TWI498113B - 泡腳裝置 - Google Patents

Description

泡腳裝置

本發明係關於一種泡腳裝置，特別是關於一種能釋放遠紅外線負離子的泡腳裝置。

心臟對於人體而言，如同一個全日無休的幫浦，使血液可以從左心室經過大動脈、動脈、小動脈流到毛細血管，再從毛細血管經由小靜脈、靜脈、大靜脈回流到右心室。由於回流到右心室的血液壓力遠小於自左心室輸送出的血液，血液回流到右心室不但需要憑藉心臟的力量，還需要憑藉靜脈周圍的肌肉收縮的力量，而雙腳與心臟的距離最遠，因此，人體的各個部位中以雙腳最容易發生血液循環不良的問題。

現代人由於工作壓力大、長期久坐辦公室、或是在外奔波勞動，無暇餘時間活動筋骨，導致現代人普遍具有末梢血液循環不良的問題，末梢血液循環不良容易引發靜脈曲張、高血壓、心臟病、及中風等疾病的產生，中醫學有云「百病從寒起，寒從腳下生」，而將雙腳浸泡在溫水中是提升雙腳的溫度最快的方法。

然而，習知的泡腳裝置僅能暫時地提升雙腳的溫度，並無法改善雙腳的血液循環。

緣此，本發明之目的即是提供一種泡腳裝置，用以改善雙腳的血液循環。

本發明為解決習知技術之問題所採用之技術手段為 一種泡腳裝置，包括一槽體及一高濃度供氧機構。槽體具有一槽壁及一底部，槽壁之內表面與底部之內表面共同形成一泡腳空間以盛裝液體，底部具有一進氣孔，進氣孔與泡腳空間相連通，且於底部之內表面形成一遠紅外線負離子踏墊，該進氣孔係對應設置於該遠紅外線負離子踏墊。高濃度供氧機構具有一氧氣輸送構件，氧氣輸送構件與進氣孔連接而將高濃度氧氣通過進氣孔輸送到泡腳空間中。

在本發明的一實施例中，遠紅外線負離子踏墊為一塗層，塗佈於底部之表面。

在本發明的一實施例中，遠紅外線負離子踏墊一體形成於底部。

在本發明的一實施例中，底部之內表面形成對應左腳掌之一左足踏區及對應右腳掌之一右足踏區，且遠紅外線負離子踏墊對應設置於左足踏區及右足踏區。

在本發明的一實施例中，進氣孔對應設置於遠紅外線負離子踏墊。

在本發明的一實施例中，槽壁為一遠紅外線負離子槽壁或槽壁之內表面具有一遠紅外線負離子塗層。

在本發明的一實施例中，更包括一按摩滾輪，且按摩滾輪設置於容置空間中。

在本發明的一實施例中，按摩滾輪之一輪面塗佈有一遠紅外線負離子塗層。

在本發明的一實施例中，按摩滾輪為一遠紅外線負離子按摩滾輪。

在本發明的一實施例中，高濃度供氧機構為一氧氣瓶或一氧氣製造機。

經由本發明所採用之技術手段，遠紅外線負離子踏墊可釋放負離子，還能增加紅血球的變形能力，進而促進氣血循環，因此即使槽體中未盛裝溫水，放置於泡腳空間中之雙腳的痠 痛、血液循環不良的問題亦能獲得改善。再者，高濃度氧氣不但可以按摩雙腳，還可自毛細孔進入血液中，從而增加血液的含氧量。

本發明所採用的具體實施例，將藉由以下之實施例及附呈圖式作進一步之說明。

100、100a‧‧‧泡腳裝置

1、1a‧‧‧槽體

11、11a‧‧‧槽壁

111‧‧‧內表面

112‧‧‧遠紅外線負離子塗層

112a‧‧‧遠紅外線負離子體

12、12a‧‧‧底部

121‧‧‧內表面

122‧‧‧左足踏區

123‧‧‧右足踏區

124、124a‧‧‧遠紅外線負離子踏墊

125、125a‧‧‧按摩滾輪

1251‧‧‧輪面

1252‧‧‧按摩凸粒

1253‧‧‧遠紅外線負離子塗層

126‧‧‧進氣孔

13‧‧‧泡腳空間

14、14a‧‧‧間格部

141‧‧‧內表面

2、2a‧‧‧高濃度供氧機構

21‧‧‧氧氣輸送構件

3‧‧‧液體

4‧‧‧腳

5‧‧‧遠紅外線負離子體

第1圖係顯示依據本發明之第一實施例的一泡腳裝置的立體圖；第2圖係顯示依據本發明之第一實施例的泡腳裝置的剖視圖之一；第3圖係顯示依據本發明之第一實施例的泡腳裝置的剖視圖之二；第4圖係顯示依據本發明之第一實施例的泡腳裝置的使用示意圖；第5圖係顯示依據本發明之第二實施例的一泡腳裝置的剖視圖。

請同時參閱第1圖至第3圖，本發明之第一實施例的一泡腳裝置100包括一槽體1及一高濃度供氧機構2。

槽體1具有一槽壁11、一底部12及一間格部14。槽壁11具有一內表面111，內表面111塗佈有一遠紅外線負離子塗層112，且內表面111與底部12之一內表面121共同形成一泡腳空間13以盛裝液體。遠紅外線負離子塗層112能與人體的分子產生共振，使紅血球的變形能力增加，進而使血液循環順暢，並可促進微血管擴張及新陳代謝，進而增加身體的免疫力。此外，遠紅外線負離子塗層112亦具有溫熱效應，可以放鬆肌肉、神經、及血管組織，達到舒緩雙腳疼痛及疲勞的效果。遠紅外線負離子塗層112還具有釋放負離子的功效而可主動中和自由基，使雙腳痠痛、血液循環不良的問題獲得改善。由於遠紅外線的傳遞不需要依靠介質，因此即使泡腳空間13中未盛裝液體，雙腳痠痛及血液循環不良的問題亦能獲得改善。間格部14自槽壁11的內表面111凸伸向泡腳空間13而使泡腳空間13形成一左半部及一右半 部。間格部14具有一內表面141，內表面141塗佈有一遠紅外線負離子塗層112。遠紅外線負離子塗層112放射遠紅外線及負離子，因此可改善血液循環並紓緩雙腳痠痛。

底部12包括一左足踏區122、一右足踏區123、一遠紅外線負離子踏墊124、一按摩滾輪125、及一進氣孔126。左足踏區122及右足踏區123分別對應泡腳空間13之左半部及右半部而形成於底部12之內表面121，以分別對應人體之左腳掌及右腳掌之位置。遠紅外線負離子踏墊14設置於底部12之內表面121，且對應設置於左足踏區122及右足踏區123。在本實施例中，遠紅外線負離子踏墊14係為一遠紅外線負離子塗層，且係塗佈於左足踏區122及右足踏區123。遠紅外線負離子踏墊14能夠釋放遠紅外線及負離子而可加強腳底的血液循環並舒緩腳底的酸痛不適。按摩滾輪125設置於底部12之內表面121上，且位於泡腳空間13中。按摩滾輪125具有一輪面1251及凸設於輪面1251之複數個按摩凸粒1252，且輪面1251及複數個按摩凸粒1252塗佈有一遠紅外線負離子塗層1253。如第4圖所示，使用者將雙腳放置於按摩滾輪125上，並來回滾動按摩滾輪125，可藉由複數個按摩凸粒1252輕柔地刺激足底穴位，而達到足底按摩的功效，並藉由紅外線負離子塗層1253所釋放的遠紅外線及負離子使雙腳的痠痛及血液循環不良的問題得到舒緩。進氣孔126與泡腳空間13相連通，且對應設置於遠紅外線負離子踏墊14。

高濃度供氧機構2具有一氧氣輸送構件21，氧氣輸送構件21與進氣孔126連接而將高濃度供氧機構2產生的高濃度氧氣通過進氣孔126輸送到泡腳空間13中。請參閱第4圖所示，泡腳空間13中容置有浸泡雙腳的液體3，高濃度氧氣自進氣孔126輸送到浸泡於泡腳空間13中而可按摩腳底，並且可自雙腳的毛細孔進入人體中，從而提高血液含氧量。當使用溫水作為浸泡的液體3時，水溫會使雙腳4的毛細孔張開，致使高濃度氧氣更容易 自張開的毛細孔進入人體中，因而提升血液含氧量的效果更佳。在本實施例中，高濃度供氧機構2為一氧氣瓶。

請參閱第5圖所示，本發明之第二實施例之一泡腳裝置100a與第一實施例之泡腳裝置100大致相同。其差異在於槽體1a的槽壁11a為一遠紅外線負離子槽壁，間格部14a為一遠紅外線負離子間格部，底部12a為一遠紅外線負離子踏墊124a，且按摩滾輪125a為一遠紅外線負離子按摩滾輪。具體而言，泡腳裝置100a之槽壁11a、底部12a、及間格部14a為一體成形，且在製造過程中加入遠紅外線負離子體5而使槽體1a中分佈有遠紅外線負離子體5。相似地，按摩滾輪125a為一體成形，且按摩滾輪125a中分佈有遠紅外線負離子體5。在本實施例中，高濃度供氧機構2a為一氧氣製造機。當然，本發明並不以此為限，高濃度供氧機構亦可為其他可供應氧氣者。

以上之敘述僅為本發明之較佳實施例說明，凡精於此項技藝者當可依據上述之說明而作其它種種之改良，惟這些改變仍屬於本發明之發明精神及以下所界定之專利範圍中。

100‧‧‧泡腳裝置

1‧‧‧槽體

11‧‧‧槽壁

111‧‧‧內表面

112‧‧‧遠紅外線負離子塗層

12‧‧‧底部

121‧‧‧內表面

122‧‧‧左足踏區

123‧‧‧右足踏區

124‧‧‧遠紅外線負離子踏墊

125‧‧‧按摩滾輪

126‧‧‧進氣孔

13‧‧‧泡腳空間

14‧‧‧間格部

141‧‧‧內表面

2‧‧‧高濃度供氧機構

21‧‧‧氧氣輸送構件

Claims (9)

1. 一種泡腳裝置，包含：一槽體，具有一槽壁及一底部，該槽壁之一內表面與該底部之一內表面共同形成一泡腳空間以盛裝液體，該底部具有一進氣孔，該進氣孔與該泡腳空間相連通，且於該底部之內表面形成一遠紅外線負離子踏墊，該進氣孔係對應設置於該遠紅外線負離子踏墊；以及一高濃度供氧機構，具有一氧氣輸送構件，該氧氣輸送構件與該進氣孔連接而將高濃度氧氣通過該進氣孔輸送到該泡腳空間中。
2. 如請求項1所述之泡腳裝置，其中該遠紅外線負離子踏墊係為一塗層，塗佈於該底部之內表面。
3. 如請求項1所述之泡腳裝置，其中該遠紅外線負離子踏墊係一體形成於該底部。
4. 如請求項1所述之泡腳裝置，其中該底部之內表面形成對應左腳掌之一左足踏區及對應右腳掌之一右足踏區，且該遠紅外線負離子踏墊係對應設置於該左足踏區及該右足踏區。
5. 如請求項1所述之泡腳裝置，其中該槽壁係為一遠紅外線負離子槽壁或該槽壁之內表面具有一遠紅外線負離子塗層。
6. 如請求項1所述之泡腳裝置，更包括一按摩滾輪，且該按摩滾輪係設置於該泡腳空間中。
7. 如請求項6所述之泡腳裝置，其中該按摩滾輪之一輪面塗佈有一遠紅外線負離子塗層。
8. 如請求項6所述之泡腳裝置，其中該按摩滾輪係為一遠紅外線負離子按摩滾輪。
9. 如請求項1所述之泡腳裝置，其中該高濃度供氧機構係為一氧氣瓶或一氧氣製造機。