TWI586389B - 一種導管裝置 - Google Patents
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Description
本案是關於一種導管裝置,更具體地說是關於一種用於體腔內的導管裝置。
放射治療技術是以光波或高速粒子的型態傳送放射線,利用較高能量的放射線來破壞癌細胞,並抑制它們生長的治療方式,達到治療癌症的目的,普遍施用於不能耐受手術治療的患者,或是用於治療手術後的復發。
放射治療技術可分為兩大類,一種是遠隔治療,另一種是近接治療(brachytherapy)。遠隔治療即為體外照射,將輻射射源置於體外,其所產生的輻射線由體外穿透身體,照射需要治療的範圍。近接治療則是利用導管進入體腔,放在腫瘤組織處或靠近腫瘤組織周圍,利用置入導管內的射源其所放出的輻射線,直接於體內產生輻射線近距離照射腫瘤區域,達到治療的效果。
近接治療適用於生長在體腔內的腫瘤,被廣泛用於治療子宮頸癌,亦常用於子宮內膜癌、鼻咽癌、攝護腺癌,及其他可以置放導管的腫瘤。
因放射源強度會隨距離平方成反比遞減,因此近接治療時,離放射源較遠的正常組織或器官,會接受遠較放射源中心區為少的放射劑量,如此差異可以減低正常組織的幅射傷害,所以無論是放射線治療中產生的副作用,或是
放射線治療後的後遺症的發生率,也會因而降低。
目前國內所使用的近接治療儀器,是以高劑量率近接治療為主,劑量率應超過12Gy/時。在歐美使用較廣泛的是低劑量率近接治療,劑量率小於2Gy/時。低劑量率近接治療有優於高劑量率近接治療的生物特性,因為使用低劑量率近接治療時,正常細胞有較佳的機會修復所受到放射傷害,因此後遺症的發生率理論上會較後者低。
相較於低劑量率近接治療,高劑量率近接治療有許多優點:(1)費用較便宜,病人可由門診治療,不須住院多日(2)因治療時間短,病人較為舒適(3)治療時間短,病人體內所暫時置放的射源位置穩定性較高(4)放射治療從業人員不會有遭受到無謂的放射劑量的顧慮。
但在使用近接治療時,亦會使腫瘤周圍被照射到的正常組織受損,而放射線治療的副作用發生,正與接受放射線照射部位及照射的劑量有關,正常組織距離射源愈近,則正常組織所吸收劑量愈高,副作用則愈大。
一般放射線治療的副作用為疲倦,照射部位皮膚發紅、脆弱。皮膚經常摩擦的部位,如腋下、胯下等,容易發炎破皮。腹部接受放射線治療則常有腹瀉副作用。頭頸部放射線治療可能會出現唾液變粘稠、唾液減少、味覺改變、口腔粘膜紅腫、口乾、吞嚥疼痛困難,甚至胃口喪失等等情形。
另一方面,由於導管是以進入體腔的方式,給予導管周邊腫瘤組織放射線的治療,現有導管,如Elekta的Bonvoisin-Gerard Esophageal Applicator產品,會在進入體腔後,以整段導管充氣的方式撐開體腔以利給予射源,然而整段導管充氣撐開體腔的方式,將導致患者對療程產生不適感。
因此,如何設計出一種能夠減緩患者在施予放射線治療時的不適
感,以及能夠減少患者正常組織被放射線照射範圍,以降低治療的副作用的裝置,實為目前亟欲解決的課題。
本案提供一種導管裝置,其包括:一管狀結構;以及複數個流體流管結構,各具有一近端及一遠端,且沿著所述管狀結構的一第一軸方向設置於所述管狀結構的外圍;其中所述複數個流體流管結構於所述遠端各設有獨立的一定位結構。
根據上述構想,其中所述複數個流體流管結構各自於所述近端上更各自具有一獨立的控制元件,且所述控制元件藉由所述流體流管結構與所述定位結構連結。
根據上述構想,其中所述複數個流體流管結構中各自更具有一閥門裝置。
根據上述構想,其中至少二個所述複數個流體流管結構的長度相異,以使與所述複數個流體流管結構各自連通的所述定位結構沿著所述管狀結構的所述第一軸方向前後排列。
根據上述構想,其中所述管狀結構與所述複數個流體流管結構外部更具有一外管結構。
根據上述構想,其中所述外管結構具有一內管壁表面與一外管壁表面;其中所述複數個流體流管結構自所述外管結構的所述內管壁表面穿透所述外管結構,至所述外管壁表面後與所述各自設有獨立的定位結構連通。
根據上述構想,其中所述外管結構於所述遠端為封閉的盲端。
根據上述構想,其中所述控制元件可調控與其連通的所述定位結構的大小。
根據上述構想,其中所述定位結構為環繞所述管狀結構的一圓柱狀結構。
根據上述構想,其中所述定位結構為一可脹縮結構。
本案是透過複數個流體流管上擁有各自獨立定位結構,使得導管裝置在設置於體腔內,可更加順著組織與體腔形狀,降低患者部位被撐開的不適感;以及因更加順形而減少副作用。
本案亦提供一種導管裝置,其包括:一管狀結構;以及複數個流體流管結構,各具有一近端及一遠端,且沿著所述管狀結構的一第一軸方向設置;其中所述複數個流體流管結構於所述遠端各設有獨立的一定位結構。
本案亦提供一種導管裝置,其包括:一管狀結構;以及複數個流體流管結構,各具有一近端及一遠端,且沿著所述管狀結構的一第一軸方向設置於所述管狀結構的外部;其中所述複數個流體流管結構於所述遠端各設有獨立的一定位結構。
1、2、4‧‧‧導管裝置
11‧‧‧管狀結構
12‧‧‧射源
13a、13b‧‧‧控制元件
14a、14b、21、22a、22b、22c、22d、22e、22f、22g‧‧‧流體流管
15a、15b、23、41a、41b、41c、41d、41e、41f、41g、51a、51b、51c、51d、51e‧‧‧定位結構
17‧‧‧近端
18‧‧‧遠端
19、24‧‧‧外管結構
31‧‧‧腫瘤組織
32‧‧‧體腔
47、57‧‧‧放射線照射範圍
48、58‧‧‧周邊正常組織
5‧‧‧習知導管裝置
〔圖1〕為本案導管裝置的一實施例結構全圖;〔圖2〕為本案導管裝置的一實施例剖面示意圖;〔圖3〕為腫瘤組織與體腔示意圖;〔圖4〕為本案導管裝置進入體腔治療腫瘤組織的示意圖;〔圖5〕為不具本案特徵的導管進入體腔治療的對比示意圖;
除非另外定義,本文中所使用的所有技術及科學詞彙為在此領域具通常知識者所明瞭的相同意義。
本案「一種導管裝置」將可透過以下的實施例說明而讓在此領域具通常知識者瞭解其創作精神,並可據以完成。
本案的實施並非由下列實施例而限制其實施型態。
本案實施例提供一種導管裝置,其包括:一管狀結構;以及複數個流體流管結構,各具有一近端及一遠端,且沿著所述管狀結構的一第一軸方向設置於所述管狀結構的外圍。其中所述複數個流體流管結構於所述遠端各自設有獨立的一定位結構;其中所述複數個流體流管結構各自於所述近端上更各自具有一獨立的控制元件,所述控制元件藉由所述流體流管與所述定位結構連結。
本案實施例所使用的「流體流管」一詞是指所述管可自其近端注入流體,例如空氣,使空氣等流體能夠通過流體流管後到達遠端的定位結構。
本案實施例所使用的「定位結構」一詞是指所述結構可達到在體腔中,為導管裝置產生固定位置效果的結構;較佳的結構為氣囊結構。
本案實施例所使用的「第一軸方向」一詞為以導管裝置的長邊作軸的方向。
本案實施例所使用的「控制元件」一詞是指所述元件設置於一流體流管的近端,可控制所述流體流管的遠端上的定位結構的大小,使定位結構達到定位導管結構的功能。
本案實施例中所述導管裝置更具有一外管結構。如圖1所示,圖1的導管裝置1包含管狀結構11;外管結構19;流體流管14a,14b;控制元件13a,13b;以及定位結構15a,15b。其中管狀結構11用以放置射源12;控制元件13a自近端17控制流體(未圖示)進入流體流管14a後,使遠端18的定位結構15a膨脹。由於定位結構15b連通的流體流管14b和控制元件13b,是與定位結構15a連通的流體流管14a與控制元件13a各自獨立,因此定位結構15a與定位結構15b可依需求分別達到不同的膨脹程度,而產生可分別控制定位結構15a與定位結構15b大小的結果。
圖2為一導管裝置實施例的剖面圖,其中流體流管21自外管結構24的內管壁表面穿透至外管壁表面後與獨立的定位結構23連通。其他流體流管22a,22b,22c,22d,22e,22f,22g,因彼此間長度相異而在其他剖面位置穿透外管結構24與各自的定位結構連通。
圖3為腫瘤組織31與體腔32的示意圖。如圖3所示,體腔32的空間將因腫瘤組織31的出現而在形狀上產生不規則變化,造成若需要自所述體腔中使用醫療器材時會有無法順暢使用或是誤傷周邊組織等等的風險。
如圖4所示,其中導管裝置4中具有流體流管(未圖示)與定位結構41a,41b,41c,41d,41e,41f,41g,當本案實施例的導管裝置4進入體腔32後,因本案實施例的導管裝置4上的定位結構41a,41b,41c,41d,41e,41f,41g,可分別達到不同的膨脹程度,故導管裝置4可順著腫瘤組織31的形狀而在體腔32中定位。其中圖4虛線為放射線照射範圍47的示意;放射線照射範圍47包括腫瘤組織31,以及被照射的周邊正常組織48。對比圖5中的習知導管裝置5,因習知導管裝置5其並無擁有本案實施例特徵,無法分別控制定位結構51a,51b,51c,51d,
51e的膨脹程度,故定位結構51a,51b,51c,51d,51e膨脹程度相同。其放射線照射範圍57為完全覆蓋腫瘤組織31,使得被照射的周邊正常組織58,其範圍較圖4的被照射的周邊正常組織48大。透過上述比較可知本案實施例的導管裝置4所照射到的周邊正常組織48較小,造成的副作用情況可因而降低。再者,因習知導管裝置5較難以順著腫瘤組織31的形狀撐開體腔32,易使患者產生不適感,對比之下即可知擁有本案實施例特徵之導管裝置,可助解決先前技術之問題。
本案實施例提供一種可降低患者不適感,以及降低放射線治療時周邊正常組織被照射到範圍的導管,並以給予射源治療腫瘤為本案導管裝置的實施例說明。
然而本發明在使用上,並不限於治療腫瘤組織,在任何需要撐開體腔的導管治療,皆可利用本發明的技術特徵,使得導管進入體腔時更加順形,降低受施者的不適感,以達到更好的效果。
1‧‧‧導管裝置
11‧‧‧管狀結構
12‧‧‧射源
13a、13b‧‧‧控制元件
14a、14b‧‧‧流體流管
15a、15b‧‧‧定位結構
17‧‧‧近端
18‧‧‧遠端
19‧‧‧外管結構
Claims (11)
- 一種導管裝置,其包括:一管狀結構;以及複數個流體流管結構,各具有一近端及一遠端,且沿著所述管狀結構的一第一軸方向設置於所述管狀結構的外圍;其中所述複數個流體流管結構於所述遠端各設有獨立的一定位結構,其中所述複數個流體流管結構各自於所述近端上更各自具有一獨立的控制元件,且所述控制元件藉由所述流體流管結構與所述定位結構連結。
- 如申請專利範圍第1項所述的導管裝置,其中所述複數個流體流管結構中各自更具有一閥門裝置。
- 如申請專利範圍第1項或第2項任一項所述的導管裝置,其中至少二個所述複數個流體流管結構的長度相異,以使與所述複數個流體流管結構各自連通的所述定位結構沿著所述管狀結構的所述第一軸方向前後排列。
- 如申請專利範圍第3項的所述的導管裝置,其中所述管狀結構與所述複數個流體流管結構外部更具有一外管結構。
- 如申請專利範圍第4項的所述的導管裝置,其中所述外管結構具有一內管壁表面與一外管壁表面;其中所述複數個流體流管結構自所述外管結構的所述內管壁表面穿透所述外管結構,至所述外管壁表面後與所述各自設有獨立的定位結構連通。
- 如申請專利範圍第4項所述的導管裝置,其中所述外管結構於所述遠端為封閉的盲端。
- 如申請專利範圍第5項所述的導管裝置,其中所述控制元件可調控與其連通的所述定位結構的大小。
- 如申請專利範圍第7項所述的導管裝置,其中所述定位結構為環繞所述管狀結構的一圓柱狀結構。
- 如申請專利範圍第1項所述的導管裝置,其中所述定位結構為一可脹縮結構。
- 一種導管裝置,其包括:一管狀結構;以及複數個流體流管結構,各具有一近端及一遠端,且沿著所述管狀結構的一第一軸方向設置;其中所述複數個流體流管結構於所述遠端各設有獨立的一定位結構,其中所述複數個流體流管結構各自於所述近端上更各自具有一獨立的控制元件,且所述控制元件藉由所述流體流管結構與所述定位結構連結。
- 一種導管裝置,其包括:一管狀結構;以及複數個流體流管結構,各具有一近端及一遠端,且沿著所述管狀結構的一第一軸方向設置於所述管狀結構的外部;其中所述複數個流體流管結構於所述遠端各設有獨立的一定位結構,其中所述複數個流體流管結構各自於所述近端上更各自具有一獨立的控制元件,且所述控制元件藉由所述流體流管結構與所述定位結構連結。
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Citations (1)
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TW290464B (zh) * | 1993-06-02 | 1996-11-11 | Target Therapeutics Inc |
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2014
- 2014-12-19 TW TW103144569A patent/TWI586389B/zh active
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