TWI465800B - 一種液晶退火的方法 - Google Patents
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Description
本發明係有關於一種液晶退火的方法,特別係有關於一種可快速對同時具有不同厚度之液晶層退火的方法。
液晶,即液態晶體(Liquid Crystal,LC),是相態的一種,因為具有特殊的理化與光電特性,自20世紀中,即已被廣泛應用在輕薄型的顯示技術上。
液晶退火(annealing)的目的,是為了使液晶分子能進行重新排列。於液晶退火過程中,使用配向膜可控制液晶分子的排列方向,使液晶分子依配相膜上之預設方向重新排列。
習知液晶退火方式係利用熱風加熱器,對液晶分子進行加熱。惟以熱風加熱器進行退火時,需要較長之處理時間,例如中華民國第201100489號公開專利中,即提到需要長達1小時的液晶退火處理時間。另外,若僅以紅外線加熱器取代熱風加熱器對液晶進行退火處理,雖可縮短液晶退火處理時間,但易產生液晶受熱不均之狀況,特別是當液晶層為非均一厚度時,液晶層受熱不均之情況將更為嚴重。故開發出一種能有效縮短液晶退火時間,且不會造成液晶層受熱不均之液晶退火方法,是業界所期望的。
為解決前述習知技術之問題,本發明之目的即在於提供一種能使液晶層均勻受熱,且可有效縮短液晶退火時間之方法。
根據本發明所指出之一種液晶退火的方法,其包括以下步驟:首先提供一基材,其上具有一液晶層,其中該基材與該液晶層接觸之一側面上具有一透鏡結構,該液晶層係填平該透鏡結構,且該液晶層最厚與最薄處之厚度差介於10~150μm之間。接著,於該液晶層上覆蓋一具有5~70%的紅外線光穿透率之紅外線吸收層。以紅外線加熱器自該紅外線吸收層向該基材照射紅外線進行加熱,以進行液晶退火處理,並藉以達成縮短液晶快速退火處理時間之目的。
本發明液晶退火方法可有效縮短液晶退火處理時間,並可於縮短液晶退火時間之同時,仍能使液晶層熱受均勻。本發明液晶退火方法,對於處理具有非均一厚度之液晶層時,更能較習知技術顯現出其優越性。
為使熟習本技術領域中之技藝者,更易於通過本發明說明書之說明而了解本發明,以下配合圖式進一步說明。習知技藝者當可瞭解的是,以下之說明內容
僅用以示例說明本發明技術,並說明較佳之實施條件範圍,並非用以限制本發明之範圍。
參閱第一圖,為本發明液晶退火方法之一具體實施態樣示意圖。首先,提供一基材10,該基材10至少一側面上設置有至少一個透鏡結構11。於基材10設有透鏡結構11之一側面上,塗佈有一液晶層12。此液晶層12填平基材10上的透鏡結構11,且於非與基材10接觸之相反側面係平整的。藉此液晶層12具有非均一之厚度,其最厚之部份具有一厚度d1,最薄之部份具有一厚度d2。此非均一厚度之液晶層12中,最厚部份與最薄部份之厚度差△d=d1-d2。為考量光學上之用途,厚度差△d較佳為介於10~150μm,更佳為介於20~130μm,最佳為介於35~120μm。
接著,於液晶層12上覆蓋一紅外線吸收層14,以使紅外線吸收層14與液晶層12實質上接觸。本發明紅外線吸收層14是用於吸收一部分紅外線16,並將紅外線16之光能轉化為熱能,並且讓另一部份之紅外線16穿透直接照射於液晶層12,對液晶層12直接進行加熱。因此,當照射紅外線16加熱時,液晶層12除會受到紅外線吸收層14吸收紅外線16轉成之熱源加熱外(傳導熱),同時也會受到紅外線16直接照射加熱(輻射熱)。
前述之基材10,基於考量用應用於光學膜領域中,較佳為實質上具透明性與可撓性(flexible)之基
板,更佳為是以等方性(亦即,不具雙折射率)材料所製備者,可應用於本發明中之材料種類,在此可舉出之例子,包含但並不僅限於,壓克力樹脂(acrylate resin)、三醋酸纖維素、環氧樹脂(epoxy resin)、聚矽氧烷(polysiloxane)、聚亞醯胺(polyimide)、聚醚醯亞胺(polyetherimide)、聚氟環丁烷(perfluorocyclobutene)、苯并環丁烷(Benzoyclobutane,BCB)、聚碳酸脂(polycarbonate)、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、聚氟脂(polyurethane)或聚二甲矽氧烷,其中又以壓克力樹脂與三醋酸纖維素為較佳。基板10之厚度於本發明中亦無特別之限制,使用者可依需求加以選擇。
本發明設置於基材10上之透鏡結構11之形狀,於本發明中並無特別之限制,使用者可依需求選用,例如本發明透鏡結構11可如第一圖所示,其斷面可為半圓形、碗形或弧形,亦可為如第二圖所示者。例如,透鏡結構11之斷面可為如第二圖(a)所示之梯形,或如第二圖(b)所示之方形。前述之形狀可單獨或混合存在於基材10上。必要時,基材之另一相對側面上亦可設置另一透鏡結構,其可向外突出或向內凹陷。此時,位於基材10兩相對側面上之透鏡結構其形狀可為相同或不同。
前述之液晶層12最薄部份之厚度d2,於本發明中並無特別之限制,使用者可依需求加以選擇。但為
考量光學膜之應用,液晶層12最薄部份之厚度d2較佳為1~10μm,更佳為2~8μm。另外,可應用於本發明液晶層12中之液晶,於本發明中亦無特別之限制,只要習知可被應用於光學膜之液晶皆可被應用於本發明中。具體而言,液晶形狀可為棒狀(calamitic)、圓盤狀(discotic)、板狀(smecdic)或其組合。更具體而言,前述之棒狀液晶,包含但並不僅限於,向列相(nematic)液晶、膽固醇相(cholesteric)液晶及層列相(smectic)液晶。前述之圓盤狀液晶,包含但並不僅限於,圓柱相(columnar)液晶及向列相(nematic)液晶。
本發明液晶層12形成之方法,於本發明中並無特別之限制,包含但並不僅限於,旋轉塗佈法、真空壓合法及捲對捲壓合法等方法。
本發明紅外線吸收層14,為配合前述基板10及可應用於捲對捲製程(roll to roll process),其較佳為具可撓性的。本發明紅外線吸收層14可藉由於一可撓式透明塑膠基板上塗佈一層油墨所製備,亦可藉由將色料混入可撓式透明塑膠基板的原料中,再將此原料押出成可撓式塑膠基板。前述之油墨或色料,於本發明中係指習知可於照射紅外線,吸收紅外線之光能並轉成熱能者後。另外,為使液晶層12受熱均勻,發明紅外線吸收層14較佳為具有5~70%的紅外線光穿透率,更佳為具有10~60%的紅外線光穿透率。
前述油墨於塑膠基板上塗佈之厚度,於本發明中並無特別之限制,使用者通過本發明說明書之描述當可瞭解,油墨塗佈厚度可依所選油墨種類之不同來加以調整,只要使紅外線光穿透度符合前述之要求即可。具體而言,油墨塗佈厚度較佳為介於0.1~2.0μm之間,更佳為介於0.2~1.8μm之間。可應用於本發明中之油墨,具體而言可包括二液反應型油墨、加熱固化型油墨及紫外線固化型油墨,但並不僅限於此。前述之液反應型油墨係指主劑和固化劑分別製備,印刷時再混合使用的油墨。其主劑中的連結料多由環氧樹脂及氨基甲酸酯等組成,再添加固化劑(胺類化合物)後發生縮聚後應而固化。前述之加熱固化型油墨係指預先混合好樹脂與固化劑,於印刷後再加熱使樹脂反應,形成油墨皮膜。其所使用之樹脂,常用者為單液型環氧樹脂。前述紫外線固化型油墨係指不使用任何溶劑,於印刷過程中不產生溶劑揮發,油墨在乾燥過程中,經紫外線的照射,使樹脂發生聚合反應,形成油墨皮膜。
可應用於前述之色料的種類,於本發明中並無特別之限制,只要是習知可混入可撓式透明塑膠基板的原料中者,皆可被應用於本發明中。具體可舉出之例子,包含但並不僅限於天然無機色料、人造無機色料,及天然有機色料,例如植物有機色料或昆蟲有機色料。
本發明中所述紅外線16之定義,係如熟習本技術領域者所認知者,更具體而言係指波長介於750~1500nm者。
參閱第三圖,為強化基材10之支撐性與結構強度,亦可於基材10上相對於設置有透鏡結構11之另一側面上設置一支撐基材18。可應用於本發明中之支撐基材18的材料種類,於本發明中並無特別之限制,使用者可以需求選用合適之支撐基材。具體而言,支撐基材18較佳為具可撓性,具體可舉出之例子,包含但並不僅限於,聚對苯二甲酸乙二酯、三醋酸纖維素及聚碳酸酯。
參閱第四圖,為本發明液晶退火方法以捲對捲製程進行實施之示意圖。於進行本發明液晶退火製程操作時,係將前述由支撐基材18、基材10、液晶層12與紅外線吸收層14所堆疊而成之積層體20通過滾輪28依行進方向連續地送入紅外線加熱器22中。藉由設置於紅外線加熱器22中之紅外線燈管24,對該積層體20自紅外線吸收層14向液晶層12照射紅外線16進行加熱,藉以進行液晶退火操作。於液晶層12完成退火後,紅外線吸收層14可自積層體20中剝離。
於本發明液晶退火方法中,紅外線加熱器22設定之加熱溫度,使用者可依所選用之液晶種類調整合適之數值。具體而言,加熱溫度較佳為70~100℃,更佳為75~90℃。積層體20通過紅外線加熱器22的整體
加熱時間,於本發明中並無特別之限制,使用者可視加熱溫度、液晶層厚度與厚度差、紅外線吸收層之紅外線光穿透度加以調整。但整體而言,本發明液晶退火方法之加熱時間可縮短至20分鐘內,相較於先前技術以熱風方式加熱需時1小時以上,具有顯著之優越性。
液晶層12未經配向前,液晶分子通常呈非均一方向排列,此通常不利於光學膜領域之應用。故為使液晶層12中之液晶分子依所欲之預定方向排列,可於基材10之透鏡結構11上設置一層配向層30,如第五圖(a)所示。參閱第五圖(b),配向層32亦可設置於紅外線吸收層14之一側面上。當液晶層12最厚部份之厚度較厚時,為使液晶分子有較佳之配向效果,亦可於前述兩個位置上同時分別各設置一配向層。
配向層之設置方式與材料種類,使用者可依其需求選用合適之習知設置方式與材料種類加以施作,於本發明中並無特別之限制。配向層設置之方式,例如刷膜配向法(rubbing alignment)、光配向法(photo-alignment)、離子束配向法(Ion beam alignment)與電漿束配向法(plasma beam alignment),但並不僅限於此。
取一尺寸為10cm×10 cm,且厚度為100 μm之聚對苯二甲酸乙二酯基板(型號PET 4100,購自日本東洋紡績(Toyobo Co,Ltd.,Japan)),於該基材上塗佈一壓克力樹脂層。使用一雕刻銅輪於壓克力樹脂層上壓印,並同時照射紫外光,以於壓克力樹脂層上形成複數個透鏡結構(自壓克力樹脂層表面向內凹陷成碗形,寬度為250μm,深度為40μm)。
以旋轉塗佈法於該基材設有透鏡結構之側面上塗佈一厚度為100nm之光配向層(型號為ROP103,購自Rolic)。之後,再以光配向機(型號為PUV DEEP,購自USHIO)對該配向層以一預定方向(與膜行進方向成45度角)進行配向。最後,於光配向層上塗佈一層液晶(紫外線固化型液晶,型號為LC242,購自德國BASF,其中混有一光起始劑(型號為TPO,購自德國BASF),添加量佔總量的1 wt%),使液晶完全填滿透鏡結構,並使液晶層之另一側面呈平坦狀。藉此可製得同時具有不同厚度之液晶層,此液晶層最薄處之厚度為1μm,且最厚處之厚度為41μm,厚度差為40μm。
取一厚度為100μm之對苯二甲酸乙二酯基板(型號PET 4100,購自日本東洋紡績(Toyobo Co,Ltd.,Japan)),於一側面上以R.D.S.Webster 8號線棒均勻
塗佈一層加熱固化型之黑色油墨(固含量35 wt%,主成分為碳黑,型號A92,購自台灣台箔科技(Taipolo Technology Co.Ltd.,R.O.C.))。於均勻塗佈後,將油墨中之溶劑去除(加熱板(hot plate)加熱,70℃下1分鐘),以獲致厚度為0.3μm之油墨層,經以分光光譜儀(型號為U4100,購自日本日立公司)進行測量,測得於750nm~1500nm波長下,整體紅外線吸收層具有57.4%之紅外線穿透率。
將紅外線吸收層貼合於前述之積層體上,使紅外線吸收層上無油墨層之一側面與液晶層接觸。之後,將其送入捲對捲紅外線加熱器中(自行組裝,加熱器中設有可發出750~1500nm波長之紅外線燈管,功率為110V/300W),加熱溫度設定於80℃(感應溫度之熱耦距離受熱物表面約1公分),機速為0.2公尺/分鐘,總體加熱時間為5分鐘。最後,於完成加熱後,於室溫環境下靜置降溫至室溫,藉以完成液晶退火程序。
於液晶層完成退火後,以偏光顯微鏡(型號為XP201,購自勤友企業股份有限公司)檢測液晶配向狀況。經檢測所得結果以下方方式表示,並將結果彙整於表一:(1)液晶配向佳,以”○”表示,表液晶層中對應於透鏡結構所處區域內,無任何液晶配向異常區域;
(2)液晶配向尚可,以”△”表示,表液晶層中對應於透鏡結構所處區域內,液晶配向異常區域僅有1~3區(以佔整體區域比來表示,可能會比較清楚);(3)液晶配向差,以”×”表示,表液晶層中對應於透鏡結構所處區域內,液晶配向異常區域超過3區。
測試結果中,以”○”與”△”表示者,均表品質在可接受範圍,但其中以”○”表示者,品質為最佳。
因送入紅外線加熱器中之膜層為一多種材料之複合層結構,當各層材料受熱不均致使升溫速度不均時,因各層熱膨脹係數不同,將致使整體膜面變形,液晶於配向時將受到此影響而導致配向異常。又因液晶配向異常時會產生配向異常線(disclination line),亦即於該些異常線周圍之區域,液晶之配向方向呈現不規則狀態。因此,當光線通過此區域時,會造成液晶漏光之情形,進而影響所製成之液晶顯示器之影像顯示品質。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟油墨塗佈厚度變更為0.9μm,經以分光光譜儀進行測量,測得於750nm~1500nm波長下,整體紅外
線吸收層具有20.3%之紅外線穿透率,測試所得結果彙整於表一。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟油墨塗佈厚度變更為1.6μm,經以分光光譜儀進行測量,測得於750nm~1500nm波長下,整體紅外線吸收層具有10.6%之紅外線穿透率,測試所得結果彙整於表一。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟油墨塗佈厚度變更為2.3μm,經以分光光譜儀進行測量,測得於750nm~1500nm波長下,整體紅外線吸收層具有0.4%之紅外線穿透率,測試所得結果彙整於表一。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟對苯二甲酸乙二酯基板上無塗佈油墨(油墨厚度為0 μm),經以分光光譜儀進行測量,測得於750nm~1500nm波長下,整體紅外線吸收層具有89%之紅外線穿透率,測試所得結果彙整於表一。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表二。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例2,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表二。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例3,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表二。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例4,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表二。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例1,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表二。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表三。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例2,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表三。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例3,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表三。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例4,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表三。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例1,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表三。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟液晶厚度差變更為85μm,測試所得結果彙整於表四。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例2,惟液晶厚度差變更為85μm,測試所得結果彙整於表四。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例3,惟液晶厚度差變更為85μm,測試所得結果彙整於表四。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例4,惟液晶厚度差變更為85μm,測試所得結果彙整於表四。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例1,惟液晶厚度差變更為85μm,測試所得結果彙整於表四。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例13,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表五。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例14,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表五。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例15,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表五。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例16,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表五。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例4,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表五。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例13,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表六。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例14,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表六。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例15,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表六。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例16,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表六。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例4,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表六。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例1,惟液晶厚度差變更為113μm,測試所得結果彙整於表七。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例2,惟液晶厚度差變更為113μm,測試所得結果彙整於表七。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例3,惟液晶厚度差變更為113μm,測試所得結果彙整於表七。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例4,惟液晶厚度差變更為113μm,測試所得結果彙整於表七。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例1,惟液晶厚度差變更為113μm,測試所得結果彙整於表七。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例25,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表八。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例26,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表八。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例27,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表八。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例28,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表八。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例7,惟總體加熱時間變更為10分鐘,測試所得結果彙整於表八。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例25,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表九。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例26,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表九。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例27,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表九。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同實施例28,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表九。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例7,惟總體加熱時間變更為15分鐘,測試所得結果彙整於表九。
測試材料之製備與相關實驗操作方式條件同比較例1,惟加熱方式改以熱風烘箱進行加熱,並同時改變加熱時間與液晶層厚度差,測試所得結果彙整於表十。
由測試結果中可得知,本發明液晶退火方法相較於熱風法,可有效縮短加熱時間,且相較於僅以紅外線加熱器加熱之方法(液晶層上未覆蓋本發明紅外線吸收層者),更可使液晶層受熱均勻。單純以紅外線加熱器直接加熱,雖可快速加熱液晶,但卻會使液晶層因受熱不均而變形。然而,本發明方法相較於單純以紅外線加熱器直接加熱需要較長之加熱時間(但仍遠較熱風法縮短許多),惟液晶層之受熱情形卻得以較為均勻,真正地有效的達成液晶快速退火之目的。
雖然本發明已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10‧‧‧基材
11‧‧‧透鏡結構
12‧‧‧液晶層
14‧‧‧紅外線吸收層
16‧‧‧紅外線
18‧‧‧支撐基材
20‧‧‧積層體
22‧‧‧紅外線加熱器
24‧‧‧紅外線燈管
26‧‧‧行進方向
28‧‧‧滾輪
30‧‧‧配向層
32‧‧‧配向層
d1‧‧‧厚度
d2‧‧‧厚度
為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂,所附圖式之詳細說明如下:第1圖為本發明液晶退火方法之一具體實施態樣示意圖。
第2圖為基材上之透鏡結構之另一具體實施態樣斷面示意圖。
第3圖為本發明液晶退火方法中強化基材支撐性與結構強度之另一具體實施態樣。
第4圖為本發明液晶退火方法以捲對捲製程進行實施之示意圖。
第5圖為本發明液晶退火方法中加入配向層之另一具體實施態示意圖。
10‧‧‧基材
11‧‧‧透鏡結構
12‧‧‧液晶層
14‧‧‧紅外線吸收層
16‧‧‧紅外線
d1‧‧‧厚度
d2‧‧‧厚度
Claims (19)
- 一種液晶退火的方法,其包含下列步驟:提供一基材,其上具有一液晶層,其中該基材與該液晶層接觸面上具有一透鏡結構,該液晶層係填平該透鏡結構,且該液晶層最厚與最薄處之厚度差介於10~150微米(μm)之間;覆蓋一紅外線吸收層於該液晶層上;以及照射紅外線於該紅外線吸收層上,其中,該紅外線吸收層具有5~70%的紅外線穿透率。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該紅外線吸收層係為一可撓式基材,且其上塗佈有一層能吸收紅外線並轉成熱能之油墨。
- 如申請專利範圍第2項所述之方法,其中該油墨具有0.1~2.0μm之厚度。
- 如申請專利範圍第2項所述之方法,其中該油墨具有0.2~1.8μm之厚度。
- 如申請專利範圍第2項所述之方法,其中該油墨為二液反應型油墨、加熱固化型油墨或紫外線固化型油墨。
- 如申請專利範圍第2項所述之方法,其中該可撓式基材之材料為聚對苯二甲酸乙二酯、三醋酸纖維素或聚碳酸酯。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該紅外線吸收層係為一可撓式基材且其中含有一能吸收紅外 線並轉成熱能之色料。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該液晶層最厚與最薄處之厚度差介於20~130μm之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該液晶層最厚與最薄處之厚度差介於35~120μm之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該紅外線吸收層具有10~60%的紅外線穿透率。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該紅外線照射之步驟係以一紅外線加熱器執行。
- 如申請專利範圍第11項所述之方法,其中該紅外線加熱器之加熱溫度為70~100℃。
- 如申請專利範圍第11項所述之方法,其中該紅外線加熱器之加熱時間為不多於20分鐘。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該透鏡結構之斷面為方型、梯型、弧形、半圓形、碗形,或該等之組合。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該基材之材料為壓克力樹脂或三醋酸纖維素。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該基材下方側進一步貼附有一支撐基材。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該支撐基材之材料為聚對苯二甲酸乙二酯、三醋酸纖維素或聚碳酸酯。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該基材與 該液晶層間進一步包含一配向層。
- 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該紅外線吸收層與該液晶層接觸面上,進一步設置有一配向層。
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