TWI241402B - System and method for imaging of coated substrates - Google Patents

Description

1241402 玖、發明說明： 【聲明：聯邦贊助研究/發展】 美國政府本發明中具有已付款執照，並且在有限條件 下有權要求該專利擁有者以合理條件發照給其他者，且該 條件就如SERDP所授與之合約第DACA 72-99-C-0011號之 條件。 【發明所屬之技術領域】 本發明係大致相關於塗覆的基板之分析，且更特別地 係相關於一用於反映一基板表面之影像的系統及方法，且 該基板係被塗覆有用於㈣生鏽、坑洞、錢、細裂、刮 痕及其他結構缺陷之塗膜。 [先前技術】 飛行器零件係受限於由於環境條件所產生之經常退化 介比如水氣、灰埃、風、太陽輕射以 生錄或腐㈣式的損害。雖然比如油漆之： 復用以大量地減少這此問韻 們。更甚而^ 其典型料能完全消除它 門更甚而，在飛行期間所經歷之屮如懕*夕甘 造成油漆塗覆不能減· ，、他原因能 缺陷之形式可被預料到㉟雖然化些 .^ 1一任何給定之飛行器零件之m於 速率係兩度地依賴於該飛行器之 境。此在飛行器維修站可明 、兄及-操作的環 乃”、、員看出，宜中維旅» 〇 , 機會觀察兩類似製造及年 /、、…貝“有 干己之灰仃器。在許多情況下，零 1241402 件的替換和維修之需求對於―如此飛行器係、遠大於另 。要依賴決定何時一飛行器需維修之計劃性維修時程是不 實際的。確定該飛行器已準備好飛行之唯—有效方 過週期檢查。 使用傳統方法，飛行器零件之檢查係經由視覺檢查方 法而完成。當視覺檢查飛行器零件時，則被用來保護該史 件之塗覆將變成障礙物，此乃因其可能隱蔽在其底下之二 構缺陷。因而有必要在完成—合適檢查之前去除該零件了 組件或飛行器以檢查它的油漆。之後，必須施加一新塗覆 油漆。顯然地，此一處理造成在人工及材質上之大量花費 :二：繼，需要大量的時間。已經估計出一飛行器將 化、命之十二百分比在—些維修或檢查形式上，並且 每年花費數十億s在飛行器維修上。&了視覺檢查之無效 率外，另-問題是視覺檢查不僅如所需之有效率的事實。 雖然-有經驗之眼睛可以-滿^之—致性程度檢取大部 份人類可覺出之缺點’但-些缺點可以非常小或位於該零 件之录面底下。在穴部份況下這些缺點將被人類裸眼不注 意地通過，而不論該觀察者之技巧及經驗。故因而有必要 發明出一種用於分析飛行器零件損害之方法而不需要從該 零件除去油漆或不需要依賴於單獨人類眼睛而$。一些發 明提供可能解決該問題之方式。 一又 -種如此發明係被描述在Elllng_等人之美國專利 公告第5,426,5〇6號中，其名稱為"用於在密集陶曼中之 偵測表面及接近次表面缺點之光學方法及裝置，，。在此所 1241402 述之t明係利用一波長之雷射，其被計算成可穿過即將被 y刀析之物體之表面。該雷射係在未被該物體反射之前穿過 一極化器’並且穿過一第二極化器。當撞擊該物體時，撞 擊不規則性之部份光係以一偏轉極性來反射，但撞擊規則 特徵之部份係以其原先極性反射。該第二極化器係被架構 成偵測此一差異，並且該系統產生一反射它之影像。為了 產生一面積之一影像，即將被分析之物體係被固持至一能 夠平移以及/或旋轉以及被一電腦或類似裝置所控制之承 載物。該物體係大約在該雷射束下移動，以被掃描。此一 系統之最明顯缺點便是，為了完成面積分析，—馬達化承 載物必須被使用。如此顯然排除了一手持單元之可能性， 並且該系統在當被施加至零件時或已被承載在飛行器上之 組件時將是極不實際。 另一明顯缺點即是該方法並不被用來看出在有機塗覆 下之表面以及該雷射光之波長將不會穿透塗覆或聚合物。 一第二相關發明係被揭露在Sraith等人之美國專利公

紅外線偵器能接著被用來偵測

為有各種理由，關於加熱將被分析物體 故匕們能因而被分辨出。 描之物體必須被加熱。因 析物體之方法並不理想。 1241402 例如，具有一油漆塗覆之飛行器的一熱保護零件將會產生 —對於此系統之特定問題。該零件係被特別被設計成難以 ”.、並且任何足夠壯1畺加熱該零件之源將可能地損害該 油漆塗覆。此一專利權額外地利用—溫度記錄儀技術，且 該技術並不相關於在有機塗覆下之基板表面之影像。 另一相關發明係被揭露在DiMarzi〇等人之美國專利公 告第6, 184, 528號，其名稱為"頻譜非破壞性評估方法"。 在此所揭露之該發明使用一紅外線雷射之一紅外 線源以發出紅外線光至一基板上。反射後的光係以波 長為函數而被量測以得到反射率資料。該樣品基板之反射 率貝料係-控制基板之反射率資料做比較。介於它們間之 差異接著導出互關連性以決定腐钱之出現。此一發明達到 本發明之-部份目的，但其將不會偵測到由本發明所能偵 測之完全範圍之結構特徵並且亦不會提供該基板之視覺影 像。 ，因而有必要發明出一種用於分析基板而無前述缺點之 系統及万法，更進而在效率方面及問題解決方面改良前述 之系統。 【發明内容】 根據本發明，在此提供一用於經由在該基板上之一塗 覆反映-基板表面之影像之系統。典型被發現在基板上之 塗覆被設計成在頻譜之可見光範圍内係不透明，以及在1 頻譜之紅外線區則較透明。—紅外光源係被定位成可射°出 1241402 紅外線在該基板上以製造出反射光。一焦點平面陣列可被 定位用以接收反射光並且由此產生影像。至少一頻譜光滤 波器可被置放在介於該基板與該焦點平面陣列間，以使得 僅反射光之塗覆透明波長可通過沿著一介於該紅外線光源 與該焦點平面陣列間之光學路徑，因而視覺地揭露結構特 徵成至少一影像。係可以使用多個被置放在介於該基板與 該焦點平面陣列間之光濾波器，則其可操作以在多個被選 疋波長内產生影像’以用於反映該基板結構特徵之影像。 一多個影像裝置可被放進入與該焦點平面陣列相連通以同 時地反映該基板之複數個結構特徵之影像。 更進而地，可使用一電腦，其係組合及強化由該系統 產生之影像，藉以產生該基板之選定結構特徵之集體影像 。一用於在基於基板圖案之影像内色彩碥碼的選定結構基 板結構特徵之電腦可被提供以供給該結構特徵之結構分類 。此外地，可以使用一位置感測器以標明在該基板之表面 上之參考點，藉以儲存該基板之結構特徵的座標。一形成 用來比較在一反饋迴路中之在選定波長處所產生影像之電 腦係可被提供，藉以基於預選定強化準則自動地強化該選 定基板結構特徵之影像品質。有利地’該紅外線光源、該 焦點平面陣列以及該至少一光濾波器可與一手持裝置而共 同地形成在一起，以使得可被如一人類作業員來傳送。 該系統亦包括一被置放在介於該紅外線光源與該基板 間之一第一極化器，以用於極化該紅外線為一第一選定極 性。此夕卜，-被置放在介於該焦點+面陣列與該基板間之 1241402 一第二極化器以用於極化該反射後光為一第二選定極性。 該第一選定極性與該第二選定極性可以被相反地架構，藉 以防止相對應於該基板之規則特徵之反射光被接收於該焦 點平面陣列上。該第一及第二極化器之極性係可旋轉，藉 以可選擇地提供複數個極性，以用於從該基板反映不規則 結構特徵之影像。 在使用上，亦提供有一種用於經由在該基板上之一塗 覆來反映該基板表面之影像之方法。該方法係包括導引紅 外線至該基板上。該紅外線可從該基板反射，藉以產生反 射光。僅有該反射光之塗覆透明波長可被過濾。該反射光 可被接收在一焦點平面陣列上，並且一影像可從該焦點面 陣列產生，藉以視覺地露出該基板之不規則結構特徵。 【實施方式】 現在請參考圖式，其中該圖式係為了僅解說本發明之 解說目的，並且不是做於限制用 目的。圖1係解說本發明之系統及方法之實施例。一 紅外線光源1 0 0係用來射出在被塗覆的一基板丨〇 2之方向 上的紅外光1 0 1。在本發明之一實施例中，在到達該基板 102之前，該紅外光101可通穿過一第一極化器103。該 第一極化态1 〇 3係可操作以極化該紅外光至一第一選定極 性。 被该基板反射的光能製造出反射光1 0 4。在一實施例 中’該反射光104通穿過一第二極化器ι〇5。該第二極化 12 1241402 器1 0 5係可操作以將反射光極化至一第二選定極性。例如 ，該第二極化器1 05可被架構成將反射光極化1 〇4極化在 一相反於第一選定方向之方向上，此為一種π跨極性，，方法 。在此一清況下，被該第一極化器1 03所調變極性之光將 不會通穿過該第二極化器1 05。根據光學之基本原理，從 該基板1 0 2之規則面積所反射離開之部份反射光1 〇 4將持 續為被該第一極化器1 0 3所調變之極性，並且因而將不會 通穿過該第二極化器1 0 5。然而，從比如腐蝕或生鏽之不 規則區所反射之部份反射光1 0 4將具有一改變極性並且因 此通穿過該第二極化器1 0 5。此外，此一極化技術能減少 在該塗覆中之顏料造成之散射，如此造成該基底之一較清 楚影像。因此’僅有從該基底1 〇2之不規則面積反射離開 之部份反射光1 04將通穿過該第二極化器1 〇5。該第一極 化器103及第二極化器1〇5可因而串級地操作以將該基板 102之不規則面積照射強光，此乃因它們被腐蝕或為損害 。此外，被該第一極化器丨〇3所調變之極性可被架構允許 在各種水平觀視到該基板i〇2。此乃因為一平行於該基板 1 02極性的光將更容易地反射離開該塗覆，但垂直於該基 板102之一極性的光將更容易地穿過該塗覆至該基底的底 下。因此，就有可能集中在該基底本身之表面或集中在該 塗覆之表面上。該方法可與前述之跨極性方法組合，藉以 於一特定水平強化特定特徵。應注意到雖然該第-極化器 103及第二極化器1〇5可以所說明之方式來使用並且因而 出現在-潛在較佳實施例中，但這些極化器對於本發明之 13 1241402 功能並非為必須，且並不需要被包括在内。 在通穿過該第二極化器105 (如果出現）之後，該反射 光104通穿過一光濾波器106。該光濾波器106係操作用 以除了已選定波長之反射光1 04外將其餘全部過濾出去。 使用在例如，飛行器零件及組件上之塗覆係一般被設計成 在可見光範圍内係不透明。通常它們在光的紅外線範圍内 是更透明。因此，特定波長的光係更可能通穿過該塗覆而 被該基板底下所反射。被具有這些波長之該部份反射光 104所製造影像將代表一主要為該基板102之影像而不是 在該基底上之塗覆。因而有必要集中在這些波長以排除其 他者’並且它們變成被該光濾波器1 〇 6所通過之選定波長 。邊光滤波器1 〇 6並不為一單一遽波器，但可以是一連串 濾波器。 在通穿過該第二極化器1 〇 5 (如果出現）及光濾波器1 〇 6 之後’該反射光到達一焦點平面1 〇 8。一焦點平面陣列（未 示出）係被定位在一焦點平面108以用於接收在該焦點平 面108處之反射光1〇4所製造出一影像1〇9。該基板i〇2 之結構特徵，比如細裂11 〇係在此一影像1 〇9内為可見。 该焦點平面陣列係可操作以取出該影像丨〇 9及產生其如一 片、如在一 LCD顯示器上之影像或其他方式呈現其於一 人類可見媒體上。 圖2A，2B及3展示本發明之系統及方法的有效性。圖 2A係一未油漆基板之可見影像，在此一清況下是一化學薄 膜處理（Ref MIL-C-5541 )鋁紙。該基板之結構特徵係;見 14 1241402 :人類眼目月圖2B是同樣鋁紙之一影像。然而，在此一 清況下，該基板已被塗敷有一 〇 〇〇6，，厚度（6mils)的初級 及頂^塗敷。该基板之結構特徵係僅可見，此乃因此一影 像係使用本發明之系統和方法所產生。圖3係一固定器孔 ’同之〜像’其内具有—細裂，且藉由本發明之系統和方法 而為可見。實驗上可證明可偵測到如小至在長度為〇· 〇3〇π 之、、、田4以及如小至在直徑為· 〇 〇丨"之坑洞。圖4係解說根 據本發明之反射率原理，其以一圖形式解說銘零件之反射 比對波長之取樣圖。該第一圖形400係用於具有一初級層 及二有王"卩厚度為0· 0037" (3· 7mi Is)之油漆的一未腐蝕 銘零件。該第二_ 4G1係用於具有同樣初級層及油漆之 一腐蝕後鋁零件。藉由比較該圖形400及401，將可發現 一差異在介於該兩圖形400與401之間，且差異係在一介 於大約3.5微米波長（較高反射量）與一 5· 5微米波長之間 區域，並具有在大約4·4微米波長處有一掉落。該第一圖 形40(Μ系車交強於該第二圖形4(Π，此乃因該未腐㈣比起 腐蝕後鋁之反應有較高部份紅外線光通過該油漆。 以上係說明本發明之一基本實作。該發明可以採用各 種可被設計成提供額外特點之實施例。例如，取決於使用 在該基板上之塗敷或取決於一作業員有興趣之特定結構特 徵’其可能方便地以各種波長來觀視基板。該系統可因而 包括多個光濾波器，且該濾波器可手動及自動地改變以達 到完成此一目的。同樣地，該極化器之極性可以旋轉以達 到提供以各種極性的組合來反映該基板影像之目的。如欲 15 1241402 進行額外修正，在各種浊I Ώ 長^及/或極性的組合處之影像 提供能藉由一多影像裝置夾+ 术疋成。如此將充許該系統可同 %地製造出用於快速處理 疋处里之设數個影像。在此一方面，該 多個影像裝置能處理並且以數 歎個不同波長及極性來產生影 像。 此外，该糸統能包括一用* 用於處理由該糸統提供之影像 之電腦，以達到据供該其# ^ μ f基板之選定不規縣構特徵之改善 衫像的目的。就如熟悉本項枯 不貞技術者所認定，該基板之給定 、·、。構特徵將在特定波長以及/或極性組合上比起其他者更 =地可觀察到。該電腦能夠包含一信息資料庫，其係相 關適用於觀查例如腐蝕之铍人。 一 σ 5亥作業貝將接著簡單地指 示電腦其欲觀視腐餘’以及今 A4電腦將自動地選擇適合如此 做之組合。此外，從塗敷表 叫‘丹円邵在ίβ中取出之影 像或訊號可基底處理而做為昔旦 马月厅、讯唬，藉以強化影像將被 才欢查的基板上取出之影像， 仔到4基板表面之改善合成 影像。 該電腦能額外地程式化以切中4 “， 飞化Us忍疋钱丞板之選定結構特徵 。就如熟悉本項技術所熟知者， ^ L 戈此T精由可操作以尋找 來完成1此基板圖案可以包括特定之腐 一 t ^ ^出及包含4表面及其他可指示出該基板係以某 认士 一被辦識出，遠特徵可被標示以用 於使用者。例如’該電腦能提供該基板之色碼化之影像。 Μ碼化可操㈣為-特徵型式之函數或做為結構整體性 私度之函數。在前一個清況’該電腦能指定，例如，红色 16 1241402 2腐：及黑色為裂開。於後者之情況，紅色為該基板之未 又知# u汽色為該基板之些微受損部份，以及藍色為 “板之嚴重又知部份。在任何清況，該電腦可操作以完 成一可能對該作業員有用之初級分析。 該系統能包含一被硬體或是軟體所驅動之自動反饋迴 了:操作以决速找出波長以及/或極性之最佳組合以 用於觀視基板’或該基板之選定結構特徵。該電腦將可能 實驗各種組合並且使用前述之辦識技術，藉決定那一组合 是工作最有效率。它將接著很快地決定出那一組合或多组 合係最合適於手邊的工作，並且自動地使用這些組合。 播：系統能包括一自動指向器裝置，其係操作以 ““構特徵被觀察時，產生一警告或自動通知。此可 能採取軟體之形式以操作加入十字準線於影像上，或為軟 =硬操用以自動地變焦距在該影像之選定結構特 = 1:1能在應用上會大有用處，“係需要去分 析用於潛在破感損害標示之大物體。該作業員可移動対 …線：整個該物體上，並且，當該系統请測一缺點是 =-預“見度臨限值時’它將自動地將目標移向在該 有問題之缺點上，來確認該缺點之辦蠘。 :進:步改善工作，—位置感測器係被包括在内 以達到儲存在该基板上之座 ▲標而用於未來參考。該座標能被辦識，例如，相對於 在遠基板上之參考點。在此一例 ' 錄在該基板上之系統的座標，做…：：置感測器能記 為與该參考點距離及從該 17 1241402 參考點方向之函數。由 被-電腦爽n 測器所定之標示能自動地 電月自來完成或能被—作業員來完成。 本發明尚有另一實施例將可提供 通信痒或傳送器，其可摔作以料纟 U置比如- 署式細#上、 钻作以將该系統放置在與一外部裝 统之有用二 置可在許多方面加強該系 、 。例如，一外部電腦能包含在市場上 一塗敷資料庫。為了檢杳 付 識它的塗敷並且送出一，門B^耳先辨 炉拯英部電腦。該外部電腦可 供i线關於那—波長以及/或極性之 於有效觀視基板資訊。一進一 糸適 七& ^ 進步之改善將使用該系統的擁 有尽y像糸統以自動地彳亨^ 勒轉仔δ亥塗敷之特徵並且送出相關於這 些特徵的值至該外部電腦。該外部電腦可將這些值與在苴 貧料庫内之值相比較並且在送出相關資料前辨識塗敷本身 。如此將省去該作㈣之辨識有問題塗敷之需求。 通信能力之另一使用將可允許一作業員可遠端地叫出 已儲存之控制影像。該控制影像可以該相同設計之一未受 損基板的影像，否則就是在—早期之同—基板。該控制= 像能被顯示在與被產生影像之同—銀幕上，藉以使該作業 員方便比較。該產生之影像能額外地藉由可作用於辨識差 異之硬體或軟體來與該控制影像相比較，藉以更進而澄清

該基板之那-結構特徵是不規則。後者方法將特別有用I 之情況為，該基板在其未受損的形式具有特定特徵，而該 特定㈣可能看起來係為受損。該電腦能使用該 控制影像作為-光罩以消除預期在該基板内之全部結 18 1241402 構特徵’藉以確認實質地不規則但合適之特徵並不被辨識 為受損。 凡熟悉本項技術者皆可了解，藉由使用本發明之系統 及方法所產生之影像可更進而被操作以達到提供額外訊息 =目+=。例如，一資料庫能被建立以達到自一給定基板二 广段取出之儲存影像的目的。該如此儲存之影像可被比 較例如藉由一電腦，藉以取得在該基板上發生受損之速 率。該基板可能變成不適合使用之約略時間可因而被推論 出’並且研發計劃修護及維修時程。 一本發明之另一實施例係使用該紅外光源以使基板射出 光如果該紅外光源是-雷射，則其很可能容易地完成。 該基板之特定結構㈣將比起該基板K受損㈣而具有 不同化學成份。它們將因而射出比起該基板之未受損部份 之不同波長的光。該系統能因而被架構成用以觀視，例如 =韻，其係藉由選定與在基板上腐敍射出的波長相關之 ^疋波長。一濾波後之IR光源（頻譜/極化）亦能使用在 方才所述之實施例中。 口顯然地，任何上述之特點能被組合。例如，該前述之 相σ對日$間分析方法將特別有用於當其與如前面更述及之 -位置感測器相組合時。此外，㈣本發明係以與基板之 2損檢查相關連而說明之，但應理解到本發明可被使用在 多種應用+。例如’本發明能被用來讀取系列碼或在基板 上之其他辨識標號。 热悉於本項技術者皆會了解本發明之另外修正或改善 19 1241402 因此，在此所說明及解說之特定元件組合係僅僅用來代 表本發明之特定實施例，並非用來限制本發明精神及範疇 内之系統及方法。 【圖式簡單說明】 (一） 圖式部分 圖1係解說本發明之系統及方法之實施例。 圖2A係在一化學薄膜處理（Ref.MiL—C-5541 )鋁紙上之 一未油漆選擇性腐#之鋁基板的一可見之影像。 _ 圖2B係圖2A中之同一鋁紙之紅外線影像。然而 ’在此一清況該基板及銘紙已被塗敷有〇 · 〇 〇 6"(6 m i 1 s)之 主要及頂部塗覆。在藉由本發明之系統及方法之塗覆下， 該腐蝕被做成可見的。圖3係由一洞半徑之疲乏細裂取得 的紅外線（IR)影像，並在藉由本發明之系統及方法之一塗 覆下，做成可見。 圖4係解說以一圖形表示之本發明反射率原理，該圖 形係表示鋁零件之反射比對波長之取樣圖。 讎 (二） 元件代表符號 100紅外線光源 1 01紅外光 102基板 103第一極化器 104反射光 105第二極化器 20 1241402 106光濾波器 108焦點平面 109影像 11 0細裂

Claims (1)

1241402 拾、申請專利範圍： 1 · 一種用於經由在一基板上之一塗敷以反映該基板表 面之影像的系統，包括： a. —紅外線光源，其係被定位成可射出紅外光至該基 板上’藉以製造出反射光； b. -焦點平面陣列，其係被定位成可接收離開該基板 表面之反射光並且從彼處產生一影像；以及 C·至少一頻譜光濾波器，其被定位成介於該基板與該 焦點平面陣列間’以使得僅有該反射光之塗敷波長能沿著 一介於該紅外線光源與該焦點平面陣列間之光學路徑而通 過，因而視覺露出該基板結構特徵成為至少一影像。 2·如申請專利範圍第1項所述之系統，進一步包括多 個被定位在該基板與該焦點平面陣列間之光濾波器，以用 於在複數個敎波長内產生影像並且用於反映該基板之結 構特徵之影像。 3.如申請專利範圍f i ,員所述之系統，進一步包括一 與該焦點平面陣列連通之多重反映裝置以用於同時地反映 該基板之多個結構特徵之影像。 4·如申請專利範圍第1 電腦’其組合及強化由該系 板之選定結構特徵之集體影 項所述之糸統，進一步包括一 統產生之影像，藉以產生該基 像0 5.如申請專利範圍帛i項所述之系統，進一步包括一 用基板圖案所程式規劃之電腦以用於在基於該基板圖案之 影像内色碼彳b該選定之基板結構特徵，以使得可提供該結 22 1241402 構特徵之視覺分類。 6 ·如申請專利範 用於在標示該基板表 存该基板之結構特徵 圍第1項所述之系統，進一步包括一 面上之參考點之位置感測器，藉以儲 之座標。

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7.如申請專利範圍第1項所述之系統，進-步包括一 腦’其比較在—反饋迴路中之選定波長處所產生的影像 以使得可基於預選強化準則來自動地強化該基板之選定 構特徵之影像品質。 …8.如f請專利範圍帛1項所述之系統，其t該紅外線 光源’該焦點平面陣列以及該至少一光濾波器係共同地與 可由一單一人類作業員攜帶之一手持裝置形成在一起。 9·如申請專利範圍第1項所述之系統，進一步包括： a·第極化器，其被定位在介於該紅外線光源與該 基板間，以用於極化該紅外光至一第一選定極性；以及 b· —第二極化器，其被定位在介於該基板與該焦點平 面陣列間，以用於極化該反射光至一第二選定極性。 10·如申請專利範圍第9項所述之系統，其中該第一選 疋極丨生與δ亥苐一選定極性係被相反地架構，藉以防止相對 應於該基板之選定結構特徵之反射光被接收在該焦點平面 陣列上。

11 ·如申請專利範圍第9項所述之系統，進一步包括多 個光濾波器，以提供在多個選定波長處之反映影像，藉以 從該基板形成多個結構特徵之一影像。 12·如申請專利範圍第9項所述之系統，其中該第_及 23 1241402 2二極w性係可旋轉，以使得可選擇地提供多個極 以用於伙忒反映該基板之多個結構特徵之影像。 13. 如申請專利範圍帛9項所述之系统/進牛勺括一 與該焦點平面陣列連通之多重反映影像装置，以2同時 地反映該基板之多個結構特徵之影像。 進一步包括一 藉以產生該基 進一步包括 14. 如申請專利範圍第9項所述之系統 電腦’其組合及強化由該系統產生之影像 板之選定結構特徵之集體影像。 1 5.如申請專利範圍第9項所述之系統〜7匕符一 用基板圖案所程式規則之電腦 ^ 之影像内色碼化該選定之於 該基板圖案 土板、、、口構特徵，藉以提供該不規 則結構特徵之視覺分類。 16·如申請專利範圍第9項所述之系統，進—步包括一 用於在標示該基板表面上 之參考點之位置感測器以使得儲 存该基板之結構特徵之座標。 _ Π.如中請專利範圍第9項所述之系統，進 =、，其轉在一反饋迴路中之複數個選定波長及選定極 構牲乂使付可基於選定準則來自動地強化該基板之選定結 構特徵之影像品質。 ^ A ° . 申明專利範圍第9項所述之系統，其中該紅外線 /、、該焦點平面陣列以及該至少-光滤波器係共同地盥 單一人類作業員攜帶之-手持裝置形成在一起。” 19.如中請專利範圍第i項所述之㈣，進—步包括一 、置用於傳达露出結構特徵至—遠處人類可視見媒 24 1241402 丄20·如申請專利範圍第！項所述之系統，進一步包括一 H表置’用於傳送露出結構特徵至—資料庫。 21. —種用於經由在一基板上之一塗敷以反映該基板表 面影像的方法，包括： a·導引紅外光至該基板上； b·自該基板反射該紅外光，用以製造出反射光；

c·僅濾過該反射光之塗敷透明波長； d·在一焦點平面陣列上接收該反射光；以及 ·:·從该焦點平面陣列產生至少一影像，以使得視覺地 露出該基板之結構特徵。 比如申請專利範圍f 21項之方法，進一步包括比較 f生在該焦點平面陣列上之以時間做函數之複數個影像， 藉以建立用於該基板之退化速率。 23.如申請專利範圍f 21項之方法，進一步包括從一

儲存在基板上塗敷之反射率特性的資料庫㈣擇該選定波 長及第一及第二選定極性。 之方法’進一步包括用一 之影像，藉以辨識該基板 24·如申請專利範圍第21項 預選擇控制影像來比較該所產生 之不規則結構特徵。 25·如申請專利範圍第21項之方法，進—步包括： a.在該紅外光到達該基板之前，導引該紅外光穿過 第-極化器’藉以極化該紅外光至一第一選定極性·’ •在忒、.工外光到達该焦點平面陣列之前，導引該反』 25 1241402 光穿過一第二極化器，藉以極化該反射光至一第二選定極 性； 26·如申請專利範圍第25項之方法，其中該第一選定 極性與该第二選定極性係被相反地架構，藉以防止相對應 於該基板之選定結構特徵之反射光被接收在該焦點平面陣 列上。 27·如申請專利範圍第25項之方法，進一步包括比較 產生在該焦點平面陣列上之以時間做函數之複數個影像， 藉以建立用於該基板之退化速率。 28·如申請專利範圍第25項之方法，進一步包括從一 儲存在基板上塗敷之反射性特性的資料庫來選擇該選定波 長及第一及第二選定極性。 29. 如申請專利範圍第25項之方法，進—步包括用一 預選擇控制影像來比較所產生之影像，藉以辨識該基板之 不規則結構特徵。 30. 如申請專利範圍第21項之方法，進—步包括傳送 所產生之影像至一遠處人類可視見媒體。 31·如申請專利範圍f 21項之方法，進一步包括傳送 所產生影像至一資料庫。 拾壹、圖式： 如次頁 26