TWI721825B - 冷卻單元、冷卻系統及電腦系統 - Google Patents

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Abstract

揭露一種具有兩個單件冷盤管狀構件的冷卻單元。上述冷卻單元具有一第一管，可用以運輸冷卻劑。第一冷盤具有包含一橫向溝槽的一頂部表面，以接受第一管的一區段。上述溝槽包括一第一入口耦接至第一管之區段中的一第一孔。溝槽具有一第一出口耦接至第一管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第一入口通過上述冷盤循環至第一出口。第一管之區段係連接至第一冷盤。第二管可用以運輸冷卻劑。第二冷盤位於第一冷盤旁。上述第二冷盤具有一溝槽以接受第二管的一區段。上述溝槽包括一入口耦接至第二管之區段中的一第一孔。溝槽包括一出口耦接至第二管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第二入口通過第二冷盤循環至第二出口。第二管之區段係連接至第二冷盤。

Description

冷卻單元、冷卻系統及電腦系統
本揭露大致有關用於電腦系統的一種冷卻系統。更特定地，此揭露之型態關於包含連接至單一管道的一系列浮動冷盤之冷卻系統。
電子裝置(例如：伺服器)包括許多藉由一般電源供應器供電的電子構件。伺服器由於內部電子裝置，例如：控制器、處理器、以及記憶體的運轉而產生大量的熱。因上述熱之去除效率低而導致的過熱具有停機或妨礙此類裝置運轉的可能性。因此，現有的伺服器係設計為依賴通過裝置內部的氣流以帶走由電子構件產生的熱。伺服器經常包括附接至電子構件(例如：處理單元)的各種散熱器(heat sinks)。散熱器吸收來自電子構件產生的熱，而將熱傳遞遠離上述構件。來自散熱器的熱必須被排放遠離伺服器。用以排放熱的氣流經常藉由風扇系統產生。
由於高性能系統的改善，需要被去除的熱量隨著每個新世代變得愈來愈高。隨著功效更強的構件出現，習知結合風扇系統的空氣冷卻不足以有效地去除新世代的伺服器產生的熱。液體冷卻的發展受到冷卻需求的增加所刺激。由於液體冷卻較好的熱性能，液體冷卻為快速移除熱的最佳解決方法。在室溫下，空氣的熱傳係數只有0.024W/mK，而冷卻劑(例如：水)具有0.58W/mK的熱傳係數，也就是空氣的熱傳係數的24倍。用在從熱源將熱運輸至輻射器更為有效，且容許從關鍵零件移除熱而無雜訊(noise)汙染。通常，液體冷卻系統包括一冷盤(cold plate)，冷盤係一塊件，形成用於液體冷卻劑流動之內部通道的網路。冷盤包括一入口及一出口，容許來自管道的冷卻劑液體地接近內部通道。上述入口及出口係附接至供給冷卻劑至入口且使冷卻劑流出出口的管道。冷盤係安裝為與電子構件接觸，且循環通過管道的液體冷卻劑將產生的熱傳遞遠離構件。
然而，液體冷卻系統產生了一些獨特的挑戰。舉例來說，液體冷卻溶液其中一個最擔心的問題為冷卻劑滲漏。滲漏經常由各種管道之間的接頭導致，上述管道對於將冷卻劑循環到需要冷卻的構件是必須的。來自液體冷卻系統的滲漏可能導致短路，且妨礙伺服器及其他系統的運轉。
現代的伺服器系統上稠密的構件封裝惡化了這些液體冷卻系統的問題。舉例來說，如第1圖所示，已知的電路板10具有數個排列成一排的電子構件，例如：處理器晶片12、14、16、18、20及22。在此範例中，這些構件可能需要大量的功率(例如：每個構件120W)，且因此產生大量的熱。大量的高功率構件12、14、16、18、20及22排成一排，在構件12、14、16、18、20及22之間具有非常小的間隙。在構件之間的小間隙並無提供足夠的空間以在構件12、14、16、18、20及22之間放置管道連接器(例如習知冷盤所需要的管道連接器)。因為不良的接觸，使用一個大的冷盤取代多個獨立冷盤以覆蓋所有的構件12、14、16、18、20及22是不可行的，藉由構件及冷盤的公差產生的構件及大冷盤之間的間隙而導致上述不良的接觸。
因此，使用浮動(floating)冷盤以產生足夠冷卻構件的接觸之液體冷卻設計是有需要的。容許稠密地排列的構件有足夠冷卻的液體冷卻設計也是有需要的。進一步地，用以防止冷卻劑滲漏的一體式管道及冷盤也是有需要的。
一揭露的範例為一種冷卻單元，具有一第一管可用以運輸冷卻劑。第一冷盤具有包含一橫向溝槽的一頂部表面，以接受第一管的一區段。上述溝槽包括一第一入口耦接至第一管之區段中的一第一孔。溝槽具有一第一出口耦接至第一管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第一入口通過上述冷盤循環至第一出口。第一管之區段係連接至第一冷盤。第二管可用以運輸冷卻劑。第二冷盤位於第一冷盤旁。上述第二冷盤具有一溝槽以接受第二管的一區段。上述溝槽包括一第二入口耦接至第二管之區段中的一第一孔。溝槽包括一第二出口耦接至第二管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第二入口通過第二冷盤循環至第二出口。第二管之區段係連接至第二冷盤。
另一揭露的範例為用於冷卻電子構件的一種冷卻系統。冷卻系統包括一第一管可用以運輸冷卻劑。第一冷盤具有包含一橫向溝槽的一頂部表面，以接受第一管的一區段。上述溝槽包括一第一入口耦接至第一管之區段中的一第一孔。溝槽具有一第一出口耦接至第一管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第一入口通過上述冷盤循環至第一出口。第一管之區段係連接至第一冷盤。第二管可用以運輸冷卻劑。第二冷盤位於第一冷盤旁。上述第二冷盤具有一溝槽以接受第二管的一區段。上述溝槽包括一第二入口耦接至第二管之區段中的一第一孔。溝槽包括一第二出口耦接至第二管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第二入口通過第二冷盤循環至第二出口。第二管之區段係連接至第二冷盤。泵將冷卻劑循環至第一管及第二管。輻射器接受來自第一管及第二管的冷卻劑。
另一揭露的範例為一種電腦系統，包含一電路板，具有排列在彼此旁的一第一電子構件及一第二電子構件。上述系統包括一第一管可用以運輸冷卻劑。第一冷盤係附接至第一電子構件。第一冷盤具有包含一橫向溝槽的一頂部表面，以接受第一管的一區段。上述溝槽包括一第一入口耦接至第一管之區段中的一第一孔。溝槽具有一第一出口耦接至第一管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第一入口通過上述冷盤循環至第一出口。第一管之區段係連接至第一冷盤。第二管可用以運輸冷卻劑。第二冷盤位於第一冷盤旁。第二冷盤係連接至第二電子構件。上述第二冷盤具有一溝槽以接受第二管的一區段。上述溝槽包括一第二入口耦接至第二管之區段中的一第一孔。溝槽包括一第二出口耦接至第二管之區段中的一第二孔。冷卻劑從第二入口通過第二冷盤循環至第二出口。
上述發明內容並非意欲代表各個實施例或本揭露之每種型態。反而，前述發明內容僅提供闡述之一些新穎的型態及特徵的其中一種範例。上述的特徵及優點以及本揭露之其他特徵及優點將從以下說明書之代表實施例及模式以及附圖及所附申請專利範圍變得全然地明顯。
本發明可以多種不同形式實施。代表性實施例係以圖式呈現，且將在本文詳細描述。本揭露為本揭露之原理的範例或說明，且無意將本揭露之廣泛型態限制於在此說明的實施例。在這程度上，在例如摘要、發明內容、說明書中揭露但在申請專利範圍中無明確闡述的元件及限制，不應藉由暗示、推斷等，單獨地、或集體地被包含在申請專利範圍中。就本說明書而言，除非特別排除，單數形包括複數形，且反之亦然。字詞「包括」意即「包括但不限於」。此外，近似的字詞如「大約(about)」、「幾乎(almost)」、「實質上(substantially)」、「近乎(approximately)」等，在此可意即例如：「在(at)」、「附近(near)」、或「在附近(near at)」、或「在3到5百分比之內」、或「在可接受的製造公差之內」或上述任意合理的組合。
本揭露有關一種冷卻系統，其中冷盤及水管係組合成一體，以防止冷卻劑滲漏。此設計包括浮動冷盤，容許冷盤及晶片組(chipsets)之間的接觸力為平均的。因此，每個構件具有獨立的冷卻盤。
第2圖顯示冷卻系統100，合併一體式管道及浮動冷盤以防止滲漏，且提供與欲冷卻的構件更好的接觸。冷卻系統100包括兩個冷卻劑管110及112、輻射器114、泵116、以及返回管118。泵116將冷卻劑循環通過冷卻劑管110及112，以將冷卻劑供給至冷盤，以從構件(例如：處理器晶片)帶走熱。被加熱的冷卻劑流過輻射器114以冷卻冷卻劑，且被冷卻的冷卻劑經由泵116而被抽送通過返回管118。
冷卻劑管110係附接至浮動冷盤120、122及124。冷卻劑管110供給冷卻劑至每個冷盤120、122及124。如以下將解釋的，每個冷盤120、122及124包括內部通道以循環冷卻劑以傳遞電子構件產生的熱。冷卻劑係接著被循環回到冷卻劑管110。冷卻劑管110通常為直的，且包括插入在冷盤中的段部(例如：區段128)，與其中一冷盤(例如：冷盤120)齊平。區段128係銅焊(brazed)在冷盤120之上。
相似地，冷卻劑管112係附接至浮動冷盤130、132及134。冷卻劑管112供給冷卻劑至每個冷盤130、132及134。冷卻劑管112包括一系列彎折區段，供給冷卻劑至冷盤130、132及134。冷卻劑管112因此具有數個彎折區段(例如：彎折區段136)附接至冷盤130之頂部。彎折區段136係銅焊在冷盤130之上。每個冷盤130、132及134可接觸一電子構件，例如：一處理器晶片。如以下將解釋的，每個冷盤130、132及134包括內部通道以循環冷卻劑以傳遞電子構件產生的熱。冷卻劑係接著被循環回到冷卻劑管112。
在此範例中，冷盤120、122、124、130、132及134為銅，但可使用任何導熱材料。在此範例中，冷卻劑管110及112係由SUS304不鏽鋼製成。如在第2圖中可見，冷卻系統100的覆蓋區(footprint space)非常緊密，因為冷卻劑管110及112與冷盤120、122、124、130、132及134齊平。冷卻劑管110穿過冷盤120、122及124上方，而冷卻劑管112緊挨著冷盤120、122、124、130、132及134之側面。以此方式，六個間隔稠密的晶片(例如：第1圖中所示的構件)可被如第2圖所示之排列的各別冷盤120、122、124、130、132及134冷卻。結合第1圖中的電路板10，冷盤120、122及124可各別地接觸構件12、16及20，而冷盤130、132及134各別地接觸構件14、18及22。雖然六個晶片藉由系統100冷卻，藉由增加或減少連接至管道110及112的冷盤之數量，可冷卻更少或更多晶片。
第3圖為冷盤120以及冷盤130之立體圖。冷盤120包括粗略為方形的基部支持件300。支持件300具有覆蓋件302，覆蓋件302包括頂部表面304，頂部表面304具有橫向溝槽306。管道110的區段128裝設在橫向溝槽306中，如第2圖所示。橫向溝槽306之一端包括進流口310。橫向溝槽306之相反端包括出流口312。如將要解釋的，冷卻劑流過進流口310至冷盤120。傳遞電子構件放射之熱的冷卻劑經由出流口312返回至管道區段128。
冷盤130包括粗略為方形的基部支持件320。支持件320包括覆蓋件322，覆蓋件322包含頂部表面324。U型溝槽326形成在頂部表面324上。管道112的彎折區段136裝設在溝槽326中，如第2圖所示。U型溝槽326之一端包括進流口330。U型溝槽326之相反端包括出流口332。如將要解釋的，冷卻劑流過進流口330至冷盤130。傳遞電子構件放射之熱的冷卻劑經由出流口332返回至彎折區段136。
第4A圖為第2圖中的冷盤130之立體切面圖。第4B圖為第2圖中的冷盤130之切面側視圖。第4C圖為第2圖中冷盤130中內部通道之上視圖。彎折區段136具有流道剖面342、第一臂344以及第二平行臂346。彎折區段136在臂344之一端上具有出流口350，且在臂346之一端上具有進流口352。如將要解釋的，冷卻劑流過出流口350至冷盤130。帶走電子構件放射之熱的冷卻劑經由進流口352返回至管道區段136。基部支持件320裡面包括內部通道354，容許冷卻劑在支持件320裡面流動。內部通道354係在形成在支持件320裡面的中空空間356中。一系列的內部鰭片358隔開中空空間356以產生內部通道354。內部通道354引導冷卻劑在基部支持件320之區域上方流動，以從構件傳遞被傳遞至基部支持件320的熱。如第4A圖至第4B圖所示，彎折區段136的出流口350與溝槽326中的進流口330對齊，以將冷卻劑液體地傳送至內部通道354。彎折區段136的進流口352與出流口332對齊，以收集來自內部通道354的冷卻劑並回到彎折區段136。
基部支持件320包括側調整片360及362，容許基部支持件320附接至電子構件。基部支持件320係附接至電子構件，以產生第3圖中的基部支持件320與構件之間的熱接觸。在此範例中，管道區段136係銅焊至基部支持件320的溝槽326。銅焊為用於焊接汽車零件及機械硬體零件的一種加工方法。利用銅焊技術，兩工件的強度增加，兩工件之間的氣密性更好，且此技術適用於異型(profiled)材料。因此，藉由將冷盤130及冷卻劑管112(皆示於第2圖)銅焊在一起，兩者被製成一體。此配置防止管道112及冷盤130之間的冷卻劑滲漏。
第4D圖為第2圖中冷盤120的切面立體圖。第4E圖為第2圖中冷盤120的切面側視圖。區段128在一端具有出流口370，在另一端具有進流口372。如將要解釋的，冷卻劑流過出流口370至冷盤120。帶走電子構件放射之熱的冷卻劑經由進流口372返回至管道區段128。與第4C圖所示的盤130之內部相似地，基部支持件300裡面包括內部通道384，容許冷卻劑在支持件300裡面流動。內部通道384係在形成在支持件300裡面的中空空間386中。一系列的內部鰭片388隔開中空空間386以產生內部通道384。內部通道384引導冷卻劑在基部支持件300之區域上方流動，以從構件傳遞被傳遞至基部支持件300的熱。如第4D圖至第4E圖所示，區段128的出流口370與溝槽306中的進流口310對齊，以將冷卻劑液體地傳送至內部通道384。管道區段128的進流口372與出流口312對齊，以收集來自內部通道384的冷卻劑並回到管道區段128。
基部支持件300包括側調整片390及392，容許基部支持件300附接至電子構件。基部支持件300係附接至電子構件，以產生第3圖中的基部支持件300與構件之間的熱接觸。在此範例中，管道區段128係銅焊至基部支持件300的溝槽306。在此範例中，藉由將冷盤120及冷卻劑管110(皆示於第2圖)銅焊在一起，兩者被製成一體。此配置防止管道110及冷盤120之間的冷卻劑滲漏。
如以上解釋的，第2圖中的水管110將冷卻劑提供至冷盤120、122及124。第5A圖表示當水管110放置在冷盤120、122及124的溝槽中時(如同第3圖所示的溝槽306一樣)，所形成的單一構件500。配合在溝槽中的管道區段藉由銅焊而附接至各別的冷盤120、122及124，以形成單一構件500。
第2圖中的冷卻劑管112分別地提供冷卻劑至冷盤130、132及134。第5B圖表示當冷卻劑管112中的彎折區段(例如：第2圖中的彎折區段136)放置在冷盤130、132及134的溝槽中時(如同第3圖所示的U型溝槽326一樣)，所形成的單一構件510。配合在溝槽中的管道區段附接至冷盤130、132及134，以形成單一構件510。
第6A圖為第5A圖至第5B圖中兩個構件500及510之組合件的立體圖。第6B圖為第5A圖至第5B圖中兩個構件500及510之組合件的上視圖。第6C圖為第5A圖至第5B圖中兩個構件500及510之組合件的側視圖。如可見的，冷盤120、122及124係配置在冷盤130、132及134之間。冷卻劑經由各別的冷卻劑管110及112供給至構件500及510。冷盤120、122及124具有較大的高度，所以被支撐的管道110可以通過冷盤130、132及134上方。冷盤130、132及134中的U型溝槽容許被支撐的冷卻劑管112與冷盤130、132及134的高度齊平。
此設計將冷盤120、122、124、130、132及134交錯地配置。相對具有不同高度的冷盤120、122及124與冷盤130、132及134交替地排列，以讓冷盤120及130相較於覆蓋所有構件的單一冷盤更佳地接觸獨立的構件。進一步地，由於冷盤120、122、124、130、132及134彼此間隔，藉由最大化彈性(elasticity)而最小化管道110及112發生翹曲(warpage)的機會。因此，更佳地平均冷盤120、122、124、130、132及134與各別晶片組之間的接觸力。此配置讓從構件至冷盤120、122、124、130、132及134的熱傳遞更好，因為每個構件可分配到一個冷盤，因此將較好的熱傳遞提供給分配至構件的冷盤。
第2圖中的範例冷卻系統可安裝以冷卻如第1圖中具有成一排的六個晶片之配置。第2圖中冷卻系統100的效率係基於每一個藉由放射120W的系統100以冷卻的六個構件為證據而評估。在此範例中，晶片外殼溫度的規格為93℃，且建構一模擬模型。作為冷卻劑且來自輻射器114而在管道110及112中循環的水被冷卻至50℃。在此範例中，泵驅動水的回流(return flow)以每分鐘一公升進入每個冷卻劑管110及112。
第7圖呈現圖表700，表示在上述參數下量測的水溫。圖表700呈現在晶片中量測到的範例半導體構件之每個接面溫度以及晶片外殼本身的溫度。第7圖也呈現第2圖中管道110及冷盤120、122及124的熱圖710。第7圖也呈現第2圖中管道112及冷盤130、132及134的熱圖720。如可在熱圖710及720所見，此模擬顯示系統100可達到此晶片之規格的冷卻需求。
在此使用的用語僅為了描述特定實施例之目的，並非意欲限制本發明。除非上下文清楚地指出，在此所使用的單數形式「一」、「一個」以及「該」亦意欲包括複數形式。除此之外，在某種程度上，不管是在說明書及/或申請專利範圍中所使用的用語「包括（including、includes）」、「具有（having、has）」、「包含（with）」或其變異，這樣的用語係意欲以類似於用語「包括（comprising）」的方式包含在內。
除非另有定義，在此使用的所有用語（包括技術用語以及科學用語）具有與本發明所屬技術領域中具有通常知識者通常理解的相同意義。除此之外，用語（例如，在常用字典中所定義的用語）應當被解釋為具有在相關領域之上下文的意義一致的意義，且除非在此明確地定義，並不會以理想化或過於正式的理解解釋。
雖然前文已經描述了本發明之多種實施例，應該瞭解的是，它們僅作為呈現範例，而並非限制。在不脫離本揭露的精神及範疇的情形下，可做出眾多改變。本發明之廣度及範疇不應受任何上述之實施例所限制。反而，本發明的範疇應由所附申請專利範圍以及其均等範圍(equivalents)而定義。
儘管已經圖示並描述了本發明之一或多個實施例，不過對本技術領域具有通常知識者在閱讀及瞭解此說明書(specification)及所附圖式的情形下，可進行均等的改變及修改。此外，本發明之一特定特徵雖然可能只在幾個實施例之一中揭露，在任意期望及有利的給定或特定應用中，此特徵可與其他實施例之一或多個特徵組合。
10:電路板 12,14,16,18,20,22:處理器晶片(構件) 100:系統 110,112:冷卻劑管(管道) 114:輻射器 116:泵 118:返回管
120,122,124,130,132,134:冷盤
128,136:區段
300,320:支持件
302,322:覆蓋件
304,324:頂部表面
306,314,326:溝槽
310:進流口(第一入口)(第三入口)
330:進流口(第二入口)(第四入口)
352,372:進流口(第二孔)
312:出流口(第一出口)(第三出口)
332:出流口(第二出口)(第四出口)
350,370:出流口(第一孔)
342:流道剖面
344:第一臂
346:第二平行臂
354,384:內部通道
356,386:中空空間
358,388:內部鰭片
360,362,390,392:側調整片
500,510:構件
700:圖表
710,720:熱圖
本揭露將從以下示例性實施例之描述並參照附圖而被更加地理解，其中：第1圖為稠密地排列在典型先前技術之需要冷卻的板上的一組電子構件。
第2圖為使用浮動冷盤以冷卻構件的範例液體冷卻系統之立體圖。
第3圖為第2圖系統中的兩種冷盤之立體圖。
第4A圖為第2圖系統中其中一種冷盤之立體切面圖。
第4B圖為第2圖系統中其中一種冷盤的剖面圖。
第4C圖為第2圖系統中其中一種冷盤之上視切面圖。
第4D圖為第2圖系統中另一種冷盤之立體切面圖。
第4E圖為第4D圖中所示的冷盤之切面側視圖。
第5A圖為與第1圖中之冷盤有關的其中一管道之立體圖。 第5B圖為與第1圖中之冷盤有關的其他冷卻管之立體圖。 第6A圖為水流過第1圖系統中的數個冷盤之立體圖。 第6B圖為第1圖系統中的數個管道及冷盤之上視圖。 第6C圖為第1圖系統中的數個管道及冷盤之側視圖。 第7圖為第1圖系統中的範例管道之溫度圖表及熱圖(heat maps)。
本揭露容許各種變更及替代形式。一些代表的實施例已在圖式中以範例呈現並在本文詳細地描述。然而，可以瞭解的是，並無意限制本發明於揭露的特定形式。反而，在所附申請專利範圍定義的本發明之精神及範疇之中，本揭露係涵蓋所有變更、等效及替代物。
100:系統
110,112:冷卻劑管(管道)
114:輻射器
116:泵
118:返回管
120,122,124,130,132,134:冷盤
128,136:區段

Claims (10)

  1. 一種冷卻單元，用於冷卻一電子構件，包括：一第一管，可用以運輸一冷卻劑；一第一冷盤，具有包含一橫向溝槽的一頂部表面，以接受該第一管的一區段，該第一冷盤的該橫向溝槽包括一第一入口及一第一出口，該第一入口耦接至該第一管之該區段中的一第一孔，且該第一出口耦接至該第一管之該區段中的一第二孔，其中該冷卻劑從該第一入口通過該第一冷盤循環至該第一出口，且其中該第一管之該區段係連接至該第一冷盤；一第二管，可用以運輸該冷卻劑；以及一第二冷盤，位於該第一冷盤旁，該第二冷盤具有一溝槽以接受該第二管的一區段，該第二冷盤的該溝槽包括一第二入口及一第二出口，該第二入口耦接至該第二管之該區段中的一第一孔，且該第二出口耦接至該第二管之該區段中的第二孔，其中該冷卻劑從該第二入口通過該第二冷盤循環至該第二出口，且其中該第二管之該區段係連接至該第二冷盤。
  2. 如請求項1所述之冷卻單元，其中該第二管之該區段為U型，且其中該第二冷盤之該溝槽具有一對應的U型。
  3. 如請求項1所述之冷卻單元，其中該第一冷盤及該第二冷盤為銅。
  4. 如請求項1所述之冷卻單元，其中該第一管之該區 段及該第一冷盤係藉銅焊而連接在一起，且其中該第二管之該區段及該第二冷盤係藉銅焊而連接在一起。
  5. 如請求項1所述之冷卻單元，其中該第一冷盤及該第二冷盤包括複數個內部鰭片以引導該冷卻劑。
  6. 如請求項1所述之冷卻單元，其中該第一管係被安排在該第二冷盤上方，且其中該第二管係被安排在該第一冷盤之一側。
  7. 如請求項1所述之冷卻單元，更包括：一第三冷盤，具有包含一橫向溝槽的一頂部表面，以接受該第一管之一第二區段，該第三冷盤的該橫向溝槽包括一第三入口及一第三出口，該第三入口耦接至該第一管之該第二區段中的一第二孔，且該第三出口耦接至該第一管之該第二區段中的一第一孔，其中該冷卻劑從該第三入口通過該第三冷盤循環至該第三出口，且其中該第一管之該第二區段係連接至該第三冷盤；以及一第四冷盤，位於該第三冷盤旁，該第四冷盤具有一溝槽以接受該第二管的一第二區段，該第四冷盤的該溝槽包括一第四入口及一第四出口，該第四入口耦接至該第二管之該第二區段中的一第一孔，且該第四出口耦接至該第二管之該第二區段中的一第二孔，其中該冷卻劑從該第四入口通過該第四冷盤循環至該第四出口。
  8. 一種冷卻系統，用於冷卻一電子構件，包括： 一第一管，可用以運輸一冷卻劑；一第一冷盤，具有包含一橫向溝槽的一頂部表面，以接受該第一管的一區段，該第一冷盤的該橫向溝槽包括一第一入口及一第一出口，該第一入口耦接至該第一管之該區段中的一第一孔，且該第一出口耦接至該第一管之該區段中的一第二孔，其中該冷卻劑從該第一入口通過該第一冷盤循環至該第一出口，且其中該第一管之該區段係連接至該第一冷盤；一第二管，可用以運輸該冷卻劑；一第二冷盤，位於該第一冷盤旁，該第二冷盤具有一溝槽以接受該第二管的一區段，該第二冷盤的該溝槽包括一第二入口及一第二出口，該第二入口耦接至該第二管之該區段中的一第一孔，且該第二出口耦接至該第二管之該區段中的第二孔，其中該冷卻劑從該第二入口通過該第二冷盤循環至該第二出口，且其中該第二管之該區段係連接至該第二冷盤；一泵，可用以將該冷卻劑循環至該第一管及該第二管；以及一輻射器，以接受來自該第一管及該第二管的該冷卻劑。
  9. 一種電腦系統，包括：一電路板，具有排列在彼此旁的一第一電子構件及一第二電子構件；一第一管，可用以運輸一冷卻劑；一第一冷盤，附接至該第一電子構件，該第一冷盤具有包含 一橫向溝槽的一頂部表面，以接受該第一管的一區段，該第一冷盤的該橫向溝槽包括一第一入口及一第一出口，該第一入口耦接至該第一管之該區段中的一第一孔，且該第一出口耦接至該第一管之該區段中的一第二孔，其中該冷卻劑從該第一入口通過該第一冷盤循環至該第一出口，且其中該第一管之該區段係連接至該第一冷盤；一第二管，可用以運輸該冷卻劑；以及一第二冷盤，位於該第一冷盤旁，該第二冷盤連接至該第二電子構件，該第二冷盤具有一溝槽以接受該第二管的一區段，該第二冷盤的該溝槽包括一第二入口及一第二出口，該第二入口耦接至該第二管之該區段中的一第一孔，且該第二出口耦接至該第二管之該區段中的第二孔，其中該冷卻劑從該第二入口通過該第二冷盤循環至該第二出口，且其中該第二管之該區段係連接至該第二冷盤。
  10. 如請求項9所述之電腦系統，其中該第一電子構件及該第二電子構件為處理器晶片。
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