圖。

圖3A為依本發明一實施例，顯示於一光學系統中光路調整機構搭配其他光學元件的構件示意圖，且圖3B為圖3A的光閥模組相對光路調整機構的配置關係例的示意簡圖。圖3C為依本發明另一實施例，顯示於一光學系統中光路調整機構搭配其他光學元件的構件示意圖。

圖4為說明致動器的不同配置位置實例的示意圖。

圖5為本發明一實施例的致動器所使用的驅動訊號的示意圖。

圖6為利用圖5的驅動信號驅動光學元件所產生的不同擺動位置的示意圖。

圖7顯示利用圖5之驅動訊號所產生的擺動的傅立葉級數頻率分量分佈圖。

圖8顯示利用具有正弦波變化段的驅動訊號所產生的擺動的傅立葉級數頻率分量分佈圖。

圖9顯示具有正弦波變化段的驅動訊號的示意圖。

圖10為本發明另一實施例的致動器的所使用的驅動訊號的示意圖。

圖11顯示利用圖10之驅動訊號所產生的擺動的傅立葉級數頻率分量分佈圖。

圖12為本發明另一實施例的致動器的示意圖。

圖13為本發明一實施例的光路調整機構應用於一光學系統的示意圖。

圖14為本發明另一實施例的光路調整機構應用於一光學系統的示意圖。

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。

下述實施例中之揭露內容揭示一種光路調整機構，其可運用於不同光學系統(例如顯示裝置、投影裝置等等)以調整或變化光路俾提供例如提升成像解析度、提高影像品質(消除暗區、柔和化影像邊緣)等效果而不限定，且光路調整機構於光學系統中的設置位置及配置方式完全不限定。

圖1為本發明一實施例之光路調整機構的構件分解圖，圖2為圖1的光路調整機構於組裝後的平面示意圖。如圖1所示，光路調整機構100包含一承載座110、一基座120、一磁鐵座130、一支架140、一第一對可撓件152、一第二對可撓件154。承載座110包含一內框112及一外框114，外框114位於內框112的外側且藉由第一對可撓件152連接內框112，且內框112與外框114例如可具有同一水平高度。承載座110的外框114可藉由第二對可撓件154連接至基座120。承載座110及基座120可設置於支架140的一側，且磁鐵座130可設置於支架140的另一側。於本實施例中，支架140為具有一第一側142、一第二側144及一第三側146的U型外形，且可形成一缺口140a供其他光學構件置入或穿過。再者，光路調整機構100可包含一光學元件180及複數個致動器。光學元件180可設在承載座 110，且例如可設在承載座110的內框112上，光學元件180例如可為一鏡片，且鏡片僅需能提供偏折光線的效果即可，其形式及種類並不限定，例如可為一透鏡(Lens)或一反射鏡(Mirror)。於本實施例中，複數個致動器例如可包含設在光學元件180的兩不同側的致動器160及致動器170，致動器160例如可包括線圈162及磁鐵164，且致動器170例如可包括線圈172與磁鐵174，磁鐵164、174可固定於磁鐵座130，因此當磁鐵座130固定於支架140的一側時，磁鐵164、174可隨之固定於支架140上。線圈162可固定於光學元件180的一側，且另一線圈172可固定於一線圈座176，線圈座176可固定於承載座110的外框114進而使線圈172固定於承載座110的外框114上。另外，上述承載座110、基座120及磁鐵座130例如可藉由螺絲或插銷的固定件190分別連接並固定至支架140。於另一實施例中，基座120亦可由支架140的一部分所構成，因基座120可直接固定於支架140或可為支架140的一部分，故承載座110的外框114可藉由第二對可撓件154連接至支架140。再者，於一實施例中，可設置一鏡片座192抵靠光學元件180的周緣以助於定位光學元件180。

如圖2所示，連接於內框112及外框114之間的第一對可撓件152可構成例如平行X軸方向的第一軸，且連接於外框114及基座120(支架140)之間的第二對可撓件154可構成例如平行Y軸方向的第二軸。於本實施例中，致動器160及致動器170分別設在光學元件180互成直角的相鄰兩側，但本發明不限於此。致動器160(包含圖1所示設在光學元件180的線圈162及設在支架140的磁鐵164)於通電時產生的磁吸力或磁斥力可作用於光學元件180的一端，使光學元件180連同內框112以圖2所示的第一對可撓件152的軸向(X軸)為軸心往復擺動。同理，致動器170(包含圖1所示設在承載座外 框114的線圈172及設在支架140的磁鐵174)於通電時產生的磁吸力或磁斥力可作用於承載座外框114的一端，使光學元件180連同外框114以圖2所示的第二對可撓件154的軸向(Y軸)為軸心往復擺動。因此光學元件180可以產生兩個不同軸向上的擺動角度範圍，往復擺動或轉動至不同位置以將入射光偏折至不同方向，獲得調整或變化光線行進光路的效果。舉例而言，光學元件180可於兩個不同軸向上快速擺動而相對支架140產生四個不同的傾斜位置，因此原本入射至光學元件180的一畫素影像，被於四個不同傾斜位置快速變換的光學元件180偏折後可產生四個畫素影像，獲得將畫素解析度提高至4倍的效果。藉由本發明實施例的光路調整機構調整或變化光路，可視實際需求產生不同的效果，例如可用以提升投影解析度、提高影像品質(消除暗區、柔和化影像邊緣)等等而不限定。再者，藉由上述實施例的設計，因致動器的部分結構可直接設置於承載座上，可減少光路調整機構整體的體積、重量或元件數，且針對每一軸僅單側設有致動器可進一步減少體積及重量並降低製造成本。

圖3A為依本發明一實施例，顯示於一光學系統中光路調整機構搭配其他光學元件的構件示意圖。如圖3A所示，於光學系統200中，光路調整機構100例如可配置於鄰近光閥模組210和稜鏡220位置處。光閥模組210例如可為一數位微鏡元件(Digital Micro-mirror Device,DMD)、矽基液晶面板(liquid-crystal-on-silicon panel,LCOS Panel)或是穿透式液晶面板等，且稜鏡220例如可為全內反射稜鏡(TIR Prism)、反向全內反射稜鏡(RTIR Prism)或偏振分光稜鏡(PBS prism)等等而不限定。於一實施例中，因支架140的一端可形成一缺口140a，故光閥模組210的一部分可伸入支架140的缺口140a，因此光路調整機構100可避開光閥模組210使組裝後的位置更靠近稜鏡 220，如此可進一步縮小整體的體積且可縮短鏡頭的背焦。圖3B為圖3A的光閥模組相對光路調整機構的配置關係例的示意簡圖。於此光閥模組210的一表面定義為輸出影像光束的一側的最外圍構件(例如玻璃保護蓋212)的表面，舉例而言，若圖3A的光閥模組210為一數位微鏡元件，則光閥模組210的表面210a可為玻璃保護蓋212的表面。於其他的實施例中，若光閥模組210為一矽基液晶面板，則光閥模組210的表面210a可為玻璃基板的表面；若光閥模組210為一穿透式液晶面板，則光閥模組210的表面210a可為偏光板的表面。如圖3B所示，光閥模組210的表面210a的法線N與支架140有最靠近表面210a的交點P，亦即交點P為表面210a的法線N與支架140交會所可能形成的多個交點中，最靠近表面210a的交點。再者，支架140具有當投影在法線N上會最遠離交點P的一端點Q，則於一實施例中，可配置使交點P至表面210a在法線N的距離D1，小於端點Q投影在法線N上的投影點C與交點P在法線N的距離D2，如此光閥模組210可更靠近例如圖3A所示的鏡片180a及稜鏡220，獲得縮小整體的體積且可縮短鏡頭背焦的效果。於一實施例中，如圖3A所示，光學元件180可為一鏡片180a，鏡片180a的表面與稜鏡220的最短間距可小於3mm，且光學元件180(鏡片180a)的表面與光閥模組210的表面210a的間距可小於1mm。需注意於上述實施例中，支架140的U型外形僅為例示而不限定，支架140僅需具有能讓光閥模組210(或於空間上可能干涉光路調整機構的其他構件)的一部分伸入的空間即可，其外型完全不限定。於另一實施例中，如圖3C所示，支架140於臨近光閥模組210的一端可延伸形成一凸耳結構140c，且光閥模組210可置入凸耳結構140c圈圍出的開口140d，亦即支架140僅需於臨近光閥模組210的一端對應光閥模組210形成缺口或延 伸部，且缺口或延伸部可界定出容置至少部分光閥模組210的空間，即可獲得讓光路調整機構200組裝後的位置得以更靠近稜鏡220的效果。

再者，上述實施例的致動器的構件(例如磁鐵與線圈)分佈方式僅為例示而不限定。舉例而言，請參考圖4，若要使光學元件180以第一對可撓件152為軸(X軸方向)擺動，致動器的一部分160a(磁鐵或線圈)需設在光學元件180或承載座內框112(例如位置X1)，另一部分160b(線圈或磁鐵)則可設在承載座外框114、基座120或支架140(例如位置X2或位置X3均可)。再者，若要使光學元件180以第二對可撓件154為軸(Y軸方向)擺動，致動器的一部分170a(磁鐵或線圈)需設在或承載座外框114(例如位置Y1)，另一部分170b(線圈或磁鐵)則可設在光學元件180、承載座內框112、基座120或支架140(例如位置Y2或位置Y3均可)。

於一實施例中，承載座110、基座120、磁鐵座130、支架140、第一對可撓件152、第二對可撓件154可利用相同材質一體成型、或者其中兩個或超過兩個的組件可先一體成形再與其餘元件組合均可。舉例而言，承載座110、基座120、支架140、第一對可撓件152及第二對可撓件154可利用相同材質一體成型再連接磁鐵座130。再者，於一實施例中，亦可在支架140上直接形成容置磁鐵的結構而可省略磁鐵座130。

依上述各個實施例的設計，可提供一種光路調整機構製造方法，例如首先提供一支架與一光閥模組，再於支架設置一承載座以承載一光學元件。光閥模組具有一表面，表面的一法線與支架有一最靠近表面的交點，支架具有投影在法線上最遠離交點的一端點，且交點至表面在法線的距離，小於端點投影在法線上的投影點與交點的距 離。再者，可設置一第一對可撓件連接承載座的內框及外框，且設置一第二對可撓件連接承載座與支架，再於第一軸的兩側中的僅其中一側設置一致動器，且於第二軸的兩側中的僅其中一側設置另一致動器。

圖5為本發明一實施例的致動器所使用的驅動訊號的示意圖。如圖5所示，本實施例的驅動訊號S可為週期性的階梯式方波，且於每一周期時間例如可包含一最低電位區間P1、一脈衝上升時間P2、一最高電位區間P3及一脈衝下降時間P4，於最低電位區間P1中光學元件維持在一擺動位置，於最高電位區間P3中光學元件維持在另一擺動位置，且藉由脈衝上升時間P2及脈衝下降時間P4使光學元件180在二個不同擺動位置之間變換。於本實施例中，最低電位區間P1具有驅動訊號S的最低電位SV，最高電位區間P3具有驅動訊號S的最高電位SP，脈衝上升時間P2隨時間變化由最低電位SV上昇至最高電位SP，且脈衝下降時間P4隨時間變化由最高電位SP位置下降至最低電位SV。依本實施例的設計，每一周期時間內的脈衝上升時間P2的電壓值漸增且其中具有實質上不隨時間變化的平坦區段F，因此產生一上升的階梯狀波型且不具有增加後再減少的電壓值變化。每一周期時間內脈衝下降時間P4的電壓值漸減且其中具有不隨時間變化的平坦區段F，因此產生一下降的階梯狀波型且不具有減少後再增加的電壓值變化。於本實施例中，各個平坦區段F的電壓值均位於最高電位SP與最低電位SV之間，且各個平坦區段定義為電壓值變化量(即平坦區段中的最高電壓值與最低電壓值的差值)小於最高電位SP及最低電位SV的差值的0.1%。再者，於一實施例中，平坦區段F的斜率的絕對值小於1V/ms。

圖6為利用圖5的驅動信號驅動光學元件所產生的不同擺 動位置的示意圖。舉例而言，當致動器160接收驅動訊號S的最低電位區間P1時，致動器160致動光學元件180使其變換至位置M，當致動器160接收驅動訊號S的最高電位區間P3時，致動器160致動光學元件180使其變換至位置L。藉由脈衝上升時間P2及脈衝下降時間P4可使光學元件180於位置M與位置L之間變換。光學元件180在位置M及位置L之間偏擺一角度θ，且最低電位區間P1及最高電位區間P3的振幅可決定角度θ的大小。

圖7顯示利用圖5之驅動訊號(變化段為階梯狀波形)所產生的擺動的傅立葉級數頻率分量分佈圖，圖8顯示利用圖9之驅動訊號(變化段為正弦波波形)所產生的擺動的傅立葉級數頻率分量分佈圖。比較圖7及圖8的虛線方框部分可清楚看出，利用圖7變化段為階梯狀波形的驅動訊號可降低中高頻段(例如300-780Hz)的頻率響應，以減少光學元件作動的噪音並使擺動角度的控制更為穩定及精確。於一實施例中，當一周期時間的脈衝上升時間P2與脈衝下降時間P4的時間長度分別介於0.8-1.0ms之間時，頻率響應的降低效果較佳。

依上述各個實施例的設計，可提供一種光路調整機構製造方法，例如首先於一承載座設置一第一軸及一第二軸，再於承載座設置一光學元件。再者，可於第一軸的一側設置一致動器，並於第二軸的一側設置另一致動器。各個致動器可依據一驅動訊號使光學元件於至少一第一擺動位置及一第二擺動位置之間變換，驅動訊號的一周期時間的脈衝上升時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的一第一平坦區段，於驅動訊號的周期時間的脈衝下降時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的一第二平坦區段，第一平坦區段及第二平坦區段的電壓值均位於第一驅動訊號的周期時間的最高電位及最低電位之間，且各個平坦區段的電壓值變化量小於最高電位及最低電位的差值的 0.1%。

圖10為本發明另一實施例的致動器的所使用的驅動訊號的示意圖。於本實施例中，第一對可撓件152(X軸方向)的兩側可設置兩個致動器160，兩個致動器160可輸入兩個不同訊號協同控制光學元件180以X軸為軸心的擺動，第二對可撓件154(Y軸方向)的兩側可設置兩個致動器170，兩個致動器170可輸入兩個不同訊號協同控制光學元件180以Y軸方向為軸心的擺動。圖10顯示針對每一軸(例如X軸方向或Y軸方向)的兩個不同訊號S1、S2的波形，依本實施例的設計，振幅較小的訊號為S1且具有振幅A1，振幅較大的訊號為S2且具有振幅A2，則訊號S1、S2的振幅比值A2/A1符合1<(A2/A1)≦(7/6)時，可降低基頻外不同頻段的響應，且特別是偶數倍頻的頻段其降低響應的效果更佳。圖11顯示訊號S1、S2的振幅比值A2/A1=7/6時所產生的擺動的傅立葉級數頻率分量分佈圖，由圖11可清楚看出於該比值下基頻外的不同頻段的響應明顯下降，特別是偶數倍頻的頻段其降低響應的效果更佳，因此可減少光學元件作動的噪音並使擺動角度的控制更為穩定及精確。

上述各個實施例的致動器的結構及作動方式完全不限定，僅需能提供使光學元件傾斜並擺動的作用力即可。於另一實施例中，承載座110例如可由磁性材料構成，且致動器可為一空心線圈或一電磁鐵，當線圈或電磁鐵通電時可產生吸力吸引承載座，使光學元件180一端下壓產生擺動運動。於另一實施例中，如圖12所示，亦可利用設置於承載座110的一壓電元件250，透過在壓電元件250上施加電場可使壓電元件250產生壓縮或拉伸變形，意即可將電能轉為機械能以使光學元件180往復擺動達到調整光路效果。

圖13為本發明一實施例的光路調整機構應用於一光學系 統的示意圖。請參照圖11，光學裝置400包括照明系統310、光閥模組320、投影鏡頭260以及光路調整機構100。其中，照明系統310具有光源312，其適於提供光束314，且光閥模組320配置光束314的傳遞路徑上。此光閥模組320適於將光束314轉換為多數個子影像314a。此外，投影鏡頭260配置於這些子影像314a的傳遞路徑上，且光閥模組320係位於照明系統310與投影鏡頭260之間。另外，光路調整機構100可配置於光閥模組320與投影鏡頭260之間或投影鏡頭260內，例如可以在光閥模組320和全內反射稜鏡319之間或是可以在全內反射稜鏡319和投影鏡頭260之間，且位於這些子影像314a的傳遞路徑上。上述之光學裝置400中，光源312例如可包括紅光發光二極體312R、綠光發光二極體312G、及藍光發光二極體312B，各個發光二極體發出的色光經由一合光裝置316合光後形成光束314，光束314會依序經過蠅眼透鏡陣列(fly-eye lens array)317、光學元件組318及全內反射稜鏡(TIR Prism)319。之後，全內反射稜鏡319會將光束314反射至光閥模組320。此時，光閥模組320會將光束314轉換成多數個子影像314a，而這些子影像314a會依序通過全內反射稜鏡319及光路調整機構100，並經由投影鏡頭260將這些子影像314a投影於螢幕350上。於本實施例中，當這些子影像314a經過光路調整機構100時，光路調整機構100會改變部分這些子影像314a的傳遞路徑。也就是說，通過此光路調整機構100的這些子影像314a會投影在螢幕350上的第一位置(未繪示)，另一部份時間內通過此光路調整機構100的這些子影像314a則會投影在螢幕350上的第二位置(未繪示)，其中第一位置與第二位置係在水平方向或/且垂直方向上相差一固定距離。於本實施例中，由於光路調整機構100能使這些子影像314a之成像位置在水平方向或/且垂直方向上移動一固定距離， 因此能提高影像之水平解析度或/且垂直解析度。當然，上述實施例僅為例示，本發明實施例的光路調整機構可運用於不同光學系統以獲得不同效果，且光路調整機構於光學系統中的設置位置及配置方式完全不限定。例如圖14所示，亦可將光路調整機構100設在光學裝置410的投影鏡頭260內。

光閥模組(Light valve)一詞已為投影產界廣泛使用，在此產業中大多可用來指一種空間光調變器(Spatial Light Modulator,SLM)中的一些獨立光學單元。所謂空間光調變器，含有許多獨立單元(獨立光學單元)，這些獨立單元在空間上排列成一維或二維陣列。每個單元都可獨立地接受光學信號或電學信號的控制，利用各種物理效應(泡克爾斯效應、克爾效應、聲光效應、磁光效應、半導體的自電光效應或光折變效應等)改變自身的光學特性，從而對照明在該複數個獨立單元的照明光束進行調製，並輸出影像光束。獨立單元可為微型反射鏡或液晶單元等光學元件。亦即，光閥模組可以是數位微鏡元件(Digital Micro-mirror Device,DMD)、矽基液晶面板(liquid-crystal-on-silicon panel,LCOS Panel)或是穿透式液晶面板等。

投影機是利用光學投影方式將影像投射至螢幕上的裝置，在投影機產業中，一般依內部所使用的光閥模組的不同，將投影機分為陰極射線管(Cathode Ray Tube)式投影機、液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)式投影機、數位光投影機(Digital Light Projector,DLP)以及液晶覆矽(Liquid Crystal on Silicon,LCOS)投影機因投影機運作時光線會透過LCD面板作為光閥模組，所以屬於穿透式投影機，而使用LCOS、DLP等光閥模組的投影機，則是靠光線反射的原理顯像，所以稱為反射式投影機。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。另外，本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明之權利範圍。

F‧‧‧平坦區段

S‧‧‧驅動訊號

P1‧‧‧最低電位區間

P2‧‧‧脈衝上升時間

P3‧‧‧最高電位區間

P4‧‧‧脈衝下降時間

SV‧‧‧最低電位

SP‧‧‧最高電位

Claims (10)

1. 一種光路調整機構，包含：一承載座；一光學元件，設在該承載座；以及一第一致動器，用以使該光學元件以一第一軸為軸心作動，該第一致動器接收一第一驅動信號，其中於該第一驅動訊號的一周期時間的脈衝上升時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的一第一平坦區段，於該第一驅動訊號的該周期時間的脈衝下降時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的一第二平坦區段，該第一平坦區段及該第二平坦區段的電壓值均位於該第一驅動訊號的該周期時間的最高電位及最低電位之間，且各該平坦區段的電壓值變化量小於該最高電位及最低電位的差值的0.1%。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光路調整機構，其中該周期時間的該脈衝上升時間及該周期時間的該脈衝下降時間的時間長度分別介於0.8-1.0ms之間。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之光路調整機構，其中於該周期時間的該脈衝上升時間內不存在增加後再減少的電壓值變化，且於該周期時間的該脈衝下降時間內不存在減少後再增加的電壓值變化。
4. 如申請專利範圍第1或2項所述之光路調整機構，其中該第一致動器使該光學元件於一第一擺動位置與一第二擺動位置之間變換，且各該平坦區段的斜率的絕對值小於1V/ms。
5. 如申請專利範圍第1或2項所述之光路調整機構，更包含：一第二致動器，用以使該光學元件以一第二軸為軸心作動，且該第二致動器接收一第二驅動信號。
6. 如申請專利範圍第5項所述之光路調整機構，更包含：一第一對可撓件，設在該承載座上且構成該第一軸；以及一第二對可撓件，設在該承載座與該支架之間且構成該第二軸。
7. 一種光路調整機構，包含：一承載座；一光學元件，設在該承載座，以及一第一致動器及一第二致動器，用以使該光學元件以一第一軸為軸心作動，其中該第一致動器及該第二致動器位於該第一軸的兩側，該第一致動器接收一第一驅動信號，該第二致動器接收一第二驅動信號，該第一驅動信號具有一第一振幅，該第二驅動信號具有一第二振幅，該第二振幅大於該第一振幅，且該第二振幅相對該第一振幅的比值等於或小於7/6。
8. 如申請專利範圍第7項所述之光路調整機構，更包含：一第三致動器及一第四致動器，用以使該光學元件以一第二軸為軸心作動，其中該第三致動器及該第四致動器位於該第二軸的兩側。
9. 如申請專利範圍第8項所述之光路調整機構，其中該第三致動器接收一第三驅動信號，該第四致動器接收一第四驅動信號，該第三驅動信號具有一第三振幅，該第四驅動信號具有一第四振幅，該第四振幅大於該第三振幅，且該第四振幅相對該第三振幅的比值等於或小於7/6。
10. 一種光路調整機構的製造方法，包含於一承載座設置一第一軸及一第二軸；於該承載座設置一光學元件；於該第一軸的一側設置一致動器；以及於該第二軸的一側設置另一致動器，其中各該致動器依據一驅動 訊號使該光學元件於至少一第一擺動位置及一第二擺動位置之間變換，該驅動訊號的一周期時間的脈衝上升時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的一第一平坦區段，於該驅動訊號的該周期時間的脈衝下降時間內具有電壓值實質上不隨時間變化的一第二平坦區段，該第一平坦區段及該第二平坦區段的電壓值均位於該驅動訊號的該周期時間的最高電位及最低電位之間，且各該平坦區段的電壓值變化量小於該最高電位及最低電位的差值的0.1%。

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