TWI740602B - 植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法 - Google Patents

植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法 Download PDF

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TWI740602B
TWI740602B TW109127129A TW109127129A TWI740602B TW I740602 B TWI740602 B TW I740602B TW 109127129 A TW109127129 A TW 109127129A TW 109127129 A TW109127129 A TW 109127129A TW I740602 B TWI740602 B TW I740602B
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新加坡商鴻運科股份有限公司
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Abstract

一種植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法,所述控制方法包括:根據多組生長參數中之第一生長參數控制植物栽培箱之光源模組之光照狀態,其中第一生長參數對應至栽培物於當前生長階段中所需之生長條件;獲取栽培物之生長圖像及所述栽培空間內之光照情形;基於生長圖像分析栽培物之生長變化程度,並判斷栽培物於第一預設時間內之生長變化程度是否符合預設規律;若符合,則判定栽培物進入下一生長階段並從多組生長參數中選擇與栽培物之下一生長階段匹配之生長參數;根據與栽培物之下一生長階段匹配之生長參數及所述光照情形調節光源模組之光照狀態。

Description

植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法
本發明涉及植物培植術領域,尤其涉及一種用以培植植物之植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法。
由於蔬菜、水果等植物之栽培會因為不同之氣候,如光照、溫度等因素,而對產量與品質造成很大之影響,因此即有人提出人工栽培之概念。人工栽培方法主要是使用人造燈,恒溫器等為植物生長提供適當之生長環境。人工栽培通常於植物工廠中進行,工廠通常具有多個區域,各個區域具有不同之生長環境。工廠人員可對植物之生長階段進行管理,並於各個不同之生長階段將植物運送到具有對應環境之區域中。然而,上述設置多個培植區域之方式需要較高之建設成本,且移植亦不方便。
有鑑於此,有必要提供一種植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法,其能實現根據植物生長狀態自動調整培育環境。
本發明一實施方式提供一種植物栽培系統,所述植物栽培系統包括:植物栽培箱,包括:箱體,具有用以培植一栽培物之栽培空間,所述栽培物包括多個生長階段;光源模組,設置於所述箱體中;圖像獲取模組,用於獲 取所述栽培物之生長圖像;及光照獲取模組,用於獲取所述栽培空間內之光照情形,所述光照情形包括光照強度與光譜比例;計算設備,包括:存儲模組,存儲有多組生長參數,多組所述生長參數分別對應所述栽培物於各個生長階段中所需之生長條件;控制模組,用於根據所述生長圖像確定所述栽培物之當前生長階段,並從多組所述生長參數中選擇與所述栽培物之當前生長階段匹配之生長參數,以根據與所述當前生長階段匹配之生長參數控制所述光源模組之光照狀態;其中,所述控制模組還用於基於所述生長圖像分析所述栽培物之生長變化程度,當所述栽培物於第一預設時間內之生長變化程度符合預設規律時,所述控制模組還用於判定所述栽培物進入下一生長階段,所述控制模組還用於從多組所述生長參數中選擇與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數,並根據與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數及所述光照情形調節所述光源模組之光照狀態。
本發明一實施方式還提供一種植物栽培箱之控制方法,所述植物栽培箱包括箱體及光源模組,所述箱體具有用以培植一栽培物之栽培空間,所述光源模組設置於所述箱體中,所述方法包括:根據多組生長參數中之第一生長參數控制所述光源模組之光照狀態,其中所述第一生長參數對應至所述栽培物於當前生長階段中所需之生長條件,所述栽培物包括多個生長階段;獲取所述栽培物之生長圖像及所述栽培空間內之光照情形,其中所述光照情形包括光照強度與光譜比例;基於所述生長圖像分析所述栽培物之生長變化程度,並判斷所述栽培物於第一預設時間內之生長變化程度是否符合預設規律;當所述栽培物於所述第一預設時間內之生長變化程度符合所述預設規律時,判定所述栽培物進入下一生長階段並從多組所述生長參數中選擇與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數;及根據與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數及所述光照情形調節所述光源模組之光照狀態。
與習知技術相比,上述植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法,藉由視覺辨識技術獲取栽培物之生長狀態,並根據栽培物生長狀態來即時調整栽培箱內之培育環境,以使得栽培箱內之環境能夠動態跟隨栽培物之生長階段改變而改變,以助於栽培物之生長,且栽培成本低。
10:箱體
11:光源模組
12:圖像獲取模組
13:光照獲取模組
14:第一通信模組
15:備用光源模組
16:顯示模組
17:電源管理模組
20:存儲模組
21:控制模組
22:第二通信模組
100:植物栽培系統
110:植物栽培箱
120:計算設備
S500~S508:步驟
圖1是本發明一實施方式之栽培系統之架構示意圖。
圖2是本發明一實施方式之植物栽培箱與計算設備之功能模組圖。
圖3是本發明另一實施方式之植物栽培箱之功能模組圖。
圖4是本發明一實施方式之計算設備之功能模組圖。
圖5是本發明另一實施方式之植物栽培箱之控制方法之步驟流程圖。
請參閱圖1,為本發明植物栽培系統較佳實施例之架構示意圖。
植物栽培系統100包括植物栽培箱110及計算設備120。植物栽培箱110用於培育栽培物200,植物栽培箱110可與計算設備120進行通信。
如圖2所示,植物栽培箱110包括箱體10、光源模組11、圖像獲取模組12及光照獲取模組13。箱體10具有用以培植栽培物200之栽培空間,光源模組11為栽培物200提供供其生長所需光源,圖像獲取模組12用於獲取栽培物200之生長圖像,光照獲取模組13用於獲取栽培空間內之光照情形。光源模組11、圖像獲取模組12及光照獲取模組13可設置於箱體10內。於其他實施方式中,圖像獲取模組12亦可設置於箱體10外側。
於一實施方式中,光源模組11可包括至少一個發光二極體(LED), 該至少一個LED可提供不同光照強度與不同光譜之光線。圖像獲取模組12可是攝像頭,該攝像頭可獲取栽培物200之生長圖像。光照獲取模組13可是光學分析儀,光學分析儀可分析得到栽培空間內之光照強度與光譜比例。
計算設備120包括存儲模組20及控制模組21。存儲模組20可預先存儲有多組生長參數。多組生長參數可分別對應栽培物200於各個生長階段中所需之生長條件。控制模組21可根據所述生長圖像確定栽培物200之當前生長階段,並從多組所述生長參數中選擇與栽培物200之當前生長階段匹配之生長參數,以根據與所述當前生長階段匹配之生長參數控制光源模組11之光照狀態。
於一實施方式中,對於初次裝入箱體10內之栽培物200,可根據預先設置之生長參數來控制光源模組11之光照狀態,無需先確定栽培物200之當前生長階段。
於一實施方式中,為實現自動判斷栽培物200之生長狀態並根據栽培物200之生長狀態自動調整光源,控制模組21還用於基於所述生長圖像分析栽培物200之生長變化程度。當栽培物200於第一預設時間內之生長變化程度符合預設規律時,控制模組21還用於判定栽培物200進入下一生長階段並從多組所述生長參數中選擇與栽培物200之下一生長階段匹配之生長參數。控制模組21還用於根據與栽培物200之下一生長階段匹配之生長參數及所述光照情形調節光源模組11之光照狀態。
可理解,對於栽培物200之每一生長階段,當栽培物200於第一預設時間內之生長變化程度符合預設規律時,控制模組21判定栽培物200進入下一生長階段。該第一預設時間可根據實際需求進行設定,比如第一預設時間為5天。
於一實施方式中,計算設備120可是電腦、伺服器等具有資料處 理功能之設備,亦可是一個計算模組。存儲模組20可是記憶體,控制模組21可是處理器。記憶體可包括高速隨機存取記憶體,還可包括非易失性記憶體,例如硬碟機、記憶體、插接式硬碟機,智慧存儲卡(Smart Media Card,SMC),安全數位(Secure Digital,SD)卡,快閃記憶體卡(Flash Card)、至少一個磁碟記憶體件、快閃記憶體器件、或其他非易失性固態記憶體件。處理器可是中央處理單元(Central Processing Unit,CPU),還可是其他通用處理器、數位訊號處理器(Digital Signal Processor,DSP)、專用積體電路(Application Specific Integrated Circuit,ASIC)、現成可程式設計閘陣列(Field-Programmable Gate Array,FPGA)或者其他可程式設計邏輯器件、分立門或者電晶體邏輯器件、分立硬體元件等。通用處理器可是微處理器或者所述處理器亦可是任何常規之處理器等。於其他實施方式中,計算設備120亦可屬於植物栽培箱110之一部分,比如為一個計算模組。
於一實施方式中,栽培物200可為各式植物,如蔬菜或水果等。於同一個箱體10內,優選培植相同品種或是具有近似特性之植物。栽培物200可被定義為四個生長階段,分別為發芽階段、育苗階段、開花階段及結果階段。每一生長階段可選對應不同之生長參數,生長參數可包括以下多種資訊之組合:水分資訊、養分資訊、溫度資訊、濕度資訊、光照強度資訊及光譜比例資訊。
請參閱圖3,為本發明另一實施例之植物栽培箱110之示意圖。與圖1相比,植物栽培箱110還包括第一通信模組14、備用光源模組15、顯示模組16及電源管理模組17。圖像獲取模組12獲取到之生長圖像與光照獲取模組13獲取到之光照情形可藉由第一通信模組14傳輸至計算設備120。
可理解,計算設備120為實現與植物栽培箱110通信,計算設備120還包括第二通信模組22,如圖4所示。
於一實施方式中,當圖像獲取模組12與光照獲取模組13記錄栽培 物200之生長狀態以及箱體10內之光照強度與光譜比例時,第一通信模組14可週期性將栽培物200之生長狀態以及箱體10內之光照強度與光譜比例回傳至計算設備120。比如,第一通信模組14可每隔第二預設時間將栽培物200之生長圖像及所述栽培空間內之光照情形傳送至計算設備120,第二預設時間小於第一預設時間。第二預設時間可根據實際需求進行設定,比如第二預設時間為半小時,即第一通信模組14每隔半小時將栽培物200之生長圖像及栽培空間內之光照情形回傳至計算設備120。
計算設備120可採用預設生長狀態演算法來分析栽培物200之生長變化程度。所述生長變化程度可為栽培物200之高度變化與/或面積變化。具體地,計算設備120可藉由比較當前接收到之栽培物200之生長圖像與上一次接收到之栽培物200之生長圖像來分析得到栽培物200之生長變化程度,並判斷栽培物200於第一預設時間內之生長變化程度是否符合預設規律。
於一實施方式中,所述預設規律可為:栽培物200於所述第一預設時間內之生長變化程度被判定為生長趨緩之次數大於或等於預設次數,其中,所述生長趨緩為栽培物200之生長變化程度小於或等於預設變化程度。預設變化程度可根據實際需求進行設定,比如設定高度變化值為0.05mm,面積變化值為0.5mm2。對於栽培物200之每一生長階段,是獨立統計被判定為生長趨緩之次數(每一生長階段均是從0次開始統計,上一生長階段統計到之次數不會累加到下一生長階段)。比如,於栽培物200之第一生長階段(發芽階段),若栽培物200於所述第一預設時間內之生長變化程度被判定為生長趨緩之次數大於或等於預設次數時,控制模組21可判定栽培物200進入育苗階段。所述預設次數可根據實際需求進行設定,比如預設次數為5次。
於一實施方式中,第一通信模組14每隔第二預設時間將栽培物200之生長圖像及所述栽培空間內之光照情形回傳至計算設備120。所述預設生長狀 態演算法可包括以下二個算式i、ii:Growthi=ΣHeightm/m,或者Growthi=ΣAream/m;--i Differencei=Growthi-Growthi-1;--ii其中,i與m均為自然數,i與m不相等,Growthi為基於第i次之資料回傳計算得到之栽培物200之生長狀態,ΣHeightm為第i次之資料回傳中包含之m張栽培物200之生長圖像之高度之與,ΣAream為第i次之資料回傳中包含之m張栽培物200之生長圖像之面積之與,Differencei為第i次資料回傳相比第i-1次資料回傳之生長變化程度。當計算得到Differencei後,可判斷Differencei是否小於預設變化程度,若Differencei小於預設變化程度,則栽培物200之生長變化程度被判定為生長趨緩之次數加1。
於一實施方式中,當栽培物200於第一預設時間內之生長變化程度被判定為生長趨緩之次數大於或等於預設次數時,控制模組21判定栽培物200進入下一生長階段,此時控制模組21可採用預設漸進式調整演算法調整此生長階段所需之光譜比例與光照強度。所述預設漸進式調整演算法可藉由以下二個算式iii~iv來調整光譜比例:Spectrum_Difference=Spectrum_Next-Spectrum_Now+bias_1;--iii f(x)=Spectrum_Difference/Period*x+Spectrum_Now,x={n|n
Figure 109127129-A0305-02-0009-2
N,1≦n≦Period};--iv其中,Spectrum_Difference為光譜比例差值,Spectrum_Now為當前時刻之光譜比例,Spectrum_Next為當前時刻之下一時刻計畫設定之光譜比例(存儲模組20預先存儲有該資料),bias_1為一常數,bias_1可根據實際需求進行設定,Period為當前回傳之光照情形之週期數,比如,從栽培物200被放置於箱體10開始統計,計算設備120第八次接收到第一通信模組14回傳之栽培空間內之光照情形,Period之值則為8,“n
Figure 109127129-A0305-02-0009-1
N”表示n為自然數,f(x)為第x次調整時需要 設定之光譜比例。
所述預設漸進式調整演算法可藉由以下二個算式v~vi來調整光照強度:Illuminance_Difference=Illuminance_Next-Illuminance_Now+bias_2;--v g(x)=Illuminance_Difference/Period*x+Illuminance_Now,x={n|n
Figure 109127129-A0305-02-0010-3
N,1≦n≦Period};--vi其中,Illuminance_Difference為光照強度差值,Illuminance_Now為當前時刻之光照強度,Illuminance_Next為當前時刻之下一時刻計畫設定之光照強度(存儲模組20預先存儲有該資料),bias_2為一常數,bias_2可根據實際需求進行設定,g(x)為第x次調整時需要設定之光照強度。
於一實施方式中,當計算設備120接收到第一通信模組14回傳之光照情形時,控制模組21還可藉由預設光源異常演算法來分析光照強度與光譜比例,以判斷所述栽培空間內之光照情形是否出現異常,當所述控制模組判定所述栽培空間內之光照強度與/或光譜比例出現異常時,控制模組21可控制備用光源模組15開啟,以使得所述栽培空間內之光照情形與所述栽培物之當前生長階段匹配。具體地,控制模組21可判斷當前光照強度與上一次調整時之光照強度之比值是否是預設比值,若不是所述預設比值,則控制模組21判定所述光照強度出現異常,光照強度異常次數加1,當光照強度異常次數大於第一預設異常次數,控制模組21控制備用光源模組15開啟。控制模組21還可判斷光譜比例是否於預設比例範圍內,若不於預設比例範圍內,則控制模組21判斷所述光譜比例出現異常,光譜比例異常次數加1,當光譜比例異常次數大於第二預設異常次數,控制模組21控制備用光源模組15開啟。
於一實施方式中,第一預設異常次數與第二預設異常次數可根據實際需求進行設定,比如第一預設異常次數與第二預設異常次數均設置為3次。 對於栽培物200之每一生長階段,光譜比例異常次數與光照強度異常次數均是從0次開始統計,上一生長階段統計到之異常次數不會累加到下一生長階段。於栽培物200之每一生長階段,若統計得到光譜比例異常次數大於3次,或者統計得到光照強度異常次數大於3次,則控制模組21判定所述栽培空間內之光照情形出現異常,將控制備用光源模組15開啟,以使得所述栽培空間內之光照情形與所述栽培物之當前生長階段匹配。
於一實施方式中,當控制模組21控制備用光源模組15開啟時,控制模組21還可控制植物栽培箱110發出警示資訊,比如控制顯示模組16輸出警示資訊。
於一實施方式中,所述預設光源異常演算法可包括以下二個算式vii、viii:Spectrumj=(Wavelengthq+...+Wavelengthp)/(p-q+1);--vii R=Illuminanceg/Illuminanceg-1;--viii其中,g、j、p、q均為自然數,j、p、q互不相等,Spectrumj為基於第j次之資料回傳計算得到之所述栽培空間內之光譜比例,所述栽培空間內之複色光可被分光為單色光q、單色光q+1、單色光q+2、單色光q+3、...、單色光p,Wavelengthq為單色光q之波長,Wavelengthp為單色光p之波長,當計算得到Spectrumj時,判定Spectrumj是否於預設比例範圍以內,若是,則光譜比例異常次數加1。Illuminanceg為基於第g次之資料回傳計算得到之所述栽培空間內之光照強度,Illuminanceg-1為基於第g-1次之資料回傳計算得到之所述栽培空間內之光照強度,R為第g次光照強度與第g-1次光照強度之比值。當計算得到R之值時,判斷R之值是否等於預設比值,若不等於所述預設比值,則光照強度異常次數加1。
於一實施方式中,控制模組21還用於控制顯示模組16顯示栽培物 200之當前生長階段及當前生長參數。比如,顯示當前之水分資訊、養分資訊、溫度資訊、濕度資訊、光照強度資訊及光譜比例資訊。
於一實施方式中,可藉由水分供給單元為栽培物200提供水分,藉由養分供給單元為栽培物200提供養分,藉由溫度配置單元為栽培物200提供合適之度環境,藉由濕度配置單元為栽培物200提供合適之濕度環境,藉由光照配置單元(光源模組11與備用光源模組15)為栽培物200提供合適之光照強度與光譜比例。為節省電力,當需要啟用相應之配置單元時,控制模組21才控制電源管理模組17為相應之配置單元提供電力。
於一實施方式中,第一通信模組14與第二通信模組22可是有線通信模組,亦可是無線通訊模組。備用光源模組15可包括至少一個LED光源。顯示模組16可是液晶顯示幕,或者其他類型之顯示幕。電源管理模組17可包括電源管理晶片。
圖5為本發明一實施方式中植物栽培箱110之控制方法之流程圖。根據不同之需求,所述流程圖中步驟之順序可改變,某些步驟可省略。
步驟S500,根據多組生長參數中之第一生長參數控制光源模組11(位於植物栽培箱110內)之光照狀態,其中所述第一生長參數對應至栽培物200於當前生長階段中所需之生長條件,栽培物200包括多個生長階段。
步驟S502,獲取栽培物200之生長圖像及栽培空間內之光照情形,其中所述光照情形包括光照強度與光譜比例。
步驟S504,基於所述生長圖像分析栽培物200之生長變化程度,並判斷栽培物200於第一預設時間內之生長變化程度是否符合預設規律。
步驟S506,當栽培物200於所述第一預設時間內之生長變化程度符合所述預設規律時,判定栽培物200進入下一生長階段並從多組所述生長參數中選擇與栽培物200之下一生長階段匹配之生長參數。
步驟S508,根據與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數及所述光照情形調節光源模組11之光照狀態。
上述植物栽培系統及植物栽培箱之控制方法,藉由視覺辨識技術獲取栽培物之生長狀態,並根據栽培物生長狀態來即時調整栽培箱內之培育環境,以使得栽培箱內之環境能夠動態跟隨栽培物之生長階段改變而改變,以助於栽培物之生長,且栽培成本低。
綜上所述,本發明符合發明專利要件,爰依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,本發明之範圍並不以上述實施方式為限,舉凡熟悉本案技藝之人士爰依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
S500~S508:步驟

Claims (9)

  1. 一種植物栽培系統,所述植物栽培系統包括:植物栽培箱,包括:箱體,具有用以培植一栽培物之栽培空間,所述栽培物包括多個生長階段;光源模組,設置於所述箱體中;圖像獲取模組,用於獲取所述栽培物之生長圖像;及光照獲取模組,用於獲取所述栽培空間內之光照情形,所述光照情形包括光照強度與光譜比例;計算設備,包括:存儲模組,存儲有多組生長參數,多組所述生長參數分別對應所述栽培物於各個生長階段中所需之生長條件;控制模組,用於根據所述生長圖像確定所述栽培物之當前生長階段,並從多組所述生長參數中選擇與所述栽培物之當前生長階段匹配之生長參數,以根據與所述當前生長階段匹配之生長參數控制所述光源模組之光照狀態;其中,所述控制模組還用於基於所述生長圖像分析所述栽培物之生長變化程度,當所述栽培物於第一預設時間內之生長變化程度符合預設規律時,所述控制模組還用於判定所述栽培物進入下一生長階段,所述控制模組還用於從多組所述生長參數中選擇與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數,並根據與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數及所述光照情形調節所述光源模組之光照狀態,所述預設規律為:所述栽培物於所述第一預設時間內之生長變化程度被判定為生長趨緩之次數大於或等於預設次數,所述生長趨緩為所述栽培物之生長變化程度小於或等於預設變化程度。
  2. 如請求項1所述之植物栽培系統,其中所述植物栽培箱還包括 通信模組,所述通信模組用於每隔第二預設時間將所述栽培物之生長圖像及所述栽培空間內之光照情形傳送至所述計算設備,所述第二預設時間小於所述第一預設時間。
  3. 如請求項1所述之植物栽培系統,其中所述植物栽培箱還包括備用光源模組,所述控制模組還用於分別統計所述栽培物之每一生長階段之光照強度異常次數與光譜比例異常次數,當所述光照強度異常次數大於第一預設次數與/或所述光譜比例異常次數大於第二預設次數時,所述控制模組判定所述栽培空間內之光照情形出現異常,並開啟所述備用光源模組,以使得所述栽培空間內之光照情形與所述栽培物之當前生長階段匹配。
  4. 如請求項1所述之植物栽培系統,其中所述生長變化程度為所述栽培物之高度變化與/或面積變化,所述生長參數包括水分資訊、養分資訊、溫度資訊、濕度資訊、光照強度資訊及光譜比例資訊。
  5. 如請求項4所述之植物栽培系統,其中所述植物栽培箱還包括顯示模組,所述計算設備還用於控制所述顯示模組顯示所述栽培物之當前生長階段及當前生長參數。
  6. 一種植物栽培箱之控制方法,所述植物栽培箱包括箱體及光源模組,所述箱體具有用以培植一栽培物之栽培空間,所述光源模組設置於所述箱體中,所述方法包括:根據多組生長參數中之第一生長參數控制所述光源模組之光照狀態,其中所述第一生長參數對應至所述栽培物於當前生長階段中所需之生長條件,所述栽培物包括多個生長階段;獲取所述栽培物之生長圖像及所述栽培空間內之光照情形,其中所述光照情形包括光照強度與光譜比例;基於所述生長圖像分析所述栽培物之生長變化程度,並判斷所述栽培物於 第一預設時間內之生長變化程度是否符合預設規律;當所述栽培物於所述第一預設時間內之生長變化程度符合所述預設規律時,判定所述栽培物進入下一生長階段並從多組所述生長參數中選擇與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數;及根據與所述栽培物之下一生長階段匹配之生長參數及所述光照情形調節所述光源模組之光照狀態;其中,所述預設規律為所述栽培物於第一預設時間內之生長變化程度被判定為生長趨緩之次數大於或等於預設次數,所述生長趨緩為所述栽培物之生長變化程度小於或等於預設變化程度。
  7. 如請求項6所述之植物栽培箱之控制方法,所述方法還包括:每隔第二預設時間獲取所述栽培物之生長圖像及所述栽培空間內之光照情形;其中,所述第二預設時間小於所述第一預設時間。
  8. 如請求項6所述之植物栽培箱之控制方法,其中所述植物栽培箱還包括備用光源模組,所述方法還包括:統計所述植物栽培箱於栽培物之每一生長階段出現之光照強度異常次數與光譜比例異常次數;判斷所述光照強度異常次數是否大於第一預設次數及判斷所述光譜比例異常次數是否大於第二預設次數;若所述光照強度異常次數大於所述第一預設次數與/或所述光譜比例異常次數大於所述第二預設次數,則啟動所述備用光源模組,以使得所述栽培空間內之光照情形與所述栽培物之當前生長階段匹配。
  9. 如請求項6所述之植物栽培箱之控制方法,其中所述生長變化程度為所述栽培物之高度變化與/或面積變化,所述生長參數包括水分資訊、養 分資訊、溫度資訊、濕度資訊、光照強度資訊及光譜比例資訊。
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