TW202346906A

TW202346906A - 顯示系統及積層薄膜

Info

Publication number: TW202346906A
Application number: TW112109344A
Authority: TW
Inventors: 小島理; 後藤周作
Original assignee: 日商日東電工股份有限公司
Priority date: 2022-03-14
Filing date: 2023-03-14
Publication date: 2023-12-01
Also published as: WO2023176661A1

Abstract

本發明提供一種可實現VR護目鏡之輕量化、提升視辨性之顯示系統。本發明實施形態之顯示系統，係對使用者顯示影像者，其具備：顯示元件，其具有顯示面，並經由偏光構件將顯示影像之光朝前方射出；反射型偏光構件，係配置於前述顯示元件之前方，並反射從前述顯示元件射出之光；第一透鏡部，係配置於前述顯示元件與前述反射型偏光構件之間的光路上；半反射鏡，係配置於前述顯示元件與前述第一透鏡部之間，該半反射鏡係使從前述顯示元件射出之光透射，並使經前述反射型偏光構件反射之光朝前述反射型偏光構件反射；第二透鏡部，係配置於前述反射型偏光構件之前方；第1λ/4構件，係配置於前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路上；第2λ/4構件，係配置於前述半反射鏡與前述反射型偏光構件之間的光路上；以及，保護構件，係配置於以下至少一光路上：前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路、及前述半反射鏡與前述第二透鏡部之間的光路；前述保護構件在波長450nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長600nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長450nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長600nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長420nm下之5°正常反射率相對於波長420nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下，波長680nm下之5°正常反射率相對於波長680nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下。

Description

顯示系統及積層薄膜

本發明涉及顯示系統及積層薄膜。

以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。影像顯示裝置中，為了實現影像顯示、提高影像顯示之性能，一般係使用偏光構件、相位差構件等光學構件(例如參照專利文獻1)。

近年來，有開發出影像顯示裝置之新用途。例如，用以實現Virtual Reality(VR)之附顯示器之護目鏡(VR護目鏡)已開始產品化。有研討要將VR護目鏡利用在各種情況下，因而期望其輕量化、提升視辨性等。輕量化例如可藉由將用於VR護目鏡之透鏡予以薄型化來達成。另一方面，亦期望開發適於使用薄型透鏡之顯示系統的光學構件。例如，為了提升視辨性，期望有可解決會在VR護目鏡內發生之反射問題的光學構件。先前技術文獻專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2021-103286號公報

發明欲解決之課題鑑於上述，本發明主要目的在於提供一種可實現VR護目鏡之輕量化、提升視辨性之顯示系統。

用以解決課題之手段 1.本發明實施形態之顯示系統，係對使用者顯示影像者，其具備：顯示元件，其具有顯示面，並經由偏光構件將顯示影像之光朝前方射出；反射型偏光構件，係配置於前述顯示元件之前方，並反射從前述顯示元件射出之光；第一透鏡部，係配置於前述顯示元件與前述反射型偏光構件之間的光路上；半反射鏡，係配置於前述顯示元件與前述第一透鏡部之間，該半反射鏡係使從前述顯示元件射出之光透射，並使經前述反射型偏光構件反射之光朝前述反射型偏光構件反射；第二透鏡部，係配置於前述反射型偏光構件之前方；第1λ/4構件，係配置於前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路上；第2λ/4構件，係配置於前述半反射鏡與前述反射型偏光構件之間的光路上；以及，保護構件，係配置於以下至少一光路上：前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路、及前述半反射鏡與前述第二透鏡部之間的光路；前述保護構件在波長450nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長600nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長450nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長600nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長420nm下之5°正常反射率相對於波長420nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下，波長680nm下之5°正常反射率相對於波長680nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下。 2.如上述1之顯示系統中，上述保護構件亦可與形成於上述顯示元件與上述半反射鏡之間的空間相接。 3.如上述1或2之顯示系統中，上述保護構件亦可與下述空間相接：形成於上述第一透鏡部及上述第二透鏡部中之至少一者與上述保護構件之間的空間。 4.如上述1至3中任一項之顯示系統中，上述保護構件之表面平滑性亦可為0.5arcmin以下。 5.如上述1至4中任一項之顯示系統中，上述λ/4構件亦可滿足Re(450)＜Re(550)。 6.如上述1至5中任一項之顯示系統，亦可具備包含上述第1λ/4構件與上述保護構件之積層部。 7.如上述6之顯示系統中，上述積層部亦可包含上述顯示元件所含之偏光構件。 8.如上述1至7中任一項之顯示系統，亦可具備包含上述第2λ/4構件與上述保護構件之積層部。 9.如上述1至8中任一項之顯示系統，亦可具備包含上述反射型偏光構件與上述保護構件之積層部。 10.如上述9之顯示系統中，上述積層部亦可包含配置於上述反射型偏光構件與上述第二透鏡部之間的吸收型偏光構件。 11.本發明實施形態之積層薄膜，係用於具有以下程序之顯示方法：使經由偏光構件射出之顯示影像的光通過第1λ/4構件之程序；使通過前述第1λ/4構件之光通過半反射鏡及第一透鏡部之程序；使通過前述半反射鏡及前述第一透鏡部之光通過第2λ/4構件之程序；使通過前述第2λ/4構件之光藉反射型偏光構件朝前述半反射鏡反射之程序；使經前述反射型偏光構件及前述半反射鏡反射之光可藉由前述第2λ/4構件而透射前述反射型偏光構件之程序；以及，使透射前述反射型偏光構件之光通過第二透鏡部之程序；前述積層薄膜係配置於以下至少一光路上：前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路、及前述半反射鏡與前述第二透鏡部之間的光路；前述積層薄膜在波長450nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長600nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長450nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長600nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長420nm下之5°正常反射率相對於波長420nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下，波長680nm下之5°正常反射率相對於波長680nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下。

發明效果根據本發明實施形態之顯示系統，可實現VR護目鏡之輕量化、提升視辨性。

以下參照圖式針對本發明實施形態進行說明，惟本發明不受該等實施形態所限。為了更明確說明圖式，相較於實施形態，有將各部分之寬度、厚度、形狀等示意顯示之情形，但僅為一例，非用以限定解釋本發明。又，關於圖式，有時會對相同或同等之要素賦予相同符號，並省略重複說明。

(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率，而「nz」為厚度方向的折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係在23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數可藉由Nz=Rth/Re求出。 (5)角度本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩方向。因此，例如「45°」係指±45°。

圖1係顯示本發明一實施形態之顯示系統之概略構成的示意圖。圖1中係示意圖示顯示系統2之各構成要素之配置及形狀等。顯示系統2具備有：顯示元件12、反射型偏光構件14、第一透鏡部16、半反射鏡18、第一相位差構件20、第二相位差構件22及第二透鏡部24。反射型偏光構件14係配置於顯示元件12之顯示面12a側即前方，其可反射從顯示元件12射出之光。第一透鏡部16係配置於顯示元件12與反射型偏光構件14之間的光路上，半反射鏡18係配置於顯示元件12與第一透鏡部16之間。第一相位差構件20係配置於顯示元件12與半反射鏡18之間的光路上，第二相位差構件22係配置於半反射鏡18與反射型偏光構件14之間的光路上。

從半反射鏡起或從第一透鏡部起往前方配置之構成要素(圖式例中，為半反射鏡18、第一透鏡部16、第二相位差構件22、反射型偏光構件14及第二透鏡部24)有時統稱為透鏡部(透鏡部4)。

顯示元件12例如為液晶顯示器或有機EL顯示器，且具有用以顯示影像之顯示面12a。要從顯示面12a射出之光例如會通過顯示元件12可包含之偏光構件(代表上為偏光薄膜)後射出，成為第1直線偏光。

第一相位差構件20包含第1λ/4構件，其可將入射第一相位差構件20之第1直線偏光轉換成第1圓偏光。第一相位差構件不包含第1λ/4構件以外之構件時，第一相位差構件便相當於第1λ/4構件。第一相位差構件20亦可設於顯示元件12上而成一體。

半反射鏡18係使從顯示元件12射出之光透射，並使經反射型偏光構件14反射之光朝反射型偏光構件14反射。半反射鏡18係設於第一透鏡部16上而成一體。

第二相位差構件22包含第2λ/4構件，其可使經反射型偏光構件14及半反射鏡18反射之光透射反射型偏光構件14。第二相位差構件不包含第2λ/4構件以外之構件時，第二相位差構件便相當於第2λ/4構件。第二相位差構件22亦可設於第一透鏡部16上而成一體。

從第一相位差構件20所含之第1λ/4構件射出之第1圓偏光會通過半反射鏡18及第一透鏡部16，並藉由第二相位差構件22所含之第2λ/4構件轉換成第2直線偏光。從第2λ/4構件射出之第2直線偏光不會透射反射型偏光構件14而朝半反射鏡18反射。此時，入射反射型偏光構件14之第2直線偏光的偏光方向係與反射型偏光構件14之反射軸同方向。因此，入射反射型偏光構件14之第2直線偏光會被反射型偏光構件14反射。

經反射型偏光構件14反射之第2直線偏光藉由第二相位差構件22所含之第2λ/4構件轉換成第2圓偏光，而從第2λ/4構件射出之第2圓偏光則通過第一透鏡部16而被半反射鏡18反射。經半反射鏡18反射之第2圓偏光會通過第一透鏡部16，並藉由第二相位差構件22所含之第2λ/4構件轉換成第3直線偏光。第3直線偏光會透射反射型偏光構件14。此時，入射反射型偏光構件14之第3直線偏光的偏光方向係與反射型偏光構件14之透射軸同方向。因此，入射反射型偏光構件14之第3直線偏光會透射反射型偏光構件14。

透射反射型偏光構件14之光會通過第二透鏡部24入射使用者之眼睛26。

例如，顯示元件12所含之偏光構件之吸收軸與反射型偏光構件14之反射軸可配置成互相大致平行，亦可配置成大致正交。顯示元件12所含之偏光構件之吸收軸與第一相位差構件20所含之第1λ/4構件之慢軸構成的角度例如為40°~50°，可為42°~48°，亦可為約45°。顯示元件12所含之偏光構件之吸收軸與第二相位差構件22所含之第2λ/4構件之慢軸構成的角度例如為40°~50°，可為42°~48°，亦可為約45°。

第1λ/4構件之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm，可為110nm~180nm，可為130nm~160nm，亦可為135nm~155nm。第1λ/4構件宜展現相位差值隨測定光之波長而變大的逆色散波長特性。第1λ/4構件之Re(450)/Re(550)例如為0.75以上且小於1，亦可為0.8以上且0.95以下。

第2λ/4構件之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm，可為110nm~180nm，可為130nm~160nm，亦可為135nm~155nm。第2λ/4構件宜展現相位差值隨測定光之波長而變大的逆色散波長特性。第2λ/4構件之Re(450)/Re(550)例如為0.75以上且小於1，亦可為0.8以上且0.95以下。

顯示元件12與透鏡部4之間可形成空間。例如，配置在顯示元件12與透鏡部4之間的構件宜設置於顯示元件12上而成一體。具體上，宜使配置在顯示元件12與透鏡部4之間的構件透過接著層來與顯示元件12一體化。根據所述形態，可使例如各構件之處理性優異。接著層可由接著劑形成，亦可由黏著劑形成。具體上，接著層可為接著劑層，亦可為黏著劑層。接著層之厚度例如為0.05µm~30µm。

圖2係顯示圖1所示顯示系統之顯示元件之一部分詳細內容之一例的示意剖面圖。具體而言，圖2係顯示設置於顯示元件12上而成一體之構件的積層部。此外，有時會將顯示元件與設置於顯示元件上而成一體之構件統稱為顯示部。積層部100除了包含有第一相位差構件20及配置於第一相位差構件20之單側的偏光構件12b外，還包含有配置於第一相位差構件20之另一側的保護構件33。偏光構件12b可對應顯示元件12可包含之偏光構件。雖未圖示，但於積層部100之偏光構件12b側配置有顯示元件12之本體部。保護構件33可位於積層部100之最表面。雖未圖示，但偏光構件12b與第一相位差構件20係透過接著層(例如黏著劑層)積層。又，第一相位差構件20與保護構件33係透過接著層(例如黏著劑層)積層。

圖2所示之例中，第一相位差構件20除了第1λ/4構件20a外，還包含有折射率特性可展現nz＞nx=ny之關係的構件(所謂正C板)20b。第一相位差構件20具有第1λ/4構件20a與正C板20b之積層結構。藉由使用正C板，可防止漏光(例如斜向之漏光)。如圖2所示，第一相位差構件20中，正C板20b宜位於較第1λ/4構件20a更前方。第1λ/4構件20a與正C板20b例如係透過未圖示之接著劑層積層。

上述第1λ/4構件宜為折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。第1λ/4構件之Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。

第1λ/4構件係以可滿足上述特性之任意適當之材料形成。第1λ/4構件例如可為樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層。

上述樹脂薄膜所含之樹脂可列舉：聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂等。該等樹脂可單獨使用，亦可組合來使用。組合方法可舉例如摻合、共聚。第1λ/4構件展現逆色散波長特性時，可適宜使用含聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱為聚碳酸酯系樹脂)之樹脂薄膜。

上述聚碳酸酯系樹脂可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含：源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元；及，源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂宜包含：源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元；源自脂環式二甲醇之結構單元；以及/或是，源自二、三或聚乙二醇之結構單元；更宜包：含源自茀系二羥基化合物之結構單元；源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元；及，源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可視需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外，可適宜用於第1λ/4構件之聚碳酸酯系樹脂及第1λ/4構件之形成方法的詳細內容，例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特表2015-212817號公報、日本專利特表2015-212818號公報中，本說明書即援用該等公報之記載作為參考。

以樹脂薄膜之延伸薄膜構成之第1λ/4構件的厚度例如為10µm~100µm，宜為10µm~70µm，較宜為20µm~60µm。

上述液晶化合物之定向固化層係液晶化合物在層內於預定方向定向且其定向狀態經固定之層。此外，「定向固化層」之概念包含如後述使液晶單體硬化而得之定向硬化層。以第1λ/4構件來說，代表上係棒狀液晶化合物沿第1λ/4構件之慢軸方向排列之狀態下定向(沿面定向)。棒狀液晶化合物可舉例如液晶聚合物及液晶單體。液晶化合物宜可聚合。液晶化合物若可聚合，便可使液晶化合物於定向後進行聚合，藉此固定液晶化合物的定向狀態。

上述液晶化合物之定向固化層(液晶定向固化層)可藉由下述方式來形成：對預定基材之表面施行定向處理，並於該表面塗敷含液晶化合物的塗敷液，使該液晶化合物於對應上述定向處理之方向定向，並固定該定向狀態。定向處理可採用任意適當之定向處理。具體上可舉機械性定向處理、物理性定向處理、化學性定向處理。機械性定向處理的具體例可舉磨擦處理、延伸處理。物理性定向處理的具體例可舉磁場定向處理、電場定向處理。化學性定向處理的具體例可舉斜向蒸鍍法、光定向處理。各種定向處理的處理條件可按目的採用任意適當之條件。

液晶化合物的定向可因應液晶化合物的種類在可展現液晶相之溫度下進行處理來進行。藉由進行所述溫度處理，液晶化合物會變為液晶狀態，而該液晶化合物會因應基材表面之定向處理方向而定向。

在一實施形態中，定向狀態之固定係藉由冷卻依上述方式定向之液晶化合物來進行。當液晶化合物為聚合性或交聯性時，定向狀態之固定係藉由對依上述方式定向之液晶化合物施行聚合處理或交聯處理來進行。

上述液晶化合物可使用任意適當之液晶聚合物及/或液晶單體。液晶聚合物及液晶單體各自可單獨使用，亦可組合。液晶化合物之具體例及液晶定向固化層之製作方法記載於例如日本專利特開2006-163343號公報、日本專利特開2006-178389號公報、國際公開第2018/123551號公報中。本說明書即援用該等公報之記載作為參考。

以液晶定向固化層構成之第1λ/4構件的厚度例如為1µm~10µm，宜為1µm~8µm，較宜為1µm~6µm，更宜為1µm~4µm。

上述正C板之厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm，較宜為-70nm~-250nm，更宜為-90nm~-200nm，尤宜為-100nm~-180nm。在此，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格上相等之情況，還包含nx與ny實質上相等之情況。正C板之面內相位差Re(550)例如小於10nm。

正C板可以任意適當之材料形成，而正C板宜由含固定成垂面定向之液晶材料的薄膜構成。可使垂面定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體，亦可為液晶聚合物。所述液晶化合物及正C板之形成方法的具體例可舉日本專利特開2002-333642號公報之段落[0020]~[0028]中記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。此時，正C板之厚度宜為0.5µm~5µm。

偏光膜構件12b例如可包含含二色性物質之樹脂薄膜(有時稱為吸收型偏光膜)。吸收型偏光膜之厚度例如為1µm以上且20µm以下，可為2µm以上且15µm以下，可為12µm以下，可為10µm以下，可為8µm以下，亦可為5µm以下。

上述吸收型偏光膜可由單層樹脂薄膜製作，亦可使用二層以上之積層體來製作。

由單層樹脂薄膜製作時，例如可藉由對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯・乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等之親水性高分子薄膜，施行利用碘或二色性染料等之二色性物質進行之染色處理、延伸處理等，而獲得吸收型偏光膜。其中，宜為將PVA系薄膜用碘染色並進行單軸延伸所得之吸收型偏光膜。

上述利用碘進行之染色，例如可藉由將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可邊染色邊進行。又，亦可延伸後再染色。視需要，對PVA系薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。

作為使用上述二層以上之積層體來製作時的積層體，可列舉以下積層體：樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體；或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而得之吸收型偏光膜，例如可藉由以下步驟來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；以及，將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成吸收型偏光膜。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中來延伸。並且視需求，延伸可更包含在硼酸水溶液中進行延伸前將積層體在高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。並且，在本實施形態中，宜將積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將積層體一邊往長邊方向輸送一邊加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上。代表上，本實施形態之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即便是在將PVA塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提高PVA之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA之定向性，可在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，防止PVA之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更可抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之吸收型偏光膜的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向收縮，可提升光學特性。所得樹脂基材/吸收型偏光膜之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為吸收型偏光膜之保護層)，亦可於從樹脂基材/吸收型偏光膜之積層體剝離樹脂基材後的剝離面、或於與剝離面相反側的面積層符合目的之任意適當的保護層來使用。所述吸收型偏光膜之製造方法之詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。本說明書中係引用該等公報整體之記載作為參考。

偏光構件(吸收型偏光膜)之正交透射率(Tc)宜為0.5%以下，較宜為0.1%以下，更宜為0.05%以下。偏光構件(吸收型偏光膜)之單體透射率(Ts)例如為41.0%~45.0%，宜為42.0%以上。偏光構件(吸收型偏光膜)之偏光度(P)例如為99.0%~99.997%，宜為99.9%以上。

上述保護構件代表上可為具有基材與表面處理層之積層薄膜。具有表面處理層之保護構件可配置成表面處理層位於前方側。具體而言，表面處理層可位於積層部之最表面。

保護構件在波長420nm至680nm之範圍中之5°正常反射率光譜的最大值例如為0%以上且1.2%以下，宜為1.0%以下，較宜為0.8%以下。藉由使具有所述反射特性之保護構件位於積層部之最表面，可格外提升視辨性。舉例來說，藉由與形成於顯示元件12與透鏡部4之間的空間相接之保護構件滿足上述反射特性，可極良好地抑制在空氣與保護構件之界面的反射所造成之光損耗。在使用大量構件之顯示系統2中所需之光量大，從而可顯著獲得抑制光損耗的效果。又，藉由保護構件滿足上述反射特性，可抑制因反射而視辨到重影(ghost)。

保護構件在波長420nm至680nm之範圍中之30°正常反射率光譜的最大值例如為0%以上且1.4%以下，宜為1.2%以下，較宜為1.0%以下。藉由使具有所述反射特性之保護構件位於積層部之最表面，可格外提升視辨性。舉例來說，藉由與形成於顯示元件12與透鏡部4之間的空間相接之保護構件滿足上述反射特性，可極良好地抑制在空氣與保護構件之界面的反射所造成之光損耗。具體而言，光會在顯示系統2中漫射，而被漫射的光有從斜向對保護構件入射之情形。可極良好地抑制所述光損耗。在使用大量構件之顯示系統2中所需之光量大，從而可顯著獲得抑制光損耗的效果。又，藉由保護構件滿足上述反射特性，可抑制因反射而視辨到重影(ghost)。

如上述，使用之光量大時，色相管理便很重要。例如可見光區域之反射率的平衡很重要。保護構件在波長450nm下之5°正常反射率例如為0.01%以上且0.4%以下，宜為0.3%以下，較宜為0.2%以下，更宜為0.1%以下。保護構件在波長600nm下之5°正常反射率例如為0.01%以上且0.4%以下，宜為0.3%以下，較宜為0.2%以下，更宜為0.1%以下。

保護構件在波長450nm下之30°正常反射率例如為0.01%以上且0.6%以下，宜為0.5%以下，較宜為0.4%以下，更宜為0.3%以下。保護構件在波長600nm下之30°正常反射率例如為0.01%以上且0.6%以下，宜為0.5%以下，較宜為0.4%以下，更宜為0.3%以下。

保護構件在波長420nm至680nm之範圍中之5°正常反射率光譜亦可在波長450nm至480nm之範圍中及在波長600nm至630nm之範圍中具有極小值。例如，波長450nm至480nm之範圍中之5°正常反射率的平均值Ave(450-480nm)相對於波長530nm至560nm之範圍中之5°正常反射率的平均值Ave(530-560nm)之比宜為0.10以上且0.90以下，較宜為0.80以下。而且，波長600nm至630nm之範圍中之5°正常反射率的平均值Ave(600-630nm)相對於波長530nm至560nm之範圍中之5°正常反射率的平均值Ave(530-560nm)之比宜為0.10以上且0.50以下，較宜為0.40以下。此外，5°正常反射率的平均值例如可藉由在各波長範圍中每隔5nm抽選7處測定值、並將該等合計除以抽選出之波長數量(7處)而求得。

保護構件在波長420nm至680nm之範圍中之30°正常反射率光譜亦可在波長430nm至470nm之範圍中及在波長550nm至590nm之範圍中具有極小值。例如，波長430nm至470nm之範圍中之30°正常反射率的平均值Ave(430-470nm)相對於波長480nm至510nm之範圍中之30°正常反射率的平均值Ave(480-510nm)之比宜為0.10以上且小於1.0，亦可為0.80以下。而且，波長580nm至620nm之範圍中之30°正常反射率的平均值Ave(580-620nm)相對於波長480nm至510nm之範圍中之30°正常反射率的平均值Ave(480-510nm)之比宜為0.10以上且小於1.0，亦可為0.80以下。此外，30°正常反射率的平均值例如可藉由在各波長範圍中每隔5nm抽選測定值、並將該等合計除以抽選出之波長數量而求得。

保護構件在波長420nm下之5°正常反射率相對於波長420nm下之30°正常反射率的比(波長420nm下之5°正常反射率/波長420nm下之30°正常反射率)例如為0.1以上且10以下，宜為0.3以上且5以下，較宜為0.5以上且4以下。保護構件在波長680nm下之5°正常反射率相對於波長680nm下之30°正常反射率的比(波長680nm下之5°正常反射率/波長680nm下之30°正常反射率)例如為0.1以上且10以下，宜為0.2以上且5以下，較宜為0.3以上且2以下。藉由不僅上述低反射特性、還有大致正面方向之反射率與斜向之反射率的比滿足所述範圍，可達成優異的顯示品質。具體而言，在視辨顯示系統2顯示之影像時，大致正面方向之反射率與斜向之反射率的比若過大或若過小，在影像中央部與影像端部之視線移動時會產生反射光造成之雙重影像(例如影像會模糊)，而可能導致疲勞。又，在黑顯示時中央部與端部之泛白程度不同，可能會對顯示品質造成影響。

保護構件之表面平滑性宜為0.5arcmin以下，較宜為0.4arcmin以下。藉由使用滿足所述平滑性之保護構件，可抑制漫射光發生，而可抑制影像變得不清晰。實質上，保護構件之表面平滑性例如為0.1arcmin以上。保護構件之厚度宜為10µm~80µm，較宜為15µm~60µm，更宜為20µm~45µm。

圖3係顯示本發明一實施形態之積層薄膜之概略構成的示意剖面圖。積層薄膜34具有基材36與配置在基材36之上方的表面處理層38。基材36之厚度宜為5µm~80µm，較宜為10µm~50µm，更宜為15µm~40µm。基材36之表面平滑性宜為0.7arcmin以下，較宜為0.6arcmin以下，更宜為0.5arcmin以下。此外，表面平滑性可藉由使照射光聚焦於對象之表面來測定。

基材36可以任意適當之薄膜構成。作為構成基材36之薄膜之主成分的材料可列舉例如：三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系等之環烯烴系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之樹脂。在此，(甲基)丙烯酸意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。在一實施形態中，基材36宜以(甲基)丙烯酸系樹脂構成。藉由採用(甲基)丙烯酸系樹脂，可良好地滿足上述表面平滑性。具體而言，藉由採用(甲基)丙烯酸系樹脂，可利用擠製成形製膜出表面平滑性優異之基材。

表面處理層38之厚度宜為0.5µm~10µm，較宜為1µm~7µm，更宜為2µm~5µm。表面處理層38例如具有硬塗層38a與具有抗反射功能之機能層38b。

硬塗層38a代表上係藉由於基材36塗佈硬塗層形成材料並使塗佈層硬化來形成。硬塗層形成材料代表上包含作為層形成成分之硬化性化合物。硬化性化合物之硬化機制可舉例如熱硬化型、光硬化型。硬化性化合物可舉例如單體、寡聚物、預聚物。宜可使用多官能單體或寡聚物作為硬化性化合物。多官能單體或寡聚物可列舉例如具有2個以上(甲基)丙烯醯基之單體或寡聚物、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯之寡聚物、環氧系單體或寡聚物、聚矽氧系單體或寡聚物。

硬塗層38a之厚度宜為0.5µm~10µm，較宜為1µm~7µm，更宜為2µm~5µm。

機能層38b宜具有包含高折射率層及低折射率層之積層結構。機能層38b宜從基材36側起依序具有高折射率層及低折射率層。藉由具有所述積層結構，可良好地滿足上述反射特性。

例如，上述高折射率層可藉由高折射率樹脂(例如在波長550nm之條件下測定之折射率為1.55以上)構成。此時，高折射率層代表上可為塗敷層。又例如，上述高折射率層可藉由無機膜構成。此時，高折射率層代表上可藉由真空蒸鍍、濺鍍等物理蒸鍍、化學蒸鍍來成膜。

高折射率層之厚度宜為10nm~200nm，較宜為20nm~150nm。

低折射率層之厚度宜為10nm~200nm，較宜為20nm~150nm。

上述低折射率層(抗反射層)例如可藉由使塗敷低折射率層(抗反射層)形成用塗敷液並乾燥所得之塗膜硬化而得。抗反射層形成用塗敷液亦可包含有例如樹脂成分(硬化性化合物)、含氟之添加劑、中空粒子、實心粒子及溶劑等，例如可將該等混合而得。

抗反射層形成用塗敷液中所含樹脂成分(硬化性化合物)之硬化機制可舉例如熱硬化型、光硬化型。樹脂成分可使用例如具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的硬化性化合物，可列舉例如聚矽氧樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、環氧樹脂、胺甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等寡聚物或預聚物等。該等可單獨使用1種亦可併用2種以上。

上述樹脂成分中亦可使用例如具有丙烯酸酯基及甲基丙烯酸酯基中之至少一基團的反應性稀釋劑。反應性稀釋劑例如可使用日本專利特開2008-88309號公報中記載之反應性稀釋劑，例如包含單官能丙烯酸酯、單官能甲基丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、多官能甲基丙烯酸酯等。由獲得優異硬度之觀點來看，反應性稀釋劑宜可使用3官能以上之丙烯酸酯、3官能以上之甲基丙烯酸酯。反應性稀釋劑還可舉例如丁二醇甘油醚二丙烯酸酯、異三聚氰酸的丙烯酸酯、異三聚氰酸的甲基丙烯酸酯等。該等可單獨使用1種亦可併用2種以上。為了上述樹脂成分之硬化，例如亦可使用硬化劑。硬化劑例如可使用公知之聚合引發劑(例如熱聚合引發劑、光聚合引發劑等)。

上述含氟添加劑例如可為含氟之有機化合物，亦可為含氟之無機化合物。含氟之有機化合物可舉例如含氟之防污塗覆劑、含氟之丙烯酸化合物、含氟・含矽之丙烯酸化合物。含氟之有機化合物可使用市售物。市售物之具體例可舉信越化學工業股份公司製之商品名「KY-1203」、DIC股份公司製之商品名「MEGAFACE」等。相對於上述樹脂成分100重量份，含氟添加劑之含量例如可為0.05重量份以上、0.1重量份以上、0.15重量份以上、0.20重量份以上或0.25重量份以上，且可為20重量份以下、15重量份以下、10重量份以下、5重量份以下或3重量份以下。

上述中空粒子可使用例如二氧化矽粒子、丙烯酸粒子、丙烯酸-苯乙烯共聚粒子。中空二氧化矽粒子可使用市售物(例如日揮觸媒化成工業股份公司製之商品名「THRULYA 5320」、「THRULYA 4320」)。中空粒子之重量平均粒徑例如可為30nm以上、40nm以上、50nm以上、60nm以上或70nm以上，亦可為150nm以下、140nm以下、130nm以下、120nm以下或110nm以下。中空粒子的形狀無特別限制，宜為大致球形。具體而言，中空粒子之長寬比宜為1.5以下。相對於上述樹脂成分100重量份，中空粒子之含量例如可為30重量份以上、50重量份以上、70重量份以上、90重量份以上或100重量份以上，亦可為300重量份以下、270重量份以下、250重量份以下、200重量份以下或180重量份以下。

上述實心粒子可使用例如氧化矽粒子、氧化鋯粒子、氧化鈦粒子。實心氧化矽粒子可使用市售物(例如日產化學工業股份公司製之商品名「MEK-2140Z-AC」、「MIBK-ST」、「IPA-ST」)。實心粒子之重量平均粒徑例如可為5nm以上、10nm以上、15nm以上、20nm以上或25nm以上，且可為330nm以下、250nm以下、200nm以下、150nm以下或100nm以下。中空粒子的形狀無特別限制，宜為大致球形。具體而言，中空粒子之長寬比宜為1.5以下。相對於上述樹脂成分100重量份，實心粒子之含量例如可為5重量份以上、10重量份以上、15重量份以上、20重量份以上或25重量份以上，亦可為150重量份以下、120重量份以下、100重量份以下或80重量份以下。

上述溶劑可使用任意適當之溶劑。溶劑可列舉例如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、TBA(三級丁醇)、2-甲氧基乙醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、MIBK(甲基異丁基酮)、環戊酮等酮類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、PMA(丙二醇單甲基醚乙酸酯)等酯類；二異丙基醚、丙二醇單甲基醚等醚類；乙二醇、丙二醇等甘醇類；乙賽璐蘇、丁賽璐蘇等賽璐蘇類；己烷、庚烷、辛烷等脂肪族烴類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類。該等可單獨使用1種亦可併用2種以上。關於溶劑之含量，例如相對於上述抗反射層形成用塗敷液整體之重量，可設成固體成分之重量成為例如0.1重量%以上、0.3重量%以上、0.5重量%以上、1.0重量%以上或1.5重量%以上，亦可設成固體成分之重量成為20重量%以下、15重量%以下、10重量%以下、5重量%以下或3重量%以下。

上述抗反射層形成用塗敷液之塗敷方法可使用例如噴注式塗佈法、模塗法、旋塗法、噴塗法、凹版塗佈法、輥塗法、棒塗法等公知之塗敷方法。上述塗膜之乾燥溫度例如為30℃~200℃，乾燥時間例如為30秒~90秒。上述塗膜之硬化例如可藉由加熱、光照射(代表上為紫外線照射)來進行。光照射之光源例如可使用高壓水銀燈。紫外線照射之照射量以紫外線波長365nm下之累積曝光量而言，宜為50mJ/cm ²~500mJ/cm ²。

透鏡部4中，第一透鏡部16與第二透鏡部24之間可形成空間。此時，配置於第一透鏡部16與第二透鏡部24之間的構件宜設置於第一透鏡部16與第二透鏡部24中之任一者上而成一體。例如，宜使配置於第一透鏡部16與第二透鏡部24之間的構件透過接著層而設置於第一透鏡部16與第二透鏡部24中之任一者上而成一體。根據所述形態，可使例如各構件之處理性優異。此外，接著層之詳細內容如上述。

圖4係顯示圖1所示顯示系統之透鏡部之詳細內容之一例的示意剖面圖。具體上，圖4中係顯示第一透鏡部、第二透鏡部及配置於該等之間的構件。透鏡部4具備：第一透鏡部16、與第一透鏡部16鄰接設置之第一積層部110、第二透鏡部24及與第二透鏡部24鄰接設置之第二積層部200。圖4所示例中，第一積層部110與第二積層部200係分離配置。雖未圖示，但半反射鏡可設於第一透鏡部16上而成一體。

第一積層部110包含第二相位差構件22、及配置於第一透鏡部16與第二相位差構件22之間的接著層(例如黏著劑層)41，且藉由接著層41設置於第一透鏡部16上而成一體。第一積層部110更包含有配置於第二相位差構件22之前方的第一保護構件31。第一保護構件31係透過接著層(例如黏著劑層)42積層於第二相位差構件22上。第一保護構件31可位於第一積層部110之最表面。

圖4所示例中，第二相位差構件22除了第2λ/4構件22a外，還包含有折射率特性可展現nz＞nx=ny之關係的構件(所謂正C板)22b。第二相位差構件22具有第2λ/4構件22a與正C板22b之積層結構。藉由使用正C板，可防止漏光(例如斜向之漏光)。如圖4所示，第二相位差構件22中，第2λ/4構件22a宜位於較正C板22b更前方。第2λ/4構件22a與正C板22b例如係透過未圖示之接著劑層積層。

上述第2λ/4構件宜為折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。第2λ/4構件之Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。

第2λ/4構件係以可滿足上述特性之任意適當之材料形成。第2λ/4構件例如可為樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層。關於以樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層構成之第2λ/4構件，可應用與上述第1λ/4構件相同之說明。第1λ/4構件與第2λ/4構件可為構成(例如形成材料、厚度、光學特性等)相同之構件，亦可為不同構成之構件。

正C板可以任意適當之材料形成。可形成正C板之材料的詳細內容如上述。

上述第一保護構件代表上可為具有基材與表面處理層之積層薄膜。具有表面處理層之第一保護構件可配置成表面處理層位於前方側。具體而言，表面處理層可位於第一積層部之最表面。關於第一保護構件之詳細內容，可應用與上述保護構件相同之說明。具體而言，關於第一保護構件之反射特性與其效果、平滑性、構成、厚度及構成材料，可應用與上述保護構件相同之說明。舉例來說，藉由與形成於第一透鏡部16與第二透鏡部24之間的空間相接之保護構件(第一保護構件及/或後述第二保護構件)滿足上述反射特性，可極良好地抑制在空氣與保護構件之界面的反射所造成之光損耗。

第二積層部200包含有反射型偏光構件14、及配置於反射型偏光構件14與第二透鏡部24之間的接著層(例如黏著劑層)。例如由提升視辨性之觀點來看，第二積層部200更包含有配置於反射型偏光構件14與第二透鏡部24之間的吸收型偏光構件28。吸收型偏光構件28係透過接著層(例如黏著劑層)44積層於反射型偏光構件14之前方。反射型偏光構件14之反射軸與吸收型偏光構件28之吸收軸可配置成互相大致平行，且反射型偏光構件14之透射軸與吸收型偏光構件28之透射軸可配置成互相大致平行。藉由透過接著層積層，反射型偏光構件14與吸收型偏光構件28會被固定，而可防止反射軸與吸收軸(透射軸與透射軸)之軸配置偏移。又，可抑制可能形成於反射型偏光構件14與吸收型偏光構件28之間的空氣層造成之不良影響。

第二積層部200更包含有配置於反射型偏光構件14之後方的第二保護構件32。第二保護構件32係透過接著層(例如黏著劑層)43積層於反射型偏光構件14上。第二保護構件32可位於第二積層部200之最表面。第一保護構件31與第二保護構件32係以隔著空間相對向之方式配置。如同上述第一保護構件，第二保護構件代表上可為具有基材與表面處理層之積層薄膜。此時，表面處理層可位於第二積層部之最表面。關於第二保護構件之詳細內容，可應用與上述保護構件相同之說明。具體而言，關於第二保護構件之反射特性與其效果、平滑性、構成、厚度及構成材料，可應用與上述保護構件相同之說明。

在圖4所示之例中，第二積層部200更包含有配置於吸收型偏光構件28與第二透鏡部24之間的第三相位差構件30。第三相位差構件30係透過接著層(例如黏著劑層)45積層於吸收型偏光構件28上。又，第三相位差構件30係透過接著層(例如黏著劑層)46積層於第二透鏡部24上，第二積層部200係設於第二透鏡部24上而成一體。第三相位差構件30例如包含第3λ/4構件。吸收型偏光構件28之吸收軸與第三相位差構件30所含之第3λ/4構件之慢軸構成的角度例如為40°~50°，可為42°~48°，亦可為約45°。藉由設置所述構件，例如可防止來自第二透鏡部16側之外光反射。第三相位差構件不包含第3λ/4構件以外之構件時，第三相位差構件便相當於第3λ/4構件。

上述反射型偏光構件可在將與其透射軸平行之偏光(代表上為直線偏光)維持其偏光狀態之狀態下透射，並反射其以外之偏光狀態的光。反射型偏光構件代表上係以具有多層結構之薄膜(有時稱為反射型偏光薄膜)構成。此時，反射型偏光構件之厚度例如為10µm~150µm，宜為20µm~100µm，更宜為30µm~60µm。

圖5係顯示反射型偏光薄膜所含之多層結構之一例的示意立體圖。多層結構14a交替具有具雙折射性之層A與實質上不具雙折射性之層B。構成多層結構之層的總數亦可為50~1000。舉例而言，A層之x軸方向的折射率nx大於y軸方向的折射率ny，而B層之x軸方向的折射率nx與y軸方向的折射率ny係實質上相同；在x軸方向上A層與B層之折射率差大，在y軸方向上則實質上為零。結果x軸方向會成為反射軸，y軸方向會成為透射軸。A層與B層在x軸方向上之折射率差宜為0.2~0.3。

上述A層代表上係以藉由延伸展現雙折射性之材料構成。所述材料可舉萘二甲酸聚酯(例如聚萘二甲酸乙二酯)、聚碳酸酯及丙烯酸系樹脂(例如聚甲基丙烯酸甲酯)。上述B層代表上係以即使延伸而實質上也不會展現雙折射性之材料構成。所述材料可舉例如萘二甲酸與對苯二甲酸之共聚酯。上述多層結構可組合共擠製與延伸來形成。例如，將構成A層之材料與構成B層之材料擠製後，進行多層化(例如使用倍增器)。接著，將所得多層積層體予以延伸。圖式例之x軸方向可對應延伸方向。

反射型偏光薄膜之市售物可舉例如3M公司製之商品名「DBEF」、「APF」、日東電工公司製之商品名「APCF」。

反射型偏光構件(反射型偏光薄膜)之正交透射率(Tc)例如可為0.01%~3%。反射型偏光構件(反射型偏光薄膜)之單體透射率(Ts)例如為43%~49%，宜為45%~47%。反射型偏光構件(反射型偏光薄膜)之偏光度(P)例如可為92%~99.99%。

上述正交透射率、單體透射率及偏光度例如可使用紫外線可見光光譜光度計來測定。偏光度P可使用紫外線可見光光譜光度計測定單體透射率Ts、平行透射率Tp及正交透射率Tc，並從所得Tp及Tc利用下述式來求算。此外，Ts、Tp及Tc係以JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正後之Y值。偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} ^1/2×100

上述吸收型偏光構件代表上可包含吸收型偏光膜。吸收型偏光膜之厚度、製作方法及光學特性如上述。

上述第3λ/4構件之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm，可為110nm~180nm，可為130nm~160nm，亦可為135nm~155nm。第3λ/4構件宜展現相位差值隨測定光之波長而變大的逆色散波長特性。第3λ/4構件之Re(450)/Re(550)例如為0.75以上且小於1，亦可為0.8以上且0.95以下。第3λ/4構件宜為折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。第3λ/4構件之Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。

第3λ/4構件係以可滿足上述特性之任意適當之材料形成。第3λ/4構件例如可為樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層。關於以樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層構成之第3λ/4構件，可應用與上述第1λ/4構件相同之說明。第1λ/4構件或第2λ/4構件與第3λ/4構件可為構成(例如形成材料、厚度、光學特性等)相同之構件，亦可為不同構成之構件。

圖6係顯示圖1所示顯示系統之透鏡部之詳細內容之一例的示意剖面圖。具體上，圖6中係顯示第一透鏡部、第二透鏡部及配置於該等之間的構件。透鏡部4具備第一透鏡部16、與第一透鏡部16鄰接設置之第一積層部110及第二透鏡部24。第一積層部110與第二透鏡部24係分離配置。

第一積層部110包含有：具有第2λ/4構件22a與正C板22b之積層結構的第二相位差構件22、反射型偏光構件14、吸收型偏光構件28、第三相位差構件30及第一保護構件31。且，包含有用以使各構件一體化之接著層(例如黏著劑層)41~45。與圖4所示之例不同，圖6所示之例中，配置在第一透鏡部16與第二透鏡部24之間的構件係設置於第一透鏡部16上而成一體。而且，作為與形成於第一透鏡部16與第二透鏡部24之間的空間相接之保護構件，僅設有第一保護構件31。

實施例以下，藉由實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。此外，厚度及表面平滑性係藉由下述測定方法測定之值。又，只要無特別明記，「份」及「%」即為重量基準。＜厚度＞ 10µm以下的厚度係使用掃描型電子顯微鏡(日本電子公司製，製品名「JSM-7100F」)進行測定。大於10µm的厚度係使用數位測微器(Anritsu公司製，產品名「KC-351C」)進行測定。＜表面平滑性＞使用掃描型白色干涉計(Zygo公司製，製品名「NewView9000」)進行測定。具體而言，係於附防振台之測定台上載置測定試料，並使用單一白色LED照明產生干涉條紋，將具有基準面的干涉物鏡(1.4倍)沿Z方向(厚度方向)掃描，藉此選擇性取得在12.4mm□之視野範圍中之測定對象最表面的平滑性(表面平滑性)。於載玻片(松浪硝子工業公司製，製品名「S200200」)上形成厚度5µm之凹凸少的丙烯酸系黏著劑層，並以不使異物或氣泡、變形的條痕進入之方式將測定對象之薄膜層合於該黏著面，測定與黏著劑層相反側之表面之平滑性。關於解析，係角度的指標「Slope magnitude RMS」乘以2倍後所得之值(相當於2σ)，並將其定義為表面平滑性(單位：arcmin)。

[實施例1] (硬塗層形成材料之調製) 混合胺甲酸酯丙烯酸酯寡聚物(新中村化學公司製，「NK Oligo UA-53H」)50份、以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業公司製，商品名「Viscoat #300」)30份、丙烯酸4-羥丁酯(大阪有機化學工業公司製)20份、調平劑(DIC公司製，「GRANDIC PC4100」)1份及光聚合引發劑(Ciba Japan公司製，「IRGACURE 907」)3份，並以甲基異丁基酮稀釋使固體成分濃度成為50%，而調製出硬塗層形成材料。

(高折射率層形成用塗敷液之調製) 混合多官能丙烯酸酯(荒川化學工業股份公司製，商品名「OPSTAR KZ6728」，固體成分20重量%)100重量份、調平劑(DIC公司製，「GRANDIC PC4100」)3重量份及光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」，固體成分100重量%)3重量份。於該混合物中，使用乙酸丁酯作為稀釋溶劑，使固體成分成為12重量%並攪拌，而調製出高折射率層形成用塗敷液。

(低折射率層形成用塗敷液A之調製) 混合以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製，商品名「Viscoat #300」，固體成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份公司製，商品名「THRULYA 5320」，固體成分20重量%，重量平均粒徑75nm)150重量份、實心奈米二氧化矽粒子(日產化學工業股份公司製，商品名「MEK-2140Z-AC」，固體成分30重量%，重量平均粒徑10nm)50重量份、含氟添加劑(信越化學工業股份公司製，商品名「KY-1203」，固體成分20重量%)12重量份及光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」，固體成分100重量%)3重量份。於該混合物中，添加以60：25：15重量比混合TBA(三級丁醇)、MIBK(甲基異丁基酮)及PMA(丙二醇單甲基醚乙酸酯)而成之混合溶劑作為稀釋溶劑，使整體之固體成分成為4重量%，並攪拌而調製出低折射率層形成用塗敷液。

將上述硬塗層形成材料塗佈於具有內酯環結構之丙烯酸薄膜(厚度40µm，表面平滑性0.45arcmin)並以90℃加熱1分鐘，再以高壓水銀燈對加熱後之塗佈層照射累積光量300mJ/cm ²之紫外線使塗佈層硬化，而製作出形成有厚度4µm之硬塗層的丙烯酸薄膜(厚度44µm，硬塗層側之表面平滑性0.4arcmin)。接著，以線棒將上述高折射率層形成用塗敷液塗敷於上述硬塗層上，並將已塗敷之塗敷液以80℃加熱1分鐘使其乾燥，而形成塗膜。利用高壓水銀燈對乾燥後之塗膜照射累積光量300mJ/cm ²之紫外線，使塗膜硬化，而形成厚度140nm之高折射率層。接著，以線棒將上述低折射率層形成用塗敷液塗敷於高折射率層上，並將已塗敷之塗敷液以80℃加熱1分鐘使其乾燥，而形成塗膜。利用高壓水銀燈對乾燥後之塗膜照射累積光量300mJ/cm ²之紫外線，使塗膜硬化，而形成厚度105nm之低折射率層。依上述方式，而獲得厚度44µm且表面平滑性0.4arcmin之積層薄膜。

[比較例1] 未形成高折射率層、及使用下述塗敷液B作為低折射率層形成用塗敷液來形成厚度100nm之低折射率層，除此之外以與實施例1相同方式而獲得厚度44µm且表面平滑性0.4arcmin之積層薄膜。

(低折射率層形成用塗敷液B之調製) 混合以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製，商品名「Viscoat #300」，固體成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份公司製，商品名「THRULYA 5320」，固體成分20重量%，重量平均粒徑75nm)100重量份、含氟添加劑(信越化學工業股份公司製，商品名「KY-1203」，固體成分20重量%)12重量份及光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」，固體成分100重量%)3重量份。於該混合物中，添加以60：25：15重量比混合TBA(三級丁醇)、MIBK(甲基異丁基酮)及PMA(丙二醇單甲基醚乙酸酯)而成之混合溶劑作為稀釋溶劑，使整體之固體成分成為4重量%，並攪拌而調製出抗反射低折射層形成用塗敷液B。

[比較例2] 除了未形成高折射率層及低折射率層外，以與實施例1相同方式而獲得厚度44µm且表面平滑性0.4arcmin之積層薄膜。

＜評估＞ (1)正常反射率從實施例1、比較例1及比較例2之積層薄膜裁切出50mm×50mm尺寸之試驗片，並使用黏著劑將其貼附於黑壓克力板而獲得測定試樣。使用光譜光度計(Hitachi High-Tech Co.製，商品名「U-4100」)作為測定裝置來測定正常反射率光譜。測定波長係設為420nm至680nm之範圍，光對測定試樣之入射角係設為5°及30°。

於圖7A顯示實施例1及比較例1之積層薄膜之5°正常反射率光譜。如圖7A所示，實施例1之積層薄膜在波長420nm至680nm之範圍中之5°正常反射率光譜的最大值為0.75%。又，波長450nm下之5°正常反射率為0.17%，波長600nm下之5°正常反射率為0.05%。此外，比較例1及比較例2的結果如表1所示。

[表1]

將實施例1、比較例1及比較例2之積層薄膜之30°正常反射率光譜顯示於圖7B。如圖7B所示，實施例1之積層薄膜在波長420nm至680nm之範圍中之30°正常反射率光譜的最大值為0.85%。又，波長450nm下之30°正常反射率為0.15%，波長600nm下之30°正常反射率為0.13%。此外，比較例1及比較例2的結果如表2所示。

[表2]

從所得結果算出波長420nm下之5°正常反射率相對於波長420nm下之30°正常反射率的比、與波長680nm下之5°正常反射率相對於波長680nm下之30°正常反射率的比。將結果顯示於表3。

[表3]

(2)外觀1 使用黏著劑將實施例1、比較例1及比較例2之積層薄膜貼附於黑壓克力板而獲得測定板。於暗室中，以與測定板相對向之方式於距離測定板18cm之位置設置面發光單元(AItec公司製，LED燈箱「LLBK1」)，從該面發光單元以調光器1朝測定板照射光時，以肉眼確認測定板的外觀(反射視覺外觀)。於圖8(a)、圖8(b)及圖8(c)顯示反射視覺外觀。具體而言，圖8(a)係顯示照射白顯示之光時之結果，圖8(b)係顯示照射藍色光(波長450nm±30nm)時之結果，圖8(c)係顯示照射紅色光(波長630nm±30nm)時之結果。

(3)外觀2 使用黏著劑將實施例1、比較例1及比較例2之積層薄膜貼附於透明玻璃板而獲得測定板。於暗室中設置面發光單元(AItec公司製，LED燈箱「LLBK1」)且於其發光面上載置測定板，以肉眼確認在該狀態下從面發光單元以調光器1照射光時之測定板的外觀(透射視覺外觀)。於圖9(a)、圖9(b)、圖9(c)及圖9(d)顯示透射視覺外觀。圖9(a)係顯示照射白顯示之光時的結果，圖9(b)係顯示照射藍色光(波長450nm±30nm)時之結果，圖9(c)係顯示照射紅色光(波長630nm±30nm)時之結果，圖9(d)係顯示照射綠色光(波長530nm±30nm)時之結果。

如圖8(a)、圖8(b)及圖8(c)所示，相較於比較例1及比較例2，實施例1之反射視覺外觀格外優異。在上述評估中係假設與吸收型偏光構件之組合並使用黑壓克力板，惟使用透明玻璃板亦同樣可確認有反射視覺外觀之差異。根據實施例1，吾等認為在本發明實施形態之顯示系統中，可極良好地解決因反射光而可能發生之重影的問題。此外，如圖9(a)、圖9(b)、圖9(c)及圖9(d)所示，實施例1、比較例1及比較例2之透射視覺外觀無很大的改變。

本發明不受上述實施形態所限，可進行各種變形。例如，可以實質上與上述實施形態所示構成相同之構成、可發揮相同作用效果之構成或可達成相同目的之構成作取代。

產業上之可利用性本發明實施形態之顯示系統例如可用於VR護目鏡等之顯示體。

2:顯示系統 4:透鏡部 12:顯示元件 12a:顯示面 12b:偏光構件 14:反射型偏光構件 14a:多層結構 16:第一透鏡部 18:半反射鏡 20:第一相位差構件 20a:第1λ/4構件 20b:正C板 22:第二相位差構件 22a:第2λ/4構件 22b:正C板 24:第二透鏡部 26:使用者之眼睛 28:吸收型偏光構件 30:第三相位差構件 31:第一保護構件 32:第二保護構件 33:保護構件 34:積層薄膜 36:基材 38:表面處理層 38a:硬塗層 38b:機能層 41~46:接著層 100:積層部 110:第一積層部 200:第二積層部 A,B:層 X,Y,Z:軸

圖1係顯示本發明一實施形態之顯示系統之概略構成的示意圖。圖2係顯示圖1所示顯示系統之顯示元件之一部分詳細內容之一例的示意剖面圖。圖3係顯示本發明一實施形態之積層薄膜之概略構成的示意剖面圖。圖4係顯示圖1所示顯示系統之透鏡部之詳細內容之一例的示意剖面圖。圖5係顯示反射型偏光薄膜所含之多層結構之一例的示意立體圖。圖6係顯示圖1所示顯示系統之透鏡部之詳細內容之另一例的示意剖面圖。圖7A係顯示實施例1及比較例1之積層薄膜之5°正常反射率光譜的圖表。圖7B係顯示實施例1、比較例1及比較例2之積層薄膜之30°正常反射率光譜的圖表。圖8中，(a)、(b)及(c)係顯示外觀評估之結果的照片。圖9中，(a)、(b)、(c)及(d)係顯示外觀評估之結果的照片。

2:顯示系統

4:透鏡部

12:顯示元件

12a:顯示面

14:反射型偏光構件

16:第一透鏡部

18:半反射鏡

20:第一相位差構件

22:第二相位差構件

24:第二透鏡部

26:使用者之眼睛

Claims

一種顯示系統，係對使用者顯示影像者，其具備：顯示元件，其具有顯示面，並經由偏光構件將顯示影像之光朝前方射出；反射型偏光構件，係配置於前述顯示元件之前方，並反射從前述顯示元件射出之光；第一透鏡部，係配置於前述顯示元件與前述反射型偏光構件之間的光路上；半反射鏡，係配置於前述顯示元件與前述第一透鏡部之間，該半反射鏡係使從前述顯示元件射出之光透射，並使經前述反射型偏光構件反射之光朝前述反射型偏光構件反射；第二透鏡部，係配置於前述反射型偏光構件之前方；第1λ/4構件，係配置於前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路上；第2λ/4構件，係配置於前述半反射鏡與前述反射型偏光構件之間的光路上；以及保護構件，係配置於以下至少一光路上：前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路、及前述半反射鏡與前述第二透鏡部之間的光路；前述保護構件在波長450nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長600nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長450nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長600nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長420nm下之5°正常反射率相對於波長420nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下，波長680nm下之5°正常反射率相對於波長680nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下。
如請求項1之顯示系統，其中前述保護構件係與形成於前述顯示元件與前述半反射鏡之間的空間相接。
如請求項1之顯示系統，其中前述保護構件係與下述空間相接：形成於前述第一透鏡部及前述第二透鏡部中之至少一者與前述保護構件之間的空間。
如請求項1之顯示系統，其中前述保護構件之表面平滑性為0.5arcmin以下。
如請求項1之顯示系統，其中前述λ/4構件滿足Re(450)＜Re(550)。
如請求項1之顯示系統，其具備包含前述第1λ/4構件與前述保護構件之積層部。
如請求項6之顯示系統，其中前述積層部包含前述顯示元件所含之偏光構件。
如請求項1之顯示系統，其具備包含前述第2λ/4構件與前述保護構件之積層部。
如請求項1之顯示系統，其具備包含前述反射型偏光構件與前述保護構件之積層部。
如請求項9之顯示系統，其中前述積層部包含配置於前述反射型偏光構件與前述第二透鏡部之間的吸收型偏光構件。
一種積層薄膜，係用於具有以下程序之顯示方法：使經由偏光構件射出之顯示影像的光通過第1λ/4構件之程序；使通過前述第1λ/4構件之光通過半反射鏡及第一透鏡部之程序；使通過前述半反射鏡及前述第一透鏡部之光通過第2λ/4構件之程序；使通過前述第2λ/4構件之光藉反射型偏光構件朝前述半反射鏡反射之程序；使經前述反射型偏光構件及前述半反射鏡反射之光可藉由前述第2λ/4構件而透射前述反射型偏光構件之程序；以及使透射前述反射型偏光構件之光通過第二透鏡部之程序；前述積層薄膜係配置於以下至少一光路上：前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路、及前述半反射鏡與前述第二透鏡部之間的光路；前述積層薄膜在波長450nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長600nm下之5°正常反射率為0.3%以下，波長450nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長600nm下之30°正常反射率為0.5%以下，波長420nm下之5°正常反射率相對於波長420nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下，波長680nm下之5°正常反射率相對於波長680nm下之30°正常反射率的比為0.1以上且10以下。