TWI793006B - Measuring device, measuring equipment for optical film process using the same and measuring method using the same - Google Patents
Measuring device, measuring equipment for optical film process using the same and measuring method using the same Download PDFInfo
- Publication number
- TWI793006B TWI793006B TW111117340A TW111117340A TWI793006B TW I793006 B TWI793006 B TW I793006B TW 111117340 A TW111117340 A TW 111117340A TW 111117340 A TW111117340 A TW 111117340A TW I793006 B TWI793006 B TW I793006B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- optical film
- camera
- ruler
- image
- interval
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
本發明實施例是有關於一種量測裝置、應用其之光學膜製程量測設備及量測方法。 The embodiments of the present invention relate to a measurement device, an optical film manufacturing process measurement device and a measurement method using the measurement device.
偏光板為廣泛應用於顯示器之光學元件,隨著顯示器的應用越來越廣,例如,手機、穿戴式裝置等,對偏光板品質的要求也越來越高。 Polarizers are optical components widely used in displays. As displays become more widely used, such as mobile phones and wearable devices, the requirements for the quality of polarizers are also getting higher and higher.
光學膜製程中,藉由偏光膜的延伸可以調整偏光膜產品的光學性質,因此光學膜的延伸寬度是決定良率的重要因子之一。通常,光學膜在製程開始及結束前,由人員使用雷射測距儀量測寬度。然而,在這樣的量測方式,準確度易受人為影響,且安全上有疑慮。因此,本發明實施例提出一種量測裝置、應用其之光學膜製程量測設備及量測方法,可改善前述習知問題。 In the optical film manufacturing process, the optical properties of the polarizing film product can be adjusted by stretching the polarizing film, so the stretching width of the optical film is one of the important factors determining the yield. Usually, the width of the optical film is measured by personnel using a laser rangefinder before and after the process is started. However, in such a measurement method, the accuracy is easily affected by human beings, and there are doubts about the safety. Therefore, the embodiment of the present invention proposes a measurement device, an optical film manufacturing process measurement device and a measurement method using the same, which can improve the aforementioned conventional problems.
本發明一實施例提出一種量測裝置。量測裝置包括一尺規及一固定裝置。尺規具有一尺規面。固定裝置用以連接尺規。基於固定裝置架設在一第一滾輪上,尺規面模擬一光學膜的一表面。 An embodiment of the invention provides a measuring device. The measuring device includes a ruler and a fixing device. The ruler gauge has a ruler gauge surface. The fixture is used to connect the ruler gauge. Based on the fixing device mounted on a first roller, the gauge surface simulates a surface of an optical film.
本發明另一實施例提出一種光學膜製程量測設備。光學膜製程量測設備包括一光學膜製程裝置、一量測裝置、一第一攝像器及一處理器。光學膜製程裝置包括一第一滾輪。量測裝置包括一尺規及一固定裝置。尺規具有一尺規面。固定裝置用以連接尺規。基於固定裝置架設在一第一滾輪上,尺規面模擬一光學膜的一表面。第一攝像器用以擷取尺規面之一第一尺規面影像。處理器用以依據第一尺規面影像,取得第一尺規面影像之一第一尺寸區間以及依據第一尺寸區間及第一尺寸區間之一第一像素數,取得第一攝像器之一第一攝像精度。 Another embodiment of the present invention provides an optical film process measuring device. The optical film process measurement equipment includes an optical film process device, a measurement device, a first camera and a processor. The optical film processing device includes a first roller. The measuring device includes a ruler and a fixing device. The ruler gauge has a ruler gauge surface. The fixture is used to connect the ruler gauge. Based on the fixing device mounted on a first roller, the gauge surface simulates a surface of an optical film. The first camera is used to capture a first image of the ruler plane. The processor is used to obtain a first dimension interval of the first dimension image according to the first dimension image, and obtain a first dimension of the first camera according to the first dimension interval and a first number of pixels in the first dimension interval. 1. Camera accuracy.
本發明另一實施例提出一種量測方法。量測方法應用一量測裝置量測一光學膜。一光學膜製程裝置包括一第一滾輪,一量測裝置架設在第一滾輪,量測裝置包括一尺規及一固定裝置,尺規具有一尺規面,固定裝置連接尺規。量測方法如以下步驟:一第一攝像器擷取尺規面之一第一尺規面影像;依據第一尺規面影像,取得第一尺規面影像之一第一尺寸區間;以及,依據第一尺寸區間及第一尺寸區間之第一像素數,取得第一攝像器之一第一攝像精度。 Another embodiment of the invention provides a measurement method. The measuring method uses a measuring device to measure an optical film. An optical film manufacturing device includes a first roller. A measuring device is erected on the first roller. The measuring device includes a ruler and a fixing device. The ruler has a ruler surface, and the fixing device is connected to the ruler. The measurement method includes the following steps: a first camera captures a first image of a ruler surface; according to the image of the first ruler surface, a first size interval of the image of the first ruler surface is obtained; and, According to the first size interval and the first number of pixels in the first size interval, a first imaging accuracy of the first camera is obtained.
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解,下文特舉實施例,並配合所附圖式詳細說明如下: In order to have a better understanding of the above-mentioned and other aspects of the present invention, the following specific examples are given in detail with the accompanying drawings as follows:
10.10’:光學膜製程量測設備 10.10': Optical film process measurement equipment
11:光學膜製程裝置 11:Optical film processing equipment
11A:處理槽 11A: Treatment tank
11B:第一滾輪 11B: The first roller
11C:第二滾輪 11C: Second roller
11C1:第一表面 11C1: First Surface
11C2:第二表面 11C2: Second Surface
12A:第一攝像器 12A: The first camera
12B:第二攝像器 12B: Second camera
13:處理器 13: Processor
14:光學膜 14: Optical film
14e1:第一邊緣 14e1: first edge
14e2:第二邊緣 14e2: second edge
100:量測裝置 100: Measuring device
110:尺規 110: Ruler
110s:尺規面 110s: Ruler surface
120:第一固定裝置 120: The first fixture
121:第一連接件 121: the first connector
1211:本體 1211: Ontology
1211a:第一穿孔 1211a: first perforation
1212:轉動部 1212: rotating part
1212b:貫孔 1212b: through hole
1212A:連接部 1212A: connection part
1212B:承載部 1212B: bearing part
1212a:第二穿孔 1212a: second perforation
1213:操作部 1213: Operation Department
122:第一桿 122: First shot
123:第二桿 123: second shot
124:第二連接件 124: the second connector
125:第三桿 125: Third shot
126:止滑件 126: Anti-slip parts
130:第二固定裝置 130: second fixture
AX1,AX2:中心軸 AX1, AX2: central axis
A1:第一攝像精度 A1: First camera accuracy
A2:第二攝像精度 A2: Second camera accuracy
C1:第一中心線刻度值 C1: first center line scale value
C2:第二中心線刻度值 C2: second center line scale value
dS1:第一尺寸區間 dS1: first size interval
dS2:第二尺寸區間 dS2: second size interval
H:間距 H: Spacing
L1:模擬線 L1: Analog line
MA:第一尺規面影像 MA: The first dimension image
MA’:第一實測光學膜影像 MA': The first measured optical film image
MA1:第一量測刻度值 MA1: the first measurement scale value
MA2:第二量測刻度值 MA2: second measurement scale value
MB:第二尺規面影像 MB: second-foot dimension image
MB’:第二實測光學膜影像 MB': The second measured optical film image
MB1:第三量測刻度值 MB1: The third measurement scale value
MB2:第四量測刻度值 MB2: Fourth measurement scale value
MC1:第一中心線刻度值 MC1: first center line scale value
MC2:第二中心線刻度值 MC2: second center line scale value
P1:第一像素數 P1: the number of first pixels
P2:第二像素數 P2: second pixel number
W1:寬度 W1: width
X,Y,Z:軸 X, Y, Z: axes
△H1:第一間隔值 △H1: first interval value
△H2:第二間隔值 △H2: second interval value
第1圖繪示依照本發明一實施例之光學膜製程裝置的示意圖。 FIG. 1 is a schematic diagram of an optical film manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
第2A~2C圖繪示依照本發明一實施例之光學膜製程量測設備於不同視角的示意圖。 FIGS. 2A-2C show schematic diagrams of an optical film process measurement device at different viewing angles according to an embodiment of the present invention.
第3A圖繪示第2A圖之第一攝像器所擷取之第一尺規面影像之示意圖。 Fig. 3A is a schematic diagram of the first dimension image captured by the first camera in Fig. 2A.
第3B圖繪示第2A圖之第二攝像器所擷取之第二尺規面影像之示意圖。 Fig. 3B is a schematic diagram of the second dimension image captured by the second camera in Fig. 2A.
第4圖繪示第2A圖之第一連接件之示意圖。 FIG. 4 shows a schematic diagram of the first connecting member in FIG. 2A.
第5A圖繪示第2B圖之尺規與模擬線未接觸之示意圖。 Fig. 5A shows a schematic diagram of the ruler gauge in Fig. 2B not in contact with the simulated line.
第5B圖繪示第5A圖之尺規與模擬線接觸之示意圖。 Fig. 5B shows a schematic diagram of the ruler in Fig. 5A in contact with the simulated wire.
第6圖繪示依照本發明一實施例之光學膜製程設備的示意圖。 FIG. 6 is a schematic diagram of an optical film manufacturing equipment according to an embodiment of the present invention.
第7A圖繪示第6圖之第一攝像器所擷取之第一實測光學膜影像之示意圖。 FIG. 7A is a schematic diagram of the first measured optical film image captured by the first camera in FIG. 6 .
第7B圖繪示第6圖之第二攝像器所擷取之第二實測光學膜影像之示意圖。 FIG. 7B is a schematic diagram of a second measured optical film image captured by the second camera in FIG. 6 .
請參照第1~3B圖,第1圖繪示依照本發明一實施例之光學膜製程裝置11的示意圖,第2A~2C圖繪示依照本發明
一實施例之光學膜製程量測設備10於不同視角的示意圖,第3A圖繪示第2A圖之第一攝像器12A所擷取之第一尺規面影像MA之示意圖,而第3B圖繪示第2A圖之第二攝像器12B所擷取之第二尺規面影像MB之示意圖。為避免圖式線條過於複雜,第2b圖未繪示攝像器12A及12B及處理器13,且第2C圖未繪示第一固定裝置120及第二固定裝置130。
Please refer to Figures 1-3B. Figure 1 shows a schematic diagram of an optical
如第1圖所示,光學膜製程裝置11包括至少一處理槽11A、至少一第一滾輪11B及至少一第二滾輪11C。在一實施例中,光學膜製程裝置11可用於一濕式延伸製程。
As shown in FIG. 1 , the optical
如第1圖所示,處理槽11A內可裝有處理液。光學膜14可藉由第一滾輪11B及第二滾輪11C於複數個處理槽11A間傳輸,並浸入處理液,以受相應的處理。此外,因為本發明實施例之尺規110之放置位置並無限定,因此本發明實施例之量測方法可量測處理液外的光學膜,及/或浸入處理液內的光學膜。
As shown in FIG. 1, the treatment liquid may be contained in the
在一實施例中,處理槽11A可用於製造延伸光學膜14,第1圖之多個處理槽11A之一者可以是膨潤槽、染色槽、交聯槽、洗淨槽或其它濕式製程的處理槽。此些處理槽11A可選擇性地增加、減少、重複配置、或進行其它調整。在一實施例中,製造光學膜14製程中可對偏光膜前驅物進行一延伸處理。延伸處理可在通過膨潤槽、和/或後續染色槽、交聯槽時進行。根據一些實施方案,從膨潤處理至交聯處理,偏光膜前驅物所累積的延伸
倍率約為4.5倍~8倍。
In one embodiment, the
如第1圖所示,滾輪不限於位於處理槽11A內或外。例如,第一滾輪11B與第二滾輪11C中可同時位於處理槽11A內或外;或者,第一滾輪11B與第二滾輪11C之一者可位於處理槽11A內,而另一者可位於處理槽11A外。
As shown in FIG. 1, the rollers are not limited to be located inside or outside the
如第1~2C圖所示,光學膜製程量測設備10包括前述光學膜製程裝置11、量測裝置100、第一攝像器12A、第二攝像器12B及處理器13。在量測光學膜14的幾何資訊前,可先取得攝像器的攝像精度。以下進一步舉例說明。
As shown in FIGS. 1 to 2C , the optical film
如第2A~2C圖所示,量測裝置100包括尺規110、第一固定裝置120及第二固定裝置130,尺規110具有尺規面110s,第一固定裝置120連接尺規110,且第二固定裝置130連接尺規110,其中,基於第一固定裝置120及第二固定裝置130架設在第一滾輪11B上,尺規面110s可模擬設置於第一滾輪11B上之光學膜的表面。第一攝像器12A用以擷取尺規面110s之第一尺規面影像MA。處理器13用以:依據第一尺規面影像MA,取得第一尺規面影像MA之第一尺寸區間dS1以及依據第一尺寸區間dS1及第一尺寸區間dS1範圍內之第一像素數P1,取得第一攝像精度A1。如此,不需架設實體之光學膜,透過尺規110模擬光學膜之表面,能取得第一攝像器12A之第一攝像精度A1。
As shown in Figures 2A to 2C, the measuring
在另一實施例中,量測裝置100亦可省略第二固定裝置130。
In another embodiment, the measuring
如第3A圖所示,處理器13更用以:依據下式(1),取得第一攝像精度A1,其中dS1表示第一尺規面影像MA所顯示之第一尺寸區間,而P1表示第一尺寸區間dS1內之第一像素數P1。
As shown in FIG. 3A, the
詳言之,如第2C及3A圖所示,尺規面110s具有刻度。第一尺規面影像MA顯示尺規面110s的刻度值。第一尺規面影像MA具有第一量測刻度值MA1及第二量測刻度值MA2,其分別對應尺規110之二刻度。第一尺寸區間dS1等於第一量測刻度值MA1與第二量測刻度值MA2之差值,如絕對值。如式(1),處理器13對第一尺寸區間dS1與第一尺寸區間dS1範圍內之第一像素數P1進行商值運算,所取得之商值即為第一攝像器12A之第一攝像精度A1。以第一像素數P1為3088點及第一尺寸區間dS1為440毫米為例來說,所取得之第一攝像精度A1為0.142毫米。第一攝像精度A1愈小,第一攝像器12A所擷取之影像的解析度愈高,據以取得之資訊愈精確。
In detail, as shown in Figures 2C and 3A, the
如第2C及3A圖所示,第一攝像器12A的視野不包含尺規110的尺寸範圍的端點刻度111。如此,第一攝像器12A所擷取之第一尺規面影像MA之二邊界可分別對應第一量測刻度值MA1及第二量測刻度值MA2,第一量測刻度值MA1及第二量測刻度值MA2可由處理器13分析第一尺規面影像MA而取得。第一尺寸區間dS1內的第一像素數P1大致上等於第一攝像器12A
的攝像解析度,其可由第一攝像器12A的已知性能得知,不需額外計算,如此可減輕處理器13負擔。在另一實施例中,第一攝像器12A的視野可包含尺規110的尺寸範圍的端點刻度111(第一量測刻度值MA1非第一尺規面影像MA之邊界),即使如此,處理器13可分析第一尺規面影像MA,取得第一量測刻度值MA1、第二量測刻度值MA2以及二者間的第一像素數P1。
As shown in FIGS. 2C and 3A , the field of view of the
如第2C圖所示,第一攝像器12A及第二攝像器12B的位置分別對應於尺規110的相對二端。第二攝像器12B用以擷取尺規面110s之第二尺規面影像MB。處理器13更用以:依據第二尺規面影像MB,取得第二尺規面影像MB之第二尺寸區間dS2以及依據第二尺寸區間dS2及第二尺寸區間dS2範圍內之第二像素數P2,取得第二攝像精度A2。如此,不需架設實體之光學膜,透過尺規110模擬光學膜之表面,能取得第二攝像器12B之第二攝像精度A2。第二攝像精度A2愈小,第二攝像器12B所擷取之影像的解析度愈高,據以取得之資訊愈精確。
As shown in FIG. 2C , the positions of the
如第3B圖所示,處理器13更用以:依據下式(2),取得第二攝像精度A2,其中dS2表示第二尺規面影像MB所顯示之第二尺寸區間,而P2表示第二尺寸區間dS2內之第二像素數P2。
As shown in FIG. 3B, the
詳言之,如第2C及3B圖所示,尺規面110s具有刻度。第二尺規面影像MB顯示尺規面110s的刻度值。第二尺規
面影像MB具有對應之第三量測刻度值MB1及第四量測刻度值MB2,其分別對應尺規110之二刻度。第二尺寸區間dS2等於第三量測刻度值MB1及第四量測刻度值MB2之差值,如絕對值。如式(2),處理器13對第二尺寸區間dS2與第二尺寸區間dS2範圍內之第二像素數P2進行商值運算,所取得之商值即為第二攝像器12B之第二攝像精度A2。第二攝像精度A2愈小,第二攝像器12B所擷取之影像的解析度愈高,據以取得之資訊愈精確。
In detail, as shown in Figures 2C and 3B, the
如第2C及3B圖所示,第二攝像器12B的視野不包含尺規110的尺寸範圍的端點刻度112,如此,第二攝像器12B所擷取之第二尺規面影像MB之二邊界分別對應第三量測刻度值MB1及第四量測刻度值MB2,第二尺寸區間dS2內的第二像素數P2大致上等於第二攝像器12B的攝像解析度,其可由第二攝像器12B的已知性能得知,不需額外計算,如此可減輕處理器13負擔。在另一實施例中,第二攝像器12B的視野可包含尺規110的尺寸範圍的端點刻度112(第四量測刻度值MB2非第二尺規面影像MB之邊界),即使如此,處理器13可分析第二尺規面影像MB,取得第三量測刻度值MB1、第四量測刻度值MB2以及二者間的第二像素數P2。
As shown in Figures 2C and 3B, the field of view of the
如第3A及3B圖所示,處理器13可採用影像分析技術,分析第一尺規面影像MA,以取得第一尺規面影像MA的第一中心線C1及其第一中心線刻度值MC1,以及分析第二尺規面影像MB,以取得第二尺規面影像MB的第二中心線C2及其第
二中心線刻度值MC2,並記錄第一中心線C1的位置、第二中心線C2的位置、第一中心線刻度值MC1及第二中心線刻度值MC2。
As shown in Figures 3A and 3B, the
在一實施例中,第一量測刻度值MA1及第二量測刻度值MA2相對第一中心線C1對稱,例如,第一量測刻度值MA1及第二量測刻度值MA2分別為第一尺規面影像MA的相對二邊緣(或邊界)的刻度值,因此處理器13可透過下式(3)取得第一中心線刻度值MC1,式(3)假設第一量測刻度值MA1小於第二量測刻度值MA2。相似地,第三量測刻度值MB1及第四量測刻度值MB2相對第二中心線C2對稱,例如,第三量測刻度值MB1及第四量測刻度值MB2分別為第二尺規面影像MB的相對二邊緣(或邊界)的刻度值,因此處理器13可透過下式(4)取得第二中心線刻度值MC2,式(4)假設第三量測刻度值MB1小於第四量測刻度值MB2。
In one embodiment, the first measurement scale value MA1 and the second measurement scale value MA2 are symmetrical with respect to the first centerline C1, for example, the first measurement scale value MA1 and the second measurement scale value MA2 are respectively the first The scale values of the relative two edges (or borders) of the ruler surface image MA, so the
如第2C圖所示,第一攝像器12A與第二攝像器12B可依據已知的間距H架設。例如,第一攝像器12A與第二攝像器12B以其鏡頭中心間隔所設間距H的方式配置。在本實施例中,尺規110的長度大於間距H,如此,可在不移動尺規110下取得第一中心線刻度值MC1及第二中心線刻度值MC2,其中第一中心線刻度值MC1及第二中心線刻度值MC2可同時取得或分
別於不同時點取得。在另一實施例中,尺規110的長度小於間距H,在此情況下,可先使第一攝像器12A與尺規110具端點刻度111的一端相對應,並採用前述相同方法取得第一中心線刻度值MC1,然後移動尺規110,使第二攝像器12B與尺規110具端點刻度112的一端相對應,並採用前述相同方法取得第二中心線刻度值MC2。然,也可先取得第二中心線刻度值MC2,再取得第一中心線刻度值MC1。以下說明第一固定裝置120的結構。
As shown in FIG. 2C , the
如第2A及2B圖所示,第一固定裝置120包括第一連接件121、第一桿122及第二桿123。第一桿122穿設第一連接件121,且用以放置在第一滾輪11B上。第二桿123穿設第一連接件121,且用以承載尺規110。第一桿122與第二桿123例如是平行配置。第一連接件121與第一桿122之間具有餘隙(鬆配合),使第一固定裝置120與第一桿122可相對轉動。
As shown in FIGS. 2A and 2B , the
如第2A及2B圖所示,第一固定裝置120更包括第二連接件124及第三桿125,第三桿125穿設第二連接件124。第一桿122穿設第二連接件124。第一桿122可放置在位於處理槽11A之第二滾輪11C上。第一桿122位於第二滾輪11C之第一表面11C1之側,而第三桿125位於第二滾輪11C之第二表面11C2之側或接觸第二表面11C2,第一表面11C1之法線方向與第二表面11C2之法線方向非平行,例如是呈垂直或二法線方向之間夾一銳角。由於第三桿125位於第二表面11C2之側,因此可阻止第一固定裝置120往下滑動而脫離第一滾輪11B及/或第二滾
輪11C。
As shown in FIGS. 2A and 2B , the
如第2A及2B圖所示,第一固定裝置120更包括止滑件126,其連接於第一桿122,且用以放置在第二滾輪11C上。止滑件126與第二滾輪11C之間具有一摩擦阻力,可增加第一固定裝置120與第二滾輪11C之滑動阻力。在一實施例中,止滑件126例如是具有粗糙結構,或者包含能提供摩擦力的材料,如橡膠。
As shown in FIGS. 2A and 2B , the
第二固定裝置130具有類似或同於第一固定裝置120的結構。例如,第二固定裝置130也包括第一連接件121、第一桿122、第二桿123、第二連接件124、第三桿125及止滑件126。第二固定裝置130之第一連接件121、第一桿122、第二桿123、第二連接件124、第三桿125及止滑件126的結構及/或連接關係相似於或同於第一固定裝置120之第一連接件121、第一桿122、第二桿123、第二連接件124、第三桿125及止滑件126的結構及/或連接關係,於此不再贅述。
The
以下詳細說明第一連接件121的結構。請參照第4圖,其繪示第2A圖之第一連接件121之示意圖。第一連接件121包括本體1211、轉動部1212及操作部1213。本體1211具有一第一穿孔1211a,第一穿孔1211a用以讓第一桿122(第一桿122繪示於第2A圖)穿過。轉動部1212具有第二穿孔1212a,第二穿孔1212a用以讓第二桿123(第二桿123繪示於第2A圖)穿過。在一實施例中,本體1211沿X軸延伸,第一穿孔1211a沿Y軸
貫穿本體1211。轉動部1212可轉動地連接於本體1211,例如,轉動部1212可繞X軸相對本體1211轉動。由於轉動部1212可轉動地連接於本體1211,因此轉動部1212之第二穿孔1212a的中心軸AX2可繞X軸轉動至平行於第一穿孔1211a之中心軸AX1,如第4圖所示,使穿設於第一穿孔1211a之第一桿122與穿設於第二穿孔1212a之第二桿123大致上平行,如第2A圖所示。
The structure of the first connecting
如第4圖所示,操作部1213連接於本體1211,例如,本體1211與操作部1213固定,使本體1211可隨操作部1213轉動。
As shown in FIG. 4 , the
如第4及2B圖所示,第二連接件124包括類似或同於第一連接件121之結構。例如,第二連接件124也包括本體1211及轉動部1212。本體1211具有第一穿孔1211a,第一穿孔1211a用以讓第三桿125穿過。轉動部1212具有第二穿孔1212a,第二穿孔1212a用以讓第一桿122穿過。由於轉動部1212可轉動地連接於本體1211,因此轉動部1212之第二穿孔1212a的中心軸AX2可繞X軸轉動至垂直於第一穿孔1211a之中心軸AX1,使穿設於第一穿孔1211a之第一桿122與穿設於第二穿孔1212a之第二桿123大致上垂直,如第2A及2B圖所示。
As shown in FIGS. 4 and 2B , the second connecting
如第4圖所示,在一實施例中,轉動部1212相對本體1211可360度轉動。以結構來說,轉動部1212包括連接部1212A及承載部1212B,連接部1212A連接於承載部1212B。
連接部1212A具有貫孔1212b,本體1211可穿過貫孔1212b,使本體1211與轉動部1212結合並可相對轉動,例如,可360度轉動。前述第二穿孔1212a形成於承載部1212B。轉動部1212為一板狀材,其包括第一端、第二端及中間段,中間段連接第一端與第二端,且第一端與第二端分別具有第一子貫孔及第二子貫孔。以製程來說,板狀材在彎曲後,第一端與第二端重合而形成連接部1212A,且第一端之第一子貫孔與第二端之第二子貫孔重合而成貫孔1212b,且轉動部1212之中間段形成承載部1212B。
As shown in FIG. 4 , in one embodiment, the
請參照第5A~5B圖,第5A圖繪示第2圖之尺規110與模擬線L1未接觸之示意圖,而第5B圖繪示第5A圖之尺規110與模擬線L1接觸之示意圖。
Please refer to Figures 5A~5B, Figure 5A shows a schematic diagram of the
如第2A及5A圖所示,模擬線L1可例如是一實體線,其可架設在第一滾輪11B的輪面上,模擬線L1可模擬光學膜之傳輸表面上的幾何線段。如第5A圖所示,當初始架設第一固定裝置120於第一滾輪11B上時,模擬線L1與尺規110通常不會接觸。如第5B圖所示,第一連接件121可轉動(例如,轉動操作部1213)至尺規110之尺規面110s接觸到模擬線L1,此時尺規面110s的位置可視同光學膜之表面。前述第一尺規面影像MA及第二尺規面影像MB例如是基於尺規面110s接觸到模擬線L1時攝像器所擷取的影像。此外,模擬線L1與尺規面110s可線接觸,例如,模擬線L1可沿尺規面110s的整個寬度接觸尺規110;或者,模擬線L1與尺規面110s可點接觸,例如,模擬線L1可
接觸尺規面110s的一點。在一實施例中,模擬線L1可大致平行於光學膜表面的延伸方向;及/或模擬線L1大致與尺規面110s垂直。
As shown in FIGS. 2A and 5A , the simulation line L1 can be, for example, a solid line that can be erected on the wheel surface of the
在一實施例中,第一固定裝置120與第二固定裝置130的轉動量可相同(例如,第一固定裝置120與第二固定裝置130同步轉動),使尺規110沿X軸往上平移(即,不轉動),其中X軸例如是垂直於尺規面110s,Z軸例如是平行於尺規面110s。在另一實施例中,第一固定裝置120與第二固定裝置130的轉動量可相異,使尺規110相對第一固定裝置120或第二固定裝置130轉動。
In one embodiment, the rotation amount of the
接著,於實際光學膜製程中,將接續進行光學膜製程的光學膜測量,其中,可維持量測階段之第一攝像器12A及第二攝像器12B的架設,但移除量測裝置100。處理器13可使用第一攝像器12A及第二攝像器12B取得實際光學膜的幾何資訊,例如,光學膜的寬度、光學膜14的邊緣位置等,以下進一步舉例說明。
Then, in the actual optical film manufacturing process, the optical film measurement of the optical film manufacturing process will continue, wherein the installation of the
請參照第6~7B圖,第6圖繪示依照本發明一實施例之光學膜製程量測設備10’的示意圖,第7A圖繪示第6圖之第一攝像器12A所擷取之第一實測光學膜影像MA’之示意圖,而第7B圖繪示第6圖之第二攝像器12B所擷取之第二實測光學膜影像MB’之示意圖。
Please refer to Figures 6-7B. Figure 6 shows a schematic diagram of an optical film process measurement device 10' according to an embodiment of the present invention, and Figure 7A shows the first image captured by the
如第6圖所示,光學膜製程量測設備10’至少包括
光學膜製程裝置11(繪示於第1圖)、至少一第一攝像器12A、至少一第二攝像器12B及處理器13。第一攝像器12A及/或第二攝像器12B相對光學膜製程裝置11可移動地配置。進一步地說,一個第一攝像器12A與一個第二攝像器12B可組成一攝像組。光學膜製程量測設備10’可包括一個攝像組,其可相對光學膜製程裝置11可移動至多個處理槽11A之一者上游位置或下游位置,以量測光學膜製程中傳輸的光學膜14之幾何資訊。在另一實施例中,光學膜製程量測設備10’可包括多個攝像組,各攝像組可配置在對應之處理槽11A之上游位置或下游位置,以量測光學膜14的幾何資訊。處理器13電性連接於第一攝像器12A及第二攝像器12B,以分析第一攝像器12A及第二攝像器12B所擷取之影像。
As shown in Figure 6, the optical film process measurement equipment 10' includes at least
An optical film manufacturing device 11 (shown in FIG. 1 ), at least one
如第6圖所示,將光學膜14放置於光學膜製程裝置11中的第一滾輪11B之輪面上。其中,第一攝像器12A的位置對應光學膜14的第一邊緣14e1,使第一攝像器12A的視野(第一實測光學膜影像MA’)包含第一邊緣14e1,而第二攝像器12B的位置對應光學膜14的第二邊緣14e2,使第二攝像器12B的視野(第二實測光學膜影像MB’)包含第二邊緣14e2。
As shown in FIG. 6 , the
如第6及7B圖所示,第一攝像器12A可擷取第一實測光學膜影像MA’,第二攝像器12B可擷取第二實測光學膜影像MB’,處理器13可採用影像分析技術,分析第一實測光學膜影像MA’,以取得光學膜14的第一邊緣14e1的第一位置,以及分析第二實測光學膜影像MB’,以取得光學膜14的第二邊緣14e2
的第二位置,並依據第一位置及第二位置取得寬度W1。以第一實測光學膜影像MA’來說,處理器13可採用影像分析技術,分析第一實測光學膜影像MA’,以取得第一中心線C1(第2A~2C圖之量測階段已取得其位置)與第一邊緣14e1之間的第一間隔的第一間隔像素數,並依據第一攝像精度A1,取得第一間隔像素數所對應之第一間隔值△H1,其中,第一間隔值△H1以從第一中心線C1往遠離第一攝像器12A與第二攝像器12B之中間位置(或光學膜14之中間位置)的方向定義為正值,反之為負值。相似地,以第二實測光學膜影像MB’來說,處理器13可採用影像分析技術,分析第二實測光學膜影像MB’,以取得第二中心線C2(第2A~2C圖之量測階段已取得其位置)與第二邊緣14e2之間的第二間隔的第二間隔像素數,並依據第二攝像精度A2,取得第二間隔像素數所對應之第二間隔值△H2,其中,第二間隔值△H2以從第二中心線C2往遠離第一攝像器12A與第二攝像器12B之中間位置(或光學膜14之中間位置)的方向定義為正值,反之為負值。處理器13更用以依據間距H、第一間隔值△H1及第二間隔值△H2,取得光學膜14之寬度W1。具體來說,處理器13可依據下式(5),取得光學膜14之寬度W1。
As shown in Figures 6 and 7B, the
W1=H+△H1+△H2...(5) W1=H+△H1+△H2...(5)
由於實測前已取得第一攝像精度A1及第二攝像精度A2,因此實測所取得之光學膜幾何資訊相當精準。此外,由於實際製程中架設第一攝像器12A及第二攝像器12B,因此可即時
監控光學膜的幾何資訊現況,當一發現光學膜尺寸有不良時,能即時進行製程改善,例如調整延伸速度及/或滾輪張力。
Since the first imaging accuracy A1 and the second imaging accuracy A2 have been obtained before the actual measurement, the geometric information of the optical film obtained in the actual measurement is quite accurate. In addition, because the
在一實施例中,在滾輪的傳輸下,光學膜14可以一延伸速度(或移動速度)移動。攝像組可以相同延伸速度或不同速度移動,以監控光學膜之對應位置的幾何資訊現況。或者,光學膜製程量測設備10’可架設有多個攝像組,可即時地取得光學膜14在各個處理槽中的即時寬度,且可即時調整延伸參數,獲得更好的光學膜品質。
In one embodiment, the
在一實施例中,前述光學膜14可為偏光膜前驅物,材料包括聚乙烯醇(Polyvinyl alcohol,PVA)或其他適合的材料。舉例來說,偏光膜前驅物200可為聚乙烯醇的薄膜。聚乙烯醇可藉由皂化聚乙酸乙烯酯而形成。根據一些實施方案,聚乙酸乙烯酯可為乙酸乙烯酯之單聚物、或乙酸乙烯酯及其它單體之共聚物,所述其它單體可為不飽和羧酸類、烯烴類、不飽和磺酸類、或乙烯基醚類等等。在一些實施方案中,聚乙烯醇經過改質,例如是經醛類改質的聚乙烯醇縮甲醛(polyvinylformal)、聚乙烯醇縮乙酸、或聚乙烯醇縮丁醛(polyvinylbutyral)等等。在一些實施方案中,偏光膜前驅物200之厚度約為20μm~100μm。
In one embodiment, the aforementioned
在一實施例中,偏光膜前驅物可先被滾輪引導至膨潤槽,以對於偏光膜前驅物進行一膨潤處理。膨潤處理可去除偏光膜前驅物表面之異物以及偏光膜前驅物中之可塑劑,並且有助於後續之染色處理及交聯處理的進行。 In one embodiment, the polarizing film precursor may be firstly guided to the swelling tank by rollers, so as to perform a swelling treatment on the polarizing film precursor. The swelling treatment can remove foreign matter on the surface of the polarizing film precursor and the plasticizer in the polarizing film precursor, and facilitates subsequent dyeing and crosslinking treatments.
偏光膜前驅物接著被引導至染色槽,以對於偏光膜前驅物進行一染色處理。染色槽中的槽液含有一染色劑。染色劑可使用二色性色素、或其它適合的水溶性二色素染料。在一些實施方案中,染色劑包含碘和碘化鉀。 The polarizing film precursor is then guided to a dyeing tank to perform a dyeing process on the polarizing film precursor. The bath liquid in the dyeing tank contains a dyeing agent. As the dyeing agent, dichroic dyes or other suitable water-soluble dichromatic dyes can be used. In some embodiments, the stain comprises iodine and potassium iodide.
偏光膜前驅物接著被引導至交聯槽,以對於偏光膜前驅物進行一交聯處理。交聯槽中的槽液含有一交聯劑。交聯劑可使用硼酸。於交聯處理之後,偏光膜前驅物可被引導至洗淨槽,以對於偏光膜前驅物進行一洗淨處理。 The polarizing film precursor is then guided to the cross-linking tank to perform a cross-linking treatment on the polarizing film precursor. The bath solution in the crosslinking bath contains a crosslinking agent. As a crosslinking agent, boric acid can be used. After the cross-linking treatment, the polarizing film precursor can be guided to a cleaning tank to perform a cleaning treatment on the polarizing film precursor.
綜上,本發明實施例提出一種之量測裝置、應用其之光學膜製程量測設備及量測方法,其可以尺規先行模擬光學膜之量測。如此,不需實際架設光學膜,即能完成量測,而可避免用於量測使用之偏光膜前驅物或光學膜的浪費。此外,因為本發明實施例之量測方法可用於量測浸入處理液內的光學膜,在一實施例中,藉由依據光學膜延伸速度同步移動攝像器,或於製程設備中架設多組攝像器,而可即時地取得光學膜在各個處理槽中的即時寬度,而可以即時的調整延伸參數,而可得到更好的光學膜品質。 To sum up, the embodiment of the present invention proposes a measurement device, optical film manufacturing process measurement equipment and measurement method using the measurement device, which can simulate the measurement of the optical film with a ruler in advance. In this way, the measurement can be completed without actually erecting the optical film, and the waste of the polarizing film precursor or the optical film used for the measurement can be avoided. In addition, because the measurement method of the embodiment of the present invention can be used to measure the optical film immersed in the processing liquid, in one embodiment, by synchronously moving the camera according to the stretching speed of the optical film, or setting up multiple groups of cameras in the process equipment device, so that the real-time width of the optical film in each processing tank can be obtained in real time, and the stretching parameters can be adjusted in real time, so that better quality of the optical film can be obtained.
綜上所述,雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾。因此,本發明實施例之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 To sum up, although the present invention has been disclosed by the above embodiments, it is not intended to limit the present invention. Those skilled in the art of the present invention can make various changes and modifications without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the scope of protection of the embodiments of the present invention should be defined by the scope of the appended patent application.
11:光學膜製程裝置 11:Optical film processing equipment
11A:處理槽 11A: Treatment tank
11B:第一滾輪 11B: The first roller
11C:第二滾輪 11C: Second roller
110:尺規 110: Ruler
120:第一固定裝置 120: The first fixture
121:第一連接件 121: the first connector
1211:本體 1211: Ontology
1212:轉動部 1212: rotating part
1213:操作部 1213: Operation Department
122:第一桿 122: First shot
123:第二桿 123: second shot
124:第二連接件 124: the second connector
125:第三桿 125: Third shot
126:止滑件 126: Anti-slip parts
130:第二固定裝置 130: second fixture
L1:模擬線 L1: Analog line
X,Y,Z:軸 X, Y, Z: axes
Claims (17)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111117340A TWI793006B (en) | 2022-05-09 | 2022-05-09 | Measuring device, measuring equipment for optical film process using the same and measuring method using the same |
CN202211572283.8A CN115876050A (en) | 2022-05-09 | 2022-12-08 | Measuring device, optical film process measuring equipment applying same and measuring method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111117340A TWI793006B (en) | 2022-05-09 | 2022-05-09 | Measuring device, measuring equipment for optical film process using the same and measuring method using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI793006B true TWI793006B (en) | 2023-02-11 |
TW202344808A TW202344808A (en) | 2023-11-16 |
Family
ID=85766531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111117340A TWI793006B (en) | 2022-05-09 | 2022-05-09 | Measuring device, measuring equipment for optical film process using the same and measuring method using the same |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN115876050A (en) |
TW (1) | TWI793006B (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN202255204U (en) * | 2011-08-31 | 2012-05-30 | 中国石油化工股份有限公司 | Ruler for measuring width of thin film |
TW201821759A (en) * | 2016-12-05 | 2018-06-16 | 奇美材料科技股份有限公司 | Online measuring device and measuring method for optical film width whereby the width of the optical film can be calculated and monitored in real time, and the measurement is fast and accurate |
CN109906139A (en) * | 2016-10-18 | 2019-06-18 | 莱芬豪舍机械制造两合公司 | The measurement of two dimension or three-dimensional films pattern/online pattern identification measuring device and method |
-
2022
- 2022-05-09 TW TW111117340A patent/TWI793006B/en active
- 2022-12-08 CN CN202211572283.8A patent/CN115876050A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN202255204U (en) * | 2011-08-31 | 2012-05-30 | 中国石油化工股份有限公司 | Ruler for measuring width of thin film |
CN109906139A (en) * | 2016-10-18 | 2019-06-18 | 莱芬豪舍机械制造两合公司 | The measurement of two dimension or three-dimensional films pattern/online pattern identification measuring device and method |
TW201821759A (en) * | 2016-12-05 | 2018-06-16 | 奇美材料科技股份有限公司 | Online measuring device and measuring method for optical film width whereby the width of the optical film can be calculated and monitored in real time, and the measurement is fast and accurate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115876050A (en) | 2023-03-31 |
TW202344808A (en) | 2023-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2018228013A1 (en) | Front coated plane mirror-based structured light parameter calibration device and method | |
CN109238084B (en) | Automatic guiding method for micro round hole measurement | |
WO2020065815A1 (en) | Material testing machine | |
WO2019105315A1 (en) | Method and system for testing field of view | |
CN103115568A (en) | Method for testing geometric parameters of optical fiber coating layers | |
WO2020107586A1 (en) | Detection system and method for parameters of optical module | |
CN112033971A (en) | Visual flaw detection system and method | |
CN106030283B (en) | For examining the apparatus and method of semiconductor packages | |
TWI793006B (en) | Measuring device, measuring equipment for optical film process using the same and measuring method using the same | |
CN116242255B (en) | Multi-view-angle-based intelligent detection system for size of middle frame of mobile phone | |
CN111638227B (en) | VR optical module picture defect detection method and device | |
US11280698B2 (en) | Systems and methods for making a non-contact measurement of insertion loss for an optical fiber connector | |
CN113421310A (en) | Method for realizing cross-field high-precision measurement based on motion position error compensation technology of grating ruler positioning | |
JP2019045350A (en) | Material testing machine | |
CN110702505B (en) | Double-view-field video extensometer based on telecentric lens and cubic prism | |
TWI535996B (en) | 3d vision system for measuring distance | |
CN108682035B (en) | Laser space plane equation calculation method of single-step optical knife system | |
CN110864879A (en) | TOF depth module flatness testing system and method based on projection module | |
TWI604196B (en) | An optical flow speed measuring module and the method thereof | |
JP7191632B2 (en) | Eccentricity measurement method | |
CN109544639B (en) | Multi-mirror single-camera three-dimensional vibration testing device and method | |
CN105352968A (en) | Method for measuring fatigue crack tip stress strength factor of organic glass | |
JP2016063583A (en) | Expansion/contraction evaluation method of polymer actuator | |
TWI614480B (en) | Optical film width line measuring device and measuring method | |
WO2020103075A1 (en) | Image processing method and device |