TWI624300B - 清洗流體的裝置 - Google Patents
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Abstract
提供一種使用紫外線發光二極體來清洗流體的裝置。裝置包含:外部殼體;流體清洗過濾器,其安置於外部殼體中且過濾所引入之流體;光催化劑,其塗佈於流體清洗過濾器之表面上;及第一光源單元,其安裝於外部殼體上以在引入流體之方向上面對流體清洗過濾器的後表面,且朝向流體清洗過濾器的後表面發射具有多個波長帶之光。由於裝置藉由發射具有多個波長帶之光而具有高消毒及除臭作用且可使用塗佈有光催化劑之過濾器來改良過濾器再使用效率,故過濾器可半永久性地使用且流體清洗效率可得到改良。
Description
本發明是有關於一種清洗流體的裝置,且更特定言之,是有關於一種使用紫外線發光二極體清洗流體的裝置。
如今,大部分人生活在城市中,且大部分城市受到自汽車、工業等排放之各種污染物的污染。特別是,包含於自中國吹來之黃色灰塵中之污染物越過太平洋且最遠到達美國之西部。由於污染物可導致各種疾病以及諸如支氣管問題(bronchial trouble)之呼吸系統疾病(respiratory ailments),故有必要移除污染物。
移除空氣中之此等污染物之方法中的代表性方法為使用空氣清洗過濾器之空氣清洗過濾方法。所述過濾方法之問題在於,由於空氣清洗過濾器必須被週期性地替換,故不斷地招致維護成本。又,所述過濾方法之問題在於,當清洗並非週期性地執行或空氣清洗過濾器未被週期性地替換時,細菌可能在空氣清洗過濾器中傳播且污染物可能被噴射,因此反而使室內空氣品質降級。
為了解決此等問題,已開發出藉由將諸如紫外線光之光
能發射至過濾器來移除過濾器中生長之細菌、黴菌等之技術。使用紫外線燈或其類似物來對過濾器消毒之此方法在移除過濾器中之細菌及黴菌方面是有效的,但其問題在於,外來物質、灰塵等在使用期間聚集在燈之表面上,因此降低光發射效率。又,所述方法之問題在於,歸因於紫外線燈或其類似物所佔用之空間,裝置之體積增加,因此限制空間利用度。
藉此,存在對可使用紫外線光之高消毒效率來半永久性地使用過濾器且可維持光源之高光發射效率的空氣清洗裝置之需求。
本發明是有關於提供一種清洗流體的裝置,其可使用紫外線光之高消毒效率來實現過濾器之半永久性使用且維持光源之高光發射效率。
本發明之一個態樣提供一種清洗流體的裝置,裝置包含:外部殼體;流體清洗過濾器,其安置於外部殼體中且過濾所引入之流體;光催化劑,其塗佈於流體清洗過濾器之表面上;及光源單元,其安裝於外部殼體上以在引入流體之方向上面對流體清洗過濾器的後表面,且朝向流體清洗過濾器的後表面發射具有多個波長帶之光。
本發明之另一態樣提供一種清洗流體的裝置,裝置包
含:外部殼體;流體清洗過濾器,其安裝於外部殼體之末端上且過濾所引入之流體;及光源單元,其在引入流體之方向上沿著外部殼體之周邊安置,所述周邊接近於流體清洗過濾器的前表面,且所述光源單元朝向朝流體清洗過濾器引入之流體發射具有多個波長帶之光。
由於本發明之清洗流體的裝置可藉由發射具有多個波長帶之光而具有高消毒及除臭作用且可使用塗佈有光催化劑之過濾器來改良過濾器再使用效率,故過濾器可半永久性地使用且流體清洗效率可得到改良。
然而,本發明之技術功效不限於此,且根據以下描述,其他未提及的技術功效將對一般熟習此項技術者顯而易見。
100‧‧‧外部殼體
110‧‧‧過濾器收納單元
121‧‧‧第一光源安裝單元
125‧‧‧第二光源安裝單元
130‧‧‧風扇安裝單元
140‧‧‧前置過濾器收納單元
150‧‧‧過濾器安裝單元
160‧‧‧凹槽
200‧‧‧流體清洗過濾器
205‧‧‧發泡金屬
300‧‧‧光催化劑
400‧‧‧第一光源單元
410‧‧‧發光單元
411‧‧‧第一發光二極體群組
412‧‧‧第二發光二極體群組
420‧‧‧固定單元
450‧‧‧第二光源單元
500‧‧‧風扇
600‧‧‧前置過濾器
700‧‧‧風扇固定單元
800‧‧‧分割壁單元
圖1為說明根據本發明之第一實施例之清洗流體的裝置的立體圖。
圖2為說明根據本發明之第一實施例之裝置的爆炸立體圖。
圖3為說明根據本發明之第二實施例之清洗流體的裝置的立體圖。
圖4為說明根據本發明之第二實施例之裝置的爆炸立體圖。
圖5為說明分割壁單元在引入流體之方向上形成於外部殼體中的剖視圖。
圖6為說明由發泡金屬205形成之流體清洗過濾器200的平面圖及說明流體清洗過濾器200之一部分的放大圖。
在下文中,將詳細地描述本發明之例示性實施例。然而,本發明不限於下文所揭露之例示性實施例,而是可以各種形式來實施。描述以下例示性實施例以便使一般熟習此項技術者能夠具體化並實踐本發明。
亦將理解,當層被稱為在另一層或基板「上」時,所述層可直接在所述另一層或另一基板上,或在所述層與所述另一層或另一基板之間亦可存在介入層。將理解,表述「在......上方」、「在......上」及「頂面」亦可涵蓋「在......下」、「在......下方」及「底面」之方位。亦即,將空間方向解釋為相對方向而非絕對方向。
將理解,雖然本文中可使用術語「第一」、「第二」或「第三」來描述各種元件,但此等元件不應受此等術語限制。此等術語僅用以區分一個元件與另一元件。
又,在圖式中,為清楚起見,誇示了層及區域之厚度。
相同參考符號始終指示相同元件。
圖1及圖2分別為說明根據本發明之第一實施例之清洗流體的裝置的立體圖及爆炸立體圖。
參看圖1及圖2,根據第一實施例之裝置包含外部殼體100、流體清洗過濾器200及第一光源單元400。如圖1所示,流
體清洗過濾器200被收納於外部殼體100中,且過濾引入至外部殼體100中之流體。光催化劑被塗佈在流體清洗過濾器200之表面上。第一光源單元400朝向流體清洗過濾器200之經光催化劑塗佈之表面發射光。由第一光源單元400朝向流體清洗過濾器200之經光催化劑塗佈之表面發射之光活化塗佈於流體清洗過濾器200之表面上的光催化劑,且由於光催化反應,吸附至流體清洗過濾器200上之污染物被分解。亦即,當過濾流體時,裝置使用光催化反應來移除吸附至流體清洗過濾器200上之污染物。
外部殼體100為一空間,待清潔之流體(亦即,包含污染物之流體)被引入所述空間中且被清潔。在外部殼體100中,形成過濾器收納單元110(流體清洗過濾器200可收納於其中)及第一光源安裝單元121(第一光源單元400可安裝於其一個末端上)。又,根據實施例,在外部殼體100中,形成風扇安裝單元130(其安置於第一光源安裝單元121之另一末端上且風扇500可安裝於所述風扇安裝單元上)及前置過濾器收納單元140(前置過濾器600可收納於其中)。
流體清洗過濾器200橫跨外部殼體100之內部,以使得過濾表面垂直於引入流體之方向。藉此,污染物(諸如蟎類(mites)、病毒(viruses)、黴菌(mold)、細菌(bacteria)、灰塵(dust)、煙氣(fumes)、揮發性有機化合物(volatile organic compounds)或包含於引入至外部殼體100中之流體中的其他惡臭物質(offensice odor substances))被吸附至流體清洗過濾器200上。
流體清洗過濾器200可經形成而具有包含蜂巢形狀之各
種形狀中之任一者,以增加流體與流體清洗過濾器200之間的接觸時間及接觸面積。又,流體清洗過濾器200可為熟知過濾器(諸如,活性碳過濾器或高效率粒子空氣(high-efficiency particulate air,(HEPA))過濾器)中之任一者,且可藉由一般熟習此項技術者根據待清洗之流體之性質來適當地選擇。舉例而言,當待清洗之流體主要包含煙氣、揮發性有機化合物或其他惡臭物質時,流體清洗過濾器200可為活性碳過濾器。當待清洗之流體主要包含蟎類、病毒、黴菌或細菌時,流體清洗過濾器200可為HEPA過濾器。又,流體清洗過濾器200可包含一個過濾器或多個過濾器。
特別是,當流體清洗過濾器200包含多個過濾器時,所述多個過濾器可為相同或不同種類之過濾器。
又,流體清洗過濾器200可為由金屬形成之金屬過濾器,且更佳地,可由發泡金屬205形成。
圖6為說明由發泡金屬205形成之流體清洗過濾器200的平面圖及說明流體清洗過濾器200之一部分的放大圖。如圖6所示,發泡金屬205是指具有三維(3D)發泡體形狀之多孔金屬結構,且可由諸如鎳、鐵、鉻或鋁之金屬形成。特別是,發泡金屬205之優點在於由於其中之開放孔及3D空腔,所以每單位體積之面積比較高,容易清洗發泡金屬205,且可半永久性地使用發泡金屬205。
光催化劑300是在引入流體之方向上塗佈於流體清洗過濾器200之表面(亦即,流體清洗過濾器200的前表面或後表面)上。特別是,當流體清洗過濾器200是由發泡金屬205形成時,
光催化劑300可塗佈於發泡金屬205之所有開放孔及3D空腔之表面上,如圖6所示。藉由光來活化光催化劑300以加速吸附至流體清洗過濾器200上之污染物之分解。光催化劑300可為選自由二氧化鈦(TiO2)、鈦酸鍶(SrTiO3)、、三氧化鎢(WO3)、氧化鋅(ZnO)及其混合物組成之群組之任一或多者。舉例而言,光催化劑300可為TiO2。
當發射能量大於光催化劑300之帶隙能量的光時,在光催化劑300之表面上產生電子及電洞。所產生之電子及電洞與空氣中之濕氣及氧分子反應而產生氫氧自由基(hydroxyl radicals,OH-)及超氧陰離子自由基(superoxide anion radicals,O2-)。在此情況下,所產生之氫氧自由基非常不穩定且可能與其他材料反應。特別是,氫氧自由基具有高氧化能力,且因此會氧化並分解包含各種致病病菌及細菌之有機物質。舉例而言,當光催化劑300為TiO2,吸附至流體清洗過濾器200上之污染物為乙烯氣體(ethylene gas,C2H4)時,乙烯氣體根據化學式1而在空氣中的濕氣中光氧化分解,且由流體清洗過濾器200移除。
[化學式1]C2H4+4H2O → 2CO2+6H2
第一光源單元400包括發光單元410及固定單元420,且安裝於外部殼體100上以朝向流體清洗過濾器200之經光催化劑塗佈之表面發射光。舉例而言,第一光源單元400可安裝於外部殼體100之第一光源安裝單元121上以在引入流體之方向上面對流體清洗過濾器200的前表面或後表面。如上所述安裝之第一光
源單元400藉由發射光至流體清洗過濾器200的前表面或後表面來分解吸附至流體清洗過濾器200上之污染物,且其次藉由發射光至流體來清洗已藉由通過流體清洗過濾器200而受到清洗之流體。第一光源單元400可被安置為與流體清洗過濾器200間隔分開約5mm至50mm、更佳約10mm至30mm,使得流體清洗過濾器200之整個表面直接暴露於由第一光源單元400產生之光中。
第一光源單元400可包含發光二極體。發光二極體所發射之光可為在200nm至400nm之波長範圍內之紫外線光。又,發光二極體可發射具有窄波長寬度之紫外線光。
發光單元410發射具有多個波長帶之光。藉此,發光單元410可包含發射具有第一波長帶之光的第一發光二極體群組411,及發射具有第二波長帶之光的第二發光二極體群組412。
具有第一波長帶之光可為具有範圍自350nm至400nm之波長帶之近紫外線光。更佳地,具有第一波長帶之光可為具有範圍自370nm至390nm之波長帶之光。藉此,第一發光二極體群組411可包含一或多個發光二極體,所述一或多個發光二極體發射具有範圍自350nm至400nm之波長帶之光,更佳地,具有範圍自370nm至390nm之波長帶之光。由第一發光二極體群組411發射之光發射至流體清洗過濾器200的後表面以活化塗佈於流體清洗過濾器200之表面上之光催化劑。由於光催化劑之活化,吸附至流體清洗過濾器200上之污染物(諸如包含各種致病病菌及細菌之有機物質)被光氧化分解。一旦吸附至流體清洗過濾器200上之污染物被如上所述地分解,即可再使用流體清洗過濾器
200。
具有第二波長帶之光可為具有範圍自200nm至300nm之波長帶之深紫外線光。更佳地,具有第二波長帶之光可為具有範圍自250nm至290nm之波長帶之光。藉此,第二發光二極體群組412可包含一或多個發光二極體,所述一或多個發光二極體發射具有範圍自200nm至300nm之波長帶之光,更佳地,具有具有範圍自250nm至290nm之波長帶之光。和具有第一波長帶之光一樣,可將由第二發光二極體群組412發射的具有第二波長帶之光發射至光催化劑以加速光氧化分解。同時,具有第二波長帶之光破壞諸如各種致病病菌及細菌之微生物之細胞壁或細胞膜。藉此,具有第二波長帶之光可經由消毒來移除包含於流體中之微生物,而不經受由光催化劑引起之光氧化分解。亦即,具有第二波長帶之光可同時執行消毒及光催化劑之活化之加速。
如上所述,由於發光單元410不僅包含第一發光二極體群組411,而且包含第二發光二極體群組412,故光源單元400之光催化劑活化效率及消毒效率可得到改良。
所述裝置可更包含風扇500。風扇500是安裝於外部殼體100之風扇安裝單元130上,且起作用以使用旋轉力將流體吸入至外部殼體100中且將經清洗空氣噴射至外部。藉此,風扇500可在引入流體之方向上面對流體清洗過濾器200的前表面或後表面被安置。當在引入流體之方向上將風扇500安置於流體清洗過濾器200的前面時,旋轉表面面對流體清洗過濾器200的前表面。藉此,在風扇500旋轉時,流體被吸入至外部殼體100中,且被
吸入外部殼體100中之流體在通過流體清洗過濾器200之同時得到清洗。特別是,可藉由調整風扇500之旋轉速度來調整被吸入至外部殼體100中之流體之流量。可藉由如上所述地調整流體之流量來調整過濾器與流體之間的接觸時間或流體之滲透。又,由風扇500之旋轉引起的朝向外部殼體100之內部所產生之吸力充當驅動力,所述驅動力將在通過流體清洗過濾器200同時得到清洗之流體噴射至外部且移除流體清洗過濾器200上的藉由光催化劑分解之污染物。又,當在引入流體之方向上將風扇500安置於流體清洗過濾器200後面時,風扇500可減少流體之流動中的可能由於流體清洗過濾器200而發生之壓力損失,藉此使流體能夠更平穩地流動。
所述裝置可更包含前置過濾器600。前置過濾器600是收納於外部殼體100之前置過濾器收納單元140中,且起作用以在由於風扇500而被吸入至外部殼體100中之流體通過流體清洗過濾器200之前過濾具有相對大尺寸之粒子。藉此,前置過濾器600可安置於風扇500與流體清洗過濾器200之間,且可收納於外部殼體100中,以使得過濾表面面對流體清洗過濾器200的前表面。舉例而言,前置過濾器600可由具有微小孔之不織布纖維形成。
圖3及圖4分別為說明根據本發明之第二實施例之清洗流體的裝置的立體圖及爆炸立體圖。
圖3及圖4之根據第二實施例之裝置可自第一實施例之裝置被實施為清洗流體的分離裝置,或可藉由將第二光源單元450
之結構添加至第一實施例之裝置被實施。將根據所述裝置自第一實施例之裝置被實施為分離的裝置的假設來給出以下解釋,但第二實施例之範疇不限於此。
參看圖3及圖4,根據第二實施例之裝置包含外部殼體100、流體清洗過濾器200及第二光源單元450。外部殼體100為一空間,待清洗之流體(亦即,包含污染物之流體)被引入所述空間中。第二光源安裝單元125(第二光源單元450可安裝於其上)及過濾器安裝單元150(流體清洗過濾器200可安裝於其上)被順序地形成於外部殼體100之一個末端上。特別是,第二光源安裝單元125經形成,以使得第二光源單元450沿著外部殼體100之周邊安置。又,根據實施例,前置過濾器收納單元140(前置過濾器600可收納於其中)可另外形成於外部殼體100中,且可在引入待清洗之流體之方向上沿著外部殼體100之另一末端之周邊另外形成沿著裝置之周邊存在的促進待清洗之流體之引入的凹槽160。
圖5為說明分割壁單元800在引入流體之方向上形成於外部殼體100中的剖視圖,。
參看圖5,至少一分割壁單元800可形成於外部殼體100中。分割壁單元800可安置於外部殼體中以在引入流體之方向上面對流體清洗過濾器200(參看圖4)的前表面。分割壁單元800突出於外部殼體100之一個壁表面以面對流體清洗過濾器200的前表面,且將外部殼體100之內部分成多個區域,使得經引入至外部殼體100中的待清洗之流體在由分割壁單元800界定之區域中
流動。亦即,由於經引入至外部殼體100中之流體僅可在由分割壁單元800及外部殼體100形成之空間中流動,故流體在外部殼體100中沿著分割壁單元800流動。藉此,由於分割壁單元800,經引入至外部殼體100中之流體在外部殼體100中逗留之時間進一步增加。當提供多個分割壁單元800時,所述分割壁單元800可經安置而按Z字形圖案來劃分外部殼體100之內部。
回頭參看圖3及圖4,流體清洗過濾器200經安置以橫跨外部殼體100之內部,以使得過濾表面垂直於引入流體之方向。
藉此,污染物(諸如蟎類、病毒、黴菌、細菌、灰塵、煙氣、揮發性有機物質或包含於引入至外部殼體100中之流體中的其他惡臭物質)被吸附至流體清洗過濾器200上。流體清洗過濾器200之類型及結構與關於第一實施例之裝置所描述之類型及結構相同。
光催化劑可在引入流體之方向上塗佈於流體清洗過濾器200之表面(亦即,流體清洗過濾器200的前表面或後表面)上。
光催化劑之類型及功能與關於第一實施例之裝置所描述之類型及功能相同。
第二光源單元450包含發光單元410及固定單元420。發光單元410經固定至固定單元420且安裝於外部殼體100之第二光源安裝單元125上。藉此,第二光源單元450是沿著外部殼體100之周邊安置,且朝向引入至外部殼體100中的待清洗之流體發射光。由第二光源單元450產生之光之部分可被發射向流體清洗過濾器200之光催化劑。
又,如圖5中所示,當分割壁單元800另外形成於外部殼體100中時,第二光源單元450可在引入流體之方向上安置於分割壁單元800的前表面或後表面上。如上所述,當第二光源單元450是安置於分割壁單元800的前表面或後表面上時,第二光源單元450可在流體沿著由分割壁單元800界定之空間移動時朝向流體發射光。
發光單元410發射具有多個波長帶之光。藉此,發光單元410可包含發射具有第一波長帶之光的第一發光二極體群組411,及發射具有第二波長帶之光的第二發光二極體群組412。
具有第一波長帶之光可為具有範圍自350nm至400nm之波長帶之近紫外線光。更佳地,具有第一波長帶之光可為具有範圍自370nm至390nm之波長帶之光。藉此,第一發光二極體群組411可包含一或多個發光二極體,所述一或多個發光二極體發射具有範圍自350nm至400nm之波長帶之光,更佳地,具有範圍自370nm至390nm之波長帶之光。由第一發光二極體群組411所發射之光被直接發射至所引入至外部殼體100中之流體以經由消毒來移除流體中之各種微生物。藉此,由於第一發光二極體群組411而已經受消毒之流體被引入至流體清洗過濾器200中。
又,由第一發光二極體群組411發射之光之剩餘部分被直接或間接地發射至流體清洗過濾器200以活化塗佈於流體清洗過濾器200之表面上之光催化劑。由於光催化劑之活化,吸附至流體清洗過濾器200上之污染物(諸如包含各種致病病菌及細菌之有機材料)被光氧化分解。
具有第二波長帶之光可為具有範圍自200nm至300nm之波長帶之深紫外線光。更佳地,具有第二波長帶之光可為具有範圍自250nm至290nm之波長帶之光。藉此,第二發光二極體群組412可包含一或多個發光二極體,所述一或多個發光二極體發射具有範圍自200nm至300nm之波長帶之光,更佳地,具有範圍自250nm至290nm之波長帶之光。特別是,由第二發光二極體群組412發射之具有第二波長帶之光被直接發射至引入至外部殼體100中之流體以經由消毒來移除流體中之各種微生物。特別是,由於由第二發光二極體群組412發射之具有第二波長帶之光具有比具有第一波長帶之光高得多的破壞微生物之細胞壁或細胞膜之消毒能力,故待清洗之流體可首先經預消毒且接著可經引入至流體清洗過濾器200中。
如上所述,由於光源單元400包含第一發光二極體群組411及第二發光二極體群組412,故首先經消毒之流體可被引入至流體清洗過濾器200中。
所述裝置可更包含風扇500。風扇500是藉由風扇固定單元700安裝於流體清洗過濾器200的後表面上,且使用旋轉力將由流體清洗過濾器200清洗之流體噴射至外部。藉此,風扇500可經安置而在引入流體之方向上面對流體清洗過濾器200的後表面。亦即,風扇500是在引入流體之方向上安置於流體清洗過濾器200後面,以使得旋轉表面面對流體清洗過濾器200的後表面。
所述裝置可更包含前置過濾器600。前置過濾器600是收納於外部殼體100之前置過濾器收納單元140中,且起作用以在
吸入至外部殼體100中之流體被光源單元400消毒之前過濾具有相對較大大小之粒子。藉此,前置過濾器600可在引入流體之方向上安置於流體清洗過濾器200前面,且可收納於外部殼體100中,以使得過濾表面面對流體清洗過濾器200的前表面。
雖然已參考本發明之特定例示性實施例展示並描述了本發明,但一般熟習此項技術者將理解,在不脫離由附加之申請專利範圍界定的本發明之精神以及範疇之情況下,可在本文中做出形式以及細節上的各種改變。
Claims (20)
- 一種清洗流體的裝置,其包括:外部殼體;流體清洗過濾器,其安置於所述外部殼體中且過濾所引入之所述流體;光催化劑,其塗佈於所述流體清洗過濾器之表面上;及第一光源單元,其安裝於所述外部殼體上以朝向所述流體清洗過濾器之經光催化劑塗佈之表面發射具有多個波長帶之光;至少一分割壁單元,所述至少一分割壁單元安置於所述外部殼體中以在引入所述流體之所述方向上面對所述流體清洗過濾器之前表面。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其中所述第一光源單元是安裝於所述外部殼體上以在引入所述流體之方向上面對所述流體清洗過濾器之過濾表面,且朝向所述流體清洗過濾器之所述過濾表面發射光。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其中所述第一光源單元包括紫外線發光二極體。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其中所述第一光源單元包括:第一發光二極體群組,其發射具有第一波長帶之光;及第二發光二極體群組,其發射具有第二波長帶之光。
- 如申請專利範圍第4項所述之清洗流體的裝置,其中所述第一發光二極體群組包括發射具有範圍自350nm至400nm之波長帶之光的一或多個發光二極體,且所述第二發光二極體群組包 括發射具有範圍自200nm至300nm之波長帶之光的一或多個發光二極體。
- 如申請專利範圍第4項所述之清洗流體的裝置,其中所述第一發光二極體群組包括發射具有範圍自370nm至390nm之波長帶之光的一或多個發光二極體,且所述第二發光二極體群組包括發射具有範圍自250nm至290nm之波長帶之光的一或多個發光二極體。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其中所述流體清洗過濾器是由發泡金屬形成。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其中所述光催化劑是在引入所述流體之方向上塗佈於所述流體清洗過濾器的前表面或後表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其中所述光催化劑包括選自由二氧化鈦、鈦酸鍶、三氧化鎢、氧化鋅及其混合物組成之群組之任一者。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其更包括風扇,所述風扇安裝於所述外部殼體上以在引入所述流體之方向上面對所述流體清洗過濾器的前表面。
- 如申請專利範圍第10項所述之清洗流體的裝置,其更包括前置過濾器,所述前置過濾器安置於所述風扇與所述流體清洗過濾器之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其更包括風扇,所述風扇在引入所述流體之方向上安裝於所述第一光源 單元的後表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述之清洗流體的裝置,其更包括第二光源單元,所述第二光源單元在引入所述流體之方向上安置於所述外部殼體中,所述外部殼體接近於所述流體清洗過濾器的所述前表面,且朝向朝所述流體清洗過濾器引入之所述流體發射具有多個波長帶之光。
- 如申請專利範圍第13項所述之清洗流體的裝置,其中所述第二光源單元是沿著所述外部殼體之接近於所述流體清洗過濾器之所述前表面的周邊而安置。
- 如申請專利範圍第13項所述之清洗流體的裝置,其中所述第二光源單元是在引入所述流體之所述方向上安置於所述分割壁單元的前表面或後表面上,或沿著所述外部殼體之接近於所述流體清洗過濾器之所述前表面的周邊而安置。
- 如申請專利範圍第13項所述之清洗流體的裝置,其中所述第二光源單元包括:第一發光二極體群組,其包括發射具有範圍自350nm至400nm之波長帶之光的一或多個發光二極體;及第二發光二極體群組,其包括發射具有範圍自200nm至300nm之波長帶之光的一或多個發光二極體。
- 如申請專利範圍第16項所述之清洗流體的裝置,其中所述第一發光二極體群組包括發射具有範圍自370nm至390nm之波長帶之光的一或多個發光二極體,且所述第二發光二極體群組包括發射具有範圍自250nm至290nm之波長帶之光的一或多個 發光二極體。
- 如申請專利範圍第13項所述之清洗流體的裝置,其更包括光催化劑,所述光催化劑在引入所述流體之所述方向上塗佈於所述流體清洗過濾器之所述前表面或後表面上,其中所述光催化劑為選自由二氧化鈦、鈦酸鍶、三氧化鎢、氧化鋅及其混合物組成之群組之任一者。
- 如申請專利範圍第13項所述之清洗流體的裝置,其更包括風扇,所述風扇在引入所述流體之所述方向上安裝於所述流體清洗過濾器的後表面上。
- 如申請專利範圍第19項所述之清洗流體的裝置,其更包括前置過濾器,所述前置過濾器安裝於所述外部殼體上以在引入所述流體之所述方向上面對所述流體清洗過濾器之所述前表面。
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