TW202409646A - 具有部分覆蓋分束器的幾何波導 - Google Patents

Abstract

一種波導可包括基板及嵌入該基板內之分束器陣列，其中該分束器陣列內之各個分束器不完全橫切該基板。亦揭示各種其他裝置、系統及製造方法。

Description

具有部分覆蓋分束器的幾何波導

本發明涉及具有部分覆蓋分束器的幾何波導。 相關申請案之交叉參考

本申請案主張2022年5月18日申請之美國臨時申請案第63/343,193號及2023年2月21日申請之美國非臨時申請案第18/171944號之權益，這些申請案之全部揭示內容係以引用之方式併入。

幾何波導可具有橫切波導基板之整個厚度之分束器。然而，完全橫切基板之分束器可限制設計可能性，此係因為行進超出任何給定分束器可需要光束穿過分束器（且經受分束器之反射率）。另外，製造波導可在程序上複雜且昂貴。

本發明的一態樣為一種裝置，其包含：基板；及嵌入該基板內之分束器陣列，其中該分束器陣列內之各個分束器並不完全橫切該基板。

在本發明的所述態樣之裝置中，該分束器陣列內之各個分束器經配置以朝向該裝置之輸出端透射第一比例之射線且反射第二比例之射線。

在本發明的所述態樣之裝置中，該裝置經配置以提供自該裝置之輸入端至該裝置之輸出端的複數個射線路徑；且該複數個射線路徑內之至少一個射線路徑繞過至少一個分束器且與至少一個後續分束器相交。

在本發明的所述態樣之裝置中，該分束器陣列內之各個分束器在該裝置之輸出之方向上的反射性逐漸更強。

在本發明的所述態樣之裝置中，由該分束器陣列內之各個分束器反射出該裝置的光之平均量係實質上均勻的。

在本發明的所述態樣之裝置中，由該分束器陣列內之各個分束器反射出該裝置的光之該平均量至少基於以下各者係實質上均勻的：繞過該分束器陣列內之各個分束器的射線路徑之比例；及該分束器陣列內之各個分束器之反射度。

在本發明的所述態樣之裝置中，該分束器陣列內之各個分束器在該裝置之輸出之方向上逐漸更長。

在本發明的所述態樣之裝置中，該分束器陣列內之第一分束器在該裝置內經設定為處於與該分束器陣列內之第二分束器不同的角度。

本發明的另一態樣為一種製造方法，其包含：自基板移除材料使得該基板界定一系列傾斜凹槽；在這些傾斜凹槽中之各者之斜坡上方施加一部分反射塗層；及運用額外材料包覆該基板使得該系列傾斜凹槽被填充且該部分反射塗層由該基板完全包圍。

在本發明的所述另一態樣之製造方法中，該基板包含聚合物材料。

在本發明的所述另一態樣之製造方法中，施加該部分反射塗層包含施加反射性逐漸更強之塗層之梯度使得該系列傾斜凹槽中之各個凹槽的部分反射塗層的反射性逐漸更強。

本發明的所述另一態樣之製造方法進一步包含在施加該部分反射塗層之後及在包覆該基板之前，自該基板之表面之一或多個部分移除該部分反射塗層。

在本發明的所述另一態樣之製造方法中，自該基板移除該材料使得該基板界定該系列傾斜凹槽包含在該基板之不同位置處將材料移除至不同深度，使得該系列傾斜凹槽內之至少一個傾斜凹槽的最大深度不同於該系列傾斜凹槽內之至少一個其他傾斜凹槽的最大深度。

本發明的又一態樣為一種系統，其包含：頭戴式顯示器，其包含波導，該波導包含：基板；及嵌入該基板內之分束器陣列，其中該分束器陣列內之各個分束器並不完全橫切該基板。

在本發明的所述又一態樣之系統中，該分束器陣列內之各個分束器經配置以朝向該波導之輸出端透射第一比例之射線且反射第二比例之射線。

在本發明的所述又一態樣之系統中，該波導經配置以提供自該波導之輸入端至該波導之輸出端的複數個射線路徑；且該複數個射線路徑內之至少一個射線路徑繞過至少一個分束器且與至少一個後續分束器相交。

在本發明的所述又一態樣之系統中，該分束器陣列內之各個分束器在該波導之輸出之方向上的反射性逐漸更強。

在本發明的所述又一態樣之系統中，由該分束器陣列內之各個分束器反射出該波導的光之平均量係實質上均勻的。

在本發明的所述又一態樣之系統中，由該分束器陣列內之各個分束器反射出該波導的光之該平均量基於以下各者係實質上均勻的：繞過該分束器陣列內之各個分束器的射線路徑之比例；及該分束器陣列內之各個分束器之反射率。

在本發明的所述又一態樣之系統中，該分束器陣列內之各個分束器在該波導之輸出之方向上逐漸更長。

本揭示內容描述具有不橫切基板之整個厚度的分束器之幾何波導，及其製造方法。具有較短分束器之幾何波導可允許一些光線可繞過分束器之設計，從而實現例如效率改良及進入眼動區（eye box）之光之均勻性改良。此外，製造方法可藉由在將反射塗層施加至（具有任何深度及定向的）定製凹槽之前將這些凹槽置放於一體式聚合物中而更簡單且更靈活。另外，所得波導可藉由使用聚合物材料而非例如玻璃而為輕量的。

來自本文中所描述的具體實例中之任一者的特徵可根據本文中所描述之一般原理彼此組合使用。在結合隨附圖式及申請專利範圍讀取以下詳細描述後，將更全面理解此等及其他具體實例、特徵及優點。

下文將參考圖1至圖3提供波導之詳細描述；參考圖4提供用於具有部分覆蓋分束器之波導的製造方法之詳細描述；且參考圖5至圖8提供可併有本文中所描述之一或多個波導的裝置及系統之詳細描述。

圖1為具有完全覆蓋分束器之範例幾何波導的圖式。如圖1中所展示，幾何波導100可包括基板110及分束器120(1)至120(3)。分束器120(1)至120(3)可部分地透射及部分地反射光束130。波導100可從而將一些光束130引導至眼動區140。

基板110（及本文所描述之其他波導基板）包括任何合適材料。在一些實例中，基板110可包括透明聚合物。藉助於實例而非限制，基板110可包括聚碳酸酯、聚苯乙烯及/或聚甲基丙烯酸甲酯。在其他實例中，基板110可包括玻璃或矽石。一般而言，基板110可包括對使用波導100之波長透明的任何材料。

分束器120(1)至120(3)（及本文中所論述之其他分束器）可屬於任何合適類型之分束器。分束器之實例包括例如鏡像分束器、非偏振分束器及偏振分束器。如早先所提及，分束器可透射或反射光線。因此，在一些實例中，本文中所描述之一或多個分束器可傳輸光線，從而允許光線沿著波導進一步傳播，抑或反射光線，從而將光線導向裝置之輸出端（例如，輸出耦合器）。射出波導之光可不同地到達眼動區或另一系統或裝置（例如另一波導）。分束器可展現多種反射/透射比率中之任一者。舉例而言，一些分束器可反射大致一半的全部射線且透射大致一半的全部射線。一些分束器可以較大比例反射射線，而一些分束器可以較大比例透射射線。如下文將更詳細地描述，在一些實例中，本文中所描述之波導中之一或多者可包括具有不同反射/透射比率之分束器。

如圖1中可看到，分束器120(1)至120(3)可完全貫穿基板110，使得當光束130前進通過波導100時，光束130由分束器120(1)至120(3)中之各者部分地反射。

儘管圖1中未描繪，但波導100可包括輸入耦合器（例如，在光束130進入波導100的位置附接至波導100）。另外或替代地，波導100可包括輸出耦合器（例如，在光束130之部分射出波導100之區域處附接至波導100）。本文中所描繪及描述之其他波導可同樣包括輸入耦合器及/或輸出耦合器。

圖2為具有部分覆蓋分束器之範例幾何波導的圖式。如圖2中所展示，幾何波導200可包括基板210及分束器230(1)至230(3)。分束器230(1)至230(3)可部分地透射及部分地反射光束130。波導200可從而將一些光束220引導至眼動區240。

如圖2中可看到，分束器230(1)至230(3)可不完全貫穿基板210。實情為，分束器230(1)至230(3)可嵌入於基板210內，同時在分束器230(1)至230(3)周圍（例如上方及/或下方）留下基板之邊距（margin）。然而，如可瞭解，在一個實例中，光束220可通過與光束130相同的路徑傳播。因此，若光束130等效於光束220，則自光束130到達眼動區140的影像可與自光束220到達眼動區240的影像相同。

圖3為展示光之範例路徑之圖2之幾何波導的圖式。如圖3中所展示，光束320可採取不同的路徑通過波導200。值得注意的是，光束320可在分束器230(2)下方穿過。因此，光束320可能直至到達分束器230(3)才分裂，從而以全強度到達分束器230(3)。因此，自分束器230(3)反射且到達眼動區240之光束322可具有比在其首次穿過分束器230(2)的情況下將具有之強度更大的強度。

因此，雖然波導200之縮短之分束器230(1)至230(3)可允許波導200與波導100類似的設計及使用，如關於圖1至圖2所展示，但波導200之縮短之分束器230(1)至230(3)亦可允許波導200區分於波導100的不同的設計及使用（例如，藉由潛在地提高光至眼動區的效率及均勻性），如關於圖2至圖3所展示。

因此，舉例而言，波導200之設計可允許存在自波導輸入端至波導輸出端之各種射線路徑。一些射線路徑可與分束器230(1)至230(3)相交，但一些射線路徑可例如在與後續分束器相交之前繞過分束器（例如，在與分束器230(3)相交之前繞過分束器230(2)）。

如先前所提及，分束器可以不同比例透射及反射射線。因此，反射性較強的分束器可能透射性較弱（且反之亦然）。在一些實例中，在本文中所描述之波導中之一或多者中，反射性較強之分束器可更接近波導之輸出端使用（且反射性較弱之分束器更接近輸入端使用）。

此外，如下文將更詳細地描述，在一些實例中，本文中所描述之波導中之一或多者中的分束器可在更接近波導之輸出端處增加大小（例如，更長）（且在更接近輸入端處減小大小）。

在一些實例中，更接近波導之輸入端使用反射性較弱之分束器且更接近波導之輸出端使用反射性較強之分束器可有助於達成跨越波導之各種射出點的輸出（例如信號強度）之均勻性。另外或替代地，更接近波導之輸入端使用較小（例如較短）分束器可有助於達成跨越波導之各種射出點的輸出之均勻性。在一些實例中，可藉由各個分束器而自波導反射出的光之平均量可為實質上均勻的。舉例而言，可選擇分束器之反射度及分束器之大小以引起跨越波導之射出點之信號強度的實質上均勻性。

在一些實例中，如下文將更詳細地論述，波導中之一或多個分束器可以不同方式成角度及/或相對於彼此具有不同定向。

圖4為用於製造具有部分覆蓋分束器之幾何波導之範例方法400的圖式。如圖4中所展示，在步驟410處，聚合物402可位於基板404上。在步驟420處，可在聚合物402中切割凹槽（例如，經由金剛石車削）。在步驟430處，可將部分反射塗層432施加至切割至聚合物402中之凹槽的表面。在步驟440處，可自凹槽之垂直表面移除反射塗層432（例如，經由金剛石車削）。反射塗層432可從而變換成分束器陣列442。在步驟450處，可施加聚合物之液體層，從而將分束器442完全囊封於聚合物402內。在步驟460處，可將聚合物402切割成其最終形狀（例如，經由金剛石車削）。可接著自基板404拆卸聚合物402。

在一些實例中，部分反射塗層432可以一梯度施加，使得部分反射塗層432的反射率在塗層之一端處較低且在塗層之另一端處較高。因此，分束器陣列442可為反射性逐漸更強之分束器陣列。此可提高波導之效率（藉由減少陣列中較早反射出之光的量）以及增加波導之均勻性（藉由例如使大致相同量的光在各個分束器處離開波導）。

雖然圖4展示以均勻深度、以均勻角度、以均勻間距且以均勻定向切割之凹槽，但可瞭解，凹槽可以不同深度、角度、間距及/或定向切割。在一個實例中，至波導之一端（例如，光進入之末端）之凹槽可較淺及/或較小，而至波導之另一端之凹槽可逐漸更深及/或更大，使得形成於凹槽上之分束器可在一端較小且在另一端較大。此可提高波導之效率（藉由減少陣列中較早反射出之光的量）以及增加波導之均勻性（藉由例如使大致相同量的光在各個分束器處離開波導）。同樣地，凹槽可以不同角度及/或不同定向形成。因為各個凹槽可分開形成，所以自製造方法，為各個凹槽創建定製深度、角度、間距及定向可為可行的。

另外或替代地，如下文將更詳細地描述，可使用一體式聚合物片來切割分束器之多個相異陣列。因此，舉例而言，可在單個聚合物片中製造多個定製功能性波導。在一些實例中，一個此波導可將光透射至後續波導。

圖5繪示範例透鏡500。如圖5中所展示，透鏡500可包括波導502、波導504、波導506及波導508。波導502可自任何合適源接收輸入光，包括例如顯示信號（例如，擴增實境顯示信號）。波導502之輸出可將輸入提供至波導504。波導504之輸出可將輸入提供至波導506。波導506之輸出可將輸入提供至波導508。波導508之輸出可投影至眼動區上，使得穿戴透鏡500的使用者看到顯示影像。因為各個波導正接收輸入光且在不同方向上投影輸出光，所以各個波導可使用定製分束器間距、大小、反射度、角度、定向等。如可瞭解，本文中所描述之裝置及方法可實現波導設計之此多樣性。

圖6繪示範例透鏡600。如圖6中所展示，透鏡600可包括整合式波導裝置602。整合波導裝置602可包括功能性波導602(a)至602(d)。波導602(a)可自任何合適源接收輸入光，包括例如顯示信號（例如，擴增實境顯示信號）。波導602(a)之輸出可將輸入提供至波導602(b)。波導602(b)之輸出可將輸入提供至波導602(c)。波導602(c)之輸出可將輸入提供至波導602(d)。波導602(d)之輸出可投影至眼動區上，使得穿戴透鏡600的使用者看到顯示影像。

在一些實例中，整合式波導裝置602可由單個一體式材料片形成。因此，舉例而言，代替分開製造波導502、504、506及508及跨越透鏡500精確地排列這些波導（如在圖5中），製造方法可包括：在單個一體式材料片中形成不同間距、大小、角度、定向及反射度之部分覆蓋分束器，從而產生整合式波導裝置602；及將整合式波導裝置602耦接至透鏡600。在一些實例中，此可使製造程序更簡單、更快速及/或更具成本效益。另外，在一些實例中，藉由不需要在透鏡上分開地排列波導，此方法可消除將以其他方式花費更多時間、設備及/或引入誤差之額外可能性（例如，波導之間未對準）的步驟。

如自圖5至圖6可瞭解，本文中所描述之波導中的一或多者可併入至頭戴式顯示器（諸如下文關於圖7至圖8所描述之系統中的一或多者）中。

範例性具體實例

[發明人：以下章節為出於法律目的對申請專利範圍之重述。請隨意跳過此章節並將審查聚焦在申請專利範圍上]

實例1：一種裝置，其可包括一基板及嵌入該基板內之一分束器陣列，其中該分束器陣列內之各個分束器不完全橫切該基板。

實例2：如實例1之裝置，其中該分束器陣列內之各個分束器經配置以透射一第一比例之射線且反射一第二比例之射線。

實例3：如實例1及2中任一項之裝置，其中該裝置經配置以提供自該裝置之一輸入端至該裝置之一輸出端的多個射線路徑，且這些射線路徑中之至少一者繞過至少一個分束器且與至少一個後續分束器相交。

實例4：如實例1至3中任一項之裝置，其中該分束器陣列內之各個分束器在該裝置之一輸出之一方向上的反射性逐漸更強。

實例5：如實例1至4中任一項之裝置，其中由該分束器陣列內之各個分束器反射出該裝置的光之一平均量係實質上均勻的。

實例6：如實例1至5中任一項之裝置，其中由該分束器陣列內之各個分束器反射出該裝置的光之該平均量基於以下各者係實質上均勻的：繞過該分束器陣列內之各個分束器的射線路徑之一比例，及該分束器陣列內之各個分束器之一反射度。

實例7：如實例1至6中任一項之裝置，其中該分束器陣列內之各個分束器在該裝置之一輸出之一方向上逐漸更長。

實例8：如實例1至7中任一項之裝置，其中該分束器陣列內之一第一分束器在該裝置內經設定為處於與該分束器陣列內之一第二分束器不同的一角度。

實例9：一種製造方法可包括：自一基板移除材料使得該基板界定一系列傾斜凹槽；在這些傾斜凹槽中之各者之一斜坡上方施加一部分反射塗層；及運用額外材料包覆該基板使得該系列傾斜凹槽被填充且該部分反射塗層由該基板完全包圍。

實例10：如實例9之方法，其中該基板包括一聚合物材料。

實例11：如實例9至10中任一項之方法，其中施加該部分反射塗層包括施加反射性逐漸更強之塗層之一梯度使得該系列傾斜凹槽中之各個凹槽的部分反射塗層的反射性逐漸更強。

實例12：如實例9至11中任一項之方法，其進一步包括在施加該部分反射塗層之後及在包覆該基板之前，自該基板之一表面之一或多個部分移除該部分反射塗層。

實例13：如實例9至12中任一項之方法，其中自該基板移除該材料使得該基板界定該系列傾斜凹槽包括在該基板之不同位置處將材料移除至不同深度，使得該系列傾斜凹槽內之至少一個傾斜凹槽的一最大深度不同於該系列傾斜凹槽內之至少一個其他傾斜凹槽的一最大深度。

本揭示內容之具體實例可包括各種類型之人工實境系統或結合這些人工實境系統加以實施。人工實境為在呈現給使用者之前已以某一方式調整的實境形式，其可包括例如虛擬實境、擴增實境、混合實境、混雜實境或其某一組合及/或其衍生物。人工實境內容可包括完全電腦產生之內容或與所捕獲之（例如，真實世界）內容組合之電腦產生之內容。人工實境內容可包括視訊、音訊、觸覺回饋或其某一組合，其中之任一者可在單一通道中或在多個通道中（諸如，對檢視者產生三維（3D）效應之立體視訊）呈現。另外，在一些具體實例中，人工實境亦可與用以例如在人工實境中產生內容及/或以其他方式用於人工實境中（例如，在人工實境中執行活動）之應用程式、產品、配件、服務或其某一組合相關聯。

人工實境系統可以多種不同的外觀尺寸及配置來實施。一些人工實境系統可經設計為在無近眼顯示器（NED）之情況下工作。其他人工實境系統可包括NED，該NED亦提供對真實世界（諸如圖7中之擴增實境系統700）之可見性或在視覺上使得使用者沉浸在人工實境（諸如（例如）圖8中之虛擬實境系統800）中。雖然一些人工實境裝置可為自含式系統，但其他人工實境裝置可與外部裝置通信及/或協調以向使用者提供人工實境體驗。此類外部裝置之實例包括手持型控制器、行動裝置、桌上型電腦、由使用者穿戴之裝置、由一或多個其他使用者穿戴之裝置，及/或任何其他適合之外部系統。

參考圖7，擴增實境系統700可包括具有框架710之眼鏡裝置702，該框架經配置以將左側顯示裝置715(A)及右側顯示裝置715(B)固持在使用者眼睛前方。顯示裝置715(A)及715(B)可共同地或獨立地起作用以向使用者呈現一影像或一系列影像。雖然擴增實境系統700包括兩個顯示器，但本揭示內容之具體實例可實施於具有單個NED或多於兩個NED之擴增實境系統中。

在一些具體實例中，擴增實境系統700可包括一或多個感測器，諸如感測器740。感測器740可回應於擴增實境系統700之運動而產生量測信號，且可位於框架710之實質上任何部分上。感測器740可表示多種不同感測機構中之一或多者，這些感測機構諸如位置感測器、慣性量測單元（inertial measurement unit；IMU）、深度攝影機組裝件、結構化光發射器及/或偵測器，或其任何組合。在一些具體實例中，擴增實境系統700可包括或可不包括感測器740或可包括多於一個感測器。在感測器740包括IMU之具體實例中，IMU可基於來自感測器740之量測信號而產生校準資料。感測器740之實例可包括但不限於加速計、陀螺儀、磁力計、偵測運動之其他合適類型之感測器、用於IMU之誤差校正的感測器，或其某一組合。

在一些實例中，擴增實境系統700亦可包括具有集體地稱為聲音換能器720之複數個聲音換能器720(A)至720(J)的麥克風陣列。聲音換能器720可表示偵測由聲波誘發之氣壓變化的換能器。各個聲音換能器720可經配置以偵測聲音且將經偵測聲音轉換成電子格式（例如，類比或數位格式）。圖7中之麥克風陣列可包括例如十個聲音換能器：720(A)及720(B)，其可經設計為置放在使用者之對應耳朵內部；聲音換能器720(C)、720(D)、720(E)、720(F)、720(G)及720(H)，其可定位於框架710上之各種位置處；及/或聲音換能器720(I)及720(J)，其可定位於對應頸帶705上。

在一些具體實例中，聲音換能器720(A)至720(J)中之一或多者可用作輸出換能器（例如，揚聲器）。舉例而言，聲音換能器720(A)及/或720(B)可為耳塞或任何其他合適類型之頭戴式耳機或揚聲器。

麥克風陣列之聲音換能器720的配置可變化。雖然擴增實境系統700在圖7中展示為具有十個聲音換能器720，但聲音換能器720之數目可大於或小於十個。在一些具體實例中，使用較高數目個聲音換能器720可增加所收集之音訊資訊之量及/或音訊資訊之敏感度及準確度。與此對比，使用較低數目個聲音換能器720可降低相關聯控制器750處理所收集音訊資訊所需之計算能力。另外，麥克風陣列之各個聲音換能器720的位置可變化。舉例而言，聲音換能器720之位置可包括使用者上之所界定位置、框架710上之所界定座標、與各個聲音換能器720相關聯之定向，或其某一組合。

聲音換能器720(A)及720(B)可定位於使用者耳朵之不同部分上，諸如耳廓後方、耳屏後方及/或在外耳或耳窩內。或者，除了耳道內部之聲音換能器720以外，耳朵上或周圍亦可存在額外聲音換能器720。使聲音換能器720緊鄰使用者之耳道定位可使得麥克風陣列能夠收集關於聲音如何到達耳道之資訊。藉由將聲音換能器720中之至少兩者定位在使用者頭部之任一側上（例如，作為雙耳麥克風），擴增實境裝置700可模擬雙耳聽覺且捕獲使用者頭部周圍的3D立體聲聲場。在一些具體實例中，聲音換能器720(A)及720(B)可經由有線連接730連接至擴增實境系統700，且在其他具體實例中，聲音換能器720(A)及720(B)可經由無線連接（例如，藍牙連接）連接至擴增實境系統700。在又其他具體實例中，聲音換能器720(A)及720(B)可能根本不結合擴增實境系統700來使用。

框架710上之聲音換能器720可以多種不同方式定位，包括沿著鏡腿之長度、跨越橋接件、在顯示裝置715(A)及715(B)上方或下方，或其某一組合。聲音換能器720亦可經定向使得麥克風陣列能夠在環繞穿戴擴增實境系統700之使用者的廣泛範圍之方向上偵測聲音。在一些具體實例中，可在擴增實境系統700之製造期間執行最佳化程序以判定麥克風陣列中之各個聲音換能器720的相對定位。

在一些實例中，擴增實境系統700可包括或連接至外部裝置（例如，配對裝置），諸如頸帶705。頸帶705通常表示任何類型或形式之配對裝置。因此，頸帶705之以下論述亦可適用於各種其他配對裝置，諸如充電箱、智慧型手錶、智慧型手機、腕帶、其他穿戴式裝置、手持型控制器、平板電腦、膝上型電腦、其他外部計算裝置等。

如所展示，頸帶705可經由一或多個連接器耦接至眼鏡裝置702。連接器可為有線或無線的，且可包括電及/或非電（例如，結構）組件。在一些狀況下，眼鏡裝置702及頸帶705可在其間無任何有線或無線連接之情況下獨立地操作。雖然圖7繪示處於眼鏡裝置702及頸帶705上之範例位置中的眼鏡裝置702及頸帶705之組件，但這些組件可位於別處及/或以不同方式分佈在眼鏡裝置702及/或頸帶705上。在一些具體實例中，眼鏡裝置702及頸帶705之組件可位於與眼鏡裝置702、頸帶705或其某一組合配對的一或多個額外周邊裝置上。

使諸如頸帶705之外部裝置與擴增實境眼鏡裝置配對可使得眼鏡裝置能夠達成一副眼鏡之外觀尺寸，同時仍為擴展能力提供足夠的電池及計算能力。擴增實境系統700之電池電力、計算資源及/或額外特徵中之一些或全部可由配對裝置提供或在配對裝置與眼鏡裝置之間共用，因此整體上減小眼鏡裝置之重量、熱分佈及外觀尺寸，同時仍保持所要功能性。舉例而言，頸帶705可允許原本將包括在眼鏡裝置上之組件包括於頸帶705中，此係因為使用者可在其肩部上承受比其將在其頭部上承受的更重的重量負載。頸帶705亦可具有較大表面積，在其上將熱擴散及分散至周圍環境。因此，頸帶705可允許比獨立眼鏡裝置上可能具有的更大的電池容量及計算能力。由於與眼鏡裝置702中所攜載之重量相比，頸帶705中所攜載之重量對於使用者之侵入性可能更小，因此使用者可承受穿戴較輕眼鏡裝置且承受攜載或穿戴配對裝置之時間長度大於使用者將承受穿戴較重的獨立式眼鏡裝置之時間長度，從而使得使用者能夠將人工實境環境更充分地併入至其日常活動中。

頸帶705可與眼鏡裝置702及/或其他裝置以通信方式耦接。此等其他裝置可提供某些功能（例如追蹤、定位、深度映射、處理、儲存等）至擴增實境系統700。在圖7之具體實例中，頸帶705可包括兩個聲音換能器（例如，720(I)及720(J)），其為麥克風陣列之部分（或可能形成其自身的麥克風子陣列）。頸帶705亦可包括控制器725及電源735。

頸帶705之聲音換能器720(I)及720(J)可經配置以偵測聲音且將經偵測聲音轉換成電子格式（類比或數位）。在圖7之具體實例中，聲音換能器720(I)及720(J)可定位於頸帶705上，從而增加頸帶聲音換能器720(I)及720(J)與定位在眼鏡裝置702上之其他聲音換能器720之間的距離。在一些狀況下，增加麥克風陣列之聲音換能器720之間的距離可提高經由麥克風陣列執行之波束成形之準確度。舉例而言，若聲音係由聲音換能器720(C)及720(D)偵測到且聲音換能器720(C)與720(D)之間的距離大於例如聲音換能器720(D)與720(E)之間的距離，則經偵測聲音之經判定源位置可比聲音已由聲音換能器720(D)及720(E)偵測到之情況更準確。

頸帶705之控制器725可處理由頸帶705及/或擴增實境系統700上之感測器產生的資訊。舉例而言，控制器725可處理來自麥克風陣列的描述由麥克風陣列偵測到之聲音的資訊。對於各偵測到之聲音，控制器725可執行到達方向（direction-of-arrival；DOA）估計以估計偵測到之聲音到達麥克風陣列之方向。在麥克風陣列偵測到聲音時，控制器725可用資訊填入音訊資料集。在擴增實境系統700包括慣性量測單元之具體實例中，控制器725可根據位於眼鏡裝置702上之IMU計算所有慣性及空間計算。連接器可在擴增實境系統700與頸帶705之間且在擴增實境系統700與控制器725之間傳送資訊。該資訊可呈光學資料、電資料、無線資料或任何其他可傳輸資料形式之形式。將由擴增實境系統700產生的資訊之處理移動至頸帶705可減少眼鏡裝置702中之重量及熱，從而使該眼鏡裝置對於使用者而言更舒適。

頸帶705中之電源735可向眼鏡裝置702及/或頸帶705提供電力。電源735可包括但不限於鋰離子電池、鋰聚合物電池、鋰原電池、鹼性電池或任何其他形式之電力儲存器。在一些狀況下，電源735可為有線電源。將電源735包括在頸帶705上而非眼鏡裝置702上可有助於較佳地分佈由電源735產生之重量及熱。

如所提及，代替將人工實境與實際實境摻合，一些人工實境系統可實質上用虛擬體驗來替換使用者對真實世界之感測感知中之一或多者。此類型之系統的一個實例係頭戴式顯示系統，諸如圖8中之虛擬實境系統800，其主要或完全地覆蓋使用者之視場。虛擬實境系統800可包括前部剛體802及經塑形成圍繞使用者頭部適配之帶804。虛擬實境系統800亦可包括輸出音訊換能器806(A)及806(B)。此外，雖然圖8中未示，但前部剛體802可包括一或多個電子元件，其包括一或多個電子顯示器、一或多個慣性量測單元（IMU）、一或多個追蹤發射器或偵測器及/或用於產生人工實境體驗之任何其他合適的裝置或系統。

人工實境系統可包括多種類型之視覺回饋機構。舉例而言，擴增實境系統700及/或虛擬實境系統800中之顯示裝置可包括一或多個液晶顯示器（LCD）、發光二極體（LED）顯示器、微型LED顯示器、有機LED（OLED）顯示器、數位光投影（digital light project；DLP）微型顯示器、矽上液晶（liquid crystal on silicon；LCoS）微型顯示器，及/或任何其他合適類型之顯示螢幕。此等人工實境系統可包括用於兩隻眼睛之單個顯示螢幕或可為每隻眼睛提供顯示螢幕，此可允許用於變焦調整或用於校正使用者之屈光不正的額外靈活性。此等人工實境系統中之一些亦可包括具有一或多個透鏡（例如，凹透鏡或凸透鏡、菲涅耳（Fresnel）透鏡、可調整液體透鏡等）之光學子系統，使用者可經由該一或多個透鏡檢視顯示螢幕。此等光學子系統可用於多種目的，包括使光準直（例如，使物件出現在比其實體距離更大的距離處）、放大光（例如，使物件看起來比其實際大小大）及/或中繼光（將光中繼至例如觀察者之眼睛）。此等光學子系統可用於非光瞳形成架構（諸如直接使光準直但產生所謂的枕形失真之單透鏡配置）及/或光瞳形成架構（諸如產生所謂的桶形失真以消除枕形失真之多透鏡配置）中。

除了使用顯示螢幕以外或代替使用顯示螢幕，本文所描述之一些人工實境系統亦可包括一或多個投影系統。舉例而言，擴增實境系統700及/或虛擬實境系統800中之顯示裝置可包括微型LED投影儀，其（使用例如波導）將光投影至顯示裝置中，這些顯示裝置諸如允許環境光穿過之清晰的組合器透鏡。顯示裝置可將經投影光朝向使用者瞳孔折射且可使得使用者能夠同時觀看人工實境內容及真實世界兩者。顯示裝置可使用多種不同光學組件中之任一者來實現此情形，這些光學組件包括波導組件（例如，全像、平面、繞射、偏振及/或反射波導元件）、光操縱表面及元件（諸如繞射、反射及折射元件以及光柵）、耦合元件等。人工實境系統亦可經配置成具有任何其他合適類型或形式之影像投影系統，諸如用於虛擬視網膜顯示器中之視網膜投影儀。

本文中所描述之人工實境系統亦可包括各種類型之電腦視覺組件及子系統。舉例而言，擴增實境系統700及/或虛擬實境系統800可包括一或多個光學感測器，諸如二維（2D）或3D攝影機、結構化光傳輸器及偵測器、飛行時間深度感測器、單束或掃掠雷射測距儀、3D LiDAR感測器及/或任何其他合適類型或形式之光學感測器。人工實境系統可處理來自此等感測器中之一或多者之資料以識別使用者之位置、繪製真實世界、向使用者提供關於真實世界環境之情境及/或執行多種其他功能。

本文中所描述之人工實境系統亦可包括一或多個輸入及/或輸出音訊換能器。輸出音訊換能器可包括音圈揚聲器、帶式揚聲器、靜電揚聲器、壓電揚聲器、骨傳導換能器、軟骨傳導換能器、耳屏振動換能器及/或任何其他合適類型或形式的音訊換能器。類似地，輸入音訊換能器可包括電容式麥克風、動態麥克風、帶式麥克風及/或任何其他類型或形式之輸入換能器。在一些具體實例中，單個換能器可用於音訊輸入及音訊輸出兩者。

在一些具體實例中，本文中所描述之人工實境系統亦可包括觸感（亦即，觸覺）回饋系統，其可併入至頭飾、手套、連體套裝、手持型控制器、環境裝置（例如椅子、地墊等）及/或任何其他類型的裝置或系統中。觸覺回饋系統可提供各種類型之皮膚回饋，包括振動、力、牽引力、紋理及/或溫度。觸覺回饋系統亦可提供各種類型之動覺回饋，諸如運動及順應性。觸覺回饋可使用馬達、壓電致動器、流體系統及/或多種其他類型之回饋機構來實施。觸覺回饋系統可獨立於其他人工實境裝置、在其他人工實境裝置內及/或結合其他人工實境裝置來實施。

藉由提供觸覺感覺、聽覺內容及/或視覺內容，人工實境系統可在多種情境及環境中產生整個虛擬體驗或增強使用者之真實世界體驗。舉例而言，人工實境系統可在特定環境內輔助或延伸使用者之感知、記憶或認知。一些系統可增強使用者與真實世界中之其他人的互動或可實現與虛擬世界中之其他人的更沉浸式互動。人工實境系統亦可用於教學目的（例如，用於在學校、醫院、政府組織、軍事組織、商業企業等中進行教學或訓練）、娛樂目的（例如，用於播放視訊遊戲、聽音樂、觀看視訊內容等）及/或用於無障礙性目的（例如，作為助聽器、視覺輔助物等）。本文中所揭示之具體實例可在此等情境及環境中之一或多者中及/或在其他情境及環境中實現或增強使用者的人工實境體驗。

本文中所描述及/或繪示之程序參數及步驟序列僅作為實例提供且可按需要變化。舉例而言，雖然本文中所繪示及/或描述之步驟可以特定次序展示或論述，但此等步驟未必需要以所繪示或論述之次序執行。本文中所描述及/或繪示之各種例示性方法亦可省略本文中所描述或繪示之步驟中之一或多者或包括除所揭示之彼等步驟以外的額外步驟。

先前描述已經提供以使得所屬技術領域中具有通常知識者能夠最佳利用本文中所揭示之例示性具體實例的各種態樣。此例示性描述並不意欲為詳盡的或限於所揭示之任何精確形式。在不脫離本揭示內容之精神及範圍之情況下，許多修改及變化係可能的。本文所揭示之具體實例在全部方面應被視為繪示性而非限制性的。在判定本揭示內容之範圍時應參考所附申請專利範圍及其等效者。

除非另外指出，否則如說明書及申請專利範圍中所使用，術語「連接至」及「耦接至」（及其衍生詞）被解釋為准許直接及間接（亦即，經由其他元件或組件）連接兩者。另外，如說明書及申請專利範圍中使用之術語「一（a或an）」被解釋為意謂「中之至少一者」。最終，為易於使用，如說明書及申請專利範圍中所使用之術語「包括」及「具有」（及其衍生詞）可與詞「包含」互換且具有與詞「包含」相同之含義。

100:幾何波導 110:基板 120(1):分束器 120(2):分束器 120(3):分束器 130:光束 140:眼動區 200:幾何波導 210:基板 220:光束 230(1):分束器 230(2):分束器 230(3):分束器 240:眼動區 320:光束 322:光束 400:範例方法 402:聚合物 404:基板 410:步驟 420:步驟 430:步驟 432:部分反射塗層 440:步驟 442:分束器陣列 450:步驟 460:步驟 500:透鏡 502:波導 504:波導 506:波導 508:波導 600:透鏡 602:整合式波導裝置 602(a):功能性波導 602(b):功能性波導 602(c):功能性波導 602(d):功能性波導 700:擴增實境系統 705:頸帶 710:框架 715(A):左側顯示裝置 715(B):右側顯示裝置 720(A):聲音換能器 720(B):聲音換能器 720(C):聲音換能器 720(D):聲音換能器 720(E):聲音換能器 720(F):聲音換能器 720(G):聲音換能器 720(H):聲音換能器 720(I):聲音換能器 720(J):聲音換能器 725:控制器 730:有線連接 735:電源 740:感測器 750:控制器 800:虛擬實境系統 802:前部剛體 804:帶 806(A):輸出音訊換能器 806(B):輸出音訊換能器

隨附圖式繪示多個例示性具體實例且為本說明書之部分。連同以下描述，此等圖式展現並解釋本揭示內容之各種原理。

[圖1]為具有完全覆蓋分束器之範例幾何波導的圖式。

[圖2]為具有部分覆蓋分束器之範例幾何波導的圖式。

[圖3]為展示光之範例路徑之圖2之幾何波導的圖式。

[圖4]為用於製造具有部分覆蓋分束器之幾何波導之範例方法的圖式。

[圖5]為併有波導之範例透鏡的繪示。

[圖6]為併有一體式波導裝置之範例透鏡的繪示。

[圖7]為可結合本揭示內容之具體實例使用的例示性擴增實境眼鏡之繪示。

[圖8]為可結合本揭示內容之具體實例使用的例示性虛擬實境頭戴裝置之繪示。

貫穿圖式，相同參考字符及描述指示類似但未必相同之元件。雖然本文中所描述之例示性具體實例易受各種修改及替代形式影響，但在圖式中藉助於實例已展示特定具體實例，且將在本文中對其進行詳細描述。然而，本文中所描述之例示性具體實例並不意欲限於所揭示之特定形式。實情為，本揭示內容涵蓋屬於所附申請專利範圍之範圍的全部修改、等效者及替代方案。

200:幾何波導

210:基板

220:光束

230(1):分束器

230(2):分束器

230(3):分束器

240:眼動區

Claims (20)

1. 一種裝置，其包含： 基板；及 嵌入該基板內之分束器陣列，其中該分束器陣列內之各個分束器並不完全橫切該基板。
2. 如請求項1之裝置，其中該分束器陣列內之各個分束器經配置以朝向該裝置之輸出端透射第一比例之射線且反射第二比例之射線。
3. 如請求項1之裝置，其中： 該裝置經配置以提供自該裝置之輸入端至該裝置之輸出端的複數個射線路徑；且 該複數個射線路徑內之至少一個射線路徑繞過至少一個分束器且與至少一個後續分束器相交。
4. 如請求項1之裝置，其中該分束器陣列內之各個分束器在該裝置之輸出之方向上的反射性逐漸更強。
5. 如請求項4之裝置，其中由該分束器陣列內之各個分束器反射出該裝置的光之平均量係實質上均勻的。
6. 如請求項5之裝置，其中由該分束器陣列內之各個分束器反射出該裝置的光之該平均量至少基於以下各者係實質上均勻的： 繞過該分束器陣列內之各個分束器的射線路徑之比例；及 該分束器陣列內之各個分束器之反射度。
7. 如請求項1之裝置，其中該分束器陣列內之各個分束器在該裝置之輸出之方向上逐漸更長。
8. 如請求項1之裝置，其中該分束器陣列內之第一分束器在該裝置內經設定為處於與該分束器陣列內之第二分束器不同的角度。
9. 一種製造方法，其包含： 自基板移除材料使得該基板界定一系列傾斜凹槽； 在這些傾斜凹槽中之各者之斜坡上方施加一部分反射塗層；及 運用額外材料包覆該基板使得該系列傾斜凹槽被填充且該部分反射塗層由該基板完全包圍。
10. 如請求項9之製造方法，其中該基板包含聚合物材料。
11. 如請求項9之製造方法，其中施加該部分反射塗層包含施加反射性逐漸更強之塗層之梯度使得該系列傾斜凹槽中之各個凹槽的部分反射塗層的反射性逐漸更強。
12. 如請求項9之製造方法，其進一步包含在施加該部分反射塗層之後及在包覆該基板之前，自該基板之表面之一或多個部分移除該部分反射塗層。
13. 如請求項9之製造方法，其中自該基板移除該材料使得該基板界定該系列傾斜凹槽包含在該基板之不同位置處將材料移除至不同深度，使得該系列傾斜凹槽內之至少一個傾斜凹槽的最大深度不同於該系列傾斜凹槽內之至少一個其他傾斜凹槽的最大深度。
14. 一種系統，其包含： 頭戴式顯示器，其包含波導，該波導包含： 基板；及 嵌入該基板內之分束器陣列，其中該分束器陣列內之各個分束器並不完全橫切該基板。
15. 如請求項14之系統，其中該分束器陣列內之各個分束器經配置以朝向該波導之輸出端透射第一比例之射線且反射第二比例之射線。
16. 如請求項14之系統，其中： 該波導經配置以提供自該波導之輸入端至該波導之輸出端的複數個射線路徑；且 該複數個射線路徑內之至少一個射線路徑繞過至少一個分束器且與至少一個後續分束器相交。
17. 如請求項14之系統，其中該分束器陣列內之各個分束器在該波導之輸出之方向上的反射性逐漸更強。
18. 如請求項17之系統，其中由該分束器陣列內之各個分束器反射出該波導的光之平均量係實質上均勻的。
19. 如請求項18之波導，其中由該分束器陣列內之各個分束器反射出該波導的光之該平均量基於以下各者係實質上均勻的： 繞過該分束器陣列內之各個分束器的射線路徑之比例；及 該分束器陣列內之各個分束器之反射率。
20. 如請求項14之系統，其中該分束器陣列內之各個分束器在該波導之輸出之方向上逐漸更長。