TWI455608B - 具聲學調整裝置之頭戴式耳機 - Google Patents

Description

具聲學調整裝置之頭戴式耳機

本發明係有關於一種頭戴式耳機，特別是指一種耳機內之前、後腔室之間設置一聲學調整裝置，藉以調整低音，並改良頻響之頭戴式耳機。

隨著科技不斷地進步，各種電子產品的發展更為快速，其中耳機是作為電子裝置與人耳之間連接的傳輸工具，用以傳遞聲音資訊於人耳，而耳機的發展除了舒適性的佩戴外，更被注重的是聲音品質的表現。

如第一圖所示，為目前習知頭戴式耳機，其包括一殼蓋1與一殼體2所組成，以形成一容置空間3，容置空間3分別設一電路板4與一揚聲器5，電路板4形狀可與殼蓋1輪廓的環壁緊密相接，揚聲器5與電路板4相連接，以將播放器的數位訊號播放出，且殼體2處包覆有一耳罩6，以提供頭戴式耳機與人耳相互接觸時具有良好的觸感，並使頭戴式耳機能緊貼於人耳外緣位置，以隔絕外界噪音進入人耳產生干擾。

然而，上述之頭戴式耳機雖具有被動式消噪功能，惟揚聲器5前後區分成前腔室與後腔室，前腔室搭配耳罩6連結耳道，而後腔室連結揚聲器5後方，且此種頭戴式耳機需透過內部的結構設計，才能提昇低頻效果，然而在特定的結構下，必需要克服空間結構的障礙，以具備有較佳的低頻聲學表現。

有鑑於上述課題，本發明之目的在於提供一種具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其內設置有前、後腔室，且前、後腔室之間設置一聲學調整裝置，藉以調整低音，並改良頻響之頭戴式耳機。

緣是，為達上述目的，本發明揭露一種具聲學調整裝置之頭戴式耳機，頭戴式耳機具有一掛架，並於其兩端分別設置有一發聲體，其包括有一擋板設置有一揚聲器，並將發聲體內區分為前腔室與後腔室，前腔室於頭戴式耳機佩戴於人耳時，連通於耳道，一間隔環設置於揚聲器後側，以將後腔室劃分為一第一後腔室與相連通之一第二後腔室，一洩漏孔開設於發聲體後側，以將第一後腔室連通於外界，一聲學調整裝置連通於前腔室與第二後腔室之間，藉以調整頭戴式耳機低音之共振頻率。

而於本發明實施例中，聲學調整裝置包括一低音管以及一聲學阻尼件，低音管設置於前腔室與第二後腔室之間，聲學阻尼件包覆於前腔室之低音管之端口，用以改善頻響曲線。

而於本發明另一實施例中，低音管之一端口延伸入前腔室內，另一端口齊平於擋板而不延伸入第二後腔室，可運用於不同聲學表現之頭戴式耳機。

而於本發明又一實施例中，聲學調整裝置可設置兩組，並設置於揚聲器兩相對應之側邊上，以調節不同的低頻曲線。

以下，依據圖式就本發明具聲學調整裝置之頭戴式耳機實施例加以說明。

請參照第二圖所示，為本發明具聲學調整裝置之頭戴式耳機之示意圖。頭戴式耳機100包括有一掛架10、二發聲體20以及耳罩30。二發聲體20分別設置於掛架10的兩端，耳罩30設置於二發聲體20前端。

請參照第三圖所示，為本發明具聲學調整裝置之頭戴式耳機之發聲體剖面圖。發聲體20係為一殼體狀，可由單一或兩件式構件組成，發聲體20內具有一擋板21，且擋板21中央位置處設有一揚聲器22，藉由擋板21與揚聲器22以將發聲體20區隔為前腔室40與後腔室50，當發聲體22貼設於人耳外，軟質材之耳罩30提供良好的接觸感與密閉性，可有效與外部聲場隔離，而揚聲器22與耳道之間即形成一封閉空間，即為前腔室40，其中為了配合人耳耳道結構，揚聲器22之設置位置可相較於發聲體20之中心位置偏置而設。

發聲體20於揚聲器22後側設置有一環狀之間隔環51，間隔環51將後腔室50劃分為一第一後腔室52與相連通之一第二後腔室53，並第二後腔室53環設於第一後腔室53周緣，且間隔環51與擋板21之間保持間距而成狹縫54，狹縫54提供第一後腔室52與第二後腔室53連通之路徑。

於發聲體20後側開設有一洩漏孔55，以將第一後腔室52連通於外界，而洩漏孔53可依耳機的聲學特性需求，設置一個或一個以上之數量。

另外，在發聲體20內之前腔室40與第二後腔室53之間設有一聲學調整裝置，聲學調整裝置包括有一低音管60以及一聲學阻尼件70，低音管60垂直穿設於該擋板21且連通於前腔室40與第二後腔室53之間，且低音管60具有一預定筆直長度，並兩端口分別延伸入前腔室40之聲學阻尼件70與第二後腔室53，用以調整低音共振頻率；而聲學阻尼件70設置於前腔室40內，且聲學阻尼件70包覆於低音管60之端口，用來作為調整低音的共振品質因子(Q值)，據此結構設置，可調整耳機的頻響曲線，且透過低音管60連接於前腔室40與第二後膣室53，可達到耳壓的平衡釋放，且可以增益特定的低音頻段，如此耳機搭配主動式抗噪電路時，可達到優異的抗噪效果。

參閱第四圖所示，本發明具聲學調整裝置之頭戴式耳機與習知耳機之聲學曲線比較圖。曲線A代表本發明頭戴式耳機之聲學曲線，曲線B代表習知頭戴式耳機之聲學曲線，由圖中所示，曲線A較曲線B於低頻區域中，具有增益效果之聲學表現。

請參閱第五圖所示，為本發明之第二實施例剖面圖。本實施與前述實施不同之處在於低音管60之長度略短，且低音管50之一端口延伸入前腔室40之聲學阻尼件70內，另一端口齊平於擋板21而不延伸入第二後腔室53，由於採用較短長度之低音管60，使得聲學曲線亦有不同於前述之效果，可適用於不同聲學表現之耳機。

請參閱第六圖所示，為本發明之第三實施例剖面圖。本實施例與前述實施不同之處在於具有另一低音管80設於揚聲器22之一側位置，與低音管60相對於揚聲器22一側，使得耳機同時具有兩低音管60、80，亦具有調整低音共振頻率之效果。

綜合上述，本發明之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，係於發聲體內設置有前腔室連通於耳道，後腔室包括有第一後腔室與第二後腔室連通，且於前腔室與第二後腔室之間設置有低音管，低音管於前腔室之端口受聲學阻尼件包覆，藉以調整頭戴式耳機之低音共振頻率的效果，如搭配主動式抗噪電路時，可達到優異的抗噪效果。

以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。

習知元件符號

1．．．殼蓋

2．．．殼體

3．．．容置空間

4．．．電路板

5．．．揚聲器

6．．．耳罩

本發明元件符號

100．．．頭戴式耳機

10．．．掛架

20．．．發聲體

21．．．擋板

22．．．揚聲器

30．．．耳罩

40．．．前腔室

50．．．後腔室

51．．．間隔環

52．．．第一後腔室

53．．．第二後腔室

54．．．狹縫

55．．．洩漏孔

60．．．低音管

70．．．聲學阻尼件

80．．．低音管

第一圖習知頭戴式耳機之示意圖；

第二圖為本發明具聲學調整裝置之頭戴式耳機之示意圖；

第三圖為本發明具聲學調整裝置之頭戴式耳機之發聲體剖面圖；

第四圖為本發明具聲學調整裝置之頭戴式耳機與習知耳機之聲學曲線比較圖；

第五圖為本發明之第二實施例剖面圖；

第六圖為本發明之第三實施例剖面圖。

100．．．頭戴式耳機

20．．．發聲體

21．．．擋板

22．．．揚聲器

30．．．耳罩

40．．．前腔室

50．．．後腔室

51．．．間隔環

52．．．第一後腔室

53．．．第二後腔室

54．．．狹縫

55．．．洩漏孔

60．．．低音管

Claims (10)

1. 一種具聲學調整裝置之頭戴式耳機，係具有一掛架，並於其兩端分別設置有一發聲體，其包括有：一擋板，係設置有一揚聲器，並將該發聲體內區分為前腔室與後腔室，該前腔室於該頭戴式耳機佩戴於人耳時，連通於耳道；一間隔環，係設置於該揚聲器後側，以將該後腔室劃分為一第一後腔室與相連通之一第二後腔室；一洩漏孔，係開設於該發聲體後側，以將該第一後腔室連通於外界；一聲學調整裝置，係連通於該前腔室與該第二後腔室之間，藉以調整該頭戴式耳機低音之共振頻率。
2. 如申請專利範圍第1項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該聲學調整裝置包括有一低音管，該低音管穿設於該前腔室與該第二後腔室之間。
3. 如申請專利範圍第2項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該聲學調整裝置還包括一聲學阻尼件設置於該前腔室，以包覆低音管之端口。
4. 如申請專利範圍第2項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該低音管之兩端口分別延伸入該前腔室之聲學阻尼件及該第二後腔室。
5. 如申請專利範圍第2項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該低音管一端口延伸入該前腔室，另一端口齊平於該擋板。
6. 如申請專利範圍第1項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該間隔環與擋板之間具有一狹縫，以提供第一後腔室與第二後腔室連通之路徑。
7. 如申請專利範圍第1項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該聲學調整裝置具有兩組，分別設置於該揚聲器兩側。
8. 如申請專利範圍第7項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該兩聲學調整裝置分別包括有一低音管，該低音管穿設於該前腔室與該第二後腔室之間。
9. 如申請專利範圍第8項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該兩聲學調整裝置還分別包括有一聲學阻尼件設置於該前腔室，以包覆低音管之端口。
10. 如申請專利範圍第1項所述之具聲學調整裝置之頭戴式耳機，其中該第二後腔室環設於第一後腔室周緣。