TWI421781B - Make-up simulation system, make-up simulation device, make-up simulation method and make-up simulation program - Google Patents

Make-up simulation system, make-up simulation device, make-up simulation method and make-up simulation program Download PDF

Info

Publication number
TWI421781B
TWI421781B TW96101598A TW96101598A TWI421781B TW I421781 B TWI421781 B TW I421781B TW 96101598 A TW96101598 A TW 96101598A TW 96101598 A TW96101598 A TW 96101598A TW I421781 B TWI421781 B TW I421781B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
makeup
image
user
face
processing
Prior art date
Application number
TW96101598A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
TW200805175A (en
Inventor
Yasuo Goto
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shiseido Co Ltd filed Critical Shiseido Co Ltd
Publication of TW200805175A publication Critical patent/TW200805175A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI421781B publication Critical patent/TWI421781B/zh

Links

Landscapes

  • Image Processing (AREA)
  • Processing Or Creating Images (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
TW96101598A 2006-01-17 2007-01-16 Make-up simulation system, make-up simulation device, make-up simulation method and make-up simulation program TWI421781B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006009268 2006-01-17
JP2007005098A JP5191665B2 (ja) 2006-01-17 2007-01-12 メイクアップシミュレーションシステム、メイクアップシミュレーション装置、メイクアップシミュレーション方法およびメイクアップシミュレーションプログラム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200805175A TW200805175A (en) 2008-01-16
TWI421781B true TWI421781B (zh) 2014-01-01

Family

ID=38493846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW96101598A TWI421781B (zh) 2006-01-17 2007-01-16 Make-up simulation system, make-up simulation device, make-up simulation method and make-up simulation program

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5191665B2 (ja)
TW (1) TWI421781B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI708164B (zh) * 2019-03-13 2020-10-21 麗寶大數據股份有限公司 虛擬彩妝系統與虛擬彩妝上色方法

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4924376B2 (ja) * 2007-11-19 2012-04-25 大日本印刷株式会社 メイクアップ録画配信システム
CN103885461B (zh) * 2012-12-21 2017-03-01 宗经投资股份有限公司 自动彩妆机的彩妆工具的移动方法
JP6008323B2 (ja) 2013-02-01 2016-10-19 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 メイクアップ支援装置、メイクアップ支援方法、およびメイクアップ支援プログラム
JP6264665B2 (ja) * 2013-04-17 2018-01-24 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 画像処理方法および画像処理装置
US9953462B2 (en) 2014-01-31 2018-04-24 Empire Technology Development Llc Augmented reality skin manager
EP3100238A4 (en) 2014-01-31 2017-07-05 Empire Technology Development LLC Subject selected augmented reality skin
US9865088B2 (en) 2014-01-31 2018-01-09 Empire Technology Development Llc Evaluation of augmented reality skins
JP6334715B2 (ja) * 2014-01-31 2018-05-30 エンパイア テクノロジー ディベロップメント エルエルシー 拡張現実スキンの評価
CN104217350B (zh) * 2014-06-17 2017-03-22 北京京东尚科信息技术有限公司 实现虚拟试戴的方法和装置
WO2017149778A1 (ja) * 2016-03-04 2017-09-08 株式会社オプティム 鏡、画像表示方法及びプログラム
CN108875462A (zh) * 2017-05-16 2018-11-23 丽宝大数据股份有限公司 眉毛造型指引装置及其方法
CN109583261A (zh) * 2017-09-28 2019-04-05 丽宝大数据股份有限公司 身体信息分析装置及其辅助比对眉型方法
WO2023089816A1 (ja) * 2021-11-22 2023-05-25 日本電気株式会社 情報処理装置、情報処理システム、情報処理方法、及び非一時的なコンピュータ可読媒体

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4539585A (en) * 1981-07-10 1985-09-03 Spackova Daniela S Previewer
US20020071604A1 (en) * 2000-06-27 2002-06-13 Rami Orpaz Make-up and fashion accessory display and marketing system and method
TW200521851A (en) * 2003-12-19 2005-07-01 Inst Information Industry Simulation method for make-up trial and the device thereof

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001104050A (ja) * 1999-10-06 2001-04-17 Seiko Epson Corp 画像処理を用いた化粧支援方法および化粧台ならびに画像処理を用いた化粧支援処理プログラムを記録した記録媒体
FR2818529A1 (fr) * 2000-12-21 2002-06-28 Oreal Procede pour determiner un degre d'une caracteristique de la typologie corporelle
JP3984191B2 (ja) * 2002-07-08 2007-10-03 株式会社東芝 仮想化粧装置及びその方法
JP2004234571A (ja) * 2003-01-31 2004-08-19 Sony Corp 画像処理装置、画像処理方法及び撮影装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4539585A (en) * 1981-07-10 1985-09-03 Spackova Daniela S Previewer
US20020071604A1 (en) * 2000-06-27 2002-06-13 Rami Orpaz Make-up and fashion accessory display and marketing system and method
TW200521851A (en) * 2003-12-19 2005-07-01 Inst Information Industry Simulation method for make-up trial and the device thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI708164B (zh) * 2019-03-13 2020-10-21 麗寶大數據股份有限公司 虛擬彩妝系統與虛擬彩妝上色方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5191665B2 (ja) 2013-05-08
TW200805175A (en) 2008-01-16
JP2007216000A (ja) 2007-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI421781B (zh) Make-up simulation system, make-up simulation device, make-up simulation method and make-up simulation program
KR101363691B1 (ko) 메이크업 시뮬레이션 시스템, 메이크업 시뮬레이션 장치,메이크업 시뮬레이션 방법 및 메이크업 시뮬레이션프로그램
EP3479351B1 (en) System and method for digital makeup mirror
JP5261586B2 (ja) メイクアップシミュレーションシステム、メイクアップシミュレーション装置、メイクアップシミュレーション方法およびメイクアップシミュレーションプログラム
EP2178045A1 (en) Makeup simulation system, makeup simulation apparatus, makeup simulation method, and makeup simulation program
JP5084938B2 (ja) 画像抽出装置、画像抽出方法、及び画像抽出プログラム
KR20090098798A (ko) 비디오 이미지들의 시퀀스의 가상 시뮬레이션을 위한 방법 및 디바이스
CN109147037B (zh) 基于三维模型的特效处理方法、装置和电子设备
CN109272579B (zh) 基于三维模型的美妆方法、装置、电子设备和存储介质
JPH10255066A (ja) 顔画像の修正方法、化粧シミュレーション方法、化粧方法、化粧サポート装置及びファンデーション転写膜
JP2010072934A (ja) アルバム作成装置及びアルバム作成方法
JP7463774B2 (ja) メイクアップシミュレーション装置、メイクアップシミュレーション方法及びプログラム
JP2007213623A (ja) 仮想化粧装置及びその方法
JP2009039523A (ja) メイクアップシミュレーションに利用する端末装置
JP3993029B2 (ja) 化粧シミュレーション装置、化粧シミュレーション方法、化粧シミュレーションプログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体
WO2015152028A1 (ja) 化粧支援装置および記録媒体
JP4219521B2 (ja) マッチング方法および装置並びに記録媒体
JP2011022733A (ja) メーキャップシミュレーション装置、メーキャップシミュレーションプログラム及び対面販売支援方法
JP4790444B2 (ja) 画像抽出装置、画像抽出方法、及び画像抽出プログラム
JP5966657B2 (ja) 画像生成装置、画像生成方法及びプログラム
KR100422470B1 (ko) 3차원 동화상 모델 얼굴 대체 방법 및 장치
JP2005225025A (ja) 顔画像処理システム
JP2005235136A (ja) 顔の客観的評価システム、顔の客観的評価方法及び顔の客観的評価プログラム

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees