TWI575389B

TWI575389B - 字體變形方法

Info

Publication number: TWI575389B
Application number: TW104118676A
Authority: TW
Inventors: 黃逸輝; 吳福生
Original assignee: 文鼎科技開發股份有限公司
Priority date: 2015-06-10
Filing date: 2015-06-10
Publication date: 2017-03-21
Also published as: TW201643748A; US20160364892A1; JP2017003987A; CN106251280A

Description

字體變形方法

本發明係關於一種字體變形方法，尤指一種可改變字體之各部份之比例的字體變形方法。

在先前技術中，當字型公司欲研發美術效果相異於以往的新穎字型，設計整套新字型須耗費大量研發資源，以中文字為例，常要建置6000字以上之常用字，甚至可達上萬字（例如新細明體經多次更新已包含70195個漢字），若要從無到有設計包含如此繁多字數之字型，將延長研發時程，大量人工處理也難以避免，故不利於成本。此外，於使用者端（如手機、個人電腦）或伺服器端（如雲端伺服器）儲存多套美術效果相異的字型，也導致記憶裝置硬體需求過高，因此本領域實須成本低且效果佳的解決方案，以因應字型公司及使用者對於字型變化的需求。

本發明一實施例揭露一種字體變形方法，包含以一框格包圍一字體，其中該字體之輪廓邊緣具有複數個控制點，該複數個控制點係用以描述該字體之輪廓邊緣；以一組線段將該框格分割為複數個子框格，該組線段亦將該字體分割為複數個字體部份，每一字體部份係對應於該複數個子框格之一子框格；定位每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置；移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；調整該複數個控制點之至少一控制點，以使該複數個控制點之每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；根據調整後之該複數個控制點繪製一變形後輪廓以產生一變形字體；及將該變形字體顯示於一顯示面板上。

本發明另一實施例揭露一種字體變形方法，包含以一框格包圍一字體，該字體包含一組筆劃，該組筆劃之每一筆劃包含至少一關鍵點，故該字體包含一組關鍵點；以一組線段將該框格分割為複數個子框格，每一關鍵點係位於一對應之子框格中；定位每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置；移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；調整該組關鍵點之至少一關鍵點，以使該組關鍵點之每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；根據調整後的該組關鍵點繪製一組調整後筆劃；根據該組調整後筆劃產生一變形字體；及將該變形字體顯示於一顯示面板上。

本發明之令一實施例揭露一種字體變形方法，包含以一框格包圍一字體，該字體包含一組點陣畫素；以一組線段將該框格分割為複數個子框格，每一點陣畫素係位於一對應之子框格中；定位每一點陣畫素於對應之子框格中的相對座標位置；移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；調整該該組點陣畫素之至少一點陣畫素，以使每一點陣畫素於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；根據調整後的該組點陣畫素產生一變形字體；及將該變形字體顯示於一顯示面板上。

本案第一實施例：

第1圖係本案第一實施例中變形前之字體（character）100a的示意圖，第2圖係本案第一實施例中變形後之變形字體100b之示意圖，變形後之變形字體100b係由變形前之字體100a變形所產生。第1、2圖之範例中，係以漢字「世」為例，其僅用以說明本發明的原理，但本發明之應用不限於該漢字。

第1圖中，以框格110包圍字體100a；以一組線段，如第一線段 L1及第二線段L2將框格110分割為複數個子框格1101、1102、1103及1104，第一線段L1及第二線段L2亦將字體100a分割為複數個字體部份（第1圖之「世」字係被分割為四個字體部份），每一字體部份係對應於該複數個子框格1101至1104之一子框格。字體100a之輪廓邊緣可具有複數個控制點，該複數個控制點係用以描述字體100a之輪廓邊緣，例如可為輪廓轉折處之控制點、或貝氏曲線（Bezier curve）之控制點。經上述線段分割後，各控制點可對應於一子框格，如第1表所示：（第1表）

定位每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置，舉例而言，控制點1101a對應於子框格1101之相對座標位置係為橫軸8%處（由左方起算）、縱軸41％處（由下方起算），如此類推可得知每個控制點於對應的子框格中的相對座標位置。根據本發明實施例，可移動第一線段L1與第二線段L2，例如將第一線段L1往上移、將第二線段L2往左移，因此，子框格1101至1104的位置與大小就由第1圖所示改變為如第2圖所示。其中第一線段L1與第二線段L2之移動方向與移動程度僅為舉例，使用者可依需求自行選用適宜的移動方式。如第2圖所示，子框格1101至1104的位置與尺寸隨著第一線段L1與第二線段L2之移動改變後，根據本案實施例可調整該複數個控制點1101a至1101g、1102a至1102i、1103a至1103c及1104a至1104e之至少一控制點，以使每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變，例如前述之控制點1101a，在第2圖中，其於尺寸改變且往左上角移動後的子框格1101中，為使其相對座標位置仍保持為橫軸8%處（由左方起算）、縱軸41％處（由下方起算），故第2圖之控制點1101a相較於第1圖可往左上方向調整。同理，其他控制點也可被調整以使其位於對應的子框格之相對座標位置實質上不變。如第2圖所示，根據調整後之複數個控制點1101a至1101g、1102a至1102i、1103a至1103c及1104a至1104e，繪製變形後輪廓以產生變形後之字體100b。變形字體100b可用以顯示於顯示面板上，或其他用途（例如列印使用等）。本案第一實施例中，所選用之控制點可為（但不限於）字體輪廓之轉折點、字體輪廓之線段中的一點、字體輪廓之弧狀部份的貝氏曲線控制點等。

第3圖係根據本案第一實施例揭露之字體變形方法執行變形前後的效果示意圖。其中字體391a、392a、393a、394a、395a係變形前之字體，變形字體391b、392b、393b、394b、395b係變形後之變形字體。因前述的控制點係位於字體之輪廓，故變形後有些筆劃會隨著控制點調整而變粗、或者變細，此為本實施例之美術效果。

第1、2圖之範例中，第一線段L1與第二線段L2僅各為單一線段，然而根據本案實施例，亦可採用一組第一線段與一組第二線段，以分割為更多子框格，其中該組第一線段與該組第二線段之交錯點可稱為字體之重心，故如第1圖之字體變形為第2圖之字體係單重心之字體變形，但本案實施例亦可支援多重心之字體變形。第4圖及第5圖係根據本案實施例，執行多重心之字體變形，一組第一線段L11、L12、L13、L14，與一組第二線段L21、L22、L23、L24於變形前、後之移動示意圖。其中係以漢字「日」為例，但不限於此漢字。由第4圖對照第5圖可見，子框格隨著一組第一線段與一組第二線段之移動而改變尺寸，故字體也隨之變形。根據本案實施例，一組第一線段及一組第二線段中，並非每一線段都必須移動。例如第4、5圖中，因第一線段L23與第二線段L13並未移動，故子框格4116的位置與尺寸並未改變。前述之該組第一線段係沿第一方向（例如橫軸方向）設置，該組第二線段係沿第二方向（例如縱軸方向）設置，且第一方向與第二方向相異。

上述本案第一實施例所舉例的字體係以外框輪廓定義及繪製，其可為（但不限於） truetype 或 opentype格式之向量字型（vector-font）。前述的控制點之選擇，可選用字型外框輪廓弧狀部份之貝氏曲線的控制點，第6圖係本案實施例中用以定義弧狀線條之貝氏曲線的示意圖。端點A1、A2、A3、B1、B2可定義出線段，藉由妥善調整線段A1-A2、線段A2-A3、線段B1-B2及貝氏曲線控制點C1之位置，可得到適當的弧狀線條。根據本案實施例變形後的字型輪廓，可使用貝氏曲線演算法微調該變形後輪廓以增加該變形後輪廓之平滑程度，以提高變形字體的品質。

第7圖係本案第一實施例之字體變形方法1000的流程圖，包含步驟如下：

步驟1010：以框格包圍字體，其中該字體之輪廓邊緣具有複數個控制點，該複數個控制點係用以描述該字體之輪廓邊緣；

步驟1020：以一組線段將框格分割為複數個子框格，該組線段亦將字體分割為複數個字體部份，每一字體部份係對應於該複數個子框格之一子框格；

步驟1040：定位每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置；

步驟1050：移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；

步驟1060：調整該複數個控制點之至少一控制點，以使該複數個控制點之每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；

步驟1070：根據調整後之該複數個控制點繪製變形後輪廓以產生變形字體；

步驟1075：是否須以貝氏曲線演算法微調該變形後輪廓？若是，進入步驟1080；若否，進入步驟1095；

步驟1080：以貝氏曲線演算法微調該變形後輪廓以增加該變形後輪廓之平滑程度；進入步驟1095；

步驟1095：將變形字體顯示於顯示面板。

其中，若變形字體的品質堪用，則可於步驟1075、1085之判斷式將步驟1080及/或步驟1090選擇性地省略。根據上述，本案第一實施例揭露之字體輪廓變形技術，其可變之參數可為字體輪廓之控制點。

本案第二實施例：

第8圖係本案第二實施例中變形前之字體200a之示意圖，第9圖係本案第二實施例中變形後之變形字體200b之示意圖。變形字體200b係由字體200a變形所產生。第8、9圖之範例中，係以漢字「凸」為例，其僅用以說明本發明的原理，本發明之應用不限於該漢字。第10圖係漢字「凸」之筆劃構造示意圖。如第10圖所示，漢字「凸」可由筆劃S1、S2、S3、S4及S5組成，第8圖與第1圖之字體100a不同的是，字體100a係由字體外框輪廓繪製而成，但字體200a是由一組筆劃（stroke）組合而成，也就是以筆劃組字技術組成之字體。若一字型（例如細黑體）包含之字體個數為i，此i個字體所使用之筆劃種類係j種，則該字型之各字體可例如以第2表與第3表描述：（第2表）（第3表）

第3表中的參數係每種筆劃之形狀描述程式，藉由描述關鍵點的位置、數量及筆劃寬度，可定義出每一筆劃。第11圖係本案第二實施例中一筆劃的關鍵點及筆劃參數示意圖，用以舉例的是漢字「凸」之第四筆劃（即「」，根據台灣教育部字典，此筆劃可稱為「橫折橫折」），由第11圖可知，筆劃「」具有五個關鍵點11a、11b、11c、11d、11e及四個寬度值11w1、11w2、11w3、11w4，此五個關鍵點之位置及四個寬度值方可定義出此筆劃。因此，如第8圖所示之字體200a其每筆劃都各自具有一組關鍵點。其中，隨著筆劃之種類不同，可使每種筆劃具有一筆劃識別碼（stroke identity），及一組參數，該組參數係敘述筆劃關鍵點之位置、關鍵點數量、筆劃寬度參數等。

第8圖之字體200a變形為第9圖之變形字體200b的原理與步驟類似於本案第一實施例，根據本案第二實施例之字體變形方法，可以框格810包圍字體200a，字體200a包含一組筆劃（例如：S1豎「」、S2橫「」、S3豎「」、S4橫折橫折「」、S5橫「」等），該組筆劃之每一筆劃包含至少一關鍵點，故字體200a包含一組關鍵點，例如關鍵點11a、11b、11c、11d、11e、8a、8b、8c等。以一組線段，如一組第一線段L811、L812及一組第二線段L821、L822將框格810分割為複數個子框格，每一關鍵點係位於一對應之子框格中。定位每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置，例如關鍵點11b係位於子框格803之橫軸22%處（由左方起算）及縱軸63％處（由下方起算），此即關鍵點11b位於子框格803之相對座標位置。移動該組第一線段L811、L812及/或該組第二線段L821、L822之至少一線段以改變至少一子框格的尺寸。調整該組關鍵點11a、11b、11c、11d、11e、8a、8b、8c之至少一關鍵點，以使該組關鍵點之每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變，舉例而言，第9圖相對於第8圖，第一線段L811與L812之間的距離被調整而變遠，且第二線段L821與L822之間的距離被調整而變近，故子框格803之尺寸變得較為扁平，而關鍵點11b隨之被調整，使關鍵點11b於子框格803之相對座標位置不變。如第9圖所示，根據調整後的該組關鍵點繪製一組調整後筆劃，並根據該組調整後筆劃產生變形字體200b。變形字體200b可用以顯示於顯示面板、或供印刷機具列印等。

根據本案實施例將字體變形後，若因子框格尺寸縮減導致糊筆，例如筆劃繁多之字體其筆劃疊合或黏合導致模糊不清，可進行糊筆處理以提高變形字體之可讀性，糊筆處理可例如為減筆處理、糊筆筆劃移動處理及/或糊筆筆劃寬度處理等，上述糊筆處理可以人工執行或以程式自動化執行。

對於以一組筆劃組成之字體（其亦可為向量字型），可採用本案第二實施例揭露之字體變形方法達到變形效果，第12圖係本案第二實施例之字體變形方法2000之流程圖，包含以下步驟：

步驟2010：以框格包圍字體，該字體包含一組筆劃，該組筆劃之每一筆劃包含至少一關鍵點，故該字體包含一組關鍵點；

步驟2020：以一組線段將該框格分割為複數個子框格，每一關鍵點係位於一對應之子框格中；

步驟2030：定位每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置；

步驟2040：移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；

步驟2050：調整該組關鍵點之至少一關鍵點，以使該組關鍵點之每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；

步驟2060：根據調整後的該組關鍵點繪製一組調整後筆劃；進入步驟2075；

步驟2075：根據該組調整後筆劃產生變形字體；

步驟2080：是否須執行糊筆處理？若是，進入步驟2085；若否，進入步驟2090；

步驟2085：對於變形字體執行糊筆處理，以提高變形字體之可讀性；進入步驟2090；

步驟2090：將該變形字體顯示於一顯示面板上。

若變形字體的品質堪用，則可於步驟2080之判斷式將步驟2085選擇性地省略。根據上述，本案第二實施例揭露之筆劃組字技術，其可變之參數除了關鍵點位置，亦可包含筆劃寬度值，然本案第二實施例可以變化關鍵點位置為主，而保持筆劃寬度不變。

本案第三實施例：

第13圖係本案第三實施例中字體變形前之字體300a之示意圖，第14圖係本案第三實施例中字體變形後之變形字體300b之示意圖，變形字體300b係由字體300a變形所產生。第13、14圖之範例中，係以簡體漢字「」為例，其僅用以說明本發明的原理，本發明之應用不限於該漢字。第13圖所示之字體與前述的字體100a、200a相異，字體300a並非屬於外框輪廓定義之字形，也不是由筆劃組字技術組成之字形，而是由多個點陣畫素（pixel）組成之點陣字形（bitmap font）。其中每個點陣畫素可具有灰階值，例如從0（純黑）至255（純白）之漸層灰階值，亦可僅採用純黑白。其中關於以框格310包圍字體300a、以一組第一線段及一組第二線段將框格310分割為複數個子框格，移動該組第一線段及該組第二線段以使子框格尺寸改變進而使字體300a變形為變形字體300b之原理係類似於第一實施例與第二實施例，故不贅述，然而根據本案第三實施例，須保持相對座標位置的是每一點陣畫素於對應之子框格中的相對座標位置。

第15圖及第16圖係本案第三實施例中變形字體之點陣畫素的灰階值調整示意圖。第15圖變形至第16圖時，第一線段L1511於字體變形時被往上移動，第二線段L1521字體變形時被往左移動，故變形前後之點陣畫素的對應可如第4表所示：（第4表）

因此，變形後之點陣畫素的灰階度，可依比例加權計算對應的變形前之點陣畫素的灰階度而求得。若點陣畫素A11至A16、A55、A56、B11、B12、B33、B34之灰階值以GA11至GA16、GA55、GA56、GB11、GB12、GB33、GB34表示，則在第15、16圖之示例中，字體變形後之點陣畫素的灰階值可例如以算式（cal-1）至（cal-4）求得：

GB11 = (GA11 + GA12 + GA21 +G A22) /4 ……（cal-1）；

GB12 = (GA13 + GA14 + GA23 + GA24) /4……（cal-2）；

GB33= GA55……（cal-3）；

GB34 = (GA55+GA56) / 2……（cal-4）。

此灰階值調整方式僅為舉例，用以說明變形後的點陣畫素灰階值可依比例由變形前的點陣畫素灰階值計算求得，但根據本案實施例，亦可採用其他計算方式以調整點陣畫素灰階值。

第17圖係本案第三實施例之字體變形方法3000的流程圖，其可包含下列步驟：

步驟3010：以框格包圍一字體，該字體包含一組點陣畫素；

步驟3020：以一組線段將該框格分割為複數個子框格，每一點陣畫素係位於一對應之子框格中；

步驟3030：定位每一點陣畫素於對應之子框格中的相對座標位置；

步驟3040：移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；

步驟3050：調整該該組點陣畫素之至少一點陣畫素，以使每一點陣畫素於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；

步驟3060：根據調整後的該組點陣畫素產生變形字體；

步驟3065：是否須執行糊筆處理？若是，進入步驟3070；若否，進入步驟3080；

步驟3070：對於變形字體執行糊筆處理，以提高變形字體之可讀性；進入步驟3080；

步驟3080：將該變形字體顯示於一顯示面板上。

步驟3065可以機器自動判斷或人工審視判斷，糊筆處理同上述，可採用減筆處理、糊筆筆劃移動處理及/或糊筆筆劃寬度調整處理等。

因此可知，本案實施例揭露之字體變形方法不只適用於向量字型，也適用於點陣字型。第18圖係根據本案實施例可採用之數種子框格規劃示意圖。舉例而言，用以分割框格之線段可包含一組第一線段及一組第二線段，該組第一線段係沿一第一方向設置，該組第二線段係沿一第二方向設置，且該第一方向與該第二方向相異，如第4、5圖所示。除了前述的棋盤式（checkerboard）子框格規劃，如第18圖所示的框格185可由第一線段L181a及第二線段L182a、L182b分割為多個子框格，框格186可由第一線段L183a及第二線段L184a、L184b、L184c分割為多個子框格，框格187可由第一線段L185a、L185b及第二線段L186a、L186b分割為多個子框格。亦可如框格188由線段L188a、L188b、188c分割為多個子框格。如第18圖所示之線段排列方式亦屬本案實施例之範圍，但第18圖僅為舉例，本案實施例中用以分割框格之線段並不限於第18圖所示的規劃方式。本案字體變形前後，最外圍之框格的形狀與尺寸可保持不變，亦可隨使用者所需予以改變，但字體內之字體變形，其比例係隨對應的各子框格之尺寸改變而調整。

第19圖係以本案實施例之字體變形方法將拉丁文字字體變形後之效果示意圖。對於弧狀曲線較多的文字（例如拉丁文字），採用本案揭露之方法將字體變形後，弧狀曲線部份可能隨之產生第19圖所示的波浪狀效果，此可為藝術效果之一而不予修正，但若使用者欲得到較圓滑之弧狀曲線，則可如前述以貝氏曲線演算法微調弧狀曲線部份。常用之貝氏曲線演算法，可將兩段貝氏曲線相連之曲線上（on curve）端點，依比例移至前後兩個曲線外（off curve）端點形成的線段上即可，但本案實施例不限於使用此演算法，根據本案實施例亦可採用其他計算方式、或以人工修改弧狀曲線部份。

若欲使子框格邊界（boundary）處的字體線條於變形後更為平順，前述的相對座標位置亦可根據非對稱方式設置的座標定位。第20圖係本案實施例中，以非對稱方式於子框格內設置一組座標的示意圖。第20圖左的框格209可被線段L201分割為子框格2091、2092，當線段L201往上移動，則子框格2091往上變形為扁平狀，子框格2092則上下寬度變寬，變形前後之子框格2091、2092的縱軸方向之相對座標位置可如座標對照輔助線x1至x9所示，越靠近邊界處越密集，以避免字體線條於子框格邊界處改變過大而造成不夠平滑。第20圖僅用以說明，本案實施例中以非對稱方式設置座標之方式並不限於第20圖所示，使用者可依其需求採用最適的設置方式。

第21圖係使用本案實施例揭露之字體變形方法的系統2100之示意圖。系統2100可包含輸入輸出裝置（I/O device）2110、記憶裝置2120及處理裝置2130。其中，輸入輸出裝置2110可為使用者得以操作之介面裝置，如顯示器與鍵盤等，記憶裝置2120可例如為快閃記憶體或硬碟單元等記憶裝置，處理裝置2130可具有圖型處理器及/或字型引擎。系統2100中，使用者可從輸入輸出裝置2110發送控制訊號CS1至處理裝置2130以使處理裝置2130發送對應之請求訊號R1給記憶裝置2120，記憶裝置2120對應地回傳變形前字體F1到處理裝置2130。處理裝置2130內部之處理器與字型引擎可根據控制訊號C1對應之需求，使變形前字體F1如上述之方法予以變形，產生變形後字體F2，並將變形後字體F2傳送到輸入輸出裝置2110，以例如顯示於顯示面板。於本發明另一實施例中，輸入輸出裝置2110可更連結列印裝置2140，以使變形後字體可實體列印以供使用者使用。

本案實施例揭露的字體變形方法，可有效降低儲存空間。舉例而言，若欲儲存100套字型，以每套字型檔案為5MB而言，須使用500MB之快閃唯獨記憶體（flash rom）儲存空間，但使用本案實施例揭露之方法，則一套字型可變形轉換為100套，故儲存空間可縮減為5MB，縮減率高達99%。又舉另例而言，當字型設計團隊欲開發新字型，可將一套包含上千字體、甚或上萬字體之字型以本案實施例揭露之方法快速地自動化變形其中所有字體，從而產生一套美術效果相異之字型，無論是直接使用（如用以顯示或印刷）、或進入人工修改程序，都可大為降低研發新字型的研發成本，也可縮短時程，例如原先須10人年（man-year）的開發成本可縮降為1人年。本案實施例揭露之方法可減少雲端字型伺服器（font server）、或應用端（如手機、筆記電腦）的字型引擎（font engine）儲存之字型套數，舉例而言，字型伺服器或字型引擎可搭載一套字型，並以本案實施例揭露之方法產生多套字型。因此，本發明對於解決本領域先前難以處理的難題，實有貢獻。以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

100a、391a、392a、393a、394a、395a、200a、300a‧‧‧字體
110b、391b、392b、393b、394b、395b、200b、300b‧‧‧變形字體
110、810、310、185、186、187、188、209‧‧‧框格
1101、1102、1103、1104、4116、803、2091、2092‧‧‧子框格
1101a至1101g、1102a至1102i、1103a至1103c、1104a至1104e‧‧‧控制點
L1、L11至L14、L811、L812、L181a、L183a、L185a、L185b‧‧‧第一線段
L2、L21至L24、L821、L822、L182a、L182b、L184a至L184c、L186a、L186b‧‧‧第二線段
A1、A2、A3、B1、B2‧‧‧端點
C1‧‧‧貝氏曲線控制點
1000、2000、3000‧‧‧字體變形方法
1010至1095、2010至2090、3010至3080‧‧‧步驟
S1至S5‧‧‧筆劃
11a至11e、8a至8c‧‧‧關鍵點
11w1至11w4‧‧‧寬度值
A11至A16、A55、A56、B11、B12、B33、B34‧‧‧點陣畫素
x1至x9‧‧‧座標對照輔助線
L201、L188a至L188c‧‧‧線段
2100‧‧‧系統
CS1‧‧‧控制訊號
F1‧‧‧變形前字體
F2‧‧‧變形後字體
2110‧‧‧輸入輸出裝置
2140‧‧‧列印裝置
2120‧‧‧記憶裝置
2130‧‧‧處理裝置

第1圖係本案第一實施例中變形前之字體的示意圖。第2圖係本案第一實施例中變形後之變形字體的示意圖。第3圖係本案第一實施例揭露之字體變形方法執行變形前後的效果示意圖。第4圖係根據本案實施例執行多重心之字體變形，一組第一線段及一組第二線段於變形前之示意圖。第5圖係第4圖之第一線段及第二線段於變形後之移動示意圖。第6圖係本案實施例中用以定義弧狀線條之貝氏曲線的示意圖。第7圖係本案第一實施例之字體變形方法的流程圖。第8圖係本案第二實施例中變形前之字體之示意圖。第9圖係本案第二實施例中變形後之變形字體之示意圖。第10圖係漢字「凸」之筆劃構造示意圖。第11圖係本案第二實施例中一筆劃的關鍵點及筆劃參數示意圖。第12圖係本案第二實施例之字體變形方法之流程圖。第13圖係本案第三實施例中字體變形前之字體之示意圖。第14圖係本案第三實施例中字體變形後之變形字體之示意圖。第15圖係本案第三實施例中變形字體之點陣畫素的灰階值調整示意圖。第16圖係本案第三實施例中變形字體之點陣畫素的灰階值調整示意圖。第17圖係本案第三實施例之字體變形方法的流程圖。第18圖係根據本案實施例可採用之數種子框格規劃示意圖。第19圖係以本案實施例之字體變形方法將拉丁文字字體變形後之效果示意圖。第20圖係本案實施例中以非對稱方式於子框格內設置一組座標的示意圖。第21圖係使用本案實施例揭露之字體變形方法的系統之示意圖。

110‧‧‧框格

110b‧‧‧變形字體

1101、1102、1103、1104‧‧‧子框格

1101a至1101g、1102a至1102i、1103a至1103c、1104a至1104e‧‧‧控制點

L1‧‧‧第一線段

L2‧‧‧第二線段

Claims

一種字體變形方法，包含：以一框格包圍一字體，其中該字體之輪廓邊緣具有複數個控制點，該複數個控制點係用以描述該字體之輪廓邊緣；以一組線段將該框格分割為複數個子框格，該組線段亦將該字體分割為複數個字體部份，每一字體部份係對應於該複數個子框格之一子框格；定位每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置；移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；調整該複數個控制點之至少一控制點，以使該複數個控制點之每一控制點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；根據調整後之該複數個控制點繪製一變形後輪廓以產生一變形字體；及將該變形字體顯示於一顯示面板上。
如請求項1所述之字體變形方法，更包含：以一貝氏曲線（Bezier curve）演算法微調該變形後輪廓以增加該變形後輪廓之平滑程度。
一種字體變形方法，包含：以一框格包圍一字體，該字體包含一組筆劃，該組筆劃之每一筆劃包含至少一關鍵點，故該字體包含一組關鍵點；以一組線段將該框格分割為複數個子框格，每一關鍵點係位於一對應之子框格中；定位每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置；移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；調整該組關鍵點之至少一關鍵點，以使該組關鍵點之每一關鍵點於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；根據調整後的該組關鍵點繪製一組調整後筆劃；根據該組調整後筆劃產生一變形字體；及將該變形字體顯示於一顯示面板上。
如請求項3所述之字體變形方法，其中該組筆劃之每一筆劃係對應於一筆劃識別碼，且更包含一組寬度參數。
一種字體變形方法，包含：以一框格包圍一字體，該字體包含一組點陣畫素；以一組線段將該框格分割為複數個子框格，每一點陣畫素係位於一對應之子框格中；定位每一點陣畫素於對應之子框格中的相對座標位置；移動該組線段以改變至少一子框格的尺寸；調整該該組點陣畫素之至少一點陣畫素，以使每一點陣畫素於對應之子框格中的相對座標位置實質上不變；根據調整後的該組點陣畫素產生一變形字體；及將該變形字體顯示於一顯示面板上。
如請求項5所述之字體變形方法，其中該組點陣畫素之每一點陣畫素具有一灰階值，調整後的該組點陣畫素之每一點陣畫素具有一調整後灰階值。
如請求項1、3或5所述之字體變形方法，其中該組線段係包含一組第一線段及一組第二線段，該組第一線段係沿一第一方向設置，該組第二線段係沿一第二方向設置，且該第一方向與該第二方向相異；其中移動該組線段以改變該至少一子框格的尺寸係為移動該組第一線段及/或該組第二線段以改變該至少一子框格的尺寸。
如請求項1或5所述之字體變形方法，更包含：對於該變形字體執行一糊筆處理，以提高該變形字體之可讀性。
如請求項8所述之字體變形方法，其中該糊筆處理係包含：一減筆處理、一糊筆筆劃移動處理及/或一糊筆筆劃寬度調整處理。
如請求項1、3或5所述之字體變形方法，更包含：以非對稱方式於該複數個子框格之至少一子框格內設置一組座標。