TWI287127B - Two-photon absorption generated carrier lifetime reduction in semiconductor waveguide for semiconductor based Raman laser and amplifier - Google Patents

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Description

1287127 九、發明說明： I：發明戶斤肩之技術領域3 發明領域 本發明的實施例概括有關光學部件，且更特別有關但 5 不限於有關以半導體為基礎之光學放大及雷射。 L先前技術3 發明背景 隨著網際網路數據流量增加速率超越語音流量而推動 對於光纖通信的需求，對於快速及有效率以光學為基礎的 10技術之需求係增高。在密集波長劃分多工(DWDM)系統中 相同光纖上之多重光學通路的傳輸係提供了 一使用光纖所 提供的前所未有產能(信號頻寬)之簡單方式。系統中常用的 光學組件係包括雷射、光學放大器、WDM發送器及接收器 、諸如衍射光栅、薄膜濾器、光纖布萊格(Bragg)光柵、陣 15列式波導光栅等光學濾器及光學加入/刪除多工器。 雷射係為經由經刺激發射來發光及產生具有從紅外線 至紫外線頻譜的同調性光束且可使用在廣泛應用中之為人 所燕知的部件。在光學通信或網路應用中，可使用半導體 雷射來產生光或光束而可在其上編碼或傳輸資料或其他資 20 訊。 【韻^明内容】 本發明係為一種裝置，包含··光學波導，其配置於半 ‘體材料中；及_二極體結構，其配置於該光學波導中， 該光學波導將被輕合至一泵雷射以接收-具有-第-波長 1287127 及一第一功率位準之第一光束以導致該半導體波導中之一 第二波長的一第二光束之發射，該二極體結構將被偏壓以 從該光學波導掃出回應該光學波導中兩光子吸收所產生的 自由載體。 5 本發明亦為一種方法’包含：將一第一波長及一第一 功率位準的一第一光束導引至一半導體材料中所界定之一 光學波導内；以具有足以造成該第二光束發射的第一功率 位準之該第一光束來造成該光學波導中一第二波長的一第 二光束之發射；及從該光學波導掃出回應該光學波導中的 10 兩光子吸收所產生的自由載體。 本發明又為一種系統，包含：一泵雷射，用以產生一 具有一第一波長及一第一功率位準的第一光束；一光學部 件，其包括一配置於半導體材料中的光學波導，該光學部 件進一步包括一配置於該光學波導中的二極體結構，該光 15 學波導係光學性耦合以接收該第一光束，該第一光束的第 一功率位準係足以造成該光學波導中一第二波長的該第二 光束之發射，該二極體結構將被偏壓以從該光學波導掃出 回應該光學波導中兩光子吸收所產生的自由載體；一光學 接收器，其光學性耦合以從該光學部件接收該第二光束； 20 及一光纖，其光學性耦合於該光學部件與該光學接收器之 間以光學性耦合該光學接收器來從該光學部件接收該第二 光束。 本發明係為一種裝置，包含：光學波導，其配置於半 導體材料中；及一二極體結構，其配置於該光學波導中， 1287127 該光學波導將被耦合至一泵雷射以接收一具有一第一波長 及一第-功率位準之第-光束以導致該半導體波導中之二 第二波長的一第二光束之經刺激拉曼散射，該二極體結構 將被偏壓以降低回應該光學波導中兩光子吸收所產生之該 5 光學波導中的自由載體數。 圖式簡單說明 參照圖式來描述本發明的非限制性及非窮舉性實施 例，除非另外指明，其中類似的編號係指各圖中的類似 元件。 10 第1圖為顯示根據本發明的一實施例之一以半導體為 基礎的經刺激拉曼散射(SRS)雷射之方塊圖； 第2A圖為根據本發明的教導之一包括一Ρ_Ι-Ν二極體 結構以降低半導體波導中因兩光子吸收所產生的載體壽命 之半導體波導之俯視圖； 15 第2Β圖為根據本發明的教導之一包括一 Ρ-Ι-Ν二極體 結構以降低半導體波導中因兩光子吸收所產生的載體壽命 之半導體波導之橫剖視圖； 第3圖為根據本發明的教導考慮到線性波導損失之一 具有不同載體菁命之石夕波導的一實施例之模型模擬淨拉曼 20 增益的圖式， 第4圖為顯示一藉由一輸入泵雷射所激勵之波導的一 實施例之測量得的拉曼增益頻譜之圖式； 第5圖為颁示根據一實施例之觀察得的拉曼增益vs•根 據本發明的教導之泵功率之圖式； 1287127 第6圖為顯示根據本發明的教導之身為泵強烈度(pump intensity)的一函數之一實施例中測量得的拉曼增益及波導 損失的比較之圖式； 第7圖為顯示根據本發明的教導之用於一波導的一實 5施例之一短脈衝泵探針測量的圖式； 第8圖為顯示根據本發明的教導之用於一波導的另一 實施例之一短脈衝泵探針測量的圖式； 第9圖為顯示根據本發明的教導之一配置於一矽晶絕 緣體晶圓中之光學波導的另一實施例的圖式； 10 第10圖為顯示根據本發明的教導沿著一波導的一實施 例隨著時間經過之-脈衝式泵雷射的強烈度輪廓之圖式； 第11圖為顯示根據本發明的教導之一波導的一實施例 中由於一脈衝式泵雷射所產生的一載體密度輪廓之圖式； 第12圖為顯示根據本發明的教導之受到一具有各種不 15同脈衝寬度的脈衝雷射所激勵之一波導的一實施例的一載 體密度輪廓之圖式； 第13圖為顯示根據本發明的教導身為時間的一函數之 來自一波導的一實施例之一測量得的信號輪廓的圖式； 第14圖為顯示根據本發明的教導在一波導的一實施例 20中身為時間的-函數之模擬探針信號輪廓的圖式； 第15圖為顯示根據本發明的教導用於一波導的一實施 例身為泵強烈度的一函數之淨拉曼增益的圖式； 第16圖為顯示根據本發明的教導之一包括一pN接面二 極體、、Ό構以p牛低半導體波導中因兩光子吸收所羞生的載體 1287127 壽奴半導體的1施例之橫别祝圖； 第17圖為顯示根據本發明的教導之一包括一PN接面二 極體結構以降低半導體波導中因雨光子吸收所產生的載體 竒命之半導體波導的一實施例中電子及電洞的漂移速度之 5圖式； 第18圖為顯示根據本發明的教導之一具有一 MSM蕭 特基(Schottky)〜極體結構以降低半導體波導中因兩光子 • 吸收所產生的栽體壽命之半導體波導的一 實施例之橫剖視 圖； 10 第19圖為龜~ $根據本發明的實施例之一包括一光學部 件之系統的方，其巾該光學部件係採用—以半導體為 基礎的拉曼雷射^ ' C實方包方武】 較佳實施例之詳細說明 15 紐明係揭露用崎低供以半導體為基礎的拉® ·射 用之-半導體波導中因兩光子吸收所產生的載體壽=二 法及裝置。下文描述中，提供許多特定細節以供徹底瞭解 本發明。然而’-般熟習該技術者顯然瞭解，不需採用特 定細節來實行本發明。其他案例中，並未描述熟知的材料 2〇 或方法以免模糊本發明。 在此說明書全文中提及“一項實施例，，或實施例，，時 ’係指連同該實施例所描述的—特定特性、結構或特徵被 包括在本發明的至少-實施例中。因此，此說明書全文^ 各處出現的“―項實施例中，，或“一實施例中，，用語未必皆指 1287127 同一實施例。尚且，特定特性、結構或特徵可在一或多項 實施例中以任何適當方式合併。此外，可得知此處所提供 的圖式對於一般熟習該技術者僅供說明甩而圖式未必依實 際比例繪製。 5 第1圖顯示根據本發明的一實施例之一包括半導體材 料103之光學部件1〇1，其上配置有一以矽為基礎的經刺激 拉曼散射(SRS)雷射。一實施例中，利用一供半導體材料1〇3 用的石夕基材來實行光學部件101。一實施例中，半導體材料 103係為一矽晶絕緣體(SOI)晶圓的一部分。如所描繪實施 10例中顯示，光學部件101係包括一泵雷射105，其產生一具 有呈第一功率位準的第一波長λΡ之第一光束117。一實施例 中，泵雷射係為一用以產生一連續波雷射束之連續波雷射 。另一貫施例中，泵雷射105係為一用以產生一脈衝式雷射 束之脈衝雷射。光束117係經由半導體材料1〇3中所界定的 15 一第一光學波導107導引自泵雷射1〇5。 一實施例中，一波長選擇性光學耦合件1〇9係被耦合以 在光學耗合件1〇9的兩輸入部之—者處接收光束11?。如第i 圖的實施例所示，光學麵合件109係包括配置於半導體材料 1〇3中之第_光學波導1()7及第二光學波導ηι。—絕緣區 20 121配置於光學波導浙與U1之間以提供一耦合區於光學 波導107及m之間_半導騎_3中。此實施例中，光 學部件101料料導且u料料1G?及⑴係各實行 於一石夕基材中藉以具有石夕核心。其他實施例中，這些波導 可具有—自—或多種不同材料形成之核心。 10 1287127 為了解釋用，如第1圖所示，光學耦合件109的第一輸 入及第一輸出係分別對應於光學耦合件109的第一光學波 導107部之輸入及輸出。類似地，光學耦合件1〇9的第二輸 入及第二輸出係分別對應於光學耦合件109的第二光學波 5 導111部之輸入及輸出。 第1圖所描繪的貫施例中’光學麵合件109的第二輸出 係光學性搞合回到光學搞合件109的第一輸入，其界定了半 導體材料103中的一第一環共振器137。操作中，第一光束 117經由第一光學波導1〇7被接收於光學輕合件的第一 10 輸入處。如下文更詳細地討論，光學耦合件109係具有波長 選擇性且因此自第一光學波導107將波長λΡ的第一光束J17 經由第二光學波導111轉移至光學耦合件109的第二輸出。 為此，第一光束117經由第二光學波導111傳播於環共振器 137周圍。 15 根據本發明的教導，泵雷射1〇5係提供一光學泵信號用 以產生自發性拉曼散射且經由經刺激拉曼散射（SRS)來放 大一選定頻率的拉曼信號。當SRS發生於媒體中時，泵信號 的部分能量係轉換成一不同頻率的光。此頻率差異或移位 稱為拉曼頻率移位。 >〇 - 因此，圖示實施例中，泵雷射105經由第一光學波導107 以波長λρ的第一光束117輸出泵信號。第一光束117係被轉 移以傳播於環共振器137周圍。如下文更詳細地討論，一實 &例中’第一光束117的功率位準係足以造成壞共振器137 中一苐二波長λ5的一第二光束119之發射。 1287127 一以波長λρ泵送之材料SRS增益係數的數值可由等式J 求出： g = 1 6^c2S Ι〇ιω8\s2 (N0 + 1)Γ) --(1) 其中S為自發拉曼散射係數(與成正比），匕為蒲朗克 5韦數’仏為處於司多克斯(Stoke’s)頻率之波導核心材料的折 射率’ CDS為發射的角頻率，n〇為玻色(Bose)因數而Γ為位於 司多克斯(Stoke)線的一半最大值之全寬的一半： 因此，一實施例中，傳播於環共振器137周圍之第二光 束119的第二波長心係對應於一大致等於第一光束117的第 階司多克斯頻率之頻率。操作中，第二光束H9係經由第 一光學波導111被接收於光學耦合件1〇9的第二輸入處。 如上述’光學耦合件1〇9在一實施例中係設計為具有波 長選擇性以使光學耦合件1〇8的第二輸入處接收之第二光 束119的一顯著部分經由第二光學波導111自光學耦合件 15⑺9的第二輸出加以輸出。結果，第二光束119的一顯著部 分係重新流通於環共振器137中且因此繼續經由第二光學 波導111傳播於環共振器137周圍。由於第二光束119隨著泵 ^號傳播’第一光束，經過環共振器137，第二光束119在 每共振器中經由SRS被放大。此外，亦可描述雷射係發生於 2〇 %共振器137中且其中環共振器137的媒體作為一當第二光 束119重新流通於環共振器ι37周圍時刺激其發射之雷射媒 體。結果’根據本發明的教導第二光束119係被放大且第二 光束119的一洩漏部分經由第一光學波導1〇7自光學耦合件 109的第一輸出予以輸出。 12 1287127 因此，泵光束117係作為一泵束以引發光學部件l〇lt 的拉曼增益且產生半導體材料中的光放大及雷射，該半導 體材料根據本發明的實施例譬如為矽。在對於光學通信頻 帶之1.3至1.6微米的波長範圍中，矽展現出身為第三階非線 5 性光學效應之顯著的兩光子吸收(TPA)。一般而言，因為一 光子能量小於矽的能帶間隙，故可忽略線性吸收。然而， 在譬如連續波激勵中之高光學泵強烈度中，TPA係在石夕中 產生自由載體且因此對於泵及拉曼信號束兩者引發額外的 光學吸收。即便當具有高的泵強烈度時亦即原本預期拉曼 10增益將隨著泵強烈度增高而增大時，這仍可降低或消除矽 波導中的淨光學增益。 在出現TPA及TPA引發之自由載體吸收兩者時，可預期 具有輸出泵強烈度對於輸入強烈度之非線性依存性。例如 ，模型模擬及實驗顯示，對於譬如具有1.5平分微米有效核 15心區域的501中之一5公分長的矽波導，載體壽命約為23奈 秒(ns)。由於光子產生的自由載體密度依據泵強烈度及有效 載體壽命兩者而定，根據本發明的實施例，減少載體壽命 將降低由TPA引發的自由載體損失。因此，根據本發明的 教導可獲得一較大拉曼增益且終將產生矽拉曼雷射。 20 一貫施例中，採用一反向偏壓的P-I-N半導體波導來降 低TPA引發的自由載體密度以幫助達成拉曼雷射。根據本 發明的實施例使用P小N二極體結構中的反向偏壓來加速 半導體波導區中的載體。橫越光學模式區之載體令轉時間 或命命係決定了 TPA引發的載體密度。 13 1287127 為了示範，第2A圖顯示根據本發明的教導之一光學波 導211的俯視圖之另一實施例。第26圖顯示根據本發明的實 施例之光學波導211的橫剖視圖之一實施例。一實施例中， 波導211係為一矽肋波導且可對應於第1圖的第二光學波 5導111，但未必侷限於第1圖的實施例所示之環共振器結構 。因此，根據本發明的教導，波導211在一實施例中可為 一環共振益，或在另一實施例中，波導211未必限於一環 共振器。 譬如’在波導211並非環共振器之另一實施例中，波導 10 211係可譬如包括布萊格光栅247及249且在波導211中其間 具有一反向偏壓的P-I-N二極體結構。此實施例中，布萊格 光栅247及249係具有大致等於第二光束219波長Xs之一布 萊格波長以導致第二光束219的顯著高反射率。結果，第二 光束229反射來回於布萊格光柵247及249之間以根據本發 15明的教導使第二光束219的雷射及/或放大在布萊格光栅 247與249之間發生於波導211中。另一實施例中，二色性塗 層可放置在波導211的斷面上而藉由反射第二光束219的一 特定波長產生與布萊格光柵247及249類似的結果。在波導 211身為環共振器之另一實施例中，未必需要二色性塗層及 20 /或布萊格光栅247及249。 第2B圖顯示波導211在一實施例中係為一肋波導，其包 括一肋區239及一板片區241。一實施例中，波導211的半導 體材料係包括在經過波導211的一光徑或光學模式218外側 於板片區241相對側向側上配置有一 p+摻雜區243及一 n+摻 14 1287127 雜區245之本徵石夕。-實施例中，p+捧雜區撕係搞合至地 極而n+摻㈣合至vw根據本發明的教導使所產生 的P-I-N二極體結構適可被反向偏壓。一實施例中，％小於 所產生的P-I-N二極體結構的崩潰電壓。 5 —貫施例中，波導211的肋區239係具有寬度W=1.5微米 波導211具有同度H=1.35微米、及〇6微米的餘刻深度。 如所描繪實施例顯示，在p+摻雜區243與n+推雜區245之間 具有6微米的分隔距離。一實施例中，根據本發明的教導， 具有6微米分隔距離之p+摻雜區243及一 n+摻雜區2衫幾乎 10 不提供額外的光學損失。 藉由橫越p+摻雜區243及n+摻雜區245的高反向偏壓， 根據本發明的教導，光產生的自由載體係被快速地掃出波 導211以降低波導211中的自由載體數。譬如，對於約比電 洞飽和速度更小二倍之3χΐ〇6公分/秒的載體速度，根據本發 15明的貫施例，對於一光學波導可獲得約0.2 ns的一中轉時間 。一實施例中，此降低的中轉時間約比不具有反向偏壓時 更短了兩個數量級。 第3圖顯不根據本發明的教導考量到線性波導損失 (0.22分貝/公分）、TPA及TPA引發的自由載體吸收之一具有 20不同載體哥命之矽波導的一實施例之模型模擬的淨拉曼增 盈。若無反向偏壓，具有長的載體壽命(〜23 ns)且當具有低 的波導散射損失（〜〇·22分貝/公分）時大致並無淨拉曼增益 。然而，當根據本發明的教導壽命被反向偏壓所降低時， 由於較小的光產生自由載體密度而獲得淨拉曼增益。譬如 15 1287127
’如第3圖所示，根據本發明的教導如果中轉時間為〇 nS ，在一實施例中對於200毫瓦特/平分微米可以達成約〇·5分 貝/公分的一拉曼增益。 第4圖顯示具有600毫瓦特輸出泵功率之一 5公分長波 5導之測量得的拉曼增益頻譜。如圖所示，獲得一約2分貝峰 值拉曼增益。第5圖顯示由於ΤΡΑ引發的自由載體吸收所觀 察到之拉曼增益飽和。如圖所示，藉由約9〇〇毫瓦特的一泵 輸入來達成一約2.3分貝的增益。第6圖顯示身為泵強烈度 的一函數之測量得的拉曼增益及波導損失之比較。可如第4 10 、5及6圖得知，ΤΡΑ引發的自由載體吸收係為在矽中達成 淨拉曼增益之一限制因素。因此，根據本發明的教導，降 低載體壽命係為消除此效應之一有效率方式。 請注意，藉由將缺陷及摻雜物導入石夕中亦可縮短載體 壽命。然而，如此一來通常將導入波導額外的光學損失。 15在根據本發明的一實施例之一Ρ-Ι-Ν部件中，根據本發明的 教導因為摻雜區位於光徑或光學模式218外側，線性光學損 失不受Ρ+摻雜區243及η+摻雜區245所影響。此外，對於可 能使用在一供低泵功率拉曼雷射用的一實施例中之一較小 波導，Ρ+及η+分隔距離甚至可能小於上述實施例所綜結之 20 範例的6微米分隔距離。因此，根據本發明的教導在此實施 例中將更進一步降低載體中轉時間。 在上述範例中，採用一反向偏壓的Ρ-Ι-Ν半導體波導來 降低ΤΡΑ引發的自由載體密度以幫助達成使用連續波激勵 之拉曼雷射。另一實施例中，可採用一短脈衝泵來降低ΤΡΑ 16 1287127 引七的自由載體逸、度以幫助達成拉曼雷射。例如，因為一 短脈衝泵的泵強烈度只存活一段短時間間隔，即便當峰值 泵強烈度相同時，累積的自由載體密度仍將比連續波泵中 者更低。因此，根據本發明的教導，相較於一連續波雷射 5 ，使用脈衝式泵雷射之TPA引發的光學損失係降低。 為了不範，第7圖顯示對於一具有16公分波導長度的4 微米波V之一短脈衝泵探針測量。如所描繪實施例顯示， 根據本發明的教導利用一短脈衝泵實現了一約0·8分貝增 益。這代表觀察到的拉曼增益相對於ΤΡΑ引發的自由載體 10吸收損失超越了〇·8分貝。第8圖顯示其中對於一呈現48公 分波導長度的1·5微米波導具有一短脈衝泵探針測量之另 一實施例。如所描繪實施例顯示，根據本發明的教導實現 了一約2分貝增姐。弟7及8圖皆顯示可藉由降低τρΑ引發的 自由載體吸收來獲得真實的淨光學增益，且這終將導致對 15於一類似第1圖所示的環共振器之低損失矽波導腔穴及/或 對於一在兩布萊格光栅之間放置有反向偏壓的ρ_μΝ二極 體結構及/或斷面上的一向性塗層之秒波導之拉曼雷射。 第9圖為根據本發明的教導之一光學波導911之另一實 施例的圖式。一實施例中，光學波導911係為配置於一矽晶 2〇絕緣體曰曰圓中之秒肋波導。一貫施例中，光學波導911係為 一具有小橫剖面的低損失石夕波導，其根據本發明的教導經 由具有降低的光學損失之SRS來提供一淨光學增益。 如第9圖所示，光學波導911的_實施例係包括一肋區 939及一板月區94丨。一實施例中，光學波導911係利用標準 17 1287127 光微影圖案化及反應性離子蝕刻技術製作於一輕微P接雜 石夕晶絕緣體(SOI)基材的（100)表面上。一實施例中，S〇I基 材被包括在一 S0I晶圓中，其包括一埋設絕緣層951及—分 層953。一實施例中，其中包括有光學波導911之輕微p摻雜 5 S01基材係具有小於2xl015公分J的一摻雜濃度。如所推繪 實施例顯示，肋區939約有1.52微米寬度而光學波導911的高 度約為1.45微米，其中蝕刻深度約0.63微米以使板片區具有 _ 約0.82微米高度。為此，光學波導911的一實施例之有效核 心區域對於一處於1.55微米波長被導過光學波導911之光束 10 的TE模式約為丨·57平分微米而對於tm模式約為1.41平方微 米。 因為根據本發明的教導係由光學強烈度來決定拉曼散 射強烈度，光學波導911的相對較小橫剖面係降低所使用的 光學功率以達成一較大的拉曼增益。一實施例中，光學波 15 導係製作在約有4.8公分總長度之SOI晶圓中的一S形曲線 φ 中’其中約有400微米彎折半徑以增加泵探針束互動長度， 轉而導致較大的拉曼增益。光學波導911的直線段係沿著 SOI晶圓的矽之[011]方向予以定向。 一實施例中，光學波導911的線性光學傳輸損失可在低 • 2〇 輸入光功率利用一法布里-裴洛(FP，Fabry-Perot)共振技術 予以特徵化。一實施例中，光學波導911的斷面係被拋光但 未經塗覆以形成一FP腔穴。根據本發明的教導，從測量得 的FR，利用一可調整雷射所產生的邊紋係具有約1β55微米 的波長及以三維有限差異時間分域(FDTD)法為基礎之一模 18 1287127 型模擬的波導/空氣介面反射係數，對於4.8公分長的光學波 導911獲得約0.22分貝/公分的一線性損失且包括彎折損失 。一實施例中，TE及TM模式具有一類似的傳輸損失。一實 施例中，波導斷面被拋光，而一防反射塗層係施加至兩斷 5 面以對於使用一泵探針技術的SRS增益測量降低夫瑞司諾 (Fresnel)反射損失。 如上述，因為相對較長的載體重組壽命，導因於連續 波(CW)激勵之矽中的TPA係可包括一顯著量的自由載體。 由於自由載體電漿散佈效應，這些光產生的自由載體係引 10 發額外的光學損失。為此，一實施例中，根據本發明的教 導，使用一脈衝式泵雷射而非CW雷射來降低此效應。因此 ，根據本發明的教導，當相對於光學波導911中的載體壽命 具有小的泵脈衝時，在一實施例中，TPA所產生的峰值自 由載體密度顯著地降低。 15 例如，當光學波導911受到一具有強烈度輪廓I(t，z)的雷 射脈衝所激勵時，假設光沿著z方向傳播，TPA引發的自由 載體密度[N(t，z)]係由等式2加以描述： dN(t,z) dt 2hv I2(Uz)- (2) 等式2中，β為TPA係數，hv為一光子能量，τ為載體重 20 組壽命。一實施例中，輸入泵脈衝強烈度輪廓可由一下列 高斯形狀予以描述： 心)=/0 exp(-4 In 21)-…(3) 19 1287127 …中ι〇為峰值強烈度，為脈衝一半最大值之全寬。考 量到ΤΡΑ及ΤΡΑ引發的自由載體吸收(FCA)，可由下列等式 來描述沿著波長的泵強烈度演化： 师，z) 一一 —άΊ = Ζ) - βΐ\ί, z) 〇N it, z)/(i, z)—- (4) 5 其中α為線性吸收係數而σ為自由載體吸收橫剖面。在 1.55微米波長，對於矽而言平方公分。一實施 例中，因為具有小的拉曼轉換效率，可忽略等式4中的泵空 乏效應。此外，因為所使用的脈衝寬度相對較大(〜口⑽)且 波長長度遠短於散佈長度，在一實施例中亦可忽略由於波 10導散佈所致的泵脈衝加寬效應。可由下式來描述波導中的 SRS 信號[Is(t，z)] dls(t,z) dz = -aIs(t9z) --{2β ~ gr)i(t, z)ls (t9 z) ~ oN(t, z)Is (t, z) 〜（5)
其中gr為拉哭增盈係數。在波導輸入處，探針束為 ，亦即is(t，o)為固定。然而，在波導内側，因為脈衝果及t 引發的自由載體密度，探針信號具有時間依存性。 猎由以 等式3所描述的輸入脈衝形狀解出耦合的等式2、4及5 根據本發明的教導獲得矽波導911中由TPA產生之時間與位 置依存性自由載體密度以及泵及探針束傳播性質。 第10圖顯示根據本發明的教導沿著一4.8公分長波導的 一實施例之計算得的泵脈衝演化。一實施例中，使用1〇=5〇 MW/cm2的峰值栗強烈度、T〇=17 ns的脈衝寬度、及卜μ 的載體壽命。TPA係數為β=0.5 cm/GW。第1〇圖所推检的實 20 20 1287127 施例顯示，峰值強烈度及脈衝形狀兩者皆隨著泵脈衝在波 導中傳播而改變。光學衰減係由於線性及非線性光學吸收 所致。泵脈衝形狀的不對稱性係由於光產生的自由載體吸 收效應所致。因為FCA與載體密度成正比，這可從模型模 5擬的自由載體密度輪廓更清楚地看出。第11圖顯示第1〇圖 的實施例中相同泵送條件下沿著波導的z=〇、24及4 8公分 專二個不同位置之載體岔度輪廓。如第11圖所描繪的實施 例顯示，載體密度的時間依存性並不對稱而峰值密度係隨 著泵束沿著波導傳播而減小。峰值載體密度略微在泵強烈 10度抵達最大值之後發生。此係導因於載體產生與衰退程序 之間的競爭所致。 第12圖顯示由一具有各種不同脈衝寬度的脈衝雷射所 激勵處於z=0之一矽波導的自由載體密度輪廓之實施例。如 圖所示，峰值輸入強度為I〇=5〇MW/cm2，TPA係數為β=0·5 15 cm/GW，而載體壽命為ns。如圖所示，第12圖顯示峰 值載體岔度係強烈地依據相同峰值泵強烈度之脈衝寬度而 定。光學脈衝愈窄，則所產生的載體密度愈小。因此，比 起CW激勵而言，可預期τρα引發的FCA對於較窄脈衝係較 小。根據本發明的教導，這將有助於達成矽波導中之淨拉 20 曼增益。 一實施例中，矽波導的SRS可利用泵探針技術加以測量 。此實施例中，一脈衝式泵束及一CW探針束係可由一波長 多工器予以合併並經由安裝在精密對準階段上的一對顯微 物鏡所組成之自由空間模式匹配光學元件耦合至調查中的 21 1287127 波導内。波導的輸出束係由另一物鏡所準直，且利用一光 學濾器來分離泵與探針束。探針束係穿過濾器且在泵束被 濾器阻絕時由一寬頻光偵測器加以偵測。利用光纖偏振控 制器來设定菜及彳朱針束的偏振狀態。一實施例中，藉由測 5 量波導的輸入及輸出功率及將波導損失列入考量來估計進 入波導之耦合效率。 一實施例中對於拉曼增益測量，泵雷射係為具有Tq=17 ns脈衝寬度之以1545奈米操作的一脈衝式雷射，而探針雷 射為具有<1 MHz線寬度之一 CW外部腔穴可調整二極體雷 10射。探針雷射功率為2毫瓦特且其偏振對準於波導的丁“模 式。一實施例中，時間依存性探針信號係對於一給定輸入 泵功率及脈衝寬度在拉叉波長内及其外加以測量。 為了示範，第13圖顯示根據本發明的教導出現具有峰 值泵功率470毫瓦特的一泵脈衝時之一 4·8公分矽波導之測 15量得的探針信號。特定言之，第13圖顯示身為位於拉曼波 長内及其外之時間的一函數之4 8公分長矽波導之一測量 得的探針信號。圖示實施例中，波導内側的峰值果功率為 470毫瓦特而栗波長為L545微米。泵束係受到τε偏振而探 針束受到TM偏振。如幻3圖所示，#探針波長位於拉曼波 20長夕卜(在此例中，gr=0)時，主要因為聚脈衝引發的自由載體 ，探針束經歷額外的光學損失（内外(〇續)損失為〜㈤分 貝）。在探針波長位於拉曼波長之實施例中，具有探針信號 的增加且獲得〜3分貝的内外(.〇ff)增益。此實施例中，内 外(_扣增益(損幻係定義為探針信號峰值（谷值）内與外 22 1287127 的探針信號之間的比值。考量到〇·22分貝/公分的線性波導 損失，對於波導獲得G=2分貝的淨增益。一波導的淨增益〇 係定義為： G = lOlog-^-----(6) hn 5 “及1。1^為處於拉曼波長之波導内側的輸入探針強烈度 及峰值輸出探針強烈度。因此，拉曼增益的波導長度依存 性係隱含地包括在等式6中。 第14圖顯示對於具有T〇=17 ns、I〇=30 MW/cm2及τ=：25 ns的4.8公分長波導之探針信號的一實施例。藉由比較第13 10及14圖所示的實施例可觀察到根據本發明的教導 ’内外增 益及損失以及探針信號輪廓係為一致。 第15圖顯示根據本發明的教導對於一光學波導的一實 施例之身為泵強烈度的一函數之模型模擬及測量得的淨拉 曼增益。如第15圖所示，淨拉曼增益係顯示為對於一4.8公 15分長石夕波導之泵強烈度的一函數。圖示實施例中，所使用 的拉曼增益係為gr=10.5 cm/GW。其他參數為脈衝寬度 T〇=17 ns及載體壽命1=25 ns。 第16圖為顯示根據本發明的教導包括一pn接面二極體 結構以降低半導體波導中因兩光子吸收所產生的載體壽命 20 之一半導體波導1611的一實施例之橫剖視圖。一實施例中 ，波導1611係為一矽肋波導並包括肋區1639及板片區1641 。一實施例中，波導1611係製作在一SOI晶圓上，且其包括 一埋設的氧化物層1651及另一矽層1653。一實施例中，如 23 1287127 第16圖所示，波導1611係包括較高摻雜P+區1643、較低摻 雜P-區1655、較低摻雜N-區1657及較高摻雜區1645。一實 施例中，P+ 1643及N+ 1645係配置於經過波導1611的一光 徑或光學模式外之板片區1641之相對的側向側上。一實施 5 例中，根據本發明的教導，P+區1643可耦合至地極而N+區 1645耦合至一電壓VD藉以在P- 1655與N- 1657之間的介面 於PN接面處具有一反向偏壓以生成一電場於波導1611中故 使光子產生的自由載體被快速地掃出波導1611外以降低波 導1611中的自由載體數。 10 為了示範，第17圖顯示例如第16圖的波導1611等具有 一 P N接面二極體結構之一半導體波導的一實施例中之電子 及電洞的漂移速度。範例實施例中，波導1611係以-5伏特 被偏壓而在P+區1643及N+區1645之間具有6微米的分隔距 離。如所描繪實施例顯示，根據本發明的教導，電子及電 15 洞的漂移速度在波導1611的P+區1643與N+區1645之間經 過光學模式之波導1611部分中係顯著地增加。例如在波導 1611並非本徵性及或具有譬如大於2xl〇15公分摻雜濃度之 情形，此實施例係可有效地移除光產生的自由載體。。 第18圖為顯示根據本發明的教導具有一金屬半導體金 20屬（MSM)結構以降低半導體波導中因兩光子吸收而產生的 載體壽命之一半導體波導1811的一實施例之橫剖視圖。一 實施例中，波導1811係為一矽肋波導並包括肋區1839及板 片區1841。一實施例中，波導1811製作在一SOI晶圓上，其 包括一埋設氧化物層1851及另一矽層1853。一實施例中， 24 1287127 金屬區1843及1845係在經過波導1811之一光徑或光學模式 外配置於板片區1841的相對側向側上。一實施例中，金屬 區1843及1845包括例如但不限於鈦、鎢及金(Tiw/Au)之材 料以使蕭特基二極體結構形成有所產生之MSM結構。一實 • 5施例中，根據本發明的教導，蕭特基二極體為此受到偏壓 以生成一電場於波導1811中使得光產生的自由載體被快速 地掃出波導1811外以降低波導1811中的自由載體數。 _ 第19圖概括顯示根據本發明的實施例之包括泵雷射及 一光學接收器之一系統的一實施例之方塊圖，其具有光學 10部件以提供一以半導體為基礎的拉曼雷射。特定言之，第 19圖顯示光學系統1901包括一泵雷射19〇3以產生一具有第 一功率位準的波長λρ之泵信號或光束1917。 第一光束1917隨後被一光學部件1905接收，光學部件 1905根據本發明的教導在一實施例中包括一拉曼雷射。一 15實施例中，光學部件1905類似於上述拉曼雷射的範例實施 I 例。譬如，光學部件1905可包括一與第i圖的光學波導ιη 、第2圖的光學波導211、第9圖的光學波導911、第16圖的 光學波導1611、或第18圖的光學波導1811或類似物相類似 之光學波導。一實施例中，泵雷射1903位於其中配置有光 20學部件1905之半導體材料1943外部。另一實施例中，泵雷 射1903可配置於其中設有光學部件1905之相同半導體材料 1943中。一實施例中，泵雷射1905為一連續波雷射。另一 實施例中，泵雷射19〇5為一短脈衝雷射。 一貫施例中，光學部件19〇5適可接收第一光束1917並 25 1287127 刺激一波長λδ的第二光束1919之發射。一實施例中，根據 本發明的教導，第一光束1917的功率位準係足以造成經由 SRS及雷射之被包括在光學部件1905中的一光學波導中之 第二光束1919的發射。一實施例中，根據本發明的教導， 5 一光學接收器1907隨後被耦合以接收具有波長、的第二光 束1919 。 一實施例中，第一光束1917受到耦合以經由一光學導 管1939被光學部件1905所接收。一實施例中，第二光束1919 受到耦合以經由一光學導管1941被光學接收器19〇7所接收 10 。一實施例中，根據本發明的教導，光學導管1939及1941 可譬如包括一或多個光纖、光學波導、自由空間或其他適 當的光學導管。 一實施例中，系統1901可被包括在一單電腦系統中而 其中栗雷射1903、一光學部件1905及光學接收器1907被包 15括在電腦系統的一内部組件中。譬如，一實施例中，系統 1901可為一電腦系統，譬如一個人電腦或膝上型電腦，其 中光學部件1905係包括在電腦系統之半導體材料1943所含 的一處理器中而光學接收器19〇7譬如包括在電腦系統的一 諸如視訊控制卡、網路介面卡、記憶體或類似物等内部卡 2〇 1945中。此實施例中，可在被包括於含有光學部件1905之 半導體材料1943中的處理器與含有光學接收器1907之内部 卡1945之間提供光學導通。另一實施例中，系統1901可包 括在一單晶片或晶片組中，其中泵雷射1903及光學接收器 1907係為晶片或晶片組的内部組件。另一實施例中，系統 26 1287127 围可被包括在-通信網路中，其中雷射娜及光學接收 器1907被包括在通信網路的分離組件中。 本發明的圖示實施例之上文描述且包括發明摘要的描 5 10 15 20 述係無意具有窮舉性或侷限於所揭露的碎切形式。如同孰 習該技術者所瞭解，雖然此處基於示範用途描述了本發明 的特定貫施例及範例，可能具有各種不同的等效修改。事 實上可瞭解，基於解釋用途提供了特定的波長、維度、材 料:時間、電壓、功率範圍值等，根據本發明的教導，盆 他實施例中亦可採用其他數值。 八 可鐾於上列詳細描述對於本發明的實施例作出這些終 改。下列申請專利範圍中所使用的用語不應視為將本^ 侷限於說时與巾料·_揭露 a -fch ^ isn 欠只知例。而 疋，其範圍完全由根據申請專利範圍的既有给釋 釋之下列申請專利範圍加以決定。 ’、' 解 【圖式簡單說明】 第1圖為顯示根據本發明的一實施例之一以半導體為 基礎的經刺激拉曼散射(SRS)雷射之方塊圖； — 第2A圖為根據本發明的教導之一包括一Κι — _ 結構以降低半諸波導中因兩光子吸收所產體= 之半導體波導之俯視圖； 第糊為根據本發明的教導之一包括—p_iN二極體 結構以降低半導體波導中因兩光子吸收所產生的載體壽命 之半導體波導之橫剖視圖； 第3圖為根據本發明的教導考慮到線性波導損失之一 27 1287127 具有不同載體壽命之矽波導的〆實施例之模型模擬淨拉曼 增益的圖式； 第4圖為顯示一藉由一輸入泵雷射所激勵之波導的一 貫施例之測量得的拉曼增益頻譜之圖式； 5 第5圖為顯示根據一實施例之觀察得的拉曼增益vs•根 據本發明的教導之泵功率之圖式； 第6圖為顯示根據本發明的教導之身為泵強烈度(PumP intensity)的一函數之一實施例中測量得的拉曼增盈及波導 損失的比較之圖式； 10 第7圖為顯示根據本發明的教導之用於一波導的一實 施例之一短脈衝泵探針測量的圖式； 第8圖為顯示根據本發明的教導之用於一波導的另一 實施例之一短脈衝泵探針測量的圖式； 第9圖為顯示根據本發明的教導之一配置於一石夕晶絕 15 緣體晶圓中之光學波導的另一實施例的圖式； 第10圖為顯示根據本發明的教導沿著一波導的一實施 例隨著時間經過之一脈衝式泵雷射的強烈度輪廓之圖式； 第11圖為顯示根據本發明的教導之一波導的一實施例 中由於一脈衝式泵雷射所產生的一載體密度輪廓之圖式； 第12圖為顯示根據本發明的教導之受到一具有各種不 2〇 同麻衝寬度的脈衝雷射所激勵之一波導的一實施例的一載 體密度輪廓之圖式； 第13圖為顯示根據本發明的教導身為時間的一函數之 來自一波導的一實施例之一測量得的信號輪廓的圖式； 1287127 第14圖為顯示根據本發明的教導在一波導的一實施例 中身為時間的一函數之模擬探針信號輪廓的圖式； 第15圖為顯示根據本發明的教導用於一波導的一實施 例身為泵強烈度的一函數之淨拉曼增益的圖式； 5 第16圖為顯示根據本發明的教導之一包括一PN接面二 極體結構以降低半導體波導中因兩光子吸收所產生的載體 筹命之半導體的一實施例之橫剖視圖； 第17圖為顯示根據本發明的教導之一包括一pn接面二 極體結構以降低半導體波導中因兩光子吸收所產生的載體 10壽命之半導體波導的一實施例中電子及電洞的漂移速度之 圖式； 第18圖為顯示根據本發明的教導之一具有一MSM蕭 特基(Schottky)二極體結構以降低半導體波導中因兩光子 吸收所產生的載體壽命之半導體波導的一實施例之橫剖視 15 圖； 第19圖為顯示根據本發明的實施例之一包括一光學部 件之系統的方塊圖，其中該光學部件係採用一以半導體為 基礎的拉曼雷射。 【主要元件符號說明】 111···第二光學波導 117J917…第一光束 119,219，1919···第二光束 121…絕緣區 137···第一環共振器 101，1905…光學部件 103，1943…半導體材料 105，1903···泵雷射 107…第一光學波導 109…波長選擇性光學耦合件 29 1287127
211,911，1611，1811 …光學波導 218···光徑或光學模式 239,939，1639，1839...肋區 241，941，1641，1841〜板片區 243…P+摻雜區 245-11+摻雜區 247,249···布萊格光栅 951···埋設絕緣層 953，1653，1853 …矽層 1611,1811…半導體波導 1643…P+區 1645···較高摻雜區，N+區 1651，1851···埋設的氧化物層 1655…較低摻雜P-區 1657…較低摻雜N-區 1843，1845···金屬區 1901…光學系統 1907…光學接收器 1939J941··•光學導管 1945···内部卡 FCA···自由載體吸收 gr〜拉曼增益係數 G…波導的淨增益 hv…光子能量 Η…高度 h···蒲朗克常數 I(t，z)···強烈度輪廓 1〇…峰值強烈度 Iin…處於拉曼波長之波導内側 的輸入探針強烈度 …峰值輸出探針強烈度 Is-(t，z)波導中的SRS信號 Ν···(ί，ζ)自由載體密度 Ν〇…玻色(Bose)因數 ns…處於司多克斯(st〇ke，s)頻率 之波導核心材料的折射率 S···自發拉曼散射係數 T〇…脈衝一半最大值之全寬 W…寬度 α···線性吸收係數 β…ΤΡΑ係數 Γ…位於司多克斯(Stoke)線的 一半最大值之全寬的一半 λρ…第一波長 Xs…苐二波長 σ···自由載體吸收橫剖面 τ···載體重組壽命 c〇s···發射的角頻率 30

Claims (1)

12871-¾^ 第094126724號專利申請案申請專利範圍修正本 修正曰期 :95年12月 十、申請專利範圍： [冰年i月/ 田修(屢)正本 ——㈠―」 1. 一種光學裝置，包含：
光學波導，其配置於半導體材料中；及 一二極體結構，其配置於該光學波導中，該光學波 導將被耦合至一泵雷射以接收一具有一第一波長及一 第一功率位準之第一光束以導致該半導體波導中之一 第二波長的一第二光束之發射，該二極體結構將被偏壓 以從該光學波導掃出回應該光學波導中兩光子吸收所 產生的自由載體。 2.如申請專利範圍第1項之裝置，其中該二極體結構包括： 一P+摻雜區，其配置於該光學波導的一側向侧上； 及 一N+摻雜區，其配置於該光學波導的一相對側向側 上0 3. 如申請專利範圍第2項之裝置，其中該二極體結構包括 配置於該等P+摻雜與N+摻雜區之間的本徵半導體材 料。 4. 如申請專利範圍第2項之裝置，其中該二極體結構進一 步包括： 一P-摻雜區，其中配置有該P+摻雜區；及 一N-摻雜區，其中配置有該N+摻雜區。 5. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該二極體結構包括 一金屬-半導體-金屬結構。 6. 如申請專利範圍第5項之裝置，其中該金屬-半導體-金屬 31 1287127 結構包括一蕭特基(Schottky)二極體結構。 7. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該光學波導係被包 括在一配置於該半導體材料中的環共振器中。 8. 如申請專利範圍第1項之裝置，進一步包含第一及第二 反射器，其中該二極體結構在該等第一及第二反射器之 間配置於該光學波導中。
9. 如申請專利範圍第8項之裝置，其中該等第一及第二 反射器包含一或多個布萊格(Bragg)光柵或二色性塗 層。 10. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該二極體結構將被 反向偏壓以降低該光學波導中因兩光子吸收所引發的 自由載體密度。 11. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該泵雷射包括一脈 衝式雷射或一連續波雷射的一者。 12. —種光學傳輸之方法，包含·· 將一第一波長及一第一功率位準的一第一光束導 引至一半導體材料中所界定之一光學波導内； 以具有足以造成該第二光束發射的第一功率位準 之該第一光束來造成該光學波導中一第二波長的一第 二光束之發射；及 從該光學波導掃出回應該光學波導中的兩光子吸 收所產生的自由載體。 13. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該從光學波導掃出 自由載體係包含反向偏壓一包括在該光學波導中之二 32 1287127 極體結構以從該光學波導掃出回應該光學波導中兩光 子吸收所產生的自由載體。 14·如申請專利範圍第12項之方法，其中該從光學波導掃出 自由載體係包含偏壓一包括在該光學波導中之PN接面 結構以從該光學波導掃出回應該光學波導中兩光子吸 收所產生的自由載體。
15. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該從光學波導掃出 自由載體係包含偏壓一包括在該光學波導中之P-I_N接 面結構以從該光學波導掃出回應該光學波導中兩光子 吸收所產生的自由載體。 16. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該從光學波導掃出 自由載體係包含偏壓一包括在該光學波導中之金屬-半 導體-金屬結構以從該光學波導掃出回應該光學波導中 兩光子吸收所產生的自由載體。 17. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該造成光學波導中 第二波長的第二光束之發射係包含流通該第二光束於 一包括該光學波導之環共振器周圍以進一步刺激該光 學波導中第二光束的發射。 18. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該造成光學波導中 第二波長的第二光束之發射係包含反射該第二光束於 包括在該光學波導中之第一及第二反射器之間以進一 步刺激該光學波導中第二光束的發射。 19. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該將第一波長及第 一功率位準的第一光束導引至光學波導内係包含將一 33 mini 脈衝式雷射束導引至該光學波導内。 20. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該將第一波長及第 一功率位準的第一光束導引至光學波導内係包含將一 連續波雷射束導引至該光學波導内。 21. —種光學系統，包含： 一泵雷射，用以產生一具有一第一波長及一第一功 率位準的第一光束；
一光學部件，其包括一配置於半導體材料中的光學 波導，該光學部件進一步包括一配置於該光學波導中的 二極體結構，該光學波導係光學性耦合以接收該第一光 束，該第一光束的第一功率位準係足以造成該光學波導 中一第二波長的該第二光束之發射，該二極體結構將被 偏壓以從該光學波導掃出回應該光學波導中兩光子吸 收所產生的自由載體； 一光學接收器，其光學性耦合以從該光學部件接收 該第二光束；及 一光纖，其光學性耦合於該光學部件與該光學接收 器之間以光學性耦合該光學接收器來從該光學部件接 收該第二光束。 22. 如申請專利範圍第21項之系統，其中該二極體結構包括： 一P+摻雜區，其配置於該光學波導的一侧向側上； 及 一N+摻雜區，其配置於該光學波導的一相對側向 側上。 34 1287127 23. 如申請專利範圍第22項之系統，其中該二極體結構係包 括配置於該等P+摻雜與N+摻雜區之間的本徵半導體材 料。 24. 如申請專利範圍第22項之系統，其中該二極體結構進一 步包括： 一P-摻雜區，其中配置有該P+掺雜區；及 一N-摻雜區，其中配置有該N+摻雜區。
25. 如申請專利範圍第21項之系統，其中該二極體結構包括 一金屬_半導體-金屬結構。 26. 如申請專利範圍第25項之系統，其中該金屬-半導體-金 屬結構包括一蕭特基(Schottky)二極體結構。 27. 如申請專利範圍第21項之系統，其中該光學波導係被包 括在一配置於該半導體材料中的環共振器中 28. 如申請專利範圍第21項之系統，進一步包含第一及第二 反射器，其中該二極體結構在該等第一及第二反射器之 間配置於該光學波導中。 29. 如申請專利範圍第21項之系統，其中該二極體結構將被 反向偏壓以降低該光學波導中因兩光子吸收所引發的 自由載體密度。 30. 如申請專利範圍第21項之系統，其中該泵雷射包括一脈 衝雷射或一連續波雷射的一者。 31. —種光學裝置，包含： 光學波導，其配置於半導體材料中；及 一二極體結構，其配置於該光學波導中，該光學波 35 1287127 導將被耦合至一泵雷射以接收一具有一第一波長及一 第一功率位準之第一光束以導致該半導體波導中之一 第二波長的一第二光束之經刺激拉曼散射，該二極體結 構將被偏壓以降低回應該光學波導中兩光子吸收所產 生之該光學波導中的自由載體數。 32. 如申請專利範圍第31項之裝置，其中該二極體結構包括： 一P+摻雜區，其配置於該光學波導的一側向側上； 及
一N+摻雜區，其配置於該光學波導的一相對側向 側上。 33. 如申請專利範圍第32項之裝置，其中該二極體結構包 括配置於該等P+摻雜與N+摻雜區之間的本徵半導體 材料。 34. 如申請專利範圍第32項之裝置，其中該二極體結構進一 步包括： 一P-掺雜區，其中配置有該P+摻雜區；及 一N-摻雜區，其中配置有該N+摻雜區。 35. 如申請專利範圍第31項之裝置，其中該二極體結構包括 一金屬-半導體-金屬結構。 36. 如申請專利範圍第35項之裝置，其中該金屬-半導體-金 屬結構包括一蕭特基(Schottky)二極體結構。 37. 如申請專利範圍第31項之裝置，其中該光學波導係被包 括在一配置於該半導體材料中的環共振器中。 38. 如申請專利範圍第31項之裝置，進一步包含第一及第二 36 1287127
反射器，其中該二極體結構在該等第一及第二反射器之 間配置於該光學波導中。 39. 如申請專利範圍第38項之裝置，其中該等第一及第二反 射器包含一或多個布萊格(Bragg)光栅或二色性塗層。 40. 如申請專利範圍第31項之裝置，其中該泵雷射包括一脈 衝式雷射或一連續波雷射的一者。 37
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7266258B2 (en) 2004-05-28 2007-09-04 Intel Corporation Two-photon absorption generated carrier lifetime reduction in semiconductor waveguide for semiconductor based raman laser and amplifier
US20060050744A1 (en) * 2004-07-20 2006-03-09 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Enhanced raman amplification and lasing in silicon-based photonic crystals
WO2006042239A2 (en) * 2004-10-06 2006-04-20 The Regents Of The University Of California Cascaded cavity silicon raman laser with electrical modulation, switching, and active mode locking capability
US7421200B2 (en) 2004-12-09 2008-09-02 Intel Corporation Reduced loss ultra-fast semiconductor modulator and switch
JP2008526003A (ja) * 2004-12-24 2008-07-17 ピレリ・アンド・チ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ ゲルマニウムオンシリコンの光検出器
US7340143B2 (en) * 2006-01-20 2008-03-04 Intel Corporation Semiconductor Raman variable optical attenuator/amplifier and equalizer
US7489439B2 (en) 2006-09-12 2009-02-10 Intel Corporation Semiconductor Raman ring amplifier
US8019185B2 (en) * 2008-02-14 2011-09-13 Hrl Laboratories, Llc Unit-cell array optical signal processor
JP4870706B2 (ja) * 2008-03-26 2012-02-08 日本電信電話株式会社 光双安定素子及びメモリ安定化方法
US8334797B1 (en) 2010-04-20 2012-12-18 Hrl Laboratories, Llc Wideband high resolution time-stretched photonic analog-to-digital converter
US8588570B2 (en) 2010-09-30 2013-11-19 Intel Corporation Two-photon-absorption-based silicon waveguide photo-power monitor
TWI443395B (zh) * 2011-06-24 2014-07-01 Univ Nat Central Structure of low - loss optical coupling interface
EP2549311B1 (en) * 2011-07-19 2014-09-03 Huawei Technologies Co., Ltd. Deep-shallow optical radiation filters
KR101691854B1 (ko) 2011-09-29 2017-01-02 인텔 코포레이션 평면 포토닉스 회로를 위한 수직형 광 커플러
US20140185980A1 (en) * 2012-12-31 2014-07-03 Futurewei Technologies, Inc. Silicon-On-Insulator Platform for Integration of Tunable Laser Arrays
JP2014165292A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 Hitachi Ltd 発光素子及びその製造方法並びに光送受信器
EP2811593B1 (fr) * 2013-06-07 2016-04-27 Alcatel Lucent Dispositif d'émission laser accordable
US9438263B1 (en) 2014-05-02 2016-09-06 Hrl Laboratories, Llc Controllable opto-electronic time stretcher, an electro-optical analog to digital converter having non-uniform sampling using the same, and related methods of operation
GB2580260B (en) * 2017-08-22 2023-01-25 Rockley Photonics Ltd Schottky photodetector
CN108226123B (zh) * 2017-12-12 2021-02-23 华南师范大学 一种飞秒激光制备表面增强拉曼散射基底的方法
GB201722292D0 (en) 2017-12-29 2018-02-14 Oclaro Tech Ltd Negative bias to improve phase noise
JP7124501B2 (ja) * 2018-07-09 2022-08-24 株式会社デンソー 波長選択フィルタ
US11614672B2 (en) 2020-10-06 2023-03-28 The Boeing Company Optical waveguide structure with triple partially overlapping loops
US20240005142A1 (en) * 2020-11-04 2024-01-04 Soreq Nuclear Research Center Method and apparatus for performing neural networks computation using optical elements

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0228434B1 (en) * 1985-06-19 1990-12-27 BRITISH TELECOMMUNICATIONS public limited company Optical coupling assembly
US5754714A (en) * 1994-09-17 1998-05-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor optical waveguide device, optical control type optical switch, and wavelength conversion device
AU6646598A (en) * 1997-01-02 1998-07-31 Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Stable nonlinear mach-zehnder fiber switch
US6563627B2 (en) * 2001-04-06 2003-05-13 Sung-Joo Ben Yoo Wavelength converter with modulated absorber
US7787176B2 (en) * 2001-09-04 2010-08-31 Massachusetts Institute Of Technology On-chip optical amplifier
EP1318579A1 (en) * 2001-12-10 2003-06-11 Corning Incorporated Multi-wavelength raman laser
US7092609B2 (en) * 2002-01-31 2006-08-15 Intel Corporation Method to realize fast silicon-on-insulator (SOI) optical device
US6999670B1 (en) * 2002-08-27 2006-02-14 Luxtera, Inc. Active waveguides for optoelectronic devices
US6888667B2 (en) * 2002-11-08 2005-05-03 Intel Corporation Method and apparatus for silicon-based optically-pumped amplification using stimulated scattering
US7266258B2 (en) 2004-05-28 2007-09-04 Intel Corporation Two-photon absorption generated carrier lifetime reduction in semiconductor waveguide for semiconductor based raman laser and amplifier
US7421200B2 (en) 2004-12-09 2008-09-02 Intel Corporation Reduced loss ultra-fast semiconductor modulator and switch

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