TW524983B - Optical detection and analysis - Google Patents

Description

524983 五、發明説明（1 ) 本發明有關一種用於光學偵測及分析之裝置，且尤 其有關一種用於所選擇光學系統之識別的裝置。 光束將以此一方式與任一物體相互作用，即，若干 能量將轉移或轉換之方式。根據是否該物體包含折射性 或反射性界面，該等相互作用機制將包含散射，反射及 折射’其所有將在效率上根據光線波長及物體之物理特 徵而相異於任一既定之光學系統內。 例如散射之現象係以諸如LIDAR(光線距離化及範圍 化）之熟知光學範圍測距系統的操作爲基礎，該LIDAR 係RADAR(雷達）系統或雷射範圍測距器系統（LRF)之光 學等效系統。在LIDAR/LRF系統中，光線脈波係從該 系統傳送出，接著，該系統等待任何折返的信號，藉計 時發射與接收間之時距可計算出標靶物體的距離，此等 系統之操作係涵蓋於Μ · I · S k ο 1 n i k (M c G r a w H i 11)之 "Introduction to Radar Systems(雷達系統之介紹）”中。 現有之LRF/LIDAR系統之問題係其無法提供關於標 靶系統之資訊，除了其距離有多遠之外，例如標靶識別 係關鍵性於偵察及監視情勢中，且因此其將企望用於光 學範圍測距系統以便能識別所定範圍之光學系統的形式。 從品質控制之觀點來看，光學系統之定位分析亦重 要於諸如顯微鏡，望遠鏡等之複合光學系統的生產中。 目前，在此等系統內之光學組件的位置必須推論自經由 干涉儀或調變轉移功能（Μ T F)設備所測量之系統的光學 性能，因此，所企望的是一種能在建構之光學系統內直 524983 五'發明説明（2 ) 接地測量光學組件之位置的裝置。 可利用上述其他相互作用機制之一以獲得更多的有 關標φΕ系統之資sJl。右光學系統係藉—'光源予以照明時 ’則若干光線將朝向該光源折射回來一此係後向反射 (RetroReflection)的現象；若使用光線偵測器結合於光 源時，則可偵測光學系統的存在。 其中後向反射發生之系統的最簡實例爲日常簡單的 鏡子；後向反射產生器之另一實例爲使用在道路上之 ”貓眼”系統’在此，來自汽車前燈之裝置的光線係聚焦 於反射鏡之表面而再後向反射出。 用於後向反射發生並不需存在”映像的，，反射鏡，無論 何時光之波前遭遇折射率中之改變時會因爲光速相異於 不同的材料中而稍爲改變其速率，若波前以一角度碰到 折射表面時，則實際的結果會使所透射之光束彎曲，即 ’折射之過程。然而，此相互作用的簡單觀點並未考慮 到兩材料間界面之缺點。在許多同樣的方式中，電纜須 阻抗匹配於其終端之負載，然後，光波需阻抗匹配地橫 跨折射邊界。對於其具有正常地入射於折射邊界之光線 的例子中，藉菲涅耳（Fresnel)來顯示該邊界之各面上之 該等材料的折射率η!及n2會以下一式之比而造成某一 成比例之入射光線反射： r = ( 11^112)2/( m+n2)2 對於真空/玻璃躍遷之例子（η! = 1.000 ; n2= 1.5)而言，此 表面反射比爲4.2%，因而將有後向反射產生。換言之 -4- 524983 五、發明説明（ 3 ) 5 若 玻 璃 或 塑 膠 系 統 係 藉 光 源 照 射 時 ， 仍 將 有 可 利 用 來 取 得 有 關 標 靶 之 資 訊 的 後 向 反 射 〇 然 而 大 多 數 之 光 學 系 統 將 具 有某 種 結 構 5 例 如 雙 筒 鏡 具 有 一 包 含 一 串 列 之 均 將 後 向 反 射 之 透 鏡 及 稜 鏡 的 內 部 結 構 因 爲 各 光 學 表 面 將 後 向 反 射 某 入 射 眧 J \ \\ 射 光 ， 所 以 會 有 多 重 後 向 反 射 光 信 號 變 化 於 不 同 的 光 學 系 統 間 〇 因 此 不 同 的 光 學 系 統 將 具 有 不 同 的 ”光學記號” 且 m hlZi、 可 分 析 該 記 號 以 確 定 標 靶 光 學 系 統 之 特 徵 Ο 應 注 意 的 是 名 詞 ”光學系統” Μ 需 引 用 爲 串 列 之 玻 璃 透 鏡 的 系 統 -任何具有串列之反昏 f表3 Ϊ爲其” 映 像 的 ，，表面 ί或玻璃/ 空 氣 躍 Μ 之 物 體 應 視 爲 光 學 系 統 5 例 如 人 類 眼 睛 亦 將 產 生 光 學 記 號 〇 然 而 藉 抽 取 ”光學記號” 白 反 射 光 線 之 方 法 將 是 艱 困 的 ， 此 係 因 爲 即 使在 最 簡 單 的 光 學 系 統 中 波 前 之 折 返 組 合 可 能 會 由 於 多 重 內 反 射 而 很 複 雜 若 使 用 諸 如 雷 射 之 高 度 相 干 的 光 源 5 則 所 反 射 之 波 刖 將 能 向 量 地 相 加 及 相 減 而 造 成 干 涉 圖 型 (此係由於” 空 間 相 干 性 ，，意指 ί反 :躬 之 波 刖 擁 有 固 定 的 關 係於 彼 此 因 而 能 光 學 地 干 涉 )° 圖 使 用 此 —* 光 學 干 涉 圖 型 爲 ”光學記號” 將 造 成 由 於 光 線 之 短 波 長 的 問 題 : 首 先 光 學 系 統 之 組 件 並 未 正 常 地 需 予 以 組 合 來 干 涉 測 量 地 使 公 差 變 窄 5 使 得 持 續 產 生 於 相 同 生 產 線 上 的 光 學 系 統 將 具 有 不 同 的 記 號 9 其 次 > 光 線 之 波 長 係 極 小 於 光 束 之 通 道 透 過 正 常 的 氣 象 條 件 下 之 -大 氣 所 感 m 之 路 徑 差 異 因 而 5- 任 干 涉 圖 型 將 窮 於 應 付 524983 五、發明説明（z \ ) 大 氣 所 造 成 的 變 動 Ο 雖 然 大 氣 擾 動 將 迅 速 地 破 壞 光 學 干涉圖型之結 構 但 光 束 之 暫 時 的 相 干 會 真 正 較 佳 地 非靈敏於大氣 效 應， 此 係 因 爲 光 線 脈 波 內 之 光 子 聚 束 的 有效暫時的相 干 長度 會 由 於 密 度 差 異 而 遠 大 於 路 徑 長 度 變化，因此， 將 具有 相 結 合 於 抵 達 偵 測 器 之 光 子 個 別 群 之時序的”光學記號” 而 顯 示 來 白 光 學 系 統 之 各 表 面 的 後 向反射。 爲 了 將 解 析 之 標 靶 光 學 瞄 準 的 結 構，由光源所 產 生 之 光 線 脈 波 將 根 據 標 靶 光 學 系 統 而 具有某一大小 的 限制 〇 應 注 意 的 是 光 線 可在 一 奈 秒 之 中行進3 0公分到解 析 組 件 該 等 解 析 組 件係 以 1 ： 5公分分開（光束之 向 外及 折 返 行 程 指 此 距 離 有 效 地 爲 3 〇公分），該光源 將 必須 產 生 在 時 間 上 等 於 或 小於 1 奈 秒 的 光線脈波；在 下 文中 y 大 約 此 時 間 或 較 少時 間 的 光 線 脈 波稱爲”超短” 脈 波。 需 注 意 的 是 ， 因 爲 諸 光 學 組 件 常 比 1 5公分更接近： ，故 需 要 數 十 毫 微 微 秒 大 小 之 極 短 脈 波 〇 根 據 本 發 明 ， 提 供 有 一 種 用 於 偵 測及分析光學 系 統 之 裝 置 該 光 學 系 統 係 由 許 多 個 部 分反射表面所 組 成， 該 裝 置 包 含 ： i)光; 線) 產： 生丨 裝」 置 闬: 於) 奎 生； 及1 發； 復數個超短（如 本 文 中 所 界 定 )的光源脈波之光線朝向該光學系統； ϋ)~ 偵 測 器 用 於 反 射 之 光 線 信 號 的偵測，該偵 測 器 能 鑑 別 反 射 之 光 線 信 號 的 抵 達 爲 所發出脈波之 長 度 大 小 的 時 距 ， - 6- 524983 五、發明説明（5 ) iii) 同步脈波產生器裝置，其係設置提供時序參考，相 對於其，可測量各偵測之反射信號的抵達時間；以 及 iv) 信號處理裝置，設置使得各反射信號之抵達與暫時 毗鄰之同步脈波之間的時距可予以計算， 其中 v) 該裝置係操作使得由該光學系統所反射及由該偵測器 所收集之每光源脈波之光子的平均數S 1 ;以及 vi) 該信號處理裝置係設置產生反射脈波之分佈圖爲所 計算之時距的函數，及計算該光學系統內之該等反 射表面的相對空間位置。 相對應地，根據本發明，提供有一種用於偵測及分 析光學系統之方法，該光學系統係由許多個部分反射表 面所組成，該法包含下列步驟： i) 產生及發出許多超短（如本文中所界定）的光源脈波之 光線朝向一光學系統； ii) 偵測該光學系統所反射之光線信號； iii) 產生由串列之同步脈波所組成之時序參考；以及 iv) 計算各反射信號之抵達與暫時毗鄰之同步脈波間之 時距， 其中 v) 上述步驟i)係操作使得該光學系統所反射及由該偵測 器所收集之每光源脈波之光子的平均數^ 1，且該方 法包含下列進一步之步驟： 524983 五、發明説明（（ ) vi)產 生 反 射 信 號 之 分佈 圖 爲 〖所計 •算 :之 ,時 丨距 ί的® i數； 以 及 vi i)計算該光學系統內之反射表面的相對空間位置 〇 該 裝 置 可 藉 發 出 串 列 之 超 短 光 線 脈 波 擊 打於 標靶 光 學 系 統 藉 此 產 生 許 多 的 反 射 信 號 而 該 等反 射信 號 抵 達 偵 測 器 之 時 間 可 藉 相 互 關 連 於 適 用 之 系 統同 步脈 波 予 以 計 算 而 工 作 〇 該 同 步 脈 波 可 爲 所 發 出 之 光線 脈波 本 身 或 在 裝 置 之 電 子 設 備 內 之 獨 ,·〈了 的 時 序 脈 波 。然 後， 該 裝 置 將 建 X了 所 反 射 脈 波 之 分 佈 圖 來 當 作 各 所 偵測 之反 射 信 號 與 暫 時 毗鄰 之 同 步 脈 波 間 之 時 距 的 函 數 。因 爲從 標 靶 光 學 系 統 內 之 不 同 反 射 表 面 之 折 返 各 可 藉 不同 的時 距 而 分 開 於 其 暫 時 毗 鄰 之 同 步 脈 波 可 計 算 來 源表 面之 空 間 分 離 〇 爲 了 裝 置 內 之 偵 測 器 不 會 窮 於 應 付 太 多 的光 子， 該 系 統 需 操 作 於 -- 時 間 相 互 關 連 之 口口 早 光 子 偵 測模 式， 亦 即 藉 標 靶 光 學 系 統 反 射 回 到 偵 測 器 之 各 來 源脈 波中 之 光 子 的 平 均 數 S 在 統 計 上 需 少於 或 等 於 1 〇 4 達j 成此. -- / 低 的 光 子 偵 測 率 係使 用 — 適 田 低功 率 之 光 源。 在操 作 上 > 此 思 指 若 干 來 源 脈 波 必 須 可 在光 子 折 返 至偵 測器 之 前 與 光 學 系 統 相 互 作 用 〇 每 1 1 3個來源脈波- -個所偵測之 光 子 的 光 子 偵 測 率 將 便 利 地 產 生 — 種 較 佳 運轉 之系 統 〇 方 便 地 若 使 用 發 出 之 光 線 脈 波 爲 同 步 脈波 時， 該 裝 置 可 爲 時 間 相 互 關 連 的 5 使 得 光 線 產 生 裝置 及偵 測 器 可 提 供 用 於 信 號 處 理 時 序 電 路 8- 之 起 動 / 停 止脈 波。 在 此 524983 五、發明説明（7 ) 方式中，可簡單地獲得光學系統上之反射表面的相對分 離。 因爲定時器係僅當偵測光子時才觸發，故最大之偵 測器計數率係取得於當該裝置設定爲相互關連之”反向” 時間時，反向時間相互關連會造成資料之”時間反向”， 較短時間延遲會比較長時間延遲從距離於偵測器更遠處 折返。參閱第3圖，第3.1及3.2圖顯示分析光學系統 之裝置的簡化形式，該光線產生裝置1 〇〇射出串列之光 線脈波於標靶1 02處，該標靶反射若干之入射光線能量 回到偵測器1 04，該標靶顯示包含兩個光學元件1 06， 1 〇 8，時間線1 1 0代表偵測器所經歷的時間。 在第3 . 1圖中，該裝置係顯示偵測第一表面1 06，所 反射之信號會產生一光子計數事件114於偵測器104之 內，即，起動脈波而觸發信號處理電子裝置（未圖示）內 之時序電路，用於此時序電路之停止脈波係由代表同步 脈波1 1 2之下一個發射之光線脈波所提供，因此，在該 第3 · 1圖中，藉該裝置所測量的時間差顯示於時間線 1 1 〇之上當作週期1 1 6。 在第3.2圖中，該裝置正分析該第二光學表面108， 因此，初始的光學計數事件1 1 4會出現在時間線的更下 方’且使得起動脈波1 1 4與停止脈波1 1 2間之時間隙 1 1 8更小，換言之，更遠離於偵測器之光學表面會造成 較短的時距。 若該等來源脈波在時間上十分地短而在該等標靶表 -9- 524983 五、發明説明（8 ) 面間之間隔十分地大之時，則各表面將產生分離之折返 ’其相對之分離可充分地表示該標靶之特徵；若該等來 源脈波較長及/或該等表面更靠近在一起時，則該等折 返將重疊而產生較長的包封脈波。因爲各來源折返之時 間振幅形狀一致於來源脈波之時間振幅形狀，故可藉施 加適用的數學解捲積模型於所反射之折返資料而劃分該 包封脈波成爲其個別的成分。前緣配合法，成分波及導 數分析法係所有用於恢復該標靶光學系統之結構的適用 模型。 方便地，可使用諸如微微定量二極體雷射（P i c 〇 Q u a n t diode laser)之超短脈波二極體雷射來產生該等光線脈 波。 許多光學系統具有分離爲小至5毫米之組件，因而 ，較佳地，該光源亦應理想地能在時間上產生約1/30 奈秒（=3 3 . 3微微秒）之脈波。然而，應注意的是，即使 該光源不能解析具有約5毫米（mm)之分離的個別表面 ，但該裝置將可行地，符合條件地作用，此係因爲相對 應於組件之群間的分離，在該光學系統內之光學組件將 具有較大比例的結構；此外，諸如上述之解捲積技術的 使用將使該標靶光學系統之結構能予以推論。 爲了使來自光線產生裝置之連續脈波所產生之反射 在其抵達偵測器時不會重疊，輸出之脈波較佳地應具有 最小的分離。對於分離z之反射表面，在連續脈波間之 分離y的最大値應爲y ^ 2Z，此表示脈波重複率相等於 -10- 524983 五、發明説明（9 ) f S c / 2 z，其中C爲光速。因此，對於其中光學組件分 離5毫米之例子而百，脈波重複率應小於3 〇 〇 η z (3 0 0 億赫茲）。 便利地，可藉發射其波長相對應於太陽光譜中之夫 琨費和（F r a u n h 〇 f e r)吸收線之光線脈波來增加信號雜音 比，藉此輔助資料擷取率。 用於反射脈波之偵測的適用偵測器爲二極體偵測器 或光電倍增管，重要的是選擇具有快速脈衝響應時間及 盡可能短之恢復時間（偵測器從偵測入射光脈波，，恢復，， 的時間週期）的偵測器，該兩因素之效應將容稍後描述 。因爲該寺偵測器將在該時間週期”離線”，故較佳地， 柄號處理裝置可建AL反射脈波之分布圖當作同步脈波與 所偵測之反射信號間之定時長度的函數以建立光學記號。 折返脈波可便利地藉使用”時間至振幅轉換器（TAC)，， 而劃分爲毫微微至毫微秒之大小的極短時距，該時間至 振幅轉換器將放置偵測器所接收之折返脈波於時間”箱，， 之內，該時間箱可產生標靶記號。來自該TAC及信號 處理電子裝置之輸出可圖形地顯示以允許藉眼睛來執行 識別，或較佳地，該輸出可藉適用之電腦程式予以分析 (類似於聲納記號或藥物光譜圖識別程式），該電腦程式 能相對於所儲存之已知標靶記號之資料庫來識別記號。 便利地，偵測速度可藉製成由光域掃描或使用諸如 電荷耦合偵測器陣列之替換性偵測器而涵蓋極寬廣視野 之裝置來增加。 -11- 524983 五、發明説明（1G ) 視需要地，可藉設置該光線產生裝置能頻率跳躍於 若干不同及分立之光線頻率之間而使該裝置更形隱蔽。 所描述之裝置能偵測，分析及識別。較佳地，測距-光學系統之能力可藉操作該裝置結合於分立的測距儀或 藉利用第一脈波邏輯之發射及偵測而添加於裝置。 相同於使用以偵測及識別遠距光學系統一樣地，上 述裝置可使用來檢查諸如望遠鏡或顯微鏡之精準的光學 系統內之光學元件的定位，亦即，可使用於品質控制。 現將藉由僅引用附圖之實例來描述本發明之實施例 ，其中： 第1圖係顯示根據第一組態（“單靜態”組態）之本發明； 第2圖係顯示根據第二組態（“雙靜態”組態）之本發明； 第3圖圖形顯示光子計數所相互關連的時間過程； 第4至7圖係顯示使用本發明之裝置於不同標靶上 之不同的實驗性及理論性之結果，亦即， 第4圖係顯示利用本發明裝置相對於三個不同形式 之光學系統的結果之比較； 第5圖係用於來自包含1 1個分立組件與超快速偵測 器之光學系統的理想記號之計數相對於光學路徑的理論 圖形； 第6圖係顯示可取得自相同於第6圖中之設置與目 前之偵測器技術之實際記號；以及 第7圖係顯示應用解捲積技術於光學記號之結果。 第1圖顯示用於本發明之”單靜態”組態之實例，亦即 -12- 524983 五、發明説明（11 ) ，其中具有用於探測器光束輸出及折返光束收集之單一 光學系統之組態，此單靜態組態係稍後圖式中所測試及 所描述之本發明的形式。

C 在第1圖中，半導體雷射1以20MHz之重複率及1 毫瓦（mW)之功率準位發射70微微秒之脈波（所使用之 雷射1係具有640奈米波長之微微定量PDL 8 00 (PicoQuant PDL 8 00))。由雷射1所產生之探測器光束 3通過一準直透鏡5且接著穿過一偏振分光鏡7，接著 ，該偏振之光束穿過一望遠鏡9且藉望遠鏡之物鏡11 予以準直，最後，該光束在持續至標靶（未圖示）上之前 通過一*四分之一波片13。

折返信號15(包含反射之向外脈波）再一次地通過該 四分之一波片1 3，所以，該折返信號1 5之偏振係相對 於向外之探測器光束3而旋轉90° ，其使探測器光束3 及折返信號1 5能藉分光鏡7予以分離，該分光鏡7反 射折返信號1 5進入偵測器1 7。 該雷射1係由一雷射輸出控制器1 9所控制，該雷射 輸出控制器1 9及偵測器1 7連接於時序電路20，該時 序電路20利用光子計數所相互關連之時間的技術以爲 了解析標靶之結構，光子計數所相互關連之時間係一種 熟知之技術且此處偵測器1 7(以及因此，該折返信號 1 5)將提供用於時序電路之起動脈波以及雷射控制器1 9 將提供停止脈波。須注意的是，此時序技術會產生資料 中之時間反轉，使得在偵測器中較短的時間延遲係來自 -13- 524983 五、發明説明（12 ) 比產生較長時間延遲更遠的折返（參閱第3圖）。 該裝置係操作於單光子偵測模式中，而爲分析該標 耙光學系統，該等折返信號必須在時間上集成，因而形 成反射信號對時間延遲之分布圖，此可圖形地顯示以用 於目視分析（未圖示），或該資料可藉信號處理單元2 1 予以分析以識別該標靶系統之”光學記號”。熟習於本項 技術之人士將理解的是，藉降低偵測器的恢復時間（亦 即，偵測器接收一信號之後正在”恢復”之期間的時間） 將使該系統操作於較高的光子計數及來源脈波發射率， 使得產生有效光學記號所需的集成時間降低。 第2圖顯示用於本發明之雙靜態組態，其中使用兩 個分離的光學系統，即，一發射望遠鏡23及接收望遠 鏡25，此組態並未顯著地相異於單靜態組態（在第2圖 中之相同符號係使用來識別第1圖中所示之該等相同的 裝置元件），而是兩分離光學系統之使用將去除偏振分 光鏡及四分之一波片之需要，可潛在地增加輸貫量及信 號雜音比。 在單靜態及雙靜態組態兩者之中，可添加調諧通過 雷射1之光線波長的窄帶濾光片27於該系統以降低所 接收之雜音數量。 將呈明顯於該等熟習於本項技術之人士的是，利用 諸如反射光學裝置，全息濾光片，光柵濾光片，纖維濾 光片之替換性組件將存在有第1及2圖中所示之組態。 此外，在第1圖之中，四分之一波片1 3可實際地置於 -14· 524983 五、發明説明（13 ) 分光鏡7之望遠鏡側上的任何處，同時，即使顯示立方 體分光鏡，仍將存在有在功能上等效之其他組態。 第4圖顯不在1.2公里之距離處的二個不同的光學瞄 準系統之實驗性蹤跡，該等記號係顯示用於當該等標靶 之第一表面係確實地在距離該裝置之相同距離處而証明 三件事：第一，該等記號均不同而意指可使用它們來明 確地識別它們個別之光學裝置；第二，峰値族群之分布 可顯示光學裝置之內部結構（須注意的是，該等峰値並 不會出現在用於所有三個系統的相同位置中）；以及第 三，各瞄準之第一與最後峰値間之距離將給定該標靶之 光學路徑長度。 第5及6圖顯示理論上之結果如何可匹配於目前可 達成之結果。第5圖顯示預期來自一複雜光學系統之記 號，該系統包含π個分立的光學組件與一具有0.01毫 微秒之標準偏差的偵測器。由於所有1 1個光學表面存 在於該瞄準之內的效應係添加以產生像一串列尖峰之包 封。另一方面，第6圖顯示當使用目前商售之具有僅 〇. 1 6毫微秒之標準偏差的最佳偵測器所產生之蹤跡； 然而，甚至在此基礎上，仍可取得有用的資訊，此係因 爲由於在一光學系統內的不同組群的光學表面，該系統 將偵測較粗略的光學記號。因此，只要該操作員或信號 處理電子裝置注意到該系統的偵測能力，則可取得相對 於在相同準位所解析之其他系統的有用比較。 因此，將呈明顯於該等熟習於本項技術之人士的是 -15- 524983

五、發明説明（14 ) ，當啓用具有更快速脈衝響應之偵測器時，本發明之偵 測能力將會增進。 如上述地，解捲積技術可應用於所偵測的光學記號 以解析該信號爲其個別之成分。第7圖顯示如何可利用 在此例中一前緣配合法而成功地解捲積包封之信號而顯 示4個個別的光學成分（表面1-4)於該光學系統中。 參考符號說明 1.....雷射 3.....探測器光束 5.....準直透鏡 7.....偏振分光鏡 9.....望遠鏡 11· · • · •望遠鏡之物鏡 13 · · • ··四分之一波片 15 · · • · •折返佶號 17 · · • · •偵測器 19 ·. •·•雷射控制器 20 _ • · •時序電路 21 · · • · •信號處理單元 23 ·. ——· ·發射望遠鏡 25 ·. * · •接收望遠鏡 27 · * ••窄帶濾光片 100 · • · · •光線產生裝置 標靶 1 02 -16- 524983 五、發明説明（15 ) 104. · · • •偵測器 106 · · · • •光學元件 108 ·· · • •光學元件 110. · · • •時間線 112. · · ••同步脈波 114·.. ••光子計數事件 116. · · ..週期 118· . · • •時間隙 LIDAR · · • · •光線距離化及範圍化 LRF . ·. • •雷射範圍測距器系統 MTF ·.. • •調變轉移功能 TAC · · · • •時間至振幅轉換器 -17-

Claims (1)

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   煩請委員明示，本案修正後是否變更原實質内容 t、申請專利範圍 第901 1 707 1號「用於偵測及分析光學系統之裝置及方法」專 利案 （90年12月修正） 六申請專利範圍 1. 一種用於偵測及分析光學系統之裝置，該光學系統係由 許多個部分反射表面所組成，該裝置包含： i) 光線產生裝置，用於產生及發出複數個超短（如本文中 所界定）的光源脈波之光線朝向該光學系統； ii) 一偵測器，用於反射之光線信號的偵測，該偵測器能 鑑別反射之光線信號的抵達爲所發出脈波之長度大小的 時距； iii) 同步脈波產生器裝置，其係設置提供時序參考，相對 於其，可測量各偵測之反射信號的抵達時間；以及 iv) 信號處理裝置，設置使得各反射信號之抵達與暫時毗 鄰之同步脈波之間的時距可予以計算， 其中 v) 該裝置係操作使得由該光學系統所反射及由該偵測器 所收集之每光源脈波之光子的平均數^1;以及 vi) 該信號處理裝置係設置產生反射脈波之分佈圖爲所計 算之時距的函數，及計算該光學系統內之該等反射表面 的相對空間位置。 2. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該等發出之光線脈 波係使用爲同步脈波，使得該等發出及偵測之脈波/信號 可提供起動/停止脈波以用於該信號處理電路。 3. 如申請專利範圍第2項之裝置，其中該裝置係反向時間 524983 、申請專利範圍 相互關連的。 4·如申請專利範圍第1至3項中任一項之裝置，其中該信 號處理裝置附加地施加一解捲積演算於該等所偵測之反 射的光線信號。 5. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該光線產生裝置爲 一脈波雷射二極體。 6. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該等光線脈波 之波長相對應於一夫垠費和（FraunhoffeO波長。 7·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該偵測器爲一光電 倍增管。 [8.如申請專利範圍第1或7項之裝置，其中該偵測器爲一 二極體偵測器。 9. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該信號處理裝 置包含一時間至振幅轉換器。 10. 如申請專利範圍第4項之裝置，其中該信號處理裝置包 含一時間至振幅轉換器。 1L如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中來自該信號處 理裝置之輸出係藉一電腦程式予以分析，該電腦程式能 相對於所儲存之已知光學記號之資料庫來識別該標靶光 學系統的光學記號。 12.如申請專利範圍第4項之裝置，其中來自該信號處理裝 置之輸出係藉一電腦程式予以分析，該電腦程式能相對 於所儲存之已知光學記號之資料庫來識別該標靶光學系 統的光學記號。 524983 六、申請專利範圍 13. 如申請專利範圍弟9項之裝置，其中來自該信號處理裝 置之輸出係藉一電腦程式予以分析，該電腦程式能相對 於所儲存之已知光學記號之資料庫來識別該標靶光學系 統的光學記號。 14. 如申請專利範圍第1 〇項之裝置，其中來自該信號處理裝 置之輸出係藉一電腦程式予以分析，該電腦程式能相對 於所儲存之已知光學記號之資料庫來識別該標靶光學系 統的光學記號。 15·如申請專利範圍第1至3項中任一項之裝置，其中該裝 置能光域掃描一視野。 16·如申請專利範圍第1或7項之裝置，其中該偵測器包含 一電荷耦合之偵測器陣列。 17·如申請專利範圍第8項之裝置，其中該偵測器包含一電 荷耦合之偵測器陣列。 18. 如申請專利範圍第1或5項之裝置，其中該光線產生裝 置能頻率跳躍。 19. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之裝置，其中該裝 置係結合測距器操作。 20. —種用於偵測及分析光學系統之方法，該光學系統係由 許多個部分反射表面所組成，該方法包含下列步驟： i)產生及發出許多超短（如本文中所界定）的光源脈波之光 線朝向一光學系統； ii) 偵測該光學系統所反射之光線信號； iii) 產生一由串列之同步脈波所組成之時序參考；以及 524983

   、、申請專利範圍 IV) 計算各反射信號之抵達與暫時毗鄰之同步脈波間之時 距， 其中 V) 上述步驟0係操作使得該光學系統所反射及由該偵測 器所收集之每光源脈波之光子的平均數^1，且該方法 包含下列進一步之步驟： vi) 產生反射信號之分佈圖爲所計算之時距的函數；以及 vii) 計算該光學系統內之反射表面的相對空間位置。