TWI432237B - 標量雷射治療裝置 - Google Patents
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Description
本發明主要涉及用於治療人體組織的雷射器,且更具體地涉及為了提供保健、恢復和身心健康等目的而提供治療及量子效果來治療人體組織和刪除細胞記憶的低能階雷射器和發光二極體(LED)。
已知雷射器和發光二極體可被用於將能量傳遞到目標組織,以幫助修復組織損傷。雷射器和發光二極體也可被用於在神經和軟組織環境的治療中提供有益的治療效果。更具體地,雷射器和發光二極體將能量傳遞到目標組織,穿透皮層以到達內部組織,以在細胞層級上產生專門的、非熱的光化學效果。此類治療是非侵入性的,且避免了藥物治療的可能的副作用。
然而,現有技術中仍然存在對更好的雷射治療方法的需求。本發明提供了此類改善的治療方法,且涉及一種新的低能階雷射治療裝置和治療組織的方法。
下文展示了本發明的態樣的整體概要,以提供對本發明以及其各種不同特徵的基本理解。此概要不意在以任何方式限制本發明的範圍,而僅僅是為提供了整體的概覽和在作為其後的具體實施方式之脈絡。
本發明涉及手持雷射系統,其使用雷射二極體及/或替代地使用發光二極體,或者兼用兩者,來給目標組織提供能量,以提供有益的治療及量子治癒效果以及中和(neutralize)或刪除細胞記憶。該手持雷射系統包括一個數位介面,其給予操作者以在特定頻率產生正弦波或標量波的能力,相比之下非數位系統使用的則是簡單的開/關方波。該雷射系統還使得操作者不僅能夠調整頻率,還能調整其他的波特性諸如振幅和相位。本發明的一態樣涉及調整在該雷射系統中的多個波之間的相位關係。也就是說,本發明使用一個被脈衝化地通過該雷射器的波道(channel)或波(頻率),然後相對於第一波道運行第二波道或波。這被稱為波的相位關係,且以0至360測量。已經發現,本發明雷射系統──其在波(諸如正弦和標量波)之間存在相位關係──在組織上具有治療及量子治癒效果。在一個示例實施例中,已經發現,本發明具有大約180度的相位關係的雷射系統提供了理想的治療及量子治癒效果,且特別地,中和或刪除細胞記憶。
在詳讀下文的具體實施方式、請求項和附圖後,本發明的其他特徵和益處對於本領域技術人士將變得顯而易見,在附圖中,類似的元件符號被用來指示類似的特徵。
參見圖1和圖2,顯示有本發明的一種示例的靠電池供電的手持雷射治療裝置8,其包括為了在治療應用中給人體提供能量的目的而發射特定波長的光的多個雷射二極體及/或發光二極體。該示例治療裝置8可在一側包括以特定圖案佈置的多個雷射二極體及/或發光二極體14,其發射可見光和近紅外線以提供治療及量子治癒效果並且中和或刪除細胞記憶。這是通過調整雷射系統中不同的波之間的相位關係來完成的。已經決定,本發明雷射系統──其在波(諸如正弦和標量波)之間存在相位關係──在組織上具有理想的治療及量子治癒效果。如下文進一步所示,具有大約180度的相位關係的雷射系統提供了此理想的治療和治癒效果,並且中和或刪除了細胞記憶。
在一個實施例中,且如圖3中所示,雷射治療裝置8可包括間隔開的雷射二極體及/或發光二極體14的至少兩個軌道10、12,其中每個軌道有大約10個雷射二極體。這兩個軌道10、12可被佈置成同心圖案,意即,一個軌道在另一個軌道之內,或者其他合適的圖案。可以根據想要的應用而改變二極體14的數量。在本發明的一個實施例中,在軌道10、12之間的相位關係可被設置成大約180度,或者設置成任意其他適當的相位關係。通過使用此二極體結構,其中相同的頻率被脈衝化地通過每個軌道但在不同軌道之間具有不同的相位關係,研究已經示出該雷射治療裝置8將提供獨特的且非常有益的治癒和恢復效果,以及對細胞記憶的刪除。
在一個示例實施例中,二極體14可包括一或多個紅光(650nm)雷射二極體,每個具有5mW功率。二極體14也可包括一或多個紅外線(780nm)雷射二極體,每個具有5mW功率,或者可包括一或多個405nm雷射二極體,每個具有100mW功率。此外,二極體14可包括一或多個紫外線(420nm)雷射二極體或者一或多個紫外線發光二極體,每個具有1000mcd的功率。在一個示例實施例中,該二極體可包括介於400nm和470nm波長之間的雷射二極體。應理解,具有其他功率的其他二極體也是可能的,且可用於本發明的雷射裝置。在此波長範圍內的雷射二極體先前並未成為用於提供有益的治療及量子治癒效果以及中和或刪除細胞記憶的可行選項。已經決定,在此波長範圍內的雷射二極體為恢復、強化(alchemy)、抗衰老以及關鍵酶的活化產生了很好的增強的好處。
該裝置8可具有如下頻率範圍:從1 Hz到20,000 Hz的正弦波、以及40 Hz方波。在一個替代實施例中,雷射裝置8可具有介於1至40,000 Hz之間的特定頻率,並脈衝化地通過雷射裝置。已表明,使用介於1至40,000 Hz之間的特定頻率提供了精細調節雷射能以刺激和引發不同的治療效果(諸如鬆弛組織、刺激循環、解毒以及恢復)的治療值。二極體14可被安裝到裝置8或其內,且可被配置為使得從其發射的雷射或發光二極體光束彼此平行地行進,或者在離裝置8短距離處相交。
在一個替代實施例中,裝置8可包括由四個發光二極體圍繞的一個雷射二極體。關於此實施例,該雷射二極體可具有比四個發光二極體更高的功率。在此實施例中,雷射二極體可定義有一個電路,而周圍的四個發光二極體可定義有一個個別的電路。在一個替代實施例中,可以在裝置8上佈置高達五個或更多個的發光二極體/雷射器集群(cluster)。每個集群都會具有獨立於其他集群的自我控制能力。在另一個替代實施例中,由雷射二極體或發光二極體組成的四個電路可用於該雷射裝置。在此實施例中,參見圖4a,二極體的第一電路50、第二電路52、第三電路54和第四外側電路56放置成同心的電路圖案。電路的同心圖案可以定義有彼此圍繞的圓形的、橢圓形的或其他的電路圖案。在此實施例中,第一電路50和第三電路54被編排在一起成為第一軌道,而第二電路52和第四電路56被編排在一起成為第二軌道。第一軌道具有第一波相位,而第二軌道具有第二波相位,其中第二軌道的第二波相位相對於第一軌道的第一波相位具有大約180的相位差。以此實施例,該雷射治療裝置會提供獨特的非常有益的治療康復效果,以及對細胞記憶的中和或刪除。本領域技術人士應理解,在本發明的教導下,雷射二極體和發光二極體的許多組合均為可能,如下文進一步敘述。
在一個實施例中,該裝置8可以定義有:本體部分22可從例如模壓塑膠材料諸如ABS/複合高聚物(poly blend)製成。本體部分22可定義有一個仿形握把部分24,其允許操作者更容易地用手操作該雷射裝置。本體部分22將包含控制雷射裝置8和二極體14的運行的電路。本體部分還包含一個電池,未示出,例如鋰離子可充電電池。本體部分22還可包含充電電路,以允許將簡單的外部電源用於充電。
在示例實施例中,且如圖1所示,雷射裝置8可以在該單元的頂端包括一個顯示器26諸如LCD字元顯示器和鍵盤讀出器,以允許用戶從許多治療模式中作選擇。另外,對於每個模式,可以調節光強度、閃光頻率和閃光持續時間。該顯示器也可以基於電池容量提供諸如剩餘的計劃運行時間等資訊,且當容量變低時提供指示剩餘分鐘數的可視警報。該顯示器還使得操作者能夠調整的不僅有頻率,而且有其他波特性諸如振幅和相位。
參見圖2,顯示有以同心圖案置於本體部分22上的多個間隔開的雷射二極體或發光二極體14的一種替代佈置。如所示,二極體14的第一外部環9可位於本體部分的週邊附近並且定義有一個軌道,而二極體14的第二菱形圖案11可位於本體部分的中心附近並且定義有第二個軌道。如上所示,雷射二極體及/或發光二極體14的任意數量的組合均可被用作外部環9或菱形圖案11的一部分。在圖2所示的實施例中,第一外部環9可包括發光二極體,而第二菱形圖案11可包括雷射二極體。
參見圖3,在本發明的另一態樣中,且如上所述,該雷射裝置8可具有圖案6,該圖案6包括了間隔開的雷射二極體及/或發光二極體14的至少兩個軌道10、12。該圖案也可包括二極體14的一個內部菱形佈置15和二極體14的一個外部環17,它們分別定義有各自自身的軌道。兩個軌道10、12可被佈置成同心圖案,或其他適合的圖案。在兩個軌道之間的相位關係可以被設置成大約180度,以提供理想的治療效果。通過使用此二極體結構──其中相同的頻率被脈衝化地通過每個軌道,但在軌道之間卻具有不同相位關係──該雷射系統將提供有益的治療效果,且將導致對細胞記憶的刪除。每個軌道都將具有其自身的電路,用於實現獨立於其他二極體軌道的控制能力。在圖3的實施例中,軌道10、12將包括雷射二極體,而內部菱形佈置15和外部環17將包括發光二極體,其全部彼此同心地佈置,且均在其自身各自的軌道上。應理解,此二極體結構和此處使用的特定的二極體,僅僅是許多可能的雷射二極體及/或發光二極體的圖案的示例。
參見圖4,在本發明的另一個態樣,雷射裝置8可具有圖案16,其包括間隔開的雷射二極體及/或發光二極體14的兩個軌道30、32。在此實施例中,每個軌道可包括大約8個雷射二極體。圖案16也可以具有:內部的二極體菱形佈置33,其定義有一個軌道,以及外部的二極體環35,其也定義有一個軌道。該兩個軌道30、32可被配置成同心圖案或者其他適當的圖案。與圖3的實施例類似,在這兩個軌道之間的相位關係可被設置成大約180度,或者設置成任何其他適當的相位關係。此外,通過使用此二極體結構──其中相同頻率被脈衝化地通過每個軌道,但卻在軌道之間具有不同的相位關係──該雷射系統將提供有益的治癒效果,以及對細胞記憶的刪除。另外,每個二極體軌道將具有其自身的電路,以用於實現獨立於其他二極體軌道的控制能力。在圖4的實施例中,軌道30、32將包括雷射二極體,而內部菱形佈置33和外部環35將包括發光二極體。此外,用於所示的圖案16的特定雷射二極體及/或發光二極體可以改變。
在另一態樣,更高功率的雷射探頭40(圖5)可被耦接到雷射治療裝置8,以提供精確的治療應用。這一雷射探頭可以是附到裝置8的附件,且可由裝置8供電。參見圖5,雷射探頭40可以定義有一個細長的體,其可以是手持的。探頭40可以包括任意數量的雷射二極體42及/或發光二極體44.在一個示例實施例中,探頭40可定義有一個二極體圖案,其包括:定義有第一軌道的雷射二極體42,該第一軌道被定義有第二軌道的四個發光二極體44所圍繞。本領域技術人士應理解,其他二極體圖案也是可以的。在一個實施例中,探頭二極體可包括一或多個紅光(650nm)雷射二極體,每個均具有100 mW功率。該二極體也可以包括一或多個紅外線(780nm)雷射二極體,每個均具有100 mW功率。同樣,該二極體可以包括一或多個405nm的雷射二極體,每個均具有60mw的功率。另外,該二極體可包括一或多個紫外線(420nm)發光二極體。在一個示例實施例中,該二極體可包括介於400nm和470nm波長之間的雷射二極體。另外,用於該探頭的特定雷射二極體及/或發光二極體可以改變。與雷射裝置8相似,在用於探頭40的二極體之間的相位關係可被設置成大約180度,或者設置成任何其他合適的相位關係。此外,通過使用此二極體結構──其中相同頻率被脈衝化地通過每個軌道,但卻在軌道之間具有不同的相位關係,例如180度相位差──該雷射探頭40將提供有益的康復效果,以及對細胞記憶的刪除。同樣類似於雷射裝置8,每個二極體軌道將具有其自身的電路,以實現獨立於其他二極體軌道的控制能力。
對前述內容的變化和修改均在本發明的範圍內。應理解,此處公開和定義的本發明延伸到文字及/或附圖中所提到的或據此而明顯可知的兩個或更多個個體特徵的所有替代性的組合。所有這些不同的組合構成了本發明的各種不同的替代性的態樣。該請求項應被解釋為包括了到現有技術所允許的程度的各種不同的替代實施例。本發明的各特徵於後續的請求項中提出。
6...圖案
8...裝置
9...外部環
10...軌道
11...菱形圖案
12...軌道
14...二極體
15...菱形佈置
16...圖案
17...外部環
22...本體部分
24...仿形握把部分
26...顯示器
30...軌道
32...軌道
33...菱形佈置
35...環
40...雷射探頭
42...雷射二極體
44...發光二極體
50...第一電路
52...第二電路
54...第三電路
56...第四外側電路
圖1是本發明的雷射治療裝置的一個示例實施例的俯視平面圖。
圖2是圖1的雷射裝置的仰視圖,顯示有一個示例的雷射二極體和發光二極體圖案。
圖3是一個替代的雷射二極體和發光二極體圖案的示意圖。
圖4是另一個替代的雷射二極體和發光二極體圖案的示意圖。
圖4a是另一個替代的雷射二極體和發光二極體圖案的示意圖。
圖5是本發明的一個示例雷射治療探頭的俯視圖。
在詳細解釋本發明的實施例之前,應理解本發明在其應用方面並不限於在下面的描述中提出的或在附圖中示出的構造細節和部件佈置。本發明能夠以各種不同的方式被實踐或以其他實施例來執行。而且,應理解用在此處的措辭和術語是為了描述的目的,且不應被視為有限制性。對「包括」、「包含」以及其變體的使用意味著囊括了列在其後的項目及其均等物,以及其他的項目及其均等物。
8...治療裝置
9...外部環
11...菱形圖案
14...二極體
22...本體部分
24...仿形握把部分
Claims (8)
- 一種雷射治療裝置,包括:佈置在一外殼體上的複數個雷射二極體及/或發光二極體,控制該複數個雷射二極體及/或發光二極體的運行的控制電路,其中該複數個雷射二極體及/或發光二極體定義有第一軌道和一第二軌道,其中該等二極體的第一軌道定義有一第一電路和一第三電路,其中該等二極體的第二軌道定義有一第二電路和一第四電路,其中該控制電路數位地控制該等二極體的該第一軌道,該等二極體的第一軌道具有一第一波相位,且數位地控制該等二極體的該第二軌道,該等二極體的第二軌道具有一第二波相位,其中該等二極體的第一軌道相對於該等二極體的第二軌道具有180度的相位差,以提供治療效果。
- 根據請求項1所述的雷射治療裝置,其中介於1至40,000Hz之間的特定頻率被脈衝化地通過該雷射裝置。
- 根據請求項2所述的雷射治療裝置,其中該第一軌道和該第二軌道被同心地佈置。
- 根據請求項3所述的雷射治療裝置,更包括定義有一 菱形形狀並且在該第一軌道內同心地定位的複數個發光二極體及/或雷射二極體。
- 根據請求項2所述的雷射治療裝置,其中該複數個雷射二極體及/或發光二極體具有介於400nm和470nm之間的波長。
- 根據請求項2所述的雷射治療裝置,其中該複數個雷射二極體及/或發光二極體具有650nm或780nm的波長。
- 根據請求項1所述的雷射治療裝置,更包括耦接到該外殼體的一雷射探針,該雷射探針包括佈置在該探針上的複數個雷射二極體及/或發光二極體。
- 根據請求項7所述的雷射治療裝置,其中該複數個探針雷射二極體及/或發光二極體包括:定義有一第一相位的一第一雷射二極體,其被定義有一第二相位的多個發光二極體所圍繞,且其中該第一相位與該第二相位相差180度,以提供治療效果。
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