TWI684071B - Exposure equipment - Google Patents
Exposure equipment Download PDFInfo
- Publication number
- TWI684071B TWI684071B TW107122537A TW107122537A TWI684071B TW I684071 B TWI684071 B TW I684071B TW 107122537 A TW107122537 A TW 107122537A TW 107122537 A TW107122537 A TW 107122537A TW I684071 B TWI684071 B TW I684071B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- drawing platform
- support arms
- machine body
- exposure
- assembly
- Prior art date
Links
Images
Abstract
Description
本發明涉及一種曝光設備,特別是一種應用於電路板曝光的曝光設備。 The invention relates to an exposure device, in particular to an exposure device applied to circuit board exposure.
在現有的曝光設備中,相關人員在進行曝光底片的更換或是清潔時,由於機台內的空間狹小,因此,相關人員無法快速地進行更換或是清潔作業,且若是進行清潔作業時,亦無法有效地清潔。緣此,本發明人乃潛心研究並配合學理的運用,而提出一種設計合理且有效改善上述問題的本發明。 In the existing exposure equipment, when the relevant personnel perform the replacement or cleaning of the exposure film, due to the narrow space in the machine, the relevant personnel cannot quickly perform the replacement or cleaning operation, and if the cleaning operation is performed, It cannot be cleaned effectively. For this reason, the present inventor has devoted himself to study and cooperate with the application of theory, and proposes a reasonable design and effectively improves the above problems.
本發明的主要目的在於提供一種曝光設備,其能讓相關操作人員,輕易地對用以承載待曝光件的抽拉平台進行清潔,藉以改善現有曝光設備,相關人員無法輕易地對用以承載待曝光件的抽拉平台進行清潔的問題。 The main purpose of the present invention is to provide an exposure device that allows related operators to easily clean the drawing platform used to carry the object to be exposed, thereby improving the existing exposure equipment, and related personnel cannot easily The problem of cleaning the drawing platform of the exposed piece.
為了實現上述目的,本發明提供一種曝光設備,其包含:一機台本體及兩個支撐臂。機台本體的內部包含有一曝光空間,機台本體包含有一抽拉平台,抽拉平台位於曝光空間中,抽拉平台具有一承載面,承載面用以承載一待曝光件,機台本體設置有一曝光裝置,曝光裝置能對設置於抽拉平台上的待曝光件進行曝光;機台本體的一側具有一活動開口,曝光空間能通過活動開口與外連通;抽拉平台可活動地設置於機台本體,而抽拉平台能通過活動開口離開曝光空間。各個支撐臂的一端與機台本體相連接,兩個支撐臂彼此相面對地設置,兩個支撐臂彼此相面對的一 側面定義為一內側面,各個支撐臂設置有一導引組件、一樞接組件及一固定組件,各個支撐臂的導引組件對應位於內側面,各個支撐臂的樞接組件與固定組件相連接,而各個固定組件能透過相連接的樞接組件以相對於相對應的支撐臂旋轉。其中,當抽拉平台離開曝光空間時,抽拉平台能通過兩個導引組件的導引而整體地移動至兩個支撐臂,兩個支撐臂則能支撐完全離開機台本體的抽拉平台,兩個固定組件能受外力作用以與抽拉平台相互固定,與兩個固定組件相互固定的抽拉平台能受外力作用,而透過兩個樞接組件相對於兩個支撐臂旋轉,以使承載面朝向遠離活動開口的方向。 In order to achieve the above object, the present invention provides an exposure apparatus including: a machine body and two support arms. The inside of the machine body includes an exposure space. The machine body includes a drawing platform. The drawing platform is located in the exposure space. The drawing platform has a bearing surface for carrying a piece to be exposed. The machine body is provided with a Exposure device, the exposure device can expose the parts to be exposed on the drawing platform; one side of the machine body has an active opening, and the exposure space can communicate with the outside through the moving opening; the drawing platform can be movably set on the machine The platform body, and the drawing platform can leave the exposure space through the movable opening. One end of each support arm is connected to the machine body, the two support arms are arranged facing each other, and the two support arms face each other. The side is defined as an inner side. Each support arm is provided with a guide assembly, a pivot assembly and a fixed assembly. The guide assembly of each support arm is correspondingly located on the inner side. The pivot assembly of each support arm is connected to the fixed assembly. Each fixed component can rotate relative to the corresponding support arm through the connected pivotal component. Among them, when the drawing platform leaves the exposure space, the drawing platform can be moved to the two support arms as a whole by the guidance of the two guide components, and the two support arms can support the drawing platform completely away from the machine body , The two fixed components can be subjected to external force to fix each other with the drawing platform, and the drawing platform fixed to each other with two fixed components can be subjected to external force, and rotate relative to the two support arms through the two pivoting components, so that The bearing surface faces away from the movable opening.
本發明的有益效果可以在於:使用者可以透過兩個支撐臂及設置於其上的相關構件的配合,而將用以承載待曝光件的抽拉平台,整體拉出於機台本體,藉此,相關人員可以輕易地對抽拉平台進行清潔作業。 The beneficial effect of the present invention may be that the user can pull the drawing platform used to carry the piece to be exposed out of the machine body through the cooperation of the two supporting arms and the related components provided thereon. , Related personnel can easily clean the drawing platform.
為使能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,然而所附圖式僅提供參考與說明用,並非用來對本發明加以限制者。 In order to further understand the features and technical contents of the present invention, please refer to the following detailed description and drawings of the present invention. However, the drawings are provided for reference and explanation only, and are not intended to limit the present invention.
1‧‧‧曝光設備 1‧‧‧Exposure equipment
10‧‧‧機台本體 10‧‧‧ machine body
10a‧‧‧曝光空間 10a‧‧‧Exposure space
101‧‧‧活動開口 101‧‧‧ opening
11‧‧‧上台框 11‧‧‧stage frame
111‧‧‧軌道結構 111‧‧‧ track structure
111a‧‧‧滑動通道 111a‧‧‧sliding channel
1111‧‧‧滾輪 1111‧‧‧Scroll wheel
112‧‧‧限位組件 112‧‧‧Limiting components
1121‧‧‧驅動器 1121‧‧‧ Driver
1122‧‧‧連接臂 1122‧‧‧ connection arm
1123‧‧‧導輪 1123‧‧‧Guide wheel
113‧‧‧限位組件 113‧‧‧Limiting components
1131‧‧‧驅動器 1131‧‧‧ Driver
1132‧‧‧連接臂 1132‧‧‧Connecting arm
1133‧‧‧導輪 1133‧‧‧Guide wheel
114‧‧‧限位組件 114‧‧‧Limiting components
1141‧‧‧驅動器 1141‧‧‧ Driver
1142‧‧‧連接臂 1142‧‧‧Connecting arm
11421‧‧‧抵頂結構 11421‧‧‧top structure
12‧‧‧下台框 12‧‧‧Lower frame
13‧‧‧上曝光單元 13‧‧‧ Upper exposure unit
14‧‧‧下曝光單元 14‧‧‧ Lower exposure unit
20‧‧‧抽拉平台 20‧‧‧Drawing platform
201‧‧‧側面 201‧‧‧Side
202‧‧‧鎖固孔 202‧‧‧Locking hole
21‧‧‧把手結構 21‧‧‧Handle structure
30‧‧‧支撐臂 30‧‧‧support arm
301‧‧‧內側面 301‧‧‧Inside
31‧‧‧輔助固定件 31‧‧‧Auxiliary fixings
32‧‧‧導引組件 32‧‧‧Guide assembly
321‧‧‧滾輪 321‧‧‧wheel
32a‧‧‧導引通道 32a‧‧‧Guide channel
33‧‧‧樞接組件 33‧‧‧Pivot assembly
34‧‧‧固定組件 34‧‧‧Fixed components
341‧‧‧延伸臂 341‧‧‧Extended arm
342‧‧‧鎖固件 342‧‧‧Lock firmware
35‧‧‧輔助支撐組件 35‧‧‧Auxiliary support assembly
36‧‧‧輔助限位組件 36‧‧‧Auxiliary limit components
361‧‧‧第一磁吸單元 361‧‧‧First magnetic suction unit
362‧‧‧第二磁吸單元 362‧‧‧Second magnetic suction unit
37‧‧‧樞接結構 37‧‧‧Pivot structure
圖1為本發明的曝光設備的示意圖。 FIG. 1 is a schematic diagram of the exposure apparatus of the present invention.
圖2為圖1的前視圖。 FIG. 2 is a front view of FIG. 1.
圖3為本發明的曝光設備的上台框的示意圖。 3 is a schematic diagram of the upper frame of the exposure apparatus of the present invention.
圖4為本發明的曝光設備的上台框的另一視角示意圖。 4 is another schematic view of the upper frame of the exposure apparatus of the present invention.
圖5、圖6及圖7為本發明的曝光設備的不同的限位組件的示意圖。 5, 6 and 7 are schematic diagrams of different limiting components of the exposure apparatus of the present invention.
圖8為本發明的曝光設備的支撐臂的示意圖。 8 is a schematic view of the support arm of the exposure apparatus of the present invention.
圖9為本發明的曝光設備的抽拉平台被抽出於機台本體而設置於兩個支撐臂上的示意圖。 9 is a schematic diagram of the drawing platform of the exposure apparatus of the present invention being drawn out of the machine body and installed on two support arms.
圖10為圖9的局部放大示意圖。 FIG. 10 is a partially enlarged schematic diagram of FIG. 9.
圖11為圖9的前視圖的局部放大示意圖。 FIG. 11 is a partially enlarged schematic view of the front view of FIG. 9.
圖12為本發明的曝光設備的支撐臂的作動示意圖。 12 is a schematic diagram of the operation of the support arm of the exposure apparatus of the present invention.
圖13為本發明的曝光設備的抽拉平台相對於兩個支撐臂旋轉的示意圖。 13 is a schematic diagram of the drawing platform of the exposure apparatus of the present invention rotating relative to two support arms.
圖14為本發明的曝光設備的兩個支撐臂的另一實施例的示意圖。 14 is a schematic diagram of another embodiment of two support arms of the exposure apparatus of the present invention.
以下係藉由特定的具體實例說明本發明之曝光設備的實施方式,熟悉此技術之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本發明之其他優點與功效。本發明亦可藉由其他不同的具體實例加以施行或應用,本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用,在不悖離本發明之精神下進行各種修飾與變更。又本發明之圖式僅為簡單說明,並非依實際尺寸描繪,亦即未反應出相關構成之實際尺寸,先予敘明。以下之實施方式係進一步詳細說明本發明之觀點,但並非以任何觀點限制本發明之範疇。於以下說明中,如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示,其僅是用以強調於後續說明中,所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中,但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。 The following describes the implementation of the exposure apparatus of the present invention by specific specific examples. Those skilled in the art can easily understand other advantages and effects of the present invention from the contents disclosed in this specification. The present invention can also be implemented or applied by other different specific examples. Various details in this specification can also be based on different viewpoints and applications, and various modifications and changes can be made without departing from the spirit of the present invention. In addition, the drawings of the present invention are only for simple description, and are not depicted according to actual sizes, that is, the actual sizes of related components are not reflected, and will be described first. The following embodiments further describe the viewpoint of the present invention in detail, but do not limit the scope of the present invention by any viewpoint. In the following description, if you are instructed to refer to a specific drawing or as shown in a specific drawing, it is only used to emphasize in the subsequent description, most of the related content mentioned in this specific drawing, However, it does not limit that only specific patterns can be referred to in the subsequent description.
請一併參閱圖1至圖4,其為本發明的曝光設備的示意圖。如圖所示,曝光設備1包含有一機台本體10及兩個支撐臂30。
Please refer to FIGS. 1 to 4 together, which are schematic diagrams of the exposure apparatus of the present invention. As shown in the figure, the
機台本體10的內部包含有一曝光空間10a,機台本體10的一側具有一活動開口101,而曝光空間10a能通過活動開口101與外連通。在實際應用中,機台本體10還可以是設置有一活動門(圖未示),而相關人員可以依據需求,操作活動門以遮蔽活動開口101。其中,圖中所繪示的活動開口101的外型及其大小,僅為其中一示範態樣,其可依據需求變化。
The inside of the
機台本體10內設置有一上台框11、一下台框12、一上曝光單元13及一下曝光單元14;上台框11、下台框12、上曝光單元
13及下曝光單元14是對應設置於曝光空間10a中。上台框11及下台框12彼此相面對地設置,上台框11設置有一抽拉平台20,抽拉平台20用以設置曝光底片,上台框11用以設置一待曝光件(例如電路板),上曝光單元13及下曝光單元14對應設置於上台框11及下台框12的一側,而上曝光單元13及下曝光單元14能受控制,以配合曝光底片,而對待曝光單元進行曝光作業。在不同的實施例中,機台本體10可以是僅設置有上曝光單元13或是下曝光單元14,於此不加以限制。
The
抽拉平台20能相對於上台框11,而被整體地抽拉離機台本體10。抽拉平台20能相對於上台框11活動的方式,可以是依據需求加以設計,舉例來說,如圖3所示,上台框11的一側可以是設置有兩個軌道結構111,各個軌道結構111可以是呈現為L型,而各個軌道結構111與上台框11之間形成有一滑動通道111a,而抽拉平台20(如圖9所示)的兩側邊,則能對應於兩個滑動通道111a中滑動。在實際應用中,各個軌道結構111中可以是包含有多個滾輪1111,以輔助使抽拉平台20更順暢地相對於兩個軌道結構111滑動。
The
透過設置於上台框11的兩個軌道結構111,抽拉平台20可以是以人力的方式被抽離機台本體10。在實際應用中,抽拉平台20的一側可以是設置有把手結構21,相關人員欲將抽拉平台20抽拉出機台本體10時,即可以透過操作把手結構21,而方便地將抽拉平台20抽拉離曝光空間10a。
Through the two
在不同的實施例中,抽拉平台20可以是利用兩個線性滑軌,而可活動地設置於上台框11,藉此,抽拉平台20可以是利用電子控制的方式,相對於上台框11滑動;在具體的實施中,線性滑軌的軌道可以是設置於上台框11或是抽拉平台20,可以是依據需求設計,於此不加以限制。
In different embodiments, the
如圖3至圖7所示,上台框11還可以是設置多個限位組件
112、113、114,各個限位組件112、113、114可以是分別對應限制抽拉平台20相對於上台框11於垂直座標系的三個軸向(如圖4所顯示的座標中的X軸方向、Y軸方向及Z軸方向)的作動。於本實施例的圖式中,所繪示的限位組件112、113、114的個數及其設置位置,僅為其中一示範態樣,實際應用不以此為限。
As shown in FIGS. 3 to 7, the
具體來說,如圖4及圖5所示,用來限制抽拉平台20相對於上台框11於X軸方向的移動量的限位組件112,其可以是具有一驅動器1121、一連接臂1122及一導輪1123,驅動器1121連接連接臂1122,而驅動器1121能受控制以使連接臂1122移動,連接臂1122的末端設置有導輪1123。
Specifically, as shown in FIGS. 4 and 5, a limiting
如圖4及圖6所示,用來限制抽拉平台20相對於上台框11於Y軸方向的移動量的限位組件113,同樣可以是具有一驅動器1131、一連接臂1132及一導輪1133。當抽拉平台20,驅動器1131連接連接臂1132,導輪1133設置於連接臂1132的末端,驅動器1131能被控制而帶動連接臂1132作動。如圖4及圖7所示,用來限制抽拉平台20相對於上台框11於Z軸方向的移動量的限位組件114,可以是具有一驅動器1141及一連接臂1142,驅動器1141連接連接臂1142,連接臂1142的末端具有一抵頂結構11421,驅動器1141能被控制而使連接臂1142移動。
As shown in FIGS. 4 and 6, the limiting
如圖3至圖7所示,當抽拉平台20(如圖9所示)設置於上台框11時,且抽拉平台20的兩側邊對應位於兩個滑動通道111a時,限位組件112、113的驅動器1121、1131能驅動連接臂1122、1132向抽拉平台20相鄰的兩側移動,而使導輪1123、1133對應抵頂於抽拉平台20相鄰的兩側,藉此,限制抽拉平台20相對於上台框11於X軸及Y軸方向的移動;當抽拉平台20(如圖9所示)設置於上台框11時,限位組件114的驅動器1141,同樣能驅動連接臂1142,而使連接臂1142的抵頂結構11421對應抵頂於抽拉平台20的一側,藉此,限制抽拉平台20相對於上台框11於Z軸方向的
移動。
As shown in FIGS. 3 to 7, when the drawing platform 20 (as shown in FIG. 9) is installed on the
在實際應用中,上台框11可以是設置有至少一個偵測模組(圖未示),偵測模組能偵測抽拉平台20是否位於曝光空間10a(如圖1所示)。在實際應用中,偵測模組例如是紅外線偵測器,而其能用以偵測抽拉平台20相對於上台框11的位置,舉例來說,抽拉平台20對應位於上台框11的一側時,偵測模組所發出的紅外線可以是被遮蔽,藉此,與偵測模組電性連接的控制裝置,將可判斷抽拉平台20對應位於上台框11的一側。當控制裝置依據偵測模組的偵測結果,而判斷抽拉平台20位於曝光空間10a中時,控制裝置可以是對應控制多個限位組件112、113、114作動,以限制抽拉平台20於曝光空間10a中的活動範圍,即,限制抽拉平台20相對於上台框11於垂直座標系的三個軸向方向的活動範圍。關於偵測模組的實施方式及其設置位置、數量等,可依據實際需求設計,於此不加以限制。其中,所述控制裝置即是用以控制機台本體10相關構件作動的電腦設備、處理器等,其可以是設置於機台本體10中,又或者是獨立於機台本體10設置。
In practical applications, the
如圖1及圖8所示,機台本體10鄰近於活動開口101的附近,設置有兩個支撐臂30。各個支撐臂30的一端與機台本體10相連接,且兩個支撐臂30彼此相面對地設置,兩個支撐臂30彼此相面對的一側面定義為一內側面301。在實際應用中,各個支撐臂30可以為矩形體,且各個支撐臂30的內側面301可以對應為寬側面。
As shown in FIGS. 1 and 8, the
各個支撐臂30設置有一輔助固定件31、一導引組件32、一樞接組件33及一固定組件34,各個支撐臂30的導引組件32對應位於內側面301,各個支撐臂30的樞接組件33與固定組件34相連接,而各個固定組件34能透過相連接的樞接組件33以相對於相對應的支撐臂30旋轉。關於支撐臂30的長度、外型,可以是依據實際抽拉平台20的尺寸設計,不以圖中所示為限。在實際應
用中,各個支撐臂30的一端可以是固定設置於機台本體10,而兩個支撐臂30與機台本體10相連接的機械強度,是能對應承載抽拉平台20的重量。
Each supporting
各個支撐臂30的輔助固定件31位於支撐臂30的內側面301的一側,且輔助固定件31透過樞接組件33與支撐臂30相連接;輔助固定件31能被控制(例如是以人力的方式或是電動的方式),而透過樞接組件33相對於支撐臂30旋轉。
The
各個支撐臂30的導引組件32設置於輔助固定件31相反於支撐臂30的內側面301的一側。導引組件32可以是具有兩排滾輪321,兩排滾輪321之間對應形成有一導引通道32a。各個支撐臂30所具有的滾輪321個數及其排列方式,可以是依據需求變化,舉例來說,滾輪321的個數可以是依據支撐臂30的長度而變化,但不以圖中所示為限。
The
如圖9至圖11所示,抽拉平台20能被相關操作人員或是相關機械控制,而通過兩個支撐臂30上的兩個導引通道32a,整體地離開機台本體10,並移動至兩個支撐臂30,而抽拉平台20整體將可被兩個支撐臂30所支撐,而位於機台本體10外。
As shown in FIGS. 9 to 11, the
如圖8及圖11所示,各個支撐臂30的固定組件34可以是具有一延伸臂341及一鎖固件342,延伸臂341固定設置於支撐臂30,鎖固件342與延伸臂341相連接,鎖固件342能被操作,而與抽拉平台20相對應具有一鎖固孔202相互鎖合。具體來說,如圖10及圖11所示,當抽拉平台20設置於兩個支撐臂30上時,使用者或是相關電控機構,能透過操作鎖固件342,而使鎖固件342與抽拉平台20上所具有的鎖固孔202相互鎖合,藉此,使抽拉平台20與輔助固定件31相互固定。
As shown in FIGS. 8 and 11, the fixing
如圖12及圖13所示,各個支撐臂30的樞接組件33可以是設置於各個支撐臂30遠離機台本體10的一端,而樞接組件33能被控制而相對於支撐臂30旋轉。當抽拉平台20設置於兩個支撐
臂30上時,抽拉平台20則可以透過兩個樞接組件33,而相對於兩個支撐臂30旋轉。如圖13所示,當抽拉平台20相對於兩個支撐臂30旋轉時,抽拉平台20的一側面將會對應位於使用者的前方,如此,相關使用者將可方便地置換設置於抽拉平台20上的曝光底片或是相關構件,且使用者亦可方便地抽拉平台20進行清潔作業。
As shown in FIGS. 12 and 13, the
當然,在實際應用中,各個支撐臂30的樞接組件33是具有相關的固定機構,以限制樞接組件33相對於支撐臂30旋轉,亦即,使用者能再將抽拉平台20抽拉離機台本體10前,將利用相關的固定機構,以使樞接組件33無法相對於支撐臂30旋轉,而後,待抽拉平台20整體設置於兩個支撐臂30上後,才解除相關固定機構對於樞接組件33的限制,以使抽拉平台20能透過樞接組件33相對於兩個支撐臂30旋轉。
Of course, in practical applications, the
如圖10及圖13所示,各個支撐臂30還可以是設置有一輔助支撐組件35,其可用以支撐相對於兩個支撐臂30旋轉後的抽拉平台20,而使抽拉平台20能更穩定地傾斜地設置於兩個支撐臂30上。所述輔助支撐組件35可以是直接固定設置於支撐臂30上,或者在特殊的應用中,也可以是在不影響抽拉平台20相對於機台本體10活動的範圍中,設置於機台本體10。
As shown in FIGS. 10 and 13, each
如圖10及圖12所示,在實際應用中,各個支撐臂30還可以是設置有一輔助限位組件36,其包含有一第一磁吸單元361及一第二磁吸單元362,第一磁吸單元361固定設置於支撐臂30,第二磁吸單元362固定設置於輔助固定件31。如圖10所示,當抽拉平台20設置於兩個支撐臂30上時,第一磁吸單元361將會與第二磁吸單元362相互吸引,從而使抽拉平台20更穩定地設置於兩個支撐臂30。如圖12及圖13所示,當輔助固定件31及抽拉平台20受使用者操作或是相關機構操作,而透過樞接組件33相對於兩個支撐臂30旋轉時,第二磁吸單元362將會與第一磁吸單元361
相互分離。
As shown in FIGS. 10 and 12, in actual application, each supporting
請一併參閱圖1、圖9及圖13,上述實施例是以抽拉平台20對應位於上台框11的一側為例,且抽拉平台20被抽拉離機台本體10,而設置於兩個支撐臂30上時,抽拉平台20是能被操作而相對於兩個支撐臂30順時針旋轉,藉此,使抽拉平台20用以設置曝光底片的一側面201,能大致面對使用者。
Please refer to FIG. 1, FIG. 9 and FIG. 13 together. The above embodiment takes the
在不同的實施例中,所述抽拉平台20也可以是對應位於下台框12的一側,而所述抽拉平台20的一側面201,則可以是用以承載待曝光件。當承載有待曝光件的抽拉平台20被抽拉出機台本體10,而對應位於兩個支撐臂30上時,抽拉平台20可以是相對於兩個支撐臂30逆時針旋轉,藉此,使抽拉平台20承載有待曝光件的側面201能大致面對於使用者。
In different embodiments, the
請參閱圖8及圖14,在實際應用中,各個支撐臂30可以透過樞接結構37,而樞接於機台本體10,而各個支撐臂30能受使用者操作或相關電控機械操作,以相對於機台本體10旋轉,而各個支撐臂30能據以於一收合位置(如圖14所示)及一展開位置(如圖1所示)之間移動。其中,當兩個支撐臂30位於收合位置時,兩個支撐臂30的內側面是面對機台本體10設置;當兩個支撐臂30位於展開位置時,兩個支撐臂30的內側面則是彼此相面對地設置。
Please refer to FIGS. 8 and 14. In actual applications, each
具體來說,當不需使用兩個支撐臂30時,相關使用者或是相關電控機械,可以是操作兩個支撐臂30,而使兩個支撐臂30能透過樞接結構37,由圖1所示的展開位置,向機台本體10方向旋轉,據以轉換為如圖14所示的收合位置,如此,將可避免凸出於機台本體10的支撐臂30,在不預期的情況下,與相關人員或是機械發生相互碰撞的問題。
Specifically, when two
以上所述僅為本發明的較佳可行實施例,非因此侷限本發明的專利範圍,故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的保護範圍內。 The above are only the preferred and feasible embodiments of the present invention, and do not limit the patent scope of the present invention. Therefore, equivalent technical changes made by using the description and drawings of the present invention are included in the protection scope of the present invention. .
1‧‧‧曝光設備 1‧‧‧Exposure equipment
10‧‧‧機台本體 10‧‧‧ machine body
10a‧‧‧曝光空間 10a‧‧‧Exposure space
101‧‧‧活動開口 101‧‧‧ opening
11‧‧‧上台框 11‧‧‧stage frame
20‧‧‧抽拉平台 20‧‧‧Drawing platform
30‧‧‧支撐臂 30‧‧‧support arm
31‧‧‧輔助固定件 31‧‧‧Auxiliary fixings
33‧‧‧樞接組件 33‧‧‧Pivot assembly
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107122537A TWI684071B (en) | 2018-06-29 | 2018-06-29 | Exposure equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW107122537A TWI684071B (en) | 2018-06-29 | 2018-06-29 | Exposure equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202001430A TW202001430A (en) | 2020-01-01 |
TWI684071B true TWI684071B (en) | 2020-02-01 |
Family
ID=69942276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW107122537A TWI684071B (en) | 2018-06-29 | 2018-06-29 | Exposure equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI684071B (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201201544Y (en) * | 2008-04-15 | 2009-03-04 | 徐州海伦哲专用车辆有限公司 | Vehicle-mounted type pulling and turning vice desk apparatus |
TWM433579U (en) * | 2011-12-30 | 2012-07-11 | C Sun Mfg Ltd | Withdrawal frame positioning device for glass film |
-
2018
- 2018-06-29 TW TW107122537A patent/TWI684071B/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN201201544Y (en) * | 2008-04-15 | 2009-03-04 | 徐州海伦哲专用车辆有限公司 | Vehicle-mounted type pulling and turning vice desk apparatus |
TWM433579U (en) * | 2011-12-30 | 2012-07-11 | C Sun Mfg Ltd | Withdrawal frame positioning device for glass film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202001430A (en) | 2020-01-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2636641C (en) | Movable monitor and keyboard storage system for a worksurface | |
US10437298B2 (en) | Lifting mechanism and electronic device | |
EP3263503A1 (en) | Adjustable handrail system for a top of an elevator car and method of adjusting | |
TW200847888A (en) | KVM switch devices, server racks and sliding mechamisns thereof | |
JPH0846011A (en) | Coupling device of transfer device to semiconductor processing device | |
US20180215003A1 (en) | A cutting apparatus | |
TWI684071B (en) | Exposure equipment | |
KR20200096548A (en) | Structure of rollable display screen | |
US6099094A (en) | Mounting arrangement for computers | |
TW201909791A (en) | Slide rail assembly and rail kit thereof | |
US20170086340A1 (en) | Panel device and work machine | |
CN110687751B (en) | Exposure equipment comprising glass frame turning frame structure | |
US20230381949A1 (en) | Modular box for component management in mobile robots | |
US8721354B2 (en) | Electronic device | |
KR100911663B1 (en) | Multipurpose laboratory table to automatically ascent and descent for laboratory device and monitor | |
WO2014178534A1 (en) | A sliding device for a desk cable arrangement cover | |
CN111573190A (en) | Drilling and milling machine and production line | |
KR100901329B1 (en) | Electric power apparatus | |
TWI585579B (en) | Docking station and mobile terminal with same | |
EP3878757B1 (en) | Locking mechanism for fall protection | |
JP5184405B2 (en) | Ceiling joint device | |
CN112904937B (en) | multi-body device | |
CN211168653U (en) | Drilling and milling machine and production line | |
JP2015058117A (en) | Mobile x-ray diagnostic apparatus | |
KR102056629B1 (en) | Movable work apparatus for installing fittings and proof-insect/dust net |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |