TWI620876B

TWI620876B - 低共振合成噴流結構

Info

Publication number: TWI620876B
Application number: TW103109234A
Authority: TW
Inventors: 漢卓彼德賈伯斯狄巴克; 布萊恩派崔克威倫
Original assignee: 奇異電器公司
Priority date: 2013-03-14
Filing date: 2014-03-14
Publication date: 2018-04-11
Also published as: CN105026049B; EP2969230B1; KR20150128937A; CN105026049A; US20140263726A1; EP2969230A1; WO2014159565A1; EP2969230A4; JP6348566B2; JP2016518963A; TW201447113A

Abstract

本發明揭示一種用於在一合成噴流裝置中達成更低音頻輸出及增大之流量輸出之系統及方法。一合成噴流子總成包含：一安裝支架，其包括一頂面及一底面；一第一可撓性基板，其跨由該安裝支架界定之一開口而定位且附接至該安裝支架之該頂面；一第二可撓性基板，其跨由該安裝支架界定之該開口而定位且附接至該安裝支架之該底面；貼附於該第一可撓性基板之一面朝外表面之一第一板及貼附於該第二可撓性基板之一面朝外表面之一第二板。

Description

低共振合成噴流結構

相關申請案之交叉參考

本申請案係2013年3月14日提交之美國臨時專利申請案第61/784,648號之一非臨時申請案且主張其之優先權，該案之全文以引用之方式併入本文中。

合成噴流致動器係一廣泛使用之技術，其產生一流體合成噴流以影響該流體在一表面上之流動從而將熱從該表面分散。一典型合成噴流致動器包括界定一內部腔室之一外殼。在外殼之一壁上存在一孔。致動器進一步包含在外殼中或周圍之一機構用以週期性地改變內部腔室內之容積，使得一系列流體渦旋系產生且自外殼之孔被投射至一外部環境中。容積變化機構之實例可包含(例如)定位於噴流外殼中之一活塞以在活塞之往復運動期間將流體移入或移出孔或作為外殼之一壁之一可撓性膜片。可撓性膜片通常由一壓電致動器或其他適合構件致動。

通常，一控制系統用於產生容積變化機構之時諧運動。當機構減小腔室容積時，流體透過孔而從腔室噴射出來。當流體通過孔時，孔之銳邊分離流量以產生捲入渦旋系中之渦旋面。此等渦旋系在其等之自身自誘導速度下自孔之邊緣移開。當機構增大腔室容積時，周圍流體自距離孔之較大距離處被吸入腔室中。由於渦旋系已自孔之邊緣移開，所以其等不受進入腔室之周圍流體影響。當渦旋系行進遠離孔時，其等合成一流體噴流，即一「合成噴流」。

既有合成噴流設計之一缺點係自合成噴流之操作所產生之噪音。噪音在合成噴流之操作中係固有的，此係由於使得可撓性膜片在一交變運動中撓曲，且合成噴流之各種操作模式(結構/機械、似盤彎曲及音頻)之自然頻率影響在操作期間所產生之噪音量。在操作中，合成噴流通常在一機械共振模式中或附近被激發以最佳化電至機械轉換，且以便在最小機械能輸入處達成最大撓曲。儘管合成噴流冷卻效能當在一機械共振模式中或附近操作時被最佳化，然應認識到，當裝置之音跡由裝置之驅動頻率部分決定時，依特定頻率操作合成噴流會產生大量噪音，其中此噪音具有在(例如)600赫茲之一位準處之一結構自然頻率。

因此，將期望提供具有能夠在具有一較低共振頻率(例如小於500赫茲)之一機械共振模式中操作之一合成噴流，以便減小由合成噴流產生之表面噪音而不影響裝置之流量輸出。

根據本發明之一態樣，一種合成噴流子總成包括：一安裝支架，其包括一頂面及一底面；一第一可撓性基板，其跨由安裝支架界定之一開口而定位且附接至安裝支架之頂面；一第二可撓性基板，其跨由安裝支架界定之開口而定位且附接至安裝支架之底面；貼附於第一可撓性基板之一面朝外表面之一第一板及貼附於第二可撓性基板之一面朝外表面之一第二板。

根據本發明之另一態樣，一種製造一合成噴流總成之方法包含：提供界定一開口之一安裝支架；及將一對可撓性基板貼附於安裝支架之相對置的頂面及底面上，使得該對可撓性基板之各者橫跨安裝支架之開口，其中該對可撓性基板及安裝支架界定一孔穴。該方法亦包含：將一第一板附接至該對可撓性基板之一者之一面朝外表面；將一第二板附接至可撓性基板之其他者之一面朝外表面；及將一致動器元件附接至第一板及第二板之至少一者以選擇性地造成其撓曲，藉此改變孔穴內之一容積，使得一流體流量產生且從孔穴被投射出去。

根據本發明之又一態樣，一種合成噴流總成包含：一安裝支架，其包括界定一開口之複數個支架腿；及至少部分定位於安裝支架之開口內之一合成噴流，其中合成噴流進一步包含：一第一可撓性基板，其跨由安裝支架界定之開口伸展且附接至安裝支架之一頂面；及一第二可撓性基板，其跨由安裝支架界定之開口伸展且附接至安裝支架之一底面，其中第一可撓性基板及第二可撓性基板及安裝支架界定一合成噴流孔穴與一周圍環境流體連通。合成噴流亦包含貼附於第一可撓性基板之一面朝外表面之一第一板、貼附於第二可撓性基板之一面朝外表面之一第二板、及耦合至第一板及第二板之至少一者以選擇性地造成其撓曲，使得一流體流量產生且從合成噴流孔穴被投射出去之一致動器元件。第一可撓性基板及第二可撓性基板將合成噴流固定至安裝支架。

根據本發明之又一態樣，一種合成噴流子總成包含：一安裝支架，其包括一頂面及一底面；一第一可撓性基板，其跨由安裝支架界定之一開口而定位且附接至安裝支架之頂面；一第二可撓性基板，其跨由安裝支架界定之開口而定位且附接至安裝支架之底面；及貼附於第一可撓性基板及第二可撓性基板之至少一者之一面朝外表面之一板。

將自以下結合附圖所提供之本發明之較佳實施例之詳細描述更容易明白此等及其他優點及特徵。

10‧‧‧合成噴流總成

12‧‧‧合成噴流

14‧‧‧安裝支架

16‧‧‧主體/外殼

18‧‧‧電路驅動器

20‧‧‧孔穴/內部腔室

22‧‧‧氣體/流體

24‧‧‧第一板/移動板

26‧‧‧第二板/移動板

28‧‧‧間隔件元件

30‧‧‧孔

32‧‧‧外部環境/外部容積

34‧‧‧致動器

36‧‧‧致動器

38‧‧‧可撓性膜片/第一複合結構

40‧‧‧可撓性膜片/第二複合結構

42‧‧‧控制器總成/控制單元系統

44‧‧‧箭頭

46‧‧‧周圍流體/周圍氣體

48‧‧‧箭頭

50‧‧‧箭頭

52‧‧‧箭頭

54‧‧‧裝置

60‧‧‧合成噴流總成

62‧‧‧合成噴流

64‧‧‧孔穴/內部腔室

66‧‧‧可撓性基板/板/基板層

68‧‧‧頂面

70‧‧‧底面

72‧‧‧面朝外表面

74‧‧‧開口

76‧‧‧後支架腿

78‧‧‧側支架腿

80‧‧‧側支架腿

84‧‧‧鉸鏈/虛線

圖式繪示目前預期用於執行本發明之實施例。

在圖式中：圖1及圖2係可用於本發明之實施例之一合成噴流總成之圖式。

圖3係將噴流描繪為使得膜片向內、朝向孔行進之控制系統之圖1及圖2之合成噴流之一橫截面圖。

圖4係將噴流描繪為使得膜片向外、遠離孔行進之控制系統之圖1及圖2之合成噴流之一橫截面圖。

圖5及圖6係根據本發明之一實施例之一合成噴流總成之俯視橫截面圖及側視橫截面圖。

圖7係根據本發明之一實施例之一合成噴流總成之一俯視圖。

圖8係根據本發明之一實施例之一合成噴流總成之一俯視圖。

本發明之實施例係關於一種用於在一合成噴流裝置中達成更低音頻輸出及增大之流量輸出之設備及方法。

圖1至圖4繪示出於更好理解本發明之目的之一合成噴流總成10之一通用結構及在其之操作期間之各種組件之移動。首先參考圖1，合成噴流總成10經展示為包含一合成噴流12(在圖2中繪示其之一橫截面)及一安裝支架14。在一實施例中，儘管應認識到安裝支架可經構建為具有一不同形狀/輪廓(諸如經組態以在其中接收一圓形合成噴流12之一半圓形支架)之一支架，然安裝支架14係在一或多個位置處貼附於合成噴流12之一主體或外殼16之一u型安裝支架。一電路驅動器18可外部地定位或貼附於安裝支架14。或者，電路驅動器18可距合成噴流總成10而遠端地定位。

現一起參考圖1及圖2，如其中所示，合成噴流12之外殼16界定且部分封圍具有一氣體或流體22在其中之一內部腔室或孔穴20。儘管外殼16及內部腔室20可實際上採用根據本發明之各種實施例之任何幾何組態，然出於討論及理解目的，外殼16在圖2中之橫截面中經展示為包含一第一板24及一第二板26(或墊片)，其等由定位於其等之間之一間隔件元件28維持於一隔開關係中。在一實施例中，間隔件元件28在第一板24與第二板26之間維持約1毫米之一間隔。一或多個孔30形成於第一板24與第二板26及間隔件元件28之側壁之間以使內部腔室20與一周圍外部環境32處於流體連通。在一替代實施例中，間隔件元件28包含具有一或多個孔30形成於其中之一前表面(未展示)。

根據各種實施例，第一板24及第二板26可由一金屬、塑膠、玻璃及/或陶瓷形成。同樣地，間隔件元件28可由一金屬、塑膠、玻璃及/或陶瓷形成。適合金屬包含材料(諸如鎳、鋁、銅及鉬)，或合金(諸如不鏽鋼、黃銅、青銅及其相似者)。適合聚合物及塑膠包含熱塑性塑膠(諸如聚烯烴、聚碳酸酯、熱固物、環氧樹脂、胺基甲酸乙酯、丙烯酸聚合物、聚矽氧、聚醯亞胺及光阻功能之材料)及其他彈性塑膠。適合陶瓷包含(例如)鈦酸鹽(諸如鈦酸鑭、鈦酸鉍及鈦酸鉛鋯)及鉬酸鹽。此外，合成噴流12之各種其他組件亦可由金屬形成。

致動器34、36經耦合至各自第一板24及第二板26以形成第一複合結構及第二複合結構或可撓性膜片38、40，其等由驅動器18經由一控制器總成或控制單元系統42而控制。例如，各撓性膜片38、40可配備有一金屬層及可鄰近該金屬層安置之一金屬電極，使得膜片38、40可經由強加於電極與金屬層之間之一電偏壓而移動。如圖1中所示，在一實施例中，控制器總成42經電耦合至驅動器18，其直接耦合至合成噴流12之安裝支架14。在一替代實施例中，控制單元系統42經整合至自合成噴流12遠端定位之一驅動器18中。再者，控制系統42可經組態以由任何適合裝置(諸如例如一電腦、邏輯處理器或信號產生器)產生電偏壓。

在一實施例中，致動器34、36係可藉由施加一諧波交流電壓以使得壓電動裝置快速膨脹及收縮而致動之壓電運動(壓電動)裝置。在操作期間，控制系統42經由驅動器18將一電荷傳輸至壓電致動器34、 36，其等回應於該電荷而經歷機械應力及/或應變。壓電致動器34、36之應力/應變造成各自第一板24及第二板26之撓曲，使得達成一時諧或週期運動以改變在板24、26之間之內部腔室20之容積。根據一實施例，間隔件元件28亦可被製成可撓性及變形的以改變內部腔室20之容積。內部腔室20中之所得容積變化造成內部腔室20與外部容積32之間之氣體或其他流體之一互換，如相對於圖3及圖4所詳細描述。

壓電動致動器34、36可為單晶體或雙晶體裝置，根據本發明之各種實施例。在一單晶體實施例中，壓電動致動器34、36可經耦合至由材料(包含金屬、塑膠、玻璃或陶瓷)形成之板24、26。在一雙晶體實施例中，一或多個壓電動致動器34、36可為耦合至由壓電材料形成之板24、26之雙晶體致動器。在一替代實施例中，雙晶體可包含單一致動器34、36，且板24、26係第二致動器。

合成噴流12之組件可使用黏著劑、焊料及其相似者來黏附在一起或另外彼此附接。在一實施例中，採用一熱固性黏著劑或一導電黏著劑來將致動器34、36結合至第一板24及第二板26以形成第一複合結構38及第二複合結構40。在一導電黏著劑之情況下，一黏著劑可由一導電填充劑(諸如銀、金及其相似者)填充以便將導線(未展示)附接至合成噴流12。適合黏著劑可具有在100肖氏A硬度或更少之範圍內之一硬度，且可包含如實例聚矽氧、聚氨酯、熱塑性橡膠及其相似者，使得可達成120度或更大之一操作溫度。

在本發明之一實施例中，致動器34、36可包含除了壓電運動裝置之外之裝置，諸如液壓、氣動、磁力、靜電及超音波材料。因此，在此等實施例中，控制系統42經組態以依對應方式而致動各自致動器34、46。例如，若使用靜電材料，則控制系統42可經組態以將一快速交流靜電電壓提供至致動器34、36，以便致動及撓曲各自第一板24及第二板26。

參考圖3及圖4來描述合成噴流12之操作。首先參考圖3，合成噴流12經繪示為致動器34、36，其等經控制以使得第一板24及第二板26相對於內部腔室20而向外移動，如由箭頭44所描繪。當第一板24及第二板26向外撓曲時，內部腔室20之內部容積增大，且周圍流體或氣體46衝進內部腔室20，如由該組箭頭48所描繪。致動器34、36由控制系統42控制使得當第一板24及第二板26自內部腔室20向外移動時，渦旋系已自孔30之邊緣移除，且因此不受被吸入內部腔室20中之周圍流體46影響。同時，周圍流體46之一噴流由在距離孔30較大距離處汲取之周圍流體46產生之較強挾帶性之渦旋系所合成。

圖4將合成噴流12描繪為經控制以使得第一板24及第二板26向內撓曲至內部腔室20中之致動器34、36，如由箭頭50所描繪。內部腔室20之內部容積減小，且流體22作為一冷卻噴流沿由該組箭頭52指示之方向通過孔30朝向待被冷卻之一裝置54噴射，諸如，例如一發光二極體。當流體22通過孔30離開內部腔室20時，流量在孔30之銳邊處分離且產生捲入渦旋系且開始自孔30之邊緣移開之渦旋面。

儘管圖1至圖4之合成噴流經展示且經描述為在其中具有一單一孔，然亦預期本發明之實施例可包含多個孔合成噴流致動器。另外，儘管圖1至圖4之合成噴流致動器經展示且經描述為具有包含於第一板及第二板之各者上之一致動器元件，然亦預期本發明之實施例可僅包含定位於板之一者上之一單一致動器元件。此外，亦預期可在一圓形、矩形或替代地形狀之組態中提供合成噴流板，而不是在如文中所繪示之一正方形組態中。

現參考圖5及圖6，俯視圖及側視圖提供一合成噴流總成60，其經構建以達成更低表面音頻輸出及增大之流量輸出，根據本發明之一實施例。合成噴流總成60之通用結構類似於圖1至圖4中所示之結構(其中相同部件被相同編號)，如該總成包含定位於一安裝支架14內之一合成噴流62，其(根據一例示性實施例)經構建為一u型安裝支架。然而，在圖5之合成噴流中，合成噴流62經形成以具有不同於圖1之合成噴流12之一結構，且合成噴流62依不同於圖1中所示之方式之一方式貼附於安裝支架14，以便允許合成噴流62達成更低表面音頻輸出及增大之流量輸出。術語「表面音頻輸出」在文中被使用以指示，儘管由合成噴流62所產生之實際噪音位準可能會減小或不減小，然合成噴流62之機械或結構共振可被更改至一更低共振頻率，使得合成噴流產生低於500赫茲(其係人類聽力在其中較不敏感之一頻率位準/範圍)之噪音，使得在此更低頻率處之一噪音位準將低於在更高頻率(例如600赫茲)處之相同噪音位準。

在合成噴流總成60中，合成噴流62包含由一適合材料(例如金屬、塑膠、玻璃及/或陶瓷)形成之一第一板24及一第二板26。致動器34、36經耦合至各自第一板24及第二板26。一諧波交流電壓可(諸如自一驅動器18經由一控制器總成或控制單元系統42，如圖1中所示/描述)被施加至壓電致動器34、36以在其中產生一機械應力以造成各自第一板24及第二板26之撓曲，使得達成一時諧或週期運動以改變板24、26之間之一內部腔室64之容積。

亦形成合成噴流之部分係可撓性基板或板66，其等延伸及橫跨在支架14之一頂面68及底面70之各者上之u型支架14。根據一例示性實施例，可撓性基板66由雙軸定向之聚對苯二甲酸乙二醇酯(boPET)(或更廣泛稱為聚酯樹脂)形成或替代地由胺基甲酸乙酯形成。然而，應認識到，具有一類似位準之撓性之其他類似及適合材料可用於形成基板66。在形成合成噴流62中，第一板24及第二板26(及定位於其等上之致動器34、36)附接至可撓性基板66之頂部及底部、基板66之一面朝外表面72。根據一實施例，一膠或黏著劑(未展示)用於將第一板24及第二板26固定至可撓性基板66。由於可撓性基板66歸因於其等放置/黏附於u型支架之相對置的頂面68及底面70而隔開，所以可撓性基板66及u型支架14在合成噴流62中共同形成孔穴64。孔穴64包含一開口74(類似於圖1中所示之開口/孔)，以便放置孔穴64與一周圍外部環境32流體連通。

除了形成合成噴流62之部分，可撓性基板66亦用以相對於u型安裝支架14而安裝合成噴流62。亦使用膠或另一適合黏著劑(整體以82指示)來將可撓性基板66固定至u型支架14之一後支架腿76及側支架腿78、80之各者，且因此將合成噴流62固定至u型安裝支架14。

如圖5中最佳可見，根據本發明之一實施例，一對鉸鏈84被添加至合成噴流62之背部以進一步將第一板24及第二板26連接至u型支架14。鉸鏈84可由若干材料之一者形成，且可依一層膠或聚矽氧或一金屬條之形式提供。鉸鏈84用作用於將合成噴流62維持與相對於u型安裝支架之位置中之一額外機構。儘管合成噴流總成60在圖5中經展示為包含定位於合成噴流62之後邊緣上之一對鉸鏈84，然應認識到其他合成噴流總成可經形成以具有僅一單一鉸鏈84(圖7)或沒有鉸鏈(圖8)。

在合成噴流總成60之操作中，致動器34、36可經致動以造成第一板24及第二板26及可撓性基板66之一撓曲，且藉此改變合成噴流62中之孔穴64之一容積(如圖6中最佳可見)，其中板及基板之撓曲由虛線84指示。一旦合成噴流62經致動，則合成噴流62可在一非常低共振模式中操作，且提供經由合成噴流之全寬之一最大振幅。即，由於用於形成合成噴流62且將其固定至u型安裝支架14之基板層66(例如聚酯樹脂或胺基甲酸乙酯之基板層)係非常具有可撓性的，所以其等允許合成噴流62在操作期間具有一不同振動模態(即移動板24、26之振動模態)。基板層66及振動模態允許藉此使得合成噴流62在一非常低共振模式中操作且提供用於流量產生之經由合成噴流之全寬(即兩個板之間之開口/孔之全寬)之一最大振幅。

應認識到，採用可撓性基板66用以將合成噴流12貼附於一安裝支架14之合成噴流總成10不限於包含正方形/矩形合成噴流12及一u型安裝支架14之結構，諸如圖5至圖8中所示。即，亦預期具有其他形狀及組態之合成噴流總成10如落入本發明之範疇內。例如，包含一圓形合成噴流及一半圓形安裝支架且採用可撓性基板用以將合成噴流貼附於安裝支架之一合成噴流總成10被視為在本發明之範疇內。

有益的是，因此，本發明之實施例提供一種合成噴流總成60，其包含實現在一機械共振模式(其具有一較低共振頻率(例如少於500赫茲))中之合成噴流62之操作之可撓性基板66。當合成噴流62仍能夠依一最大振幅操作經由合成噴流之全寬而時，在此機械共振模式中之合成噴流62之操作減小由合成噴流所產生之表面噪音而不影響裝置之流量輸出。另外，合成噴流62可選擇性地「調諧」以在更高音頻位準及經變動之流量輸出處執行。

因此，根據本發明之一實施例，一種合成噴流子總成包括：一安裝支架，其包括一頂面及一底面；一第一可撓性基板，其跨由安裝支架界定之一開口而定位且附接至安裝支架之頂面；一第二可撓性基板，其跨由安裝支架界定之開口而定位且附接至安裝支架之底面；貼附於第一可撓性基板之一面朝外表面之一第一板及貼附於第二可撓性基板之一面朝外表面之一第二板。

根據本發明之另一態樣，一種製造一合成噴流總成之方法包含：提供界定一開口之一安裝支架；及將一對可撓性基板貼附於安裝支架之相對置的頂面及底面上，使得該對可撓性基板之各者橫跨安裝支架之開口，其中該對可撓性基板及安裝支架界定一孔穴。該方法亦包含：將一第一板附接至該對可撓性基板之一者之一面朝外表面；將一第二板附接至可撓性基板之其他者之一面朝外表面；及將一致動器元件附接至第一板及第二板之至少一者以選擇性地造成其撓曲，藉此改變孔穴內之一容積，使得一流體流量產生且自孔穴被投射出去。

根據本發明之又一態樣，一種合成噴流總成包含：一安裝支架，其包括界定一開口之複數個支架腿；及至少部分定位於安裝支架之開口內之一合成噴流，其中合成噴流進一步包含：一第一可撓性基板，其跨由安裝支架界定之開口伸展且附接至安裝支架之一頂面；及一第二可撓性基板，其跨由安裝支架界定之開口伸展且附接至安裝支架之一底面，其中第一可撓性基板及第二可撓性基板及安裝支架界定一合成噴流孔穴與一周圍環境流體連通。合成噴流亦包含貼附於第一可撓性基板之一面朝外表面之一第一板、貼附於第二可撓性基板之一面朝外表面之一第二板、及耦合至第一板及第二板之至少一者以選擇性地造成其撓曲，使得一流體流量產生且自合成噴流孔穴被投射出去之一致動器元件。第一可撓性基板及第二可撓性基板將合成噴流固定至安裝支架。

儘管已僅結合一有限數目個實施例詳細描述本發明，然應容易瞭解，本發明不限於此等所揭示之實施例。確切而言，本發明可經修改以併入迄今尚未描述之任何數目個變動、替代、取代或等效配置，但該等配置與本發明之精神及範疇相應。另外，儘管已描述本發明之各種實施例，然應瞭解，本發明之態樣可僅包含一些所描述之實施例。因此，本發明不被視為由以上描述所限制，但僅由隨附申請專利範圍之範疇限制。

Claims

一種合成噴流子總成，其包括：一安裝支架，其包括一頂面及一底面；一第一可撓性基板，其跨由該安裝支架界定之一開口而定位及伸展且附接至該安裝支架之該頂面；一第二可撓性基板，其跨由該安裝支架界定之該開口而定位及伸展且附接至該安裝支架之該底面；其中該第一可撓性基板及該第二可撓性基板及該安裝支架界定一孔穴與一周圍環境流體連通；一第一板，其貼附於該第一可撓性基板之一面朝外表面；及一第二板，其貼附於該第二可撓性基板之一面朝外表面。
如請求項1之合成噴流子總成，其中該合成噴流總成進一步包括一致動器元件，其耦合至該第一板及該第二板之至少一者以選擇性地造成其撓曲，藉此改變該孔穴內之一容積，使得一流體流量產生且從該孔穴被投射出去。
如請求項1之合成噴流子總成，其進一步包括一或多個鉸鏈，其等附接至該第一板及該第二板之至少一者之一後邊緣以便將該第一板及該第二板之該至少一者之該後邊緣耦合至該安裝支架。
如請求項3之合成噴流子總成，其中該一或多個鉸鏈包括附接至該第一板及該第二板之該至少一者之該後邊緣之一對鉸鏈。
如請求項3之合成噴流子總成，其中該一或多個鉸鏈包括附接至該第一板及該第二板之該至少一者之該後邊緣之一單一鉸鏈。
如請求項3之合成噴流子總成，其中該一或多個鉸鏈之各者包括一層膠或聚矽氧。
如請求項3之合成噴流子總成，其中該一或多個鉸鏈之各者包括一金屬條。
如請求項1之合成噴流子總成，其中該第一可撓性基板及該第二可撓性基板影響該第一板及該第二板之一振動模態，以便減小由該合成噴流總成在其之操作期間所產生之噪音之一位準。
如請求項1之合成噴流子總成，其中該第一可撓性基板及該第二可撓性基板之各者包括聚酯樹脂或胺基甲酸乙酯。
如請求項1之合成噴流子總成，其中該安裝支架包括一u型支架。