TWI408336B - 測量裝置 - Google Patents

Description

測量裝置

本發明涉及一種測量裝置，尤其涉及一種測量寬度差值之測量裝置。

現代化之生產方式使得產品製造商更加注重購進之原材料之品質，其往往投入一定成本對購進之原材料進行測量。其中一項就是疊加材料寬度差值測量，業界通常採用高度計來測量片狀疊加材料的寬度差值。

如圖1所示，為現有技術中採用高度計20測量片狀疊加材料50寬度差的示意圖。高度計20包括旋鈕21、探測臂22、數位表頭23及底座24。數位表頭23設置於底座24之上，且與探測臂22相連。探測臂22中部設有旋鈕21。旋鈕21用於調整探測臂22升高或降低。數位表頭23根據探測臂22升高或降低的程度顯示相應讀數。測量片狀疊加材料50時，首先用手先將片狀疊加材料50豎直放置並保持其平穩，並向高度計20靠近。旋轉旋鈕21，使得探測臂22與片狀疊加材料50的第一接觸面51接觸，此時按下數字表頭23的歸零鍵以使數位表頭23顯示的讀數為零；繼續旋轉旋鈕21，使得探測臂22與片狀疊加材料50的第二接觸面52接觸，此時數位表頭23顯示出第一接觸面51與第二接觸面52的寬度差值。

然而，採用高度計20測量片狀疊加材料50的寬度差的過程中，需要手動的旋轉旋鈕21，並同時要保持片狀疊加材料50的平穩，故而測量精度不高且測量速度太慢。例如，過度旋轉旋鈕21或者片狀疊加材料50不平穩都會造成測量之結果誤差較大。

鑒於此，有必要提供一種快速測量片狀疊加材料寬度差之測量裝置。

一種測量裝置，其用於測量片狀疊加材料突出部分的寬度差值。片狀疊加材料包括重疊放置的矩形第一平板及第二平板，第一平板長邊對應的兩側面為第一接觸面，第二平板長邊對應的兩側面為第二接觸面。測量裝置包括千分錶及承載台。千分錶包括表頭、套筒及測量杆。承載台包括擋塊，擋塊具有相背的第一側面及第二側面、垂直穿過第一側面、第二側面的通孔。第二側面上設有第一凸塊及第二凸塊，且第一凸塊及第二凸塊分別位於通孔的兩側。第一接觸面的長度不大於第一凸塊及第二凸塊之間的最短距離。套筒固定在通孔內，測量杆沿通孔從第二側面穿出，測量杆穿出部分高於第一凸塊及第二凸塊。

使用測量裝置來測量片狀疊加材料寬度差時，千分錶被固定在承載台上，且片狀疊加材料由承載台承載平穩的向固定了千分錶的擋塊靠近以測量出片狀疊加材料的寬度差。在整個測量過程中，減少了人為手動的操作千分錶及保持片狀材料的平穩所造成的誤差，故測量所得到的結果更加精確。

如圖2所示，為一片狀疊加材料10的立體圖。該片狀疊加材料10包括重疊放置的第一平板11、第二平板12。第一平板11及第二平板12均為矩形塊狀。第一平板11的長度小於第二平板12的長度，第一平板11的寬度大於第二平板12的寬度。第一平板11長邊對應的兩側面為第一接觸面111，第二平板12長邊對應的兩側面為第二接觸面121，第二平板12短邊對應的兩側面為第三接觸面122。一平面A垂直且平分片狀疊加材料10。第一接觸面111及第二接觸面121與平面A平行，且位於平面A同一側的第一接觸面111、第二接觸面121到該平面A的距離為L1、L2，L1大於或等於L2。第一接觸面111與第二接觸面121之間的距離為L3，L3為要測量的寬度差值。第一平板11長邊的長度就是第一接觸面111的長度，第二平板12長邊的長度就是第二接觸面121的長度。

如圖3所示，其為一較佳實施方式的測量裝置30的分解圖。該測量裝置30包括承載台31、固定於承載台31上的千分錶32a及千分錶32b。其中，千分錶32a包括內部設有測量機構的表頭321a、與表頭連接的套筒322a、可伸縮地設置於套筒322a內且與測量機構相連的測量杆323a。觸頭3231a位於測量杆323a上遠離表頭321a的端部，用於與待測材料接觸。表頭321a可根據測量杆323a伸縮長度顯示相應數值。千分錶32b具有與千分錶32a相同的結構，其包括表頭321b、套筒322b、測量杆323b及觸頭3231b。

請同時參照圖4，承載台31包括基板33、擋塊34、保持塊36a及保持塊36b。該基板33為長方體狀，其具有光滑平整的第一表面330。擋塊34大體呈長條形狀，其固定於基板33的第一表面330上。擋塊34具有相背的第一側面340和第二側面341。第一側面340與基板33的第一表面330的邊沿線位於同一平面內。第二側面341上設有對稱的第一凸塊342及第二凸塊343，其中第一凸塊342與第二凸塊343形狀完全相同。

第一凸塊342具有第一凸面3421，第一凸面3421與第二側面341平行。第一凸塊342還具有第一交面3422，第一交面3422與第二側面341第一凸面3421連接。第一交面3422與第二側面341相交的線為第一交線3423，第一交面3422與第一凸面3421相交的線為第二交線3424。其中，第一凸面3421為矩形，第一交面3422到第二側面341的角α的範圍是：0度<α<180度。第二凸塊343具有第二凸面3431，第二凸面3431與第二側面341平行。第二凸塊343還具有第二交面3432，第二交面3432與第二側面341、第二凸面3431連接。第二交面3432與第二側面341相交的線為第三交線3433，第二交面3432與第二凸面3431相交的線為第四交線3434。其中，第二凸面3431為矩形，第二交面3432到第二側面341的角β的範圍是：0度<β<180度。其中，角α的開口方向與角β的開口方向相對。

請再參照圖2，片狀疊加材料10的第一接觸面111及第二接觸面121的長度要滿足以下要求：當角α及角β都大於0度小於90度時，第一接觸面111的長度不大於第二交線3424與第四交線3434之間的距離，且第二接觸面121的長度大於第二交線3424與第四交線3434之間的距離，此時第一交線3423與第三交線3433之間的距離為第一凸塊342與第二凸塊343之間的最長距離，第二交線3424與第四交線3434之間的距離為第一凸塊342與第二凸塊343之間的最短距離；當角α及角β都大於等於90度小於180度時，第一接觸面111的長度不大於第一交線3423與第三交線3433之間的距離，且第二接觸面121的長度大於第二交線3424與第四交線3434之間的距離，此時第一交線3423與第三交線3433之間的距離為第一凸塊342與第二凸塊343之間的最短距離，第二交線3424與第四交線3434之間的距離為第一凸塊342與第二凸塊343之間的最長距離；第一接觸面511與第二接觸面521之間的寬度差不大於第一凸塊342與第二凸塊343的突出高度。

請同時參照圖4，擋塊34具有垂直穿過第一側面340和第二側面341的二通孔344，且通孔344位於第一凸塊342及第二凸塊343之間，擋塊34還具有第一表面345，第一表面345與基板33的第一表面330平行。在擋塊34的第一表面345上具有螺絲孔346，且螺絲孔346穿透至通孔344。螺絲40可旋入螺絲孔346到達通孔344。其中，通孔344的位置根據下列情況設置：當角α及角β都大於0度小於90度時，通孔344設置於第二交線3424、第四交線3434在第二側面341上的正投影之間；當角α及角β都大於等於90度小於180度時，通孔344設置於第一交線3423與第三交線3433之間。

保持塊36a及保持塊36b為長方體狀，其固定於基板33的第一表面330上，且對應的與第一凸面3421及第二凸面3431垂直。第二接觸面521的長度不大於保持塊36a與保持塊36b之間的距離。

請同時參照圖5，千分錶32a的套筒322a及測量杆323a從第一側面340穿入通孔344。測量杆323a從第二側面341穿出，穿出部分高出第一凸面3421及第二凸面3431。通過將螺絲40旋入螺絲孔346直至到達套筒322a以固定千分錶32a。另外，也可用粘貼等方式固定。同樣的，千分錶32b也以同樣的方式被固定。

請同時參看圖6，其為圖3所示測量裝置30的測量狀態圖。請一併參看圖2所示的片狀疊加材料10的立體圖。首先，對測量裝置30進行歸零操作。亦即，用一直尺推壓千分錶30a的測量杆323a及千分錶30b的測量杆323b的觸頭3231a、觸頭3231b，直至直尺與第一凸面3421及第二凸面3431接觸，以使觸頭3231a、觸頭3231b與第一凸面3421及第二凸面3431位於同一平面，此時按下千分錶32a、千分錶32b各自的歸零鍵以歸零。接著進行測量操作，亦即，將片狀疊加材料10水平放置於基板33的第一表面330上，且其第一接觸面111與第二側面341平行。兩第三接觸面122對應的與保持塊36a及保持塊36b相接觸，以使片狀疊加材料10不能在保持塊36a及保持塊36b之間移動。推動片狀疊加材料10向擋塊34靠近。第一接觸面111先與測量杆323a、測量杆323b的觸頭3231a、3231b接觸，隨著片狀疊加材料10的移動，測量杆323a、測量杆323b受到推力而對應的縮入套筒322a、套筒322b。當第二接觸面121與第一凸面3421及第二凸面3431接觸時，測量杆323a、測量杆323b停止向套筒322a、套筒322b縮入，此時千分錶32a及千分錶32b顯示第一接觸面111與第二接觸面121的寬度差值。

如上所述，使用上述測量裝置30來測量片狀疊加材料10寬度差時，千分錶32a、32b被固定在承載台上，且片狀疊加材料10由承載台承載並在保持塊36a、36b的保持下平穩的向固定了千分錶32a、32b的擋塊34靠近以測量出片狀疊加材料10的寬度差。在整個測量過程中，減少了人為手動地操作千分錶及保持片狀疊加材料10的平穩所造成的誤差，故測量所得到的結果更加精確。

綜上所述，本發明符合發明專利要件，爰依法提出專利申請。惟，以上該者僅為本發明之較佳實施例，舉凡熟悉本案技藝之人士，在援依本案創作精神所作之等效修飾或變化，皆應包含於以下之申請專利範圍內。

第一平板．．．11

第二平板．．．12

第一接觸面．．．111

第二接觸面．．．121

承載台．．．31

千分錶．．．32a

千分錶．．．32b

基板．．．33

擋塊．．．34

保持塊．．．36a

保持塊．．．36b

表頭．．．321a

套筒．．．322a

測量杆．．．323a

觸頭．．．3231a

表頭．．．321b

套筒．．．322b

測量杆．．．323b

觸頭．．．3231b

第一表面．．．330

第一側面．．．340

第二側面．．．341

第一凸塊．．．342

第二凸塊．．．343

通孔．．．344

螺絲孔．．．346

螺絲．．．40

圖1為現有技術中採用高度計測量片狀疊加材料寬度差的示意圖。

圖2為一片狀疊加材料的立體圖。

圖3為一較佳實施方式的測量裝置的分解圖。

圖4為圖3所示測量裝置的承載台的立體圖。

圖5為圖3所示測量裝置的立體圖。

圖6為圖3所示測量裝置的測量狀態圖。

承載台．．．31

千分錶．．．32a

千分錶．．．32b

基板．．．33

擋塊．．．34

保持塊．．．36a

保持塊．．．36b

表頭．．．321a

套筒．．．322a

測量杆．．．323a

觸頭．．．3231a

表頭．．．321b

套筒．．．322b

測量杆．．．323b

觸頭．．．3231b

第一表面．．．330

第一側面．．．340

第二側面．．．341

通孔．．．344

螺絲孔．．．346

螺絲．．．40

Claims (9)

1. 一種測量裝置，其用於測量片狀疊加材料突出部分之寬度差值，該片狀疊加材料包括重疊放置的矩形第一平板及第二平板，該第一平板長邊對應的兩側面為第一接觸面，該第二平板長邊對應的兩側面為第二接觸面，該測量裝置包括：千分錶及承載台，該千分錶包括表頭、套筒及測量杆，其改良在於：該承載台包括擋塊，該擋塊具有相背的第一側面及第二側面、垂直穿過該第一側面、該第二側面的通孔，該第二側面上設有第一凸塊及第二凸塊，且該第一凸塊及該第二凸塊分別位於通孔的兩側，該第一接觸面的長度不大於該第一凸塊及第二凸塊之間的最小距離，該套筒固定在該通孔內，該測量杆沿該通孔從該第二側面穿出，該測量杆穿出部分高於該第一凸塊及該第二凸塊。
2. 如申請專利範圍第1項所述之測量裝置，其中該第一凸塊具有與該第二側面平行的第一凸面及連接該第二側面、該第一凸面的第一交面，該第一交面與該第二側面相交的線為第一交線，該第一交面與該第一凸面相交的線為第二交線，該第一交面到該第二側面的角α 的範圍是：0度<α <90度，該第二凸塊具有與該第二側面平行的第二凸面及連接該第二側面、該第二凸面的第二交面，該第二交面與該第二側面相交的線為第三交線，該第二交面與該第二凸面相交的線為第四交線，該第二交面到該第二側面的角β 的範圍是：0度<β <90度，該角α的開口方向與該角β的開口方向相對，該第一接觸面的長度不大於該第二交線與該第四交線之間的距離且該第二接觸面的長度大於該第二交線與該第四交線之間的距離，該通孔設置於該第二交線、第四交線在該第二側面上的正投影之間。
3. 如申請專利範圍第1項所述之測量裝置，其中該第一凸塊具有與該第二側面平行的第一凸面及連接該第二側面、該第一凸面的第一交面，該第一交面與該第二側面相交的線為第一交線，該第一交面與該第一凸面相交的線為第二交線，該第一交面到該第二側面的角α 的範圍是：90度≦α <180度，該第二凸塊具有與該第二側面平行的第二凸面及連接該第二側面、該第二凸面的第二交面，該第二交面與該第二側面相交的線為第三交線，該第二交面與該第二凸面相交的線為第四交線，該第二交面到該第二側面的角β 的範圍是：90度≦β <180度，該角α的開口方向與所述角β的開口方向相對，該第一接觸面的長度不大於該第一交線與該第三交線之間的距離且該第二接觸面的長度大於該第二交線與該第四交線之間的距離，該通孔設置於該第一交線與該第三交線之間。
4. 如申請專利範圍第2項或第3項所述之測量裝置，其中該擋塊具有螺絲孔，且該螺絲孔穿透至該通孔，一螺絲可旋入該螺絲孔直至到達該套筒以固定該千分錶。
5. 如申請專利範圍第4項所述之測量裝置，其中該千分錶為兩個，該擋塊相應的具有兩個該通孔。
6. 如申請專利範圍第4項所述之測量裝置，其中該承載台還包括基板，該基板為長方體，該擋塊固定於該基板的上表面，且該擋塊的該第一側面與該基板的一個側面位於同一平面內。
7. 如申請專利範圍第6項所述之測量裝置，其中該基板的第一表面光滑且平整。
8. 如申請專利範圍第7項所述之測量裝置，其中該承載台還包括保持塊，該保持塊固定於該基板的第一表面上，且與該第一凸面及該第二凸面垂直。
9. 如申請專利範圍第8項所述之測量裝置，其中該承載台還包括兩個該保持塊，其各自固定於該基板的第一表面上，且對應的與該第一凸面及該第二凸面垂直，該兩保持塊之間的距離不小於該第二接觸面長度。