TWI602616B - 流體噴霧裝置之貯槽快速汲取 - Google Patents

Description

流體噴霧裝置之貯槽快速汲取

本發明一般而言係關於用於噴塗流體(例如，塗料、密封劑或其他流體)之流體噴霧裝置。更特定言之，本發明係關於具有經組態以固持饋送至該噴霧裝置之流體之貯槽之流體噴霧裝置。

流體噴霧裝置經常用於噴塗路面、場地或其他表面上之線或其他標記。經常稱作線標記器或顛裝置，此等裝置通常包含安裝至具有輪之一底盤之一噴嘴總成，藉此使一使用者能夠在施加標記至地面上時推動或騎行該裝置。此等裝置通常包含一貯槽，該貯槽固持饋送至用於施加之該噴嘴總成(經常經由一馬達或其他泵送機構完成)之流體(例如，塗料)。

然而，關於施加塗料至一運動場之場地標記器之案例係如此，施加不同顏色塗料至該場地之各個部分可經常為必要的。因此，當在塗料顏色之間切換時，可有必要在用一第二種塗料顏色填充該貯槽之前清空該貯槽中一第一種塗料顏色之一未使用部分。此清空(可能清潔)及重新填充該貯槽之程序可為不方便的(特別係若該噴霧裝置係龐大的)及/或需要使用工具來汲取或清潔該貯槽。

在一項實例中，一種流體噴霧裝置包含一底盤、連接至該底盤之複數個輪、連接至該底盤之一噴嘴總成及安裝於該底盤上之一貯槽。該貯槽與該噴嘴總成流體連通且經組態以定向於一直立汲取位置中以用於自該貯槽汲取流體。該貯槽包含：一底側；一頂側，其與該 底側相對；一孔口，其經組態以接收及汲取該流體；及一側壁，其以一鈍角遠離該底側延伸至該頂側毗鄰該孔口處以在該貯槽處於該直立汲取位置中時促進流體之汲取。

在另一實例中，一種流體噴霧裝置包含一底盤、連接至該底盤之一噴嘴總成及安裝於該底盤上之一貯槽。該貯槽與該噴嘴總成流體連通且可在該底盤中在一噴霧位置與用於自該貯槽汲取流體之一直立汲取位置之間旋轉。該貯槽包含一底側、與該底側相對之一頂側及一側壁。該孔口經組態以接收及汲取該流體。該側壁以一鈍角遠離該底側延伸至該頂側毗鄰該孔口處以在該貯槽處於該直立汲取位置中時提供自該底側至該孔口之一流體路徑。

在另一實例中，一種流體噴霧裝置包含一底盤、連接至該底盤之一噴嘴總成及可移除地安裝於該底盤上之一貯槽。該貯槽與該噴嘴總成流體連通。該貯槽經組態以在該底盤中經由該底盤之兩個或兩個以上樞軸在一噴霧位置與用於自該貯槽汲取流體之一直立汲取位置之間旋轉。兩個或兩個以上樞軸之各者包含：一底側，其經組態以在於該噴霧位置與該直立汲取位置之間旋轉期間支撐該貯槽之一負載；及一敞開頂側，其經組態以允許自該等樞軸移除該貯槽。

10‧‧‧流體噴霧裝置/噴霧裝置

12‧‧‧貯槽

14‧‧‧底盤

15‧‧‧水平軸

16‧‧‧垂直軸

17‧‧‧輪

18‧‧‧噴嘴總成

20‧‧‧泵

22‧‧‧水平導引臂

24‧‧‧垂直導引臂

26‧‧‧手把總成

28‧‧‧引動器

30‧‧‧防噴罩

32‧‧‧電池

34‧‧‧噴嘴

35‧‧‧蓋

36‧‧‧樞軸

38‧‧‧螺椿

40‧‧‧指旋螺絲

42‧‧‧指旋螺絲

44‧‧‧軟管

46‧‧‧孔口

48‧‧‧底側

50‧‧‧頂側

52‧‧‧側壁

54‧‧‧鈍角

56‧‧‧容器

58‧‧‧線

60‧‧‧可移除插塞

62‧‧‧座

64‧‧‧底側

66‧‧‧凹槽

68‧‧‧頂側

70‧‧‧流體噴霧裝置/噴霧裝置

72‧‧‧底盤

74‧‧‧貯槽

76A‧‧‧輪

76B‧‧‧輪

78‧‧‧後部分

80‧‧‧前部分

82‧‧‧流體容器

84‧‧‧手把總成

86‧‧‧成角度側壁

88‧‧‧孔口

圖1係包含經組態以定位於一直立汲取位置中之一貯槽之一流體噴霧裝置之一透視圖。

圖2係具有定位於一直立汲取位置中之貯槽的圖1之流體噴霧裝置之一側視圖。

圖3係在貯槽自底盤移除之情況下圖1及圖2之流體噴霧裝置之一側視圖。

圖4係包含經組態以定位於一直立汲取位置中之一底盤及貯槽之一流體噴霧裝置之另一實施例之一側視圖。

圖5係具有定位於直立汲取位置中之底盤及貯槽的圖4之流體噴霧裝置之一側視圖。

如本文中描述，一流體噴霧裝置(諸如一手扶式運動場標記器)包含一噴嘴總成，該噴嘴總成連接至一底盤且經組態以噴塗自一貯槽饋送之流體(例如，塗料)。並非要求該貯槽自該噴霧裝置移除以用於汲取及/或清潔，根據本發明之技術之一貯槽可經組態以定向於一直立汲取位置中以用於自該貯槽汲取流體。該貯槽可經組態以在定向於該直立汲取位置中時在該噴霧裝置之後部排出流體，藉此使得能夠將流體直接汲取至一流體容器(諸如一塗料桶)中。該貯槽之一成角度側壁可促進該流體之汲取，藉此有助於減小在汲取之後殘留於該貯槽中之過剩塗料之一量。此外，該噴霧裝置可經組態以達成該貯槽自該底盤無需工具之移除。以此方式，本發明之技術使該貯槽能夠容易被移除且(例如)在一遠端清潔站(諸如一水槽或其他清潔地點)經清潔。如此，本文中描述之技術可達成承載用於由一流體噴霧裝置施加之流體(例如，塗料)之一貯槽之快速、有效及無需工具之汲取及/或清潔。

圖1係包含經組態以定向於一直立汲取位置中之貯槽12之流體噴霧裝置10之一透視圖。如所圖解說明，流體噴霧裝置10亦包含具有水平軸15及垂直軸16之底盤14、輪17、噴嘴總成18、泵20、水平導引臂22、垂直導引臂24、手把總成26、引動器28、防噴罩30及電池32。噴嘴總成18包含噴嘴34。貯槽12包含可移除地附接(例如，經由螺紋、一壓入配合或其他可移除附接機構)至貯槽12以覆蓋貯槽12之一頂側中之一孔口的蓋35。底盤14包含在旋轉期間經由螺椿38支撐貯槽12之一負載之樞軸36，如下文進一步描述。

複數個輪17連接至底盤14以允許在經由噴嘴總成18在一施加表面(諸如與水平軸15共面之一施加表面(例如，地面))上施加流體期間 移動流體噴霧裝置10。在圖1之實例中，噴嘴總成18經由垂直導引臂24連接至底盤14，垂直導引臂24自水平導引臂22延伸。在圖1之實例中，垂直導引臂24沿垂直軸16之一方向延伸以使得垂直導引臂24與垂直軸16平行。然而，在某些實例中，垂直導引臂24可不與垂直軸16平行，而是沿垂直軸16之一方向以與垂直軸16所成之一銳角延伸。

水平導引臂22連接至底盤14且沿與水平軸15共面之一方向延伸遠離底盤14。水平導引臂22經由指旋螺絲40連接至底盤14。一指旋螺絲可為包含促進緊固件之手動旋擰之一旋鈕或其他附件之一螺紋緊固件。指旋螺絲40經由附接至水平導引臂22而達成垂直導引臂24與底盤14之間之一距離之調整。舉例而言，一使用者可鬆脫指旋螺絲40，藉此允許水平導引臂22遠離或朝向底盤14移動，且可拴緊指旋螺絲40以將水平導引臂22固定於一新位置中。以此方式，指旋螺絲40可達成垂直導引臂24與底盤14之間之一距離之無需工具之調整(例如，經由指旋螺絲40之手動鬆脫及拴緊)以變更噴嘴總成18與底盤14之間之一相對水平位置。

噴嘴總成18經由指旋螺絲42可移除地連接(在此實例中)至垂直導引臂24。指旋螺絲42達成噴嘴34在一施加表面(諸如地面)上方之一高度之調整。舉例而言，一使用者可鬆脫指旋螺絲42，沿垂直軸16之一方向調整噴嘴總成18之一位置，且拴緊指旋螺絲42以將噴嘴總成18固定於新位置處。以此方式，指旋螺絲42可達成噴嘴34與施加表面之間之一有效噴霧高度之調整，此可減小及/或增大施加至施加表面之一噴霧圖案之一面積。舉例而言，當噴霧高度增大(即，噴嘴34與施加表面之間之距離增大)時，自噴嘴34接收流體之施加表面之面積可增大。類似地，當噴霧高度減小時，自噴嘴34接收流體之施加表面之面積可減小。此外，指旋螺絲42可達成噴嘴總成18自底盤14無需工具之移除。舉例而言，在鬆脫指旋螺絲42時，可藉由使噴嘴總成沿垂直軸 16之一方向滑動離開垂直導引臂24之頂部而自垂直導引臂24移除該噴嘴總成。

貯槽12經組態以固持用於經由噴嘴總成18施加之流體(例如，塗料)。噴嘴總成18經由軟管44及泵20流體連接至貯槽12。在操作中，泵20經由在貯槽12之一底側中之允許流體自貯槽12外出之一埠(未圖解說明)自貯槽12抽取流體，加壓該流體，且經由軟管44將經加壓流體排出至噴嘴總成18中。如在圖2及圖3中所展示，泵20電連接至電池32(例如，一個十二伏特電池)，電池32經組態以供應電能至泵20以用於泵20之操作。

如所圖解說明，流體噴霧裝置10亦包含引動器28，引動器28(如所圖解說明)可附接至手把總成26以促進使用者致動引動器28。引動器28可為一按鈕、開關、旋鈕或能夠設定泵20之一控制狀態的其他裝置。引動器28電連接至控制泵20之引動之一控制器(未圖解說明)。該控制器(其可與電池32分離或成一整體)電連接至電池32及泵20。當引動器28定位於一主動位置中(例如，經按下或以其他方式定位於一主動位置中)時，該控制器致使泵20自電池32抽取電流以致使泵20自貯槽12抽取流體且將經加壓流體排出至噴嘴總成18中。當引動器28定位於一非主動位置中時，該控制器不致使泵20自電池32抽取電流，藉此有效地致使噴霧裝置10停止流體經由噴嘴總成18之施加。

在操作中，一使用者可使用手把總成26沿著施加表面操縱噴霧裝置10。手把總成26可與底盤14形成一整體或附接至底盤14，且自底盤14延伸至底盤14後部之一位置。使用者可將引動器28定位至一主動位置(例如，當引動器28係一按鈕時按下引動器28)，藉此致使泵20自貯槽12抽取流體，加壓該流體，且經由軟管44將該流體排出至噴嘴總成18。經加壓流體在噴嘴34處離開噴嘴總成18，噴嘴34藉由以一噴霧圖案分佈流體之液滴而施配流體。當引動器28定位至一非主動位置 時，泵20停止自貯槽12抽取流體，藉此停止流體經由噴嘴總成18之施加。以此方式，一使用者可施加流體至施加表面之特定區域，且可防止施加流體至施加表面之其他區域。另外，儘管在圖1中經圖解說明處於一非主動位置(例如，自噴嘴總成18移除之一位置)中，但在某些實例中防噴罩30可毗鄰噴嘴總成18定位以遮蔽噴嘴34且防止流體之過量噴塗，藉此進一步控制流體之施加區域。

如本文中所進一步描述，貯槽12經組態以定向於一直立汲取位置中以用於自貯槽12汲取流體。即，在圖1之實例中，圖解說明貯槽12處於一噴霧位置中，其經組態以允許流體經由貯槽12之一底側中之一埠外出至泵20，以用於經由噴嘴總成18施加。如下文所進一步描述，貯槽12可在噴霧位置與用於在底盤14之後部排出流體之一直立汲取位置之間旋轉。舉例而言，在圖1之實施例中，可藉由經由底盤14中之樞軸36旋轉貯槽12而將貯槽12自噴霧位置旋轉至直立汲取位置，樞軸36經組態以在旋轉期間支撐貯槽12之一負載。樞軸36包含一底側，該底側具有接收螺椿38且使貯槽12能夠經由螺椿38在樞軸36內旋轉之一凹槽。如下文所描述，當貯槽12定向於直立汲取位置中時，流體經由貯槽12之頂側中之一孔口(在圖1中由蓋35覆蓋)自貯槽12汲取且在底盤14之後部排出，藉此達成將流體直接沈積至定位於底盤14後部之一容器(例如，一塗料桶)中。以此方式，貯槽12可達成自貯槽12快速且有效汲取流體，藉此增大噴霧裝置10之可用性。

圖2係具有定位於一直立汲取位置中之貯槽12之流體噴霧裝置10之一側視圖。在圖2之實例中，移除蓋35以曝露孔口46，孔口46可經組態以自貯槽12接收及/或汲取流體。如所圖解說明，貯槽12可為一多面容器，其包含具有各種幾何形狀之多個側壁及輪廓以用於(例如)引導流體外出至泵20及/或經由孔口46汲取流體。

如圖2中所展示，貯槽12包含底側48、與底側48相對之頂側50及 以鈍角54自底側48延伸至頂側50中之孔口46之側壁52。側壁52位於貯槽12之一後側處以使得當流體透過孔口46在底盤14之後部排出時流過側壁52。孔口46可經組態以接收及汲取流體。即，孔口46之一面積可足夠大以便能夠在不使用漏斗或其他此類工具之情況下經由孔口46將流體沈積(例如，傾倒)至貯槽12中。

如所圖解說明，貯槽12可定向於直立汲取位置中以使得底側48及頂側50沿垂直軸16之一方向延伸。因此，當貯槽12處於直立汲取位置中時，以鈍角54延伸之側壁52提供一路徑以供流體自底側48流動經過孔口46，藉此促進流體自貯槽12之汲取。以此方式，側壁52可有助於最小化在自貯槽12汲取流體之後殘留在貯槽12中之流體之一量。此外，如圖2中所圖解說明，孔口46可經組態以在底盤14後部排出流體，藉此達成將流體直接沈積至容器56中。即，附接至底盤14之一後部分之輪17之間之一距離可大於容器56(例如，一標準五加侖塗料桶或其他流體容器)之一寬度，藉此允許容器56鄰接底盤14。以此方式，貯槽12可經組態以允許將流體自貯槽12有效汲取至一容器中，藉此有助於在汲取期間最小化溢出流體之一量。

圖3係在貯槽12自底盤14移除之情況下流體噴霧裝置10之一側視圖。如圖3中所圖解說明，貯槽12連接至泵20，泵20經由線58及可移除插塞60電連接至電池32。可移除插塞60可包含允許可移除插塞60連接至電池32及自電池32斷開連接之一介面。貯槽12及泵20可移除地安裝於底盤14上，使得在貯槽12定向於噴霧位置中時，座62放置於底盤14上以支撐泵20及貯槽12之一負載。

樞軸36包含具有頂側68中經組態以接收貯槽12之螺椿38之凹槽66的底側64。螺椿38放置於凹槽66中，且在貯槽12於噴霧位置與直立汲取位置之間旋轉期間，在凹槽66內旋轉。在貯槽12於噴霧位置與直立汲取位置之間旋轉期間，樞軸36經由螺椿38支撐貯槽12之一負載。

由於凹槽66未完全圍封螺椿38，因此可沿垂直軸16之一方向自樞軸36自由移除螺椿38。類似地，由於泵20經組態以經由座62放置於底盤14上，因此可沿垂直軸16之一方向自底盤14自由移除泵20及貯槽12。因此，在可移除插塞60自電池32斷開連接且噴嘴總成18自垂直導引臂24斷開連接(例如，藉由鬆脫指旋螺絲42)時，可自底盤14移除貯槽12、泵20及噴嘴總成18。以此方式，可自底盤14完全移除貯槽12，藉此使貯槽12能夠在遠離底盤14之一位置處被清潔及/或汲取。

圖4係一流體噴霧裝置之另一實施例之一側視圖，該流體噴霧裝置包含經組態以定位於一直立汲取位置中之一底盤及貯槽。如所圖解說明，噴霧裝置70包含底盤72。貯槽74連接至底盤72。輪76A(僅展示一個)在底盤72之後部分78處安裝至底盤72。輪76B在前部分80處安裝至底盤72。儘管在圖4中展示為包含一個輪76B，應理解，在某些實例中，一個以上輪76B(例如，兩個輪或其他數目個輪)可在前部分80處安裝至底盤72。

輪76A之間之一距離可大於流體容器82(例如，一標準五加侖桶)之一寬度，以使得後部分78可鄰接流體容器82。手把總成84自底盤72沿朝向後部分78之一方向延伸。在此實施例中，如下文關於圖5所描述，當底盤72繞輪76A旋轉以使得手把總成84放置於施加表面(諸如地面)上時，貯槽74經組態以定向於一直立汲取位置中。

圖5係具有定位於直立汲取位置中之底盤72及貯槽74的流體噴霧裝置70之一側視圖。如圖5中所圖解說明，底盤72已繞輪76A旋轉以使得手把總成84放置於施加表面上。因此，當底盤72及貯槽74處於直立汲取位置中時，手把總成84及輪76A為流體噴霧裝置70提供一穩定基座。貯槽74可具有與上文關於圖1至圖3所描述之組態相同組態。因此，貯槽74可經組態以在底盤72後部排出流體，以使得流體可直接汲取至流體容器82中。另外，貯槽74包含提供一路徑以供流體透過孔口 88排出之成角度側壁86，藉此促進汲取且有助於最小化殘留在貯槽74中之流體之一量。

雖然已參考較佳實施例描述本發明，但熟習此項技術者將認識到在不背離本發明之精神及範疇之情況下可在形式及細節方面做出改變。

10‧‧‧流體噴霧裝置/噴霧裝置

14‧‧‧底盤

15‧‧‧水平軸

16‧‧‧垂直軸

17‧‧‧輪

20‧‧‧泵

32‧‧‧電池

46‧‧‧孔口

48‧‧‧底側

50‧‧‧頂側

52‧‧‧側壁

54‧‧‧鈍角

56‧‧‧容器

Claims (20)

1. 一種流體噴霧裝置，其包括：一底盤；複數個輪，其連接至該底盤；一噴嘴總成，其連接至該底盤；及一貯槽，其安裝於該底盤上，與該噴嘴總成流體連通且經組態以在一噴霧位置與一直立汲取位置之間可被轉動，以用於自該貯槽汲取流體；其中該貯槽包括：一底側；一頂側，其與該底側相對且包含經組態以接收及汲取該流體之一孔口；及一後側壁，其在該噴霧位置面向後方，該後側壁以一鈍角延伸遠離該底側延伸至該頂側毗鄰該孔口處，以在該貯槽處於該直立汲取位置中時促進該流體通過該孔口之汲取。
2. 如請求項1之流體噴霧裝置，其中該貯槽之該孔口經組態以在該流體噴霧裝置定向於該直立汲取位置中時，在該流體噴霧裝置後部排出流體。
3. 如請求項1之流體噴霧裝置，其中該貯槽可經由該底盤之兩個或兩個以上樞軸在該噴霧位置與該直立汲取位置之間旋轉，該兩個或兩個以上樞軸經組態以在於該噴霧位置與該直立汲取位置之間旋轉期間支撐該貯槽之一負載。
4. 如請求項3之流體噴霧裝置，其中該兩個或兩個以上樞軸之各者包括：一底側，其沿該底盤之一水平軸之一方向延伸，且經組態以 在該貯槽在該噴霧位置與該直立汲取位置之間旋轉期間支撐該貯槽之該負載；一敞開頂側，其經組態以允許沿該底盤之一垂直軸之一方向自該等樞軸移除該貯槽；且其中該貯槽包含用於嚙合該等樞軸之螺椿。
5. 如請求項3之流體噴霧裝置，其中當該貯槽處於該噴霧位置中時，該貯槽之該底側及該頂側之各者沿該底盤之一水平軸之一方向延伸；且其中當該貯槽處於該直立汲取位置中時，該貯槽之該底側及該頂側之各者沿該底盤之一垂直軸之一方向延伸。
6. 如請求項1之流體噴霧裝置，其中該貯槽之該底側之一長度小於該貯槽之該頂側之一長度。
7. 如請求項1之流體噴霧裝置，其中該貯槽進一步包括定位於該貯槽之該底側處之一埠，該埠經組態以允許該流體自該貯槽外出；且其中該流體噴霧裝置進一步包括定位於毗鄰該貯槽之該埠處且與該噴嘴總成流體連通之一泵，該泵經組態以透過該埠將該流體自該貯槽抽取至該噴嘴總成。
8. 如請求項1之流體噴霧裝置，其中該噴嘴總成可移除地附接至一導引臂。
9. 如請求項8之流體噴霧裝置，進一步包括：一水平導引臂，其連接至該底盤且遠離該底盤沿與該底盤之一水平軸共面之一方向延伸；及一垂直導引臂，其連接至該水平導引臂且沿該底盤之一垂直軸之一方向延伸；其中該噴嘴總成可移除地附接至該垂直導引臂。
10. 如請求項9之流體噴霧裝置，其中該水平導引臂可沿著與該底盤之該水平軸共面之該方向移動，以使該垂直導引臂能夠沿與該水平軸共面之該方向移動。
11. 如請求項9之流體噴霧裝置，其中該噴嘴總成可移除地附接至該垂直導引臂以使該噴嘴總成能夠沿該底盤之該垂直軸之一方向移動。
12. 如請求項8之流體噴霧裝置，進一步包括連接至該底盤且經組態以提供電能至該泵之一電池，其中該泵經由一可移除插塞電連接至該電池。
13. 如請求項12之流體噴霧裝置，其中在該噴嘴總成自該垂直導引臂移除且該可移除插塞自該電池斷開連接時，可沿該底盤之該垂直軸之一方向自該底盤移除該貯槽。
14. 如請求項8之流體噴霧裝置，其中該噴嘴總成經由一指旋螺絲可移除地附接至該導引臂。
15. 如請求項1之流體噴霧裝置，其中該複數個輪之至少一者在該底盤之一後部分處連接至該底盤；且其中當該底盤繞在該底盤之該後部分處連接至該底盤之該複數個輪之至少一者旋轉時，該貯槽經組態以定向於該直立汲取位置中。
16. 如請求項15之流體噴霧裝置，其中該底盤進一步包括在該底盤之後部延伸之一手把部分；且其中當該貯槽定向於該直立汲取位置中時，該流體噴霧裝置經組態以放置於該手把部分及在該底盤之該後部連接至該底盤之該複數個輪的至少一者上。
17. 一種流體噴霧裝置，其包括：一底盤；一噴嘴總成，其連接至該底盤；一貯槽，其安裝於該底盤上，與該噴嘴總成流體連通，該貯槽可在該底盤中於一噴霧位置與用於自該貯槽汲取流體之一直立汲取位置之間旋轉；及一泵，其附接於該貯槽並且與該噴嘴總成流體連通，該泵係經組態以使其在該貯槽於該噴霧位置與該直立汲取位置之間轉動時，與該貯槽一起樞轉。
18. 如請求項17之流體噴霧裝置，其中該貯槽可在該底盤中經由該底盤上之兩個或兩個以上樞軸在一噴霧位置與該直立汲取位置之間旋轉，該兩個或兩個以上樞軸經組態以在旋轉期間支撐該貯槽之一負載。
19. 一種流體噴霧裝置，其包括：一底盤，該底盤包含一對向後延伸的臂；一手把總成，其附接於該底盤之該對臂且由該底盤之該對臂向後延伸；一噴嘴總成，其連接至該底盤；一貯槽，其可移除地安裝於該底盤上，與該噴嘴總成流體連通，該貯槽經組態以在該底盤中經由兩個樞軸於一噴霧位置與用於自該貯槽汲取流體之一直立汲取位置之間旋轉；及一泵，其附接於該貯槽並且與該噴嘴總成流體連通；其中該兩個樞軸係各別定位在該底盤之該對臂上，且包括經組態以在於該噴霧位置與該直立汲取位置之間旋轉期間支撐該貯槽之一負載之一底側，以及經組態以允許將該貯槽與該泵成一單一單元自該等樞軸移除的一敞開頂側。
20. 如請求項19之流體噴霧裝置，其中該貯槽包括：一底側；一頂側，其與該底側相對且包含經組態以接收及汲取該流體之一孔口；及一側壁，其以一鈍角遠離該底側延伸至該頂側毗鄰該孔口處，以在該貯槽處於該直立汲取位置中時，促進該流體之汲取。