TW202337880A - 羧酸鹽、羧酸產生劑、樹脂、抗蝕劑組成物以及抗蝕劑圖案的製造方法 - Google Patents
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- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 title claims abstract description 520
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 275
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 225
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 225
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 title claims abstract 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 133
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 131
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 126
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 78
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 32
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 787
- -1 Alkane lactone Chemical class 0.000 claims description 751
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 262
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 255
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 219
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 135
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 129
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 124
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 110
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 108
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 86
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 86
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 55
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 38
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 33
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 16
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 15
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 10
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 420
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 233
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 68
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 59
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 58
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 51
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 49
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 47
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 46
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 46
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 45
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 43
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 39
- 239000002585 base Substances 0.000 description 39
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 36
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 35
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 31
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 27
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 27
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 27
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 27
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 25
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 25
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 24
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 24
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 23
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 23
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 22
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 21
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 20
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 18
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 18
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 18
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 18
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 17
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 17
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 17
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 17
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 16
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 16
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 16
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 15
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 15
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 15
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 15
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 14
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 14
- JAMNSIXSLVPNLC-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl) acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=C(C=C)C=C1 JAMNSIXSLVPNLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 13
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 12
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 12
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 11
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 10
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 10
- 125000005112 cycloalkylalkoxy group Chemical group 0.000 description 10
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 10
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 10
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 10
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 10
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 10
- 150000008053 sultones Chemical group 0.000 description 10
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 9
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 9
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 9
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 9
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 9
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 9
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 9
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 9
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 8
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 7
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 6
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005119 alkyl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 6
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 6
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 6
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 6
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 6
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 6
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 5
- 125000004855 decalinyl group Chemical group C1(CCCC2CCCCC12)* 0.000 description 5
- 150000002891 organic anions Chemical group 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 125000004351 phenylcyclohexyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)C1(CCCCC1)* 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 4
- 125000004350 aryl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 4
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 4
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 4
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RMADLJKIXOWZMV-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-1,2-diethoxybenzene Chemical compound CCOC1=CC=C(C=C)C=C1OCC RMADLJKIXOWZMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000002529 biphenylenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C12)* 0.000 description 3
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 3
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical group O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000062 cyclohexylmethoxy group Chemical group [H]C([H])(O*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 3
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004993 haloalkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004692 haloalkylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005203 haloalkylcarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000006357 methylene carbonyl group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([*:2])=O 0.000 description 3
- 125000006366 methylene oxy carbonyl group Chemical group [H]C([H])([*:1])OC([*:2])=O 0.000 description 3
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 3
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 3
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 3
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 3
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 3
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 3
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004653 anthracenylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 2
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 2
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTVOKYUPTHZZQH-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical group F[C]F LTVOKYUPTHZZQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 2
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical compound C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N o-toluidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N pentadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 2
- 125000005460 perfluorocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005459 perfluorocyclohexyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 102220042097 rs201566142 Human genes 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical group FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCTZLSCYMRXUGW-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2-pentafluorobutane Chemical group [CH2]CC(F)(F)C(F)(F)F PCTZLSCYMRXUGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromo-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(Br)=CC(Br)=C1 OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 1,4a-dimethyl-7-propan-2-yl-2,3,4,4b,5,6,10,10a-octahydrophenanthrene-1-carboxylic acid Chemical compound C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004345 1-phenyl-2-propyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004343 1-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)-n,n-bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]ethanamine Chemical compound COCCOCCN(CCOCCOC)CCOCCOC XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-pyridin-2-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CCC1=CC=CC=N1 WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1N OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 2-carboxyphenolate;tetrabutylazanium Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 2-naphthylamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N)=CC=C21 JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOIIVCHICYNWSG-UHFFFAOYSA-N 3-(4-ethylphenyl)prop-2-enoic acid Chemical compound CCC1=CC=C(C=CC(O)=O)C=C1 GOIIVCHICYNWSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dipyridyl disulfide Chemical compound C=1C=NC=CC=1SSC1=CC=NC=C1 UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCC1=CC=NC=C1 DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-yloxyethoxy)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1OCCOC1=CC=NC=C1 RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-ethylphenyl)methyl]-2-ethylaniline Chemical compound C1=C(N)C(CC)=CC(CC=2C=C(CC)C(N)=CC=2)=C1 CBEVWPCAHIAUOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CCC1=CC=C(N)C=C1 UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004861 4-isopropyl phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-4-ylsulfanylpyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1SC1=CC=NC=C1 XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical group O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYNDCARHOFFBSL-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)ON(C(=O)C=C)OC(C(=C)C)=O Chemical compound C(C=C)(=O)ON(C(=O)C=C)OC(C(=C)C)=O BYNDCARHOFFBSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N Cyclobutane Chemical compound C1CCC1 PMPVIKIVABFJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYDCUQKUCUHJBH-UWTATZPHSA-N D-Cycloserine Chemical compound N[C@@H]1CONC1=O DYDCUQKUCUHJBH-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N N-Cyclohexyl-N-methylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C)C1CCCCC1 GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N N-Methyldioctylamine Chemical compound CCCCCCCCN(C)CCCCCCCC YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000004702 alkoxy alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002008 alkyl bromide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002538 alkyl iodide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005530 alkylenedioxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical group O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006742 bornane Natural products 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004850 cyclobutylmethyl group Chemical group C1(CCC1)C* 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N diazo(sulfonyl)methane Chemical compound [N-]=[N+]=C=S(=O)=O CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 210000005069 ears Anatomy 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical group C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N n,n-di(nonyl)nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLVOYFRAZKMSPF-UHFFFAOYSA-N n,n-dibutyl-4-chlorobenzenesulfonamide Chemical compound CCCCN(CCCC)S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 CLVOYFRAZKMSPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CCCC BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-methylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CCCC MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-ethyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCCC YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N n-decyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCNCCCCCCCCCC GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CC)CCCCCCC PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CC)CCCCCC ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCC GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-octyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CC)CCCCCCCC KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CC)CCCCC PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N n-heptyl-n-methylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(C)CCCCCCC BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCNCCCCCCC NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)CCCCCC POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCC IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(C)CCCCC JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCNCCCCCCCCC MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N n-pyridin-2-ylpyridin-2-amine Chemical compound C=1C=CC=NC=1NC1=CC=CC=N1 HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102220049405 rs147669920 Human genes 0.000 description 1
- 102220010919 rs397507454 Human genes 0.000 description 1
- 102220014332 rs397517039 Human genes 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N sulfanilamide Chemical compound NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M tetra(propan-2-yl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC(C)[N+](C(C)C)(C(C)C)C(C)C CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical group C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- BFPOZPZYPNVMHU-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[3-(trifluoromethyl)phenyl]azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 BFPOZPZYPNVMHU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
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Abstract
本發明的目的在於提供一種可製造具有良好的耐圖案倒塌性的抗蝕劑圖案的羧酸鹽、羧酸產生劑、樹脂以及包含其的抗蝕劑組成物。一種式（I）所表示的羧酸鹽、羧酸產生劑、樹脂以及包含其的抗蝕劑組成物。
[式中，R
1及R
2分別表示羥基、-O-R
10等；R
4、R
5、R
7及R
8分別表示鹵素原子、鹵代烷基等；R
10表示酸不穩定基；A
1及A
2分別表示烴基；m1表示1～5的整數，m2、m8表示0～5的整數，m4、m5、m7表示0～4的整數，1≦m1+m7≦5，0≦m2+m8≦5；X
0表示單鍵、可具有取代基的烴基；R
bb1表示氫原子、鹵素原子等；X
10表示單鍵、*-O-**等；L
10表示單鍵或可具有取代基的烴基]
Description
本發明是有關於一種羧酸鹽、羧酸產生劑、樹脂、抗蝕劑組成物以及抗蝕劑圖案的製造方法。
於專利文獻1中記載有一種含有包含源自下述式所表示的羧酸鹽的結構單元的樹脂的抗蝕劑組成物。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-037834號公報
[發明所欲解決之課題]
本發明提供一種相較於由含有包含源自所述羧酸鹽的結構單元的樹脂的抗蝕劑組成物所形成的抗蝕劑圖案，形成耐圖案倒塌性（PCM）更良好的抗蝕劑圖案的羧酸鹽。
[解決課題之手段]
本發明包含以下的發明。
[1]一種羧酸鹽，由式（I）所表示。
[式（I）中，
R
1及R
2分別獨立地表示羥基、-O-R
10、-O-CO-O-R
10或-O-L
1-CO-O-R
10。
L
1表示碳數1～6的烷二基。
R
4、R
5、R
7及R
8分別獨立地表示鹵素原子、碳數1～12的鹵代烷基或碳數1～18的烴基，該烴基可具有取代基，該鹵代烷基及該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代。
R
10表示酸不穩定基。
A
1及A
2分別獨立地表示碳數1～20的烴基，該烴基可具有取代基，該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代。
m1表示1～5的任一整數，於m1為2以上時，多個括弧內的基相互可相同亦可不同。
m2表示0～5的任一整數，於m2為2以上時，多個括弧內的基相互可相同亦可不同。
m4表示0～4的任一整數，於m4為2以上時，多個R
4相互可相同亦可不同。
m5表示0～4的任一整數，於m5為2以上時，多個R
5相互可相同亦可不同。
m7表示0～4的任一整數，於m7為2以上時，多個R
7相互可相同亦可不同。
m8表示0～5的任一整數，於m8為2以上時，多個R
8相互可相同亦可不同。
其中，1≦m1+m7≦5，0≦m2+m8≦5。
X
0表示單鍵或可具有取代基的碳數1～72的烴基，該烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-。
R
bb1表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
X
10表示單鍵、*-O-**、*-CO-O-**、*-O-CO-O-**或*-Ax-Ph-Ay-**。
Ph表示可具有取代基的伸苯基。
Ax表示選自由單鍵、醚鍵、硫醚鍵、酯鍵及碳酸酯鍵所組成的群組中的一種鍵結種。
Ay表示選自由單鍵、醚鍵、硫醚鍵、酯鍵及碳酸酯鍵所組成的群組中的一種鍵結種。
*及**表示鍵結部位，*表示與R
bb1所鍵結的碳原子的鍵結部位。
L
1 0表示單鍵或可具有取代基的碳數1～36的烴基，該烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-]
[2]如[1]所述的羧酸鹽，其中A
1為***-X
01-L
01-或***-L
01-X
01-，A
2為***-X
02-L
02-或***-L
02-X
02-，X
01及X
02分別獨立地表示-O-、-CO-、-S-或-SO
2-，L
01及L
02分別獨立地表示單鍵或碳數1～18的烴基，該烴基可具有取代基，該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代，***表示與R
1或R
2所鍵結的苯環的鍵結部位。
[3]如[2]所述的羧酸鹽，其中X
01及X
02分別獨立地為-O-或-S-。
[4]如[2]或[3]所述的羧酸鹽，其中L
01及L
02分別獨立地為單鍵或碳數1～6的烷二基（該烷二基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代）。
[5]如[1]至[4]中任一項所述的羧酸鹽，其中R
1及R
2分別獨立地為羥基、-O-R
10或-O-L
1-CO-O-R
10。
[6]如[1]至[5]中任一項所述的羧酸鹽，其中R
10中的酸不穩定基為式（1a）所表示的基或式（2a）所表示的基。
[式（1a）中，R
aa1、R
aa2及R
aa3分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數2～8的烯基、碳數3～20的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基，或者R
aa1及R
aa2相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子一同形成碳數3～20的脂環式烴基。
*表示鍵結部位]
[式（2a）中，R
aa1'及R
aa2'分別獨立地表示氫原子或碳數1～12的烴基，R
aa3'表示碳數1～20的烴基，或者R
aa2'及R
aa3'相互鍵結並與該些所鍵結的-C-X
a-一同形成碳數3～20的雜環基，該烴基及該雜環基中包含的-CH
2-可被-O-或-S-取代。
X
a表示氧原子或硫原子。
*表示鍵結部位]
[7]如[1]至[6]中任一項所述的羧酸鹽，其中X
0為單鍵，或者包含可具有取代基的碳數1～72的脂肪族烴基（該脂肪族烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-）或可具有取代基的碳數6～36的芳香族烴基。
[8]如[7]所述的羧酸鹽，其中X
0為單鍵，或者包含可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數1～18的鏈式烴基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數3～36的脂環式烴基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-）、碳數3～36的脂環式烴基與碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基及該鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數6～36的芳香族烴基、或者碳數6～36的芳香族烴基與碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該芳香族烴基及該鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基）。
[9]如[7]或[8]所述的羧酸鹽，其中X
0包含脂環式烴基，該脂環式烴基包含碳數5或6的環烷二基、金剛烷二基、降冰片烷二基、金剛烷內酯二基、降冰片烷內酯二基、或者金剛烷二基和以螺而與該金剛烷二基鍵結的碳數5或6的環烷二基（該金剛烷二基、降冰片烷二基及環烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）。
[10]如[1]至[9]中任一項所述的羧酸鹽，其中X
10為單鍵或式（X
10-1）～式（X
10-10）的任一者所表示的基。
[式（X
10-1）～式（X
10-10）中，
*、**為鍵結部位，*表示與R
bb1所鍵結的碳原子的鍵結部位。
Rx表示鹵素原子、羥基、碳數1～6的氟化烷基、碳數1～18的烷基或碳數1～6的烷氧基。
mx表示0～4的任一整數]
[11]如[10]所述的羧酸鹽，其中X
10為單鍵或式（X
10-1）、式（X
10-5'）及式（X
10-6'）的任一者所表示的基。
[式（X
10-1）、式（X
10-5'）及式（X
10-6'）中，
*、**為鍵結部位，*表示與R
bb1所鍵結的碳原子的鍵結部位]
[12]如[1]至[11]中任一項所述的羧酸鹽，其中L
1 0為單鍵、碳數1～6的烷二基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、碳數3～18的環狀烴基（其中，該環狀烴基可具有取代基，該環狀烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-）或碳數1～6的烷二基與碳數3～18的環狀烴基組合而成的基（其中，該環狀烴基可具有取代基，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該環狀烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-）。
[13]一種羧酸產生劑，含有如[1]至[12]中任一項所述的羧酸鹽或源自如[1]至[12]中任一項所述的羧酸鹽的結構單元。
[14]一種樹脂，包含源自如[1]至[12]中任一項所述的羧酸鹽的結構單元。
[15]一種抗蝕劑組成物，含有如[13]所述的羧酸產生劑。
[16]如[15]所述的抗蝕劑組成物，含有式（I）所表示的羧酸鹽、與
包含具有酸不穩定基的結構單元的樹脂。
[17]如[15]所述的抗蝕劑組成物，含有包含源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元的樹脂，
包含源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元的樹脂更包含具有酸不穩定基的結構單元。
[18]如[17]所述的抗蝕劑組成物，更含有式（I）所表示的羧酸鹽。
[19]如[16]至[18]中任一項所述的抗蝕劑組成物，其中具有酸不穩定基的結構單元包含選自由式（a1-0）所表示的結構單元、式（a1-1）所表示的結構單元及式（a1-2）所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種。
[式（a1-0）、式（a1-1）及式（a1-2）中，
L
a01、L
a1及L
a2分別獨立地表示-O-或*-O-(CH
2)
k1-CO-O-，k1表示1～7的任一整數，*表示與-CO-的鍵結部位。
R
a01、R
a4及R
a5分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
R
a02、R
a03及R
a04分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基。
R
a6及R
a7分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數2～8的烯基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或藉由將該些組合而形成的基。
m1'表示0～14的任一整數。
n1表示0～10的任一整數。
n1'表示0～3的任一整數]
[20]如[16]至[19]中任一項所述的抗蝕劑組成物，其中包含具有酸不穩定基的結構單元的樹脂更包含式（a2-A）所表示的結構單元。
[式（a2-A）中，
R
a50表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
R
a51表示鹵素原子、羥基、碳數1～6的烷基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～12的烷氧基烷基、碳數2～12的烷氧基烷氧基、碳數2～4的烷基羰基、碳數2～4的烷基羰氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基。
A
a50表示單鍵或*-X
a51-(A
a52-X
a52)
nb-，*表示與-R
a50所鍵結的碳原子的鍵結部位。
A
a52表示碳數1～8的烷二基。
X
a51及X
a52分別獨立地表示-O-、-CO-O-或-O-CO-。
nb表示0或1。
mb表示0～4的任一整數。於mb為2以上的任一整數的情況下，多個R
a51相互可相同亦可不同]
[21]如[15]至[20]中任一項所述的抗蝕劑組成物，更含有式（B1）所表示的鹽。
[式（B1）中，
Q
b1及Q
b2分別獨立地表示氫原子、氟原子、碳數1～6的全氟烷基或碳數1～6的烷基。
L
b1表示碳數1～24的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該二價飽和烴基中包含的氫原子可被氟原子或羥基取代。
Y表示可具有取代基的甲基或可具有取代基的碳數3～24的脂環式烴基，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-。
Z
+表示有機陽離子]
[22]一種抗蝕劑圖案的製造方法，包括：
（1）將如[15]至[21]中任一項所述的抗蝕劑組成物塗佈於基板上的步驟；
（2）使塗佈後的組成物乾燥而形成組成物層的步驟；
（3）對組成物層進行曝光的步驟；
（4）將曝光後的組成物層加熱的步驟；以及
（5）將加熱後的組成物層顯影的步驟。
[發明的效果]
藉由使用利用了本發明的羧酸鹽的抗蝕劑組成物，可以良好的耐圖案倒塌性（PCM）製造抗蝕劑圖案。
本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸系單體」是指「丙烯酸系單體及甲基丙烯酸系單體的至少一種」。「(甲基)丙烯酸酯」及「(甲基)丙烯酸」等的表述亦表示相同的含義。本說明書中記載的基中，關於可取得直鏈結構與分支結構兩者的基，可為其任一者。於烴基等中包含的-CH
2-被-O-、-S-、-CO-或-SO
2-取代的情況下，設為於各基中適用相同的例子。所謂「組合而成的基」是指使兩種以上的例示的基鍵結而成的基，該些基的價數可根據鍵結形態而適宜變更。所謂「源自」或「衍生」是指該分子中包含的聚合性C=C鍵藉由聚合而成為-C-C-基（單鍵）。於存在立體異構物的情況下，包含全部的立體異構物。
本說明書中，所謂「抗蝕劑組成物的固體成分」是指自抗蝕劑組成物的總量中去除後述的溶劑（E）後的成分的合計。
＜式（I）所表示的羧酸鹽＞
本發明是有關於一種式（I）所表示的羧酸鹽（以下有時稱為「鹽（I）」或「羧酸鹽（I）」）。
鹽（I）中，有時將具有正電荷之側稱為「陽離子（I）」，將具有負電荷之側稱為「陰離子（I）」。
〔陽離子（I）〕
式（I）所表示的鹽的陽離子（I）為式（I-C）所表示的陽離子。
[式（I-C）中，全部符號表示與式（I）相同的含義]
作為R
1及R
2中包含的L
1中的烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基等直鏈狀烷二基；及
乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基。
L
1較佳為碳數1～3的烷二基，更佳為亞甲基。
所謂R
1及R
2中包含的R
10的酸不穩定基，是指與酸（例如三氟甲磺酸）接觸時，包含R
10所表示的基的脫離基脫離而形成羧基或羥基的基。
作為酸不穩定基，較佳為式（1a）所表示的基（以下，根據情況而稱為「酸不穩定基（1a）」）、式（2a）所表示的基（以下，根據情況而稱為「酸不穩定基（2a）」）。
[式（1a）中，R
aa1、R
aa2及R
aa3分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數2～8的烯基、碳數3～20的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基，或者R
aa1及R
aa2相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子一同形成碳數3～20的脂環式烴基。
*表示鍵結部位]
[式（2a）中，R
aa1'及R
aa2'分別獨立地表示氫原子或碳數1～12的烴基，R
aa3'表示碳數1～20的烴基，或者R
aa2'及R
aa3'相互鍵結並與該些所鍵結的-C-X
a-一同形成碳數3～20的雜環基，該烴基及該雜環基中包含的-CH
2-可被-O-或-S-取代。
X
a表示氧原子或硫原子。
*表示鍵結部位]
作為R
aa1、R
aa2及R
aa3中的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基等。R
aa1、R
aa2及R
aa3中的烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而佳為1～3。
作為R
aa1、R
aa2及R
aa3中的烯基，可列舉：乙烯基、丙烯基、異丙烯基、丁烯基、異丁烯基、第三丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、異辛烯基、壬烯基。
R
aa1、R
aa2及R
aa3中的脂環式烴基可為單環式及多環式的任一種。作為單環式的脂環式烴基，可列舉：環戊基、環己基、環庚基、環辛基等環烷基。作為多環式的脂環式烴基，例如可列舉：十氫萘基、金剛烷基、降冰片基及下述基（*表示鍵結部位）等。R
aa1、R
aa2及R
aa3中的脂環式烴基的碳數較佳為3～16，更佳為3～12。
作為R
aa1、R
aa2及R
aa3中的芳香族烴基，可列舉：苯基、萘基、蒽基、聯苯基、菲基等芳基。R
aa1、R
aa2及R
aa3中的芳香族烴基的碳數較佳為6～14，更佳為6～10。
作為組合而成的基，可列舉：將所述烷基與脂環式烴基組合而成的基（例如，甲基環己基、二甲基環己基、甲基降冰片基、環己基甲基、金剛烷基甲基、金剛烷基二甲基、降冰片基乙基等烷基環烷基或環烷基烷基）、苄基等芳烷基、具有烷基的芳香族烴基（對甲基苯基、對第三丁基苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等）、具有脂環式烴基的芳香族烴基（對環己基苯基、對金剛烷基苯基等）、苯基環己基等芳基-環烷基等。
作為R
aa1及R
aa2相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子一同形成脂環式烴基時的-C(R
aa1)(R
aa2)(R
aa3)，可列舉下述基。脂環式烴基較佳為3～16，更佳為碳數3～12。*表示與-O-的鍵結部位。
作為式（1a）所表示的基，可列舉：1,1,1-三烷基（式（1a）中R
aa1、R
aa2及R
aa3為烷基的基，較佳為第三丁基）、2-烷基金剛烷-2-基（式（1a）中，R
aa1、R
aa2及該些所鍵結的碳原子形成金剛烷基、且R
aa3為烷基的基）及1-(金剛烷-1-基)-1,1-二烷基（式（1a）中，R
aa1及R
aa2為烷基、且R
aa3為金剛烷基的基）等。
作為R
aa1'、R
aa2'及R
aa3'中的烴基，可列舉：烷基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該些組合而形成的基等。
烷基及脂環式烴基可列舉與R
aa1、R
aa2及R
aa3中列舉的基相同者。
作為芳香族烴基，可列舉：苯基、萘基、蒽基、聯苯基、菲基等芳基等。
作為組合而成的基，可列舉：將所述烷基與脂環式烴基組合而成的基（例如，甲基環己基、二甲基環己基、甲基降冰片基、環己基甲基、金剛烷基甲基、金剛烷基二甲基、降冰片基乙基等環烷基烷基或烷基環烷基）、苄基等芳烷基、具有烷基的芳香族烴基（對甲基苯基、對第三丁基苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等）、具有脂環式烴基的芳香族烴基（對環己基苯基、對金剛烷基苯基等）、苯基環己基等芳基-環烷基等。
於R
aa2'及R
aa3'相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子及X
a一同形成雜環基的情況下，作為-C(R
aa1')(R
aa2')-X
a-(R
aa3')，可列舉下述基。*表示鍵結部位。
R
aa1'及R
aa2'中，較佳為至少一個為氫原子。
作為酸不穩定基（1a）的具體例，可列舉以下的基。*表示鍵結部位。
作為酸不穩定基（2a）的具體例，可列舉以下的基。*表示鍵結部位。
R
1及R
2於苯環上的鍵結位置分別獨立地相對於A
1及A
2的鍵結位置，可為鄰位、間位、對位的任一種。其中，R
1及R
2較佳為分別獨立地相對於A
1及A
2的鍵結位置，鍵結於對位或間位，更佳為鍵結於對位。
R
1及R
2較佳為分別獨立地為羥基、-O-R
10或-O-L
1-CO-O-R
10，更佳為分別獨立地為-O-R
10或-O-L
1-CO-O-R
10。
再者，於m1為2以上、或者m2或m3為1以上、存在多個R
10的情況下，多個R
10相互可相同亦可不同。
作為R
4、R
5、R
7及R
8中的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
所謂R
4、R
5、R
7及R
8中的碳數1～12的鹵代烷基，表示具有鹵素原子的碳數1～12的烷基，可列舉：碳數1～12的氟化烷基、碳數1～12的氯化烷基、碳數1～12的溴化烷基、碳數1～12的碘化烷基等。作為鹵代烷基，可列舉：碳數1～12的全氟烷基（三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基等）、2,2,2-三氟乙基、3,3,3-三氟丙基、4,4,4-三氟丁基、及3,3,4,4,4-五氟丁基、氯甲基、溴甲基、碘甲基等。鹵代烷基的碳數較佳為1～9，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為R
4、R
5、R
7及R
8中的碳數1～18的烴基，可列舉：烷基、烷二基等鏈式烴基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該些組合而形成的基。
作為烷基，為直鏈或分支的烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十一烷基及十二烷基等烷基。
作為烷二基，為直鏈或分支的烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基等直鏈狀烷二基；及
乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基。
鏈式烴基的碳數較佳為1～12，更佳為1～9，進而佳為1～6，進一步更佳為1～4，進一步進而佳為1～3。
作為脂環式烴基，可為單環式或多環式的任一種，可列舉以下所表示的基等。鍵結部位可設為任意的位置。
具體而言，作為單環式的脂環式烴基，可列舉：環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環壬基、環癸基、環十二烷基等單環式環烷基。作為多環式的脂環式烴基，可列舉：十氫萘基、金剛烷基、降冰片基等多環式環烷基。脂環式烴基的碳數較佳為3～18，更佳為3～16，進而佳為3～12。
作為芳香族烴基，可列舉：苯基、萘基、聯苯基、蒽基、菲基、聯萘基等。芳香族烴基的碳數較佳為6～18，更佳為6～14，進而佳為6～10。
作為藉由將鏈式烴基、脂環式烴基、芳香族烴基中的兩種以上的基組合而形成的基，可列舉：將芳香族烴基與鏈式烴基組合而成的基（例如，芳香族烴基-烷二基-*、烷基-芳香族烴基-*、烷基-芳香族烴基-烷二基-*，該烷二基及該烷基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-CO-、-S-或-SO
2-）、將脂環式烴基與鏈式烴基組合而成的基（例如，脂環式烴基-烷二基-*、烷基-脂環式烴基-*、烷基-脂環式烴基-烷二基-*，該脂環式烴基、該烷二基及該烷基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-CO-、-S-或-SO
2-）、將芳香族烴基與脂環式烴基組合而成的基（例如，芳香族烴基-脂環式烴基-*、脂環式烴基-芳香族烴基-*，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-CO-、-S-或-SO
2-）。*表示鍵結部位。
作為芳香族烴基-烷二基-*，可列舉苄基、苯乙基等芳烷基。
作為烷基-芳香族烴基-*，可列舉：甲苯基、二甲苯基、枯烯基等。
作為脂環式烴基-烷二基-*，可列舉：環己基甲基、環己基乙基、1-(金剛烷-1-基)甲基、1-(金剛烷-1-基)-1-甲基乙基等環烷基烷基等。
作為烷基-脂環式烴基-*，可列舉：甲基環己基、二甲基環己基、2-烷基金剛烷-2-基等具有烷基的環烷基等。
作為芳香族烴基-脂環式烴基-*，可列舉苯基環己基等。
作為脂環式烴基-芳香族烴基-*，可列舉環己基苯基等。
再者，於組合中，脂環式烴基、芳香族烴基、鏈式烴基可分別組合兩種以上。另外，組合而成的基中任一基可鍵結於苯環。
於R
4、R
5、R
7及R
8所表示的鹵代烷基或烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-CO-、-S-或-SO
2-的情況下，將取代之前的碳數設為該鹵代烷基或該烴基的總碳數。另外，其個數可為一個，亦可為兩個以上。
作為鹵代烷基及烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-的基，可列舉：羥基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、硫醇基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、羧基（乙基中包含的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷氧基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷基羰氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、烷硫基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷基磺醯基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、氧基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羰基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-CO-的基）、硫基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、磺醯基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、烷二基氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷二基氧基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷二基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷二基羰氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、烷二基硫基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷二基磺醯基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、環烷氧基、環烷基烷氧基、烷氧基羰氧基、芳香族烴基-羰氧基、芳香族烴基-羰基、芳香族烴基-氧基、鹵代烷氧基（鹵代烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、鹵代烷氧基羰基（鹵代烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、鹵代烷基羰基（鹵代烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、鹵代烷基羰氧基（鹵代烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、將該些基中的兩種以上組合而成的基等。
作為烷氧基，可列舉碳數1～17的烷氧基，例如可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊基氧基、己基氧基、辛基氧基、2-乙基己基氧基、壬基氧基、癸基氧基、十一烷基氧基等。烷氧基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
烷氧基羰基、烷基羰基及烷基羰氧基表示羰基或羰氧基與所述烷基或烷氧基鍵結而成的基。
作為烷氧基羰基，可列舉碳數2～17的烷氧基羰基，例如可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丁氧基羰基等。作為烷基羰基，可列舉碳數2～18的烷基羰基，例如可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。作為烷基羰氧基，可列舉碳數2～17的烷基羰氧基，例如可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基等。烷氧基羰基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷基羰基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷基羰氧基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。
作為烷硫基，可列舉碳數1～17的烷硫基，例如可列舉：甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基、戊硫基、己硫基、辛硫基、2-乙基己硫基、壬硫基、癸硫基、十一烷硫基等。烷硫基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷基磺醯基，可列舉碳數1～17的烷基磺醯基，例如可列舉：甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基、丁基磺醯基、戊基磺醯基、己基磺醯基、辛基磺醯基、2-乙基己基磺醯基、壬基磺醯基、癸基磺醯基、十一烷基磺醯基等。烷基磺醯基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基氧基，可列舉碳數1～17的烷二基氧基，例如可列舉：亞甲基氧基、伸乙基氧基、丙二基氧基、丁二基氧基、戊二基氧基等。烷二基氧基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基氧基羰基，可列舉碳數2～17的烷二基氧基羰基，例如可列舉：亞甲基氧基羰基、伸乙基氧基羰基、丙二基氧基羰基、丁二基氧基羰基等。作為烷二基羰基，可列舉碳數2～18的烷二基羰基，例如可列舉：亞甲基羰基、伸乙基羰基、丙二基羰基、丁二基羰基、戊二基羰基等。作為烷二基羰氧基，可列舉碳數2～17的烷二基羰氧基，例如可列舉：亞甲基羰氧基、伸乙基羰氧基、丙二基羰氧基、丁二基羰氧基等。烷二基氧基羰基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷二基羰基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷二基羰氧基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。
作為烷二基硫基，可列舉碳數1～17的烷二基硫基，例如可列舉：亞甲基硫基、伸乙基硫基、伸丙基硫基等。烷二基硫基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基磺醯基，可列舉碳數1～17的烷二基磺醯基，例如可列舉：亞甲基磺醯基、伸乙基磺醯基、伸丙基磺醯基等。烷二基磺醯基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為環烷氧基，可列舉碳數3～17的環烷氧基，例如可列舉環己基氧基等。作為環烷基烷氧基，可列舉碳數4～17的環烷基烷氧基，例如可列舉環己基甲氧基等。作為烷氧基羰氧基，可列舉碳數2～16的烷氧基羰氧基，例如可列舉丁氧基羰氧基等。作為芳香族烴基-羰氧基，可列舉碳數7～17的芳香族烴基-羰氧基，例如可列舉苯甲醯基氧基等。作為芳香族烴基-羰基，可列舉碳數7～18的芳香族烴基-羰基，例如可列舉苯甲醯基等。作為芳香族烴基-氧基，可列舉碳數6～17的芳香族烴基-氧基，例如可列舉苯基氧基等。
作為鹵代烷氧基、鹵代烷氧基羰基、鹵代烷基羰基、鹵代烷基羰氧基，可列舉：碳數1～11的鹵代烷氧基、碳數2～11的鹵代烷氧基羰基、碳數2～12的鹵代烷基羰基、碳數2～11的鹵代烷基羰氧基，例如可列舉將所述例示的基的一個以上的氫原子取代為鹵素原子而成的基。
另外，作為脂環式烴基中包含的-CH
2-被-O-、-S-、-SO
2-或-CO-取代的基，可列舉以下表示的基等。另外，亦可列舉以下表示的基中-O-被取代為-S-、-CO-被取代為-SO
2-的基等。鍵結部位可設為任意的位置。
作為R
4、R
5、R
7及R
8中的烴基可具有的取代基，可列舉：鹵素原子、氰基、碳數1～12的烷基（該烷基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）。
作為鹵素原子，可列舉與所述基相同的基。
作為碳數1～12的烷基，可列舉與所述基相同的基。
作為取代基，於烷基中包含的-CH
2-被取代為-O-或-CO-的情況下，將取代之前的碳數設為該烷基的總碳數。作為被取代的基，可列舉：羥基、羧基、烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷基羰氧基等。
作為烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基及烷基羰氧基，可列舉：碳數1～11的烷氧基、碳數2～11的烷氧基羰基、碳數2～12的烷基羰基及碳數2～11的烷基羰氧基，可列舉與所述基相同的基。
烴基可具有一個取代基或多個取代基。
作為A
1及A
2中的烴基，可列舉直鏈狀或分支狀的鏈式烴基（例如，烷二基等）、單環式或多環式的脂環式烴基、芳香族烴基，亦可為將該些基中的兩種以上組合而成者。烴基的碳數較佳為1～19，更佳為1～18，進而佳為1～16，進一步更佳為1～14，進一步進而佳為1～12。
作為鏈式烴基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基、十三烷-1,13-二基、十四烷-1,14-二基、十五烷-1,15-二基、十六烷-1,16-二基及十七烷-1,17-二基等直鏈狀烷二基及
乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基。
鏈式烴基的碳數較佳為1～18，更佳為1～12，進而佳為1～9，進而更佳為1～6，進一步更佳為1～4，進一步進而佳為1～3。
作為脂環式烴基，可為單環式或多環式的任一種，可列舉以下所表示的基等。鍵結部位可設為任意的位置。
具體而言，可列舉：環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等單環式環烷二基即單環式的脂環式烴基及
降冰片烷-1,4-二基、降冰片烷-2,5-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式環烷二基即多環式的脂環式烴基。
脂環式烴基的碳數較佳為3～18，更佳為3～16，進而佳為3～12，進而更佳為3～10。
作為芳香族烴基，可列舉：伸苯基、伸萘基、伸蒽基、伸聯苯基、伸菲基等伸芳基等芳香族烴基。芳香族烴基的碳數較佳為6～18，更佳為6～14，進而佳為6～10。
作為藉由將兩種以上的基組合而形成的基，可列舉：將脂環式烴基與烷二基組合而成的基、將芳香族烴基與烷二基組合而成的基及將脂環式烴基與芳香族烴基組合而成的基。於組合中，鏈式烴基、脂環式烴基、芳香族烴基亦可分別組合兩種以上。另外，任一基亦可鍵結於苯環。
作為將脂環式烴基與烷二基組合而成的基，例如可列舉：-二價脂環式烴基-烷二基-、-烷二基-二價脂環式烴基-烷二基-、-烷二基-二價脂環式烴基-等。
作為將芳香族烴基與烷二基組合而成的基，例如可列舉：-二價芳香族烴基-烷二基-、-烷二基-二價芳香族烴基-烷二基-、-烷二基-二價芳香族烴基-等。
作為將脂環式烴基與芳香族烴基組合而成的基，可列舉：-芳香族烴基-脂環式烴基-、-脂環式烴基-芳香族烴基-、-脂環式烴基-芳香族烴基-脂環式烴基-等。
於A
1及A
2中，於烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-CO-、-S-或-SO
2-的情況下，將取代之前的碳數設為該烴基的總碳數。另外，其個數可為一個或兩個以上，但較佳為一個～三個。
作為烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-CO-、-S-或-SO
2-的基，可列舉：羥基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羧基（乙基中包含的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、硫醇基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷氧基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷基羰氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、烷硫基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷基磺醯基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、氧基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羰基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-CO-的基）、硫基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、磺醯基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、烷二基氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷二基氧基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷二基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷二基羰氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、烷二基磺醯基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、烷二基硫基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）、環烷氧基、環烷基烷氧基、烷氧基羰氧基、芳香族烴基-羰氧基、芳香族烴基-羰基、芳香族烴基-氧基、將該些基中的兩種以上組合而成的基等。
作為烷氧基，可列舉碳數1～19的烷氧基，例如可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊基氧基、己基氧基、辛基氧基、2-乙基己基氧基、壬基氧基、癸基氧基、十一烷基氧基等。烷氧基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
烷氧基羰基、烷基羰基及烷基羰氧基表示羰基或羰氧基與所述烷基或烷氧基鍵結而成的基。
作為烷氧基羰基，可列舉碳數2～19的烷氧基羰基，例如可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丁氧基羰基等。作為烷基羰基，可列舉碳數2～20的烷基羰基，例如可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。作為烷基羰氧基，可列舉碳數2～19的烷基羰氧基，例如可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基等。烷氧基羰基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷基羰基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷基羰氧基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。
作為烷硫基，可列舉碳數1～19的烷硫基，例如可列舉：甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基等。烷硫基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷基磺醯基，可列舉碳數1～19的烷基磺醯基，例如可列舉：甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基等。烷基磺醯基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基氧基，可列舉碳數1～19的烷二基氧基，例如可列舉：亞甲基氧基、伸乙基氧基、丙二基氧基、丁二基氧基、戊二基氧基等。烷二基氧基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基氧基羰基，可列舉碳數2～19的烷二基氧基羰基，例如可列舉：亞甲基氧基羰基、伸乙基氧基羰基、丙二基氧基羰基、丁二基氧基羰基等。作為烷二基羰基，可列舉碳數2～20的烷二基羰基，例如可列舉：亞甲基羰基、伸乙基羰基、丙二基羰基、丁二基羰基、戊二基羰基等。作為烷二基羰氧基，可列舉碳數2～19的烷二基羰氧基，例如可列舉：亞甲基羰氧基、伸乙基羰氧基、丙二基羰氧基、丁二基羰氧基等。烷二基氧基羰基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷二基羰基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。烷二基羰氧基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2或3。
作為烷二基磺醯基，可列舉碳數1～19的烷二基磺醯基，例如可列舉：亞甲基磺醯基、伸乙基磺醯基、伸丙基磺醯基等。烷二基磺醯基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基硫基，可列舉碳數1～19的烷二基硫基，例如可列舉：亞甲基硫基、伸乙基硫基、伸丙基硫基等。烷二基硫基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為環烷氧基，可列舉碳數3～19的環烷氧基，例如可列舉環己基氧基等。作為環烷基烷氧基，可列舉碳數4～19的環烷基烷氧基，例如可列舉環己基甲氧基等。作為烷氧基羰氧基，可列舉碳數2～18的烷氧基羰氧基，例如可列舉丁氧基羰氧基等。作為芳香族烴基-羰氧基，可列舉碳數7～19的芳香族烴基-羰氧基，例如可列舉苯甲醯基氧基等。作為芳香族烴基-羰基，可列舉碳數7～20的芳香族烴基-羰基，例如可列舉苯甲醯基等。作為芳香族烴基-氧基，可列舉碳數6～19的芳香族烴基-氧基，例如可列舉苯基氧基等。
另外，作為脂環式烴基中包含的-CH
2-被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代的基，可列舉以下所表示的基等。另外，亦可列舉以下所表示的基中-O-被取代為-S-且-CO-被取代為-SO
2-的基等。鍵結部位可設為任意的位置。
作為A
1及A
2中的烴基可具有的取代基，可列舉與R
4、R
5、R
7及R
8中列舉的基相同的基。
A
1及A
2較佳為分別獨立地為碳數1～20的烴基（該烴基可具有取代基，該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代。其中，該烴基中包含的-CH
2-的至少一個被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代）。具體而言，更佳為A
1為***-L
011-X
01-L
012-，A
2為***-L
021-X
02-L
022-（X
01及X
02分別獨立地表示-O-、-CO-、-S-或-SO
2-。L
011、L
012、L
021及L
022分別獨立地表示單鍵或碳數1～19的烴基，該烴基可具有取代基，該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代。其中，L
011與L
012的碳數合計為0～19，L
021與L
022的碳數合計為0～19。***表示與R
1或R
2所鍵結的苯環的鍵結部位），進而佳為A
1為***-X
01-L
01-或***-L
01-X
01-，A
2為***-X
02-L
02-或***-L
02-X
02-（X
01及X
02分別獨立地表示-O-、-CO-、-S-或-SO
2-。L
01及L
02分別獨立地表示單鍵或碳數1～19的烴基，該烴基可具有取代基，該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代。***表示與R
1或R
2所鍵結的苯環的鍵結部位）。A
1及A
2較佳為除利用-O-、-CO-、-S-或-SO
2-的取代以外不具有取代基。
作為L
011、L
012、L
021、L
022、L
01及L
02中的碳數1～19的烴基（該烴基可具有取代基，該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代），可列舉碳數為1～19的範圍且與A
1及A
2中列舉的基相同的基。
X
01及X
02較佳為分別獨立地為-O-或-S-，更佳為-O-。
L
011、L
012、L
021、L
022、L
01及L
02較佳為分別獨立地為單鍵或碳數1～18的烴基（該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代），更佳為單鍵或碳數1～12的烴基（該烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代），進而佳為單鍵或碳數1～9的鏈式烴基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO
2-取代），進一步更佳為單鍵或碳數1～6的烷二基（該烷二基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），進一步進而佳為單鍵或碳數1～4的烷二基（該烷二基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），進一步更佳為單鍵或碳數1～3的烷二基（該烷二基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代）。其中，較佳為單鍵、亞甲基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-2,2-二基、羰基、羰氧基、羰氧基亞甲基、伸乙基氧基、亞甲基羰氧基亞甲基或伸乙基氧基羰基，更佳為單鍵、亞甲基或羰基。
A
1及A
2於I
+所鍵結的苯環上的鍵結位置分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，可為鄰位、間位、對位的任一種。其中，較佳為相對於I
+的鍵結位置，分別獨立地鍵結於對位或間位。更具體而言，於m1及m2為1的情況下，A
1及A
2較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，鍵結於對位或間位，更佳為鍵結於對位。於m1及m2為2的情況下，A
1及A
2較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，一個鍵結於鄰位或間位，一個鍵結於鄰位或間位，更佳為兩個鍵結於間位。於m1及m2為3的情況下，A
1及A
2較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，兩個鍵結於鄰位或間位，一個鍵結於對位或間位，更佳為兩個鍵結於間位，一個鍵結於對位。於m1及m2為4的情況下，A
1及A
2較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，兩個鍵結於鄰位或間位，兩個鍵結於對位或間位，更佳為兩個鍵結於鄰位，兩個鍵結於間位。
m1較佳為1、2、3或4，更佳為1、2或3，進而佳為1或2，進而更佳為1。
m2較佳為0、1、2、3或4，更佳為0、1、2或3，進而佳為0、1或2，進而更佳為0或1。
m4較佳為0、1、2或4，更佳為0、1或2，進而佳為0或1。
m5較佳為0、1、2或4，更佳為0、1或2，進而佳為0或1。
m7較佳為0、1、2或3，更佳為0、1或2，進而佳為0或1。
m8較佳為0、1、2、3或4，更佳為0、1、2或3，進而佳為0、1或2，進而更佳為0或1。
R
4及R
5較佳為分別獨立地為鹵素原子、碳數1～6的鹵代烷基或碳數1～6的烷基（該鹵代烷基及該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），更佳為鹵素原子、碳數1～4的氟化烷基或碳數1～4的烷基（該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），進而佳為氟原子、碘原子、碳數1～4的全氟烷基或碳數1～4的烷基（該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），進一步更佳為氟原子、碘原子、碳數1～4的全氟烷基、羥基、碳數1～3的烷氧基或碳數1～4的烷基，進一步進而佳為氟原子、碘原子、碳數1～3的全氟烷基、羥基或碳數1～3的烷氧基，進而更佳為氟原子、碘原子、三氟甲基、甲氧基、乙氧基或羥基。
R
4及R
5於苯環上的鍵結位置分別獨立地相對於A
1及A
2的鍵結位置，可為鄰位、間位、對位的任一種。其中，於m4及m5為1的情況下，R
4及R
5較佳為分別獨立地相對於A
1及A
2的鍵結位置，鍵結於對位或間位，更佳為鍵結於間位。於m4及m5為2的情況下，R
4及R
5較佳為分別獨立地相對於A
1及A
2的鍵結位置，一個鍵結於鄰位或間位，一個鍵結於對位或間位，更佳為兩個鍵結於間位。於m4及m5為3的情況下，R
4及R
5較佳為分別獨立地相對於A
1及A
2的鍵結位置，兩個鍵結於鄰位或間位，一個鍵結於對位或間位，更佳為一個鍵結於鄰位，兩個鍵結於間位。於m4及m5為4的情況下，R
4及R
5較佳為分別獨立地相對於A
1及A
2的鍵結位置，兩個鍵結於鄰位或間位，兩個鍵結於對位或間位，更佳為兩個鍵結於鄰位，兩個鍵結於間位。
另外，於另一實施方式中，一個以上的R
4及R
5中的至少一個可包含酸不穩定基，R
4及R
5亦可分別獨立地為與R
1及R
2相同的基，於R
1為-O-R
10的情況下，較佳為一個或兩個R
4為與R
1相同的-O-R
10，於R
1為-O-CO-O-R
10的情況下，較佳為一個或兩個R
4為與R
1相同的-O-CO-O-R
10的情況，於R
1為-O-L
1-CO-O-R
10的情況下，較佳為一個或兩個R
4為與R
1相同的-O-L
1-CO-O-R
10。關於R
2與R
5的組合，亦與R
1及R
4的組合相同。
R
7及R
8較佳為分別獨立地為鹵素原子、碳數1～6的鹵代烷基或碳數1～6的烷基（該鹵代烷基及該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），更佳為鹵素原子、碳數1～4的氟化烷基或碳數1～4的烷基（該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），進而佳為氟原子、碘原子、碳數1～4的全氟烷基或碳數1～4的烷基（該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代），進一步更佳為氟原子、碘原子、三氟甲基、羥基、甲氧基、甲基或第三丁基。
R
7及R
8於苯環上的鍵結位置分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，可為鄰位、間位、對位的任一種。其中，於m7及m8為1的情況下，R
7及R
8較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，鍵結於鄰位或對位。於m7及m8為2的情況下，R
7及R
8較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，一個鍵結於鄰位或間位，一個鍵結於對位或間位，更佳為一個鍵結於間位，一個鍵結於對位或間位。於m7及m8為3的情況下，R
7及R
8較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，兩個鍵結於鄰位或間位，一個鍵結於對位或間位，更佳為兩個鍵結於間位，一個鍵結於對位。於m7及m8為4的情況下，R
7及R
8較佳為分別獨立地相對於I
+的鍵結位置，兩個鍵結於鄰位或間位，兩個鍵結於對位或間位，更佳為兩個鍵結於間位，一個鍵結於鄰位，一個鍵結於對位。
較佳為m1及m2分別為1或m1及m2分別為2。
於m2=0的情況下的實施方式中，較佳為m8為1，R
8為分支狀的碳數3或4的烷基。
於m4為2的情況下的實施方式中，較佳為兩個R
4中的一個為碘原子或氟原子，另一個為羥基，更佳為羥基相對於I
+的鍵結位置而鍵結於對位。
作為式（I-C）所表示的陽離子（I），可列舉式（I-C-1）所表示的陽離子（以下有時稱為「陽離子（I-C-1）」）。
[式（I-C-1）中，
R
1、R
2、R
4、R
5、R
7、R
8、m1、m2、m4、m5、m7、m8、L
01、L
02、X
01及X
02的符號表示與所述相同的含義]
X
01及X
02於苯環上的鍵結位置分別獨立地與A
1及A
2於苯環上的鍵結位置相同。
作為鹽（I）的陽離子（I），可列舉以下的式（I-c-1）～式（I-c-160）所表示的陽離子等。
〔陰離子（I）〕
式（I）所表示的鹽的陰離子（I）為式（I-A）所表示的陰離子。
[式（I-A）中，全部符號表示與式（I）相同的含義]
式（I-A）中，作為X
0所表示的烴基，可列舉脂肪族烴基（烷二基、烯二基、炔二基等鏈式烴基及脂環式烴基）、芳香族烴基及將該些組合而成的基等。烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-。於烴基中與CO
2 -鄰接的原子較佳為碳原子，於脂肪族烴基中與CO
2 -鄰接的原子更佳為碳原子。
作為烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基等直鏈狀烷二基；
乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基。
作為烯二基，可列舉：乙烯二基、丙烯二基、異丙烯二基、丁烯二基、異丁烯二基、第三丁烯二基、戊烯二基、己烯二基、庚烯二基、辛烯二基、異辛烯二基、壬烯二基。
作為炔二基，可列舉：乙炔二基、丙炔二基、異丙炔二基、丁炔二基、異丁炔二基、第三丁炔二基、戊炔二基、己炔二基、辛炔二基、壬炔二基等。
鏈式烴基的碳數較佳為1～18，更佳為1～12，進而佳為1～9，進一步更佳為1～6，進一步進而佳為1～4。
作為鏈式烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-的基，可列舉：羥基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羧基（乙基中包含的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、硫醇基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷氧基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷基羰氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、烷硫基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷基磺醯基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、氧基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羰基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-CO-的基）、硫基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、磺醯基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、烷二基氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷二基氧基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷二基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷二基羰氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、烷二基磺醯基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、烷二基硫基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）等。
作為烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷基羰氧基、烷硫基、烷基磺醯基，可列舉與所述相同的基。作為烷二基氧基、烷二基氧基羰基、烷二基羰基、烷二基羰氧基、烷二基磺醯基、烷二基硫基，可列舉於鍵結部位對烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷基羰氧基、烷硫基、烷基磺醯基的任意位置的一個氫原子進行取代而成的基。
再者，關於烯二基、炔二基中的取代，只要於所述烷基中的取代的示例中，於任意位置包含碳-碳雙鍵或碳-碳三鍵即可。
作為脂環式烴基，可為單環式、多環式及螺環的任一種，亦可為飽和及不飽和的任一種。作為二價脂環式烴基，可列舉以下所表示的基等。鍵結部位可設為任意的位置。
具體而言，作為單環式的二價脂環式烴基，可列舉：環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環己烯-3,6-二基、環辛烷-1,5-二基等單環式環烷二基，作為多環式的二價脂環式烴基，可列舉：降冰片烷-1,4-二基、降冰片烷-2,5-二基、5-降冰片烯-2,3-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式環烷二基。
脂環式烴基的碳數較佳為3～36，更佳為3～24，進而佳為3～18，進一步更佳為3～16，進一步進而佳為3～12。
作為脂環式烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-的基，具體而言，可列舉下述基等。鍵結部位可設為任意的位置。
作為脂環式烴基，較佳為式（y1）～式（y11）、式（y44）～式（y48）、式（y59）～式（y61）的任一者所表示的基，更佳為式（y3）、式（y4）、式（y9）、式（y11）的任一者所表示的基。
作為脂環式烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-的基，較佳為式（y12）～式（y20）、式（y26）、式（y27）、式（y30）、式（y31）、式（y39）～式（y43）、式（y49）～式（y71）的任一者所表示的基，更佳為式（y14）、式（y15）、式（y16）、式（y20）、式（y26）、式（y27）、式（y30）、式（y31）、式（y39）、式（y40）、式（y42）、式（y43）、式（y49）～式（y58）、式（y62）～式（y71）的任一者所表示的基。
作為芳香族烴基，可列舉：伸苯基、伸萘基、伸蒽基、伸聯苯基、伸菲基等。芳香族烴基的碳數較佳為6～36，更佳為6～24，進而佳為6～18，進一步更佳為6～14，進一步進而佳為6～10。
作為將兩種以上組合而成的烴基，可列舉將烷二基與脂環式烴基及/或芳香族烴基組合而成的基等，可列舉：-脂環式烴基-烷二基-、-烷二基-脂環式烴基-、-烷二基-脂環式烴基-烷二基-、-烷二基-芳香族烴基-、-芳香族烴基-烷二基-等。
於X
0所表示的烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-的情況下，將取代之前的碳數設為該烴基的總碳數。另外，於X
0所表示的烴基上鍵結有取代基的情況下，將取代之前的碳數設為該烴基的總碳數。
X
0所表示的烴基可具有一個或多個取代基。
作為取代基，可列舉：羥基、鹵素原子、氰基、碳數1～12的烷基、碳數1～12的烷氧基、碳數2～13的烷氧基羰基、碳數2～13的烷基羰基、碳數2～13的烷基羰氧基、碳數3～12的脂環式烴基、碳數6～10的芳香族烴基或將該些組合而成的基等。
作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
作為碳數1～12的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基、壬基等。
作為碳數1～12的烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊基氧基、己基氧基、辛基氧基、2-乙基己基氧基、壬基氧基、癸基氧基、十一烷基氧基、十二烷基氧基等。
碳數2～13的烷氧基羰基、碳數2～13的烷基羰基及碳數2～13的烷基羰氧基表示羰基或羰氧基與所述烷基或烷氧基鍵結而成的基。
作為碳數2～13的烷氧基羰基，可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丁氧基羰基等，作為碳數2～13的烷基羰基，可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等，作為碳數2～13的烷基羰氧基，可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基等。
作為碳數3～12的脂環式烴基，可列舉下述所示的基。**表示與X
0的鍵結部位。
作為碳數6～10的芳香族烴基，可列舉苯基、萘基等芳基。
作為組合而成的基，可列舉：將羥基與碳數1～12的烷基組合而成的基、將碳數1～12的烷基與碳數6～10的芳香族烴基組合而成的基、將碳數3～12的脂環式烴基與碳數6～10的芳香族烴基組合而成的基、將碳數1～12的烷基與碳數3～12的脂環式烴基組合而成的基、將鹵素原子與碳數1～12的烷基組合而成的基等。
作為將羥基與碳數1～12的烷基組合而成的基，可列舉羥基甲基、羥基乙基等碳數1～12的羥基烷基等。
作為將碳數1～12的烷基與碳數6～10的芳香族烴基組合而成的基，可列舉苄基等碳數7～22的芳烷基、甲苯基、二甲苯基等碳數7～22的烷基芳基。
作為將碳數3～12的脂環式烴基與碳數6～10的芳香族烴基組合而成的基，可列舉環己基苯基等。
作為將碳數1～12的烷基與碳數3～12的脂環式烴基組合而成的基，可列舉環己基甲基等碳數4～24的環烷基烷基、甲基環己基等碳數4～24的烷基環烷基等。
作為將鹵素原子與碳數1～12的烷基組合而成的基，可列舉三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基等碳數1～12的全氟烷基等。
作為X
0所表示的烴基，較佳為包含可具有取代基的碳數1～72的脂肪族烴基（該脂肪族烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-）或可具有取代基的碳數6～36的芳香族烴基，
更佳為包含可具有取代基的碳數1～18的鏈式烴基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、可具有取代基的碳數3～36的脂環式烴基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-）、可具有取代基的碳數3～36的脂環式烴基與可具有取代基的碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、可具有取代基的碳數6～36的芳香族烴基或可具有取代基的碳數6～36的芳香族烴基與可具有取代基的碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-），
進而佳為*-鏈式烴基-、*-脂環式烴基-、*-脂環式烴基與鏈式烴基組合而成的基-、*-脂環式烴基-鏈式烴基-、*-鏈式烴基-脂環式烴基-、*-脂環式烴基與鏈式烴基組合而成的基-鏈式烴基-、*-鏈式烴基-脂環式烴基與鏈式烴基組合而成的基-、*-芳香族烴基-、*-鏈式烴基-芳香族烴基-、*-芳香族烴基-鏈式烴基-、*-脂環式烴基-鏈式烴基-脂環式烴基-、*-鏈式烴基-脂環式烴基-鏈式烴基-、*-脂環式烴基與鏈式烴基組合而成的基-鏈式烴基-脂環式烴基-、*-鏈式烴基-脂環式烴基與鏈式烴基組合而成的基-鏈式烴基-、*-鏈式烴基-脂環式烴基-鏈式烴基-脂環式烴基-、或*-鏈式烴基-脂環式烴基與鏈式烴基組合而成的基-鏈式烴基-脂環式烴基-（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基、該芳香族烴基及該鏈式烴基可具有取代基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位），
進一步更佳為*-脂環式烴基-（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該脂環式烴基可具有羥基或氟原子。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）、*-脂環式烴基-鏈式烴基-（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基及該鏈式烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）、*-鏈式烴基-脂環式烴基-（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基及該脂環式烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）、*-芳香族烴基-（該芳香族烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）或*-鏈式烴基-芳香族烴基-（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該鏈式烴基及該芳香族烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位），
進一步進而佳為*-單環式的脂環式烴基-（該單環式的脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該單環式的脂環式烴基可具有羥基或氟原子。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）、*-多環式的脂環式烴基-（該多環式的脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該多環式的脂環式烴基可具有羥基或氟原子。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）、*-多環式的脂環式烴基-鏈式烴基-（該多環式的脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該多環式的脂環式烴基及該鏈式烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）、*-鏈式烴基-多環式的脂環式烴基-（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該多環式的脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基及該多環式的脂環式烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）、*-芳香族烴基-（該芳香族烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）或*-鏈式烴基-芳香族烴基-（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該鏈式烴基及該芳香族烴基可具有氟原子或羥基。*表示與-COO
-的碳原子的鍵結部位）。
所述基中，脂環式烴基的碳數較佳為3～36，更佳為3～24，進而佳為3～18，進一步更佳為3～16，進一步進而佳為3～12。鏈式烴基的碳數較佳為1～18，更佳為1～12，進而佳為1～9，進一步更佳為1～6，進一步進而佳為1～4。芳香族烴基的碳數較佳為6～36，更佳為6～24，進而佳為6～18，進一步更佳為6～14，進一步進而佳為6～10。
所述基中，脂環式烴基或芳香族烴基較佳為碳數3～18的脂環式烴基或碳數6～18的芳香族烴基（該基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-），更佳為式（w1-1）～式（w1-28）的任一者所表示的基，進而佳為式（w1-1）～式（w1-6）及式（w1-12）～式（w1-26）的任一者所表示的基，進而更佳為式（w1-1）～式（w1-3）、式（w1-6）、式（w1-15）～式（w1-17）、式（w1-22）及式（w1-25）的任一者所表示的基。
[式（w1-1）～式（w1-28）中，
該基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-。鍵結部位為任意的位置]
更具體而言，所述單環式的脂環式烴基較佳為碳數5或6的環烷二基（該環烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-），所述多環式的脂環式烴基較佳為金剛烷二基、降冰片烷二基、金剛烷內酯二基、降冰片烷內酯二基、或者金剛烷二基和以螺而與該金剛烷二基鍵結的碳數5或6的環烷二基（該金剛烷二基、降冰片烷二基及環烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-），所述芳香族烴基較佳為伸苯基。此處，該金剛烷二基及降冰片烷二基中包含的-CH
2-CH
2-可被取代為-O-CO-，該環烷二基亦可為縮醛環。
所述基中，鏈式烴基較佳為碳數1～12的鏈式烴基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-），更佳為碳數1～8的鏈式烴基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-），進而佳為碳數1～6的烷二基（該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）。另外，亦較佳為具有氟原子。
所述基中，取代基較佳為氟原子、羥基、碳數1～4的烷基、碳數3～10的脂環式烴基或將該些組合而成的基，更佳為氟原子、羥基或碳數1～4的全氟烷基。
更具體而言，X
0較佳為單鍵，或者包含可具有取代基的碳數1～72的脂肪族烴基（該脂肪族烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-）或可具有取代基的碳數6～36的芳香族烴基，
更佳為單鍵，或者包含可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數1～18的鏈式烴基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數3～36的脂環式烴基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-）、碳數3～36的脂環式烴基與碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基及該鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數6～36的芳香族烴基、或者碳數6～36的芳香族烴基與碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該芳香族烴基及該鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基），
進而佳為單鍵，或者包含可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數1～12的鏈式烴基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數3～18的脂環式烴基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-）、碳數3～18的脂環式烴基與碳數1～8的鏈式烴基組合而成的基（該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-，該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基及該鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數6～18的芳香族烴基、或者碳數6～18的芳香族烴基與碳數1～8的鏈式烴基組合而成的基（該鏈式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該芳香族烴基及該鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基），
進一步更佳為單鍵，或者包含碳數1～6的烷二基、碳數5或6的環烷二基、金剛烷二基、降冰片烷二基、金剛烷內酯二基、降冰片烷內酯二基、伸苯基、碳數1～6的烷二基與碳數5或6的環烷二基、金剛烷二基、降冰片烷二基或伸苯基組合而成的基、或者金剛烷二基與碳數5或6的環烷二基組合而成的基（該烷二基、該環烷二基、該金剛烷二基及該降冰片烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該烷二基、該環烷二基、該金剛烷二基、該降冰片烷二基、該金剛烷內酯二基、該降冰片烷內酯二基及該伸苯基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基），
進一步進而佳為環己二基、金剛烷二基、羥基金剛烷二基、降冰片烷內酯二基、碳數1～6的烷二基與金剛烷二基組合而成的基（該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、伸苯基、或者羥基伸苯基。
另外，亦較佳為X
0包含脂環式烴基，該脂環式烴基包含碳數5或6的環烷二基、金剛烷二基、降冰片烷二基、金剛烷內酯二基、降冰片烷內酯二基、或者金剛烷二基和以螺而與該金剛烷二基鍵結的碳數5或6的環烷二基（該金剛烷二基、降冰片烷二基及環烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）。此處，該金剛烷二基及降冰片烷二基中包含的-CH
2-CH
2-可被取代為-O-CO-，該環烷二基亦可為縮醛環。
R
bb1中的鹵素原子可列舉與R
4、R
5、R
7及R
8中列舉的鹵素原子相同者。只要碳數的上限允許，則R
bb1中的可具有鹵素原子的烷基可列舉與R
4、R
5、R
7及R
8中列舉的烷基及鹵代烷基相同者。
R
bb1較佳為氫原子或碳數1～4的烷基，更佳為氫原子或碳數1～3的烷基，進而佳為氫原子或甲基，進而更佳為甲基。
X
10於為*-Ax-Ph-Ay-**所表示的基的情況下，較佳為以下的式（X10）所表示的連結基。
[式（X10）中，
Ax表示與R
bb1所鍵結的碳原子鍵結的鍵結種，表示選自由單鍵、醚鍵、硫醚鍵、酯鍵及碳酸酯鍵所組成的群組中的一種鍵結種。
Ay表示與L
10鍵結的鍵結種，表示選自由單鍵、醚鍵、硫醚鍵、酯鍵及碳酸酯鍵所組成的群組中的一種鍵結種。
Rx表示鹵素原子、羥基、碳數1～6的氟化烷基、碳數1～18的烷基或碳數1～6的烷氧基。
mx表示0～4的任一整數，於mx為2以上的整數的情況下，多個Rx相互可相同亦可不同]
於Ax及Ay中的任一者為單鍵的情況下，另一者較佳為選自由醚鍵、硫醚鍵、酯鍵及碳酸酯鍵所組成的群組中的一種。
相對於Ax的鍵結位置，伸苯基中的Ay的鍵結位置較佳為間位或對位，更佳為對位。
Rx較佳為氟原子、碘原子、三氟甲基、甲基或乙基。
mx較佳為0、1或2。
作為X
10，例如可列舉以下的式（X
10-1）～式（X
10-10）所表示的基。
*及**表示鍵結部位，*表示與-R
bb1所鍵結的碳原子的鍵結部位。
作為式（X
10-3）～式（X
10-10）所表示的基的具體例，可列舉以下的基。
其中，X
10較佳為單鍵或式（X
10-1）、式（X
10-3'）～式（X
10-10'）的任一者所表示的基，更佳為單鍵或式（X
10-1）、式（X
10-4'）、式（X
10-5'）、式（X
10-6'）及式（X
10-10'）的任一者所表示的基，進而佳為單鍵、式（X
10-1）所表示的基、式（X
10-5'）所表示的基或式（X
10-6'）所表示的基。
作為L
10中的碳數1～36的烴基，可列舉二價脂肪族烴基（烷二基、烯二基、炔二基等二價鏈式烴基及二價脂環式烴基）、二價芳香族烴基等，亦可為將該些基中的兩種以上組合而成的二價烴基。
作為烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基等直鏈狀烷二基；
乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基。
作為烯二基，可列舉：乙烯二基、丙烯二基、異丙烯二基、丁烯二基、異丁烯二基、第三丁烯二基、戊烯二基、己烯二基、庚烯二基、辛烯二基、異辛烯二基、壬烯二基。
作為炔二基，可列舉：乙炔二基、丙炔二基、異丙炔二基、丁炔二基、異丁炔二基、第三丁炔二基、戊炔二基、己炔二基、辛炔二基、壬炔二基等。
鏈式烴基的碳數較佳為1～12，更佳為1～9，進而佳為1～6，進一步更佳為1～4，進一步進而佳為1～3。
作為二價脂環式烴基，可為單環式、多環式及螺環的任一種。作為二價脂環式烴基，可列舉以下所表示的基等。鍵結部位可設為任意的位置。
具體而言，作為單環式的二價脂環式烴基，可列舉：環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環己烯-3,6-二基、環辛烷-1,5-二基等單環式環烷二基，作為多環式的二價脂環式烴基，可列舉：降冰片烷-1,4-二基、降冰片烷-2,5-二基、5-降冰片烯-2,3-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式環烷二基。
脂環式烴基的碳數較佳為3～18，更佳為3～16，進而佳為3～12。
作為二價芳香族烴基，可列舉：伸苯基、伸萘基、伸蒽基、伸聯苯基、伸菲基等。芳香族烴基的碳數較佳為6～18，更佳為6～14，進而佳為6～10。
作為將兩種以上組合而成的烴基，可列舉將烷二基與脂環式烴基及/或芳香族烴基組合而成的基等，可列舉：-脂環式烴基-烷二基-、-烷二基-脂環式烴基-、-烷二基-脂環式烴基-烷二基-、-烷二基-芳香族烴基-、-芳香族烴基-烷二基-等。
L
10中的碳數1～36的烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-。
於L
10中的碳數1～36的烴基具有取代基的情況下或該烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO
2-的情況下，將取代之前的碳數設為該烴基的碳數。
作為烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-的基，可列舉：羥基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羧基（乙基中包含的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、硫醇基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷氧基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷基羰基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷基羰氧基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、氧基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羰基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-CO-的基）、硫基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-S-的基）、磺醯基（亞甲基中包含的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、烷二基氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-O-的基）、烷二基氧基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、烷二基羰基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-CO-的基）、烷二基羰氧基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）、烷硫基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷基磺醯基（烷基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、烷二基硫基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-S-的基）、烷二基磺醯基（烷二基中包含的任意位置的-CH
2-被取代為-SO
2-的基）、環烷氧基、環烷基烷氧基、烷氧基羰氧基、芳香族烴基-羰氧基、芳香族烴基-羰基、芳香族烴基-氧基、將該些基中的兩種以上組合而成的基等。
作為烷氧基，可列舉碳數1～17的烷氧基，例如可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊基氧基、己基氧基、辛基氧基、2-乙基己基氧基、壬基氧基、癸基氧基、十一烷基氧基等。烷氧基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
烷氧基羰基、烷基羰基及烷基羰氧基表示羰基或羰氧基與所述烷基或烷氧基鍵結而成的基。
作為烷氧基羰基，可列舉碳數2～17的烷氧基羰基，例如可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丁氧基羰基等。作為烷基羰基，可列舉碳數2～18的烷基羰基，例如可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。作為烷基羰氧基，可列舉碳數2～17的烷基羰氧基，例如可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基等。烷氧基羰基、烷基羰基及烷基羰氧基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2～3。
作為烷二基氧基，可列舉碳數1～17的烷二基氧基，例如可列舉：亞甲基氧基、伸乙基氧基、丙二基氧基、丁二基氧基、戊二基氧基等。烷二基氧基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基氧基羰基，可列舉碳數2～17的烷二基氧基羰基，例如可列舉：亞甲基氧基羰基、伸乙基氧基羰基、丙二基氧基羰基、丁二基氧基羰基等。作為烷二基羰基，可列舉碳數2～18的烷二基羰基，例如可列舉：亞甲基羰基、伸乙基羰基、丙二基羰基、丁二基羰基、戊二基羰基等。作為烷二基羰氧基，可列舉碳數2～17的烷二基羰氧基，例如可列舉：亞甲基羰氧基、伸乙基羰氧基、丙二基羰氧基、丁二基羰氧基等。烷二基氧基羰基、烷二基羰基、烷二基羰氧基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2～3。
作為烷硫基，可列舉碳數1～17的烷硫基，例如可列舉：甲硫基、乙硫基、丙硫基等。烷硫基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷基磺醯基，可列舉碳數1～17的烷基磺醯基，例如可列舉：甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基等。烷基磺醯基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基硫基，可列舉碳數1～17的烷二基硫基，例如可列舉：亞甲基硫基、伸乙基硫基、伸丙基硫基等。烷二基硫基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為烷二基磺醯基，可列舉碳數1～17的烷二基磺醯基，例如可列舉：亞甲基磺醯基、伸乙基磺醯基、伸丙基磺醯基等。烷二基磺醯基的碳數較佳為1～11，更佳為1～6，進而佳為1～4，進而更佳為1～3。
作為環烷氧基，可列舉碳數3～17的環烷氧基，例如可列舉環己基氧基等。作為環烷基烷氧基，可列舉碳數4～17的環烷基烷氧基，例如可列舉環己基甲氧基等。作為烷氧基羰氧基，可列舉碳數2～16的烷氧基羰氧基，例如可列舉丁氧基羰氧基等。環烷氧基、環烷基烷氧基的碳數較佳為3～11，更佳為3～6。烷氧基羰氧基的碳數較佳為2～11，更佳為2～6，進而佳為2～4，進而更佳為2～3。作為芳香族烴基-羰氧基，可列舉碳數7～17的芳香族烴基-羰氧基，例如可列舉苯甲醯基氧基等。作為芳香族烴基-羰基，可列舉碳數7～18的芳香族烴基-羰基，例如可列舉苯甲醯基等。作為芳香族烴基-氧基，可列舉碳數6～17的芳香族烴基-氧基，例如可列舉苯基氧基等。
另外，作為脂環式烴基中包含的-CH
2-被-O-、-S-、-CO-或-SO
2-取代的基，可列舉以下所表示的基等。以下所表示的基中的-O-或-CO-亦可被取代為-S-或-SO
2-。鍵結部位可設為任意的位置。
作為L
10中的烴基可具有的取代基，可列舉鹵素原子、氰基等。
藉由L
10中的烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-或-CO-的基，L
10實質上可具有羥基、羧基、烷氧基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷基羰氧基等取代基。
作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
L
10中的碳數1～36的烴基可具有一個取代基或多個取代基。
L
10較佳為單鍵、碳數1～6的烷二基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、碳數3～18的環狀烴基（其中，該環狀烴基可具有取代基，該環狀烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-）或碳數1～6的烷二基與碳數3～18的環狀烴基組合而成的基（其中，該環狀烴基可具有取代基，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該環狀烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-），更佳為單鍵、碳數1～4的烷二基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、碳數3～18的脂環式烴基（其中，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-）、可具有取代基的碳數6～18的芳香族烴基、碳數1～4的烷二基與碳數3～18的脂環式烴基組合而成的基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-）或者碳數1～4的烷二基與可具有取代基的碳數6～18的芳香族烴基組合而成的基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-），進而佳為單鍵、碳數1～4的烷二基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、碳數3～18的脂環式烴基（其中，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）、可具有取代基的伸苯基、碳數1～4的烷二基與碳數3～18的脂環式烴基組合而成的基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）或者碳數1～4的烷二基與可具有取代基的伸苯基組合而成的基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-），進而更佳為單鍵或碳數1～4的烷二基（其中，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-）。
作為陰離子（I），例如可列舉以下的陰離子。
作為羧酸鹽（I）的具體例，可列舉將所述陽離子與陰離子任意組合而成的鹽。將羧酸鹽（I）的具體例示於下述表。
下述表中，各符號表示隨附於表示所述陰離子及陽離子的結構的符號，「～」表示鹽（I）與陰離子（I）分別對應。例如，羧酸鹽（I-1）為包含式（I-a-1）所表示的陰離子與式（I-c-1）所表示的陽離子的鹽，且為以下所示的鹽。另外，鹽（I-2）表示包含式（I-a-2）所表示的陰離子與式（I-c-1）所表示的陽離子的鹽，鹽（I-28）表示包含式（I-a-1）所表示的陰離子與式（I-c-2）所表示的陽離子的鹽。
[表1]
| 羧酸鹽（I） | 陰離子（I） | 陽離子（I） |
| （I-1）～（I-27） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-1） |
| （I-28）～（I-54） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-2） |
| （I-55）～（I-81） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-3） |
| （I-82）～（I-108） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-4） |
| （I-109）～（I-135） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-5） |
| （I-136）～（I-162） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-6） |
| （I-163）～（I-189） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-7） |
| （I-190）～（I-216） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-8） |
| （I-217）～（I-243） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-9） |
| （I-244）～（I-270） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-10） |
| （I-271）～（I-297） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-11） |
| （I-298）～（I-324） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-12） |
| （I-325）～（I-351） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-13） |
| （I-352）～（I-378） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-14） |
| （I-379）～（I-405） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-15） |
| （I-406）～（I-432） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-16） |
| （I-433）～（I-459） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-17） |
| （I-460）～（I-486） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-18） |
| （I-487）～（I-513） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-19） |
| （I-514）～（I-540） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-20） |
| （I-541）～（I-567） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-21） |
| （I-568）～（I-594） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-22） |
| （I-595）～（I-621） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-23） |
| （I-622）～（I-648） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-24） |
| （I-649）～（I-675） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-25） |
| （I-676）～（I-702） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-26） |
| （I-703）～（I-729） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-27） |
| （I-730）～（I-756） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-28） |
| （I-757）～（I-783） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-29） |
| （I-784）～（I-810） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-30） |
| （I-811）～（I-837） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-31） |
| （I-838）～（I-864） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-32） |
| （I-865）～（I-891） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-33） |
| （I-892）～（I-918） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-34） |
| （I-919）～（I-945） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-35） |
| （I-946）～（I-972） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-36） |
| （I-973）～（I-999） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-37） |
| （I-1000）～（I-1026） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-38） |
| （I-1027）～（I-1053） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-39） |
| （I-1054）～（I-1080） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-40） |
| （I-1081）～（I-1107） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-41） |
| （I-1108）～（I-1134） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-42） |
| （I-1135）～（I-1161） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-43） |
| （I-1162）～（I-1188） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-44） |
| （I-1189）～（I-1215） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-45） |
| （I-1216）～（I-1242） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-46） |
| （I-1243）～（I-1269） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-47） |
| （I-1270）～（I-1296） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-48） |
| （I-1297）～（I-1323） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-49） |
| （I-1324）～（I-1350） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-50） |
| （I-1351）～（I-1377） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-51） |
| （I-1378）～（I-1404） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-52） |
| （I-1405）～（I-1431） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-53） |
| （I-1432）～（I-1458） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-54） |
| （I-1459）～（I-1485） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-55） |
| （I-1486）～（I-1512） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-56） |
| （I-1513）～（I-1539） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-57） |
| （I-1540）～（I-1566） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-58） |
| （I-1567）～（I-1593） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-59） |
| （I-1594）～（I-1620） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-60） |
| （I-1621）～（I-1647） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-61） |
| （I-1648）～（I-1674） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-62） |
| （I-1675）～（I-1701） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-63） |
| （I-1702）～（I-1728） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-64） |
| （I-1729）～（I-1755） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-65） |
| （I-1756）～（I-1782） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-66） |
| （I-1783）～（I-1809） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-67） |
| （I-1810）～（I-1836） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-68） |
| （I-1837）～（I-1863） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-69） |
| （I-1864）～（I-1890） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-70） |
| （I-1891）～（I-1917） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-71） |
| （I-1918）～（I-1944） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-72） |
| （I-1945）～（I-1971） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-73） |
| （I-1972）～（I-1998） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-74） |
| （I-1999）～（I-2025） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-75） |
| （I-2026）～（I-2052） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-76） |
| （I-2053）～（I-2079） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-77） |
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| （I-2134）～（I-2160） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-80） |
| （I-2161）～（I-2187） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-81） |
| （I-2188）～（I-2214） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-82） |
| （I-2215）～（I-2241） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-83） |
| （I-2242）～（I-2268） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-84） |
| （I-2269）～（I-2295） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-85） |
| （I-2296）～（I-2322） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-86） |
| （I-2323）～（I-2349） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-87） |
| （I-2350）～（I-2376） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-88） |
| （I-2377）～（I-2403） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-89） |
| （I-2404）～（I-2430） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-90） |
| （I-2431）～（I-2457） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-91） |
| （I-2458）～（I-2484） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-92） |
| （I-2485）～（I-2511） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-93） |
| （I-2512）～（I-2538） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-94） |
| （I-2539）～（I-2565） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-95） |
| （I-2566）～（I-2592） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-96） |
| （I-2593）～（I-2619） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-97） |
| （I-2620）～（I-2646） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-98） |
| （I-2647）～（I-2673） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-99） |
| （I-2674）～（I-2700） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-100） |
| （I-2701）～（I-2727） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-101） |
| （I-2728）～（I-2754） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-102） |
| （I-2755）～（I-2781） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-103） |
| （I-2782）～（I-2808） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-104） |
| （I-2809）～（I-2835） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-105） |
| （I-2836）～（I-2862） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-106） |
| （I-2863）～（I-2889） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-107） |
| （I-2890）～（I-2916） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-108） |
| （I-2917）～（I-2943） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-109） |
| （I-2944）～（I-2970） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-110） |
| （I-2971）～（I-2997） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-111） |
| （I-2998）～（I-3024） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-112） |
| （I-3025）～（I-3051） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-113） |
| （I-3052）～（I-3078） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-114） |
| （I-3079）～（I-3105） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-115） |
| （I-3106）～（I-3132） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-116） |
| （I-3133）～（I-3159） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-117） |
| （I-3160）～（I-3186） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-118） |
| （I-3187）～（I-3213） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-119） |
| （I-3214）～（I-3240） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-120） |
| （I-3241）～（I-3267） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-121） |
| （I-3268）～（I-3294） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-122） |
| （I-3295）～（I-3321） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-123） |
| （I-3322）～（I-3348） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-124） |
| （I-3349）～（I-3375） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-125） |
| （I-3376）～（I-3402） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-126） |
| （I-3403）～（I-3429） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-127） |
| （I-3430）～（I-3456） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-128） |
| （I-3457）～（I-3483） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-129） |
| （I-3484）～（I-3510） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-130） |
| （I-3511）～（I-3537） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-131） |
| （I-3538）～（I-3564） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-132） |
| （I-3565）～（I-3591） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-133） |
| （I-3592）～（I-3618） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-134） |
| （I-3619）～（I-3645） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-135） |
| （I-3646）～（I-3672） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-136） |
| （I-3673）～（I-3699） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-137） |
| （I-3700）～（I-3726） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-138） |
| （I-3727）～（I-3753） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-139） |
| （I-3754）～（I-3780） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-140） |
| （I-3781）～（I-3807） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-141） |
| （I-3808）～（I-3834） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-142） |
| （I-3835）～（I-3861） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-143） |
| （I-3862）～（I-3888） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-144） |
| （I-3889）～（I-3915） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-145） |
| （I-3916）～（I-3942） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-146） |
| （I-3943）～（I-3969） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-147） |
| （I-3970）～（I-3996） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-148） |
| （I-3997）～（I-4023） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-149） |
| （I-4024）～（I-4050） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-150） |
| （I-4051）～（I-4077） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-151） |
| （I-4078）～（I-4104） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-152） |
| （I-4105）～（I-4131） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-153） |
| （I-4132）～（I-4158） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-154） |
| （I-4159）～（I-4185） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-155） |
| （I-4186）～（I-4212） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-156） |
| （I-4213）～（I-4239） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-157） |
| （I-4240）～（I-4266） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-158） |
| （I-4267）～（I-4293） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-159） |
| （I-4294）～（I-4320） | （I-a-1）～（I-a-27） | （I-c-160） |
其中，作為羧酸鹽（I），較佳為羧酸鹽（I-1）～羧酸鹽（I-12）、羧酸鹽（I-28）～羧酸鹽（I-39）、羧酸鹽（I-55）～羧酸鹽（I-66）、羧酸鹽（I-82）～羧酸鹽（I-93）、羧酸鹽（I-109）～羧酸鹽（I-120）、羧酸鹽（I-136）～羧酸鹽（I-147）、羧酸鹽（I-163）～羧酸鹽（I-174）、羧酸鹽（I-190）～羧酸鹽（I-201）、羧酸鹽（I-217）～羧酸鹽（I-228）、羧酸鹽（I-244）～羧酸鹽（I-255）、羧酸鹽（I-271）～羧酸鹽（I-282）、羧酸鹽（I-298）～羧酸鹽（I-309）、羧酸鹽（I-325）～羧酸鹽（I-336）、羧酸鹽（I-352）～羧酸鹽（I-363）、羧酸鹽（I-379）～羧酸鹽（I-390）、羧酸鹽（I-406）～羧酸鹽（I-417）、羧酸鹽（I-433）～羧酸鹽（I-444）、羧酸鹽（I-460）～羧酸鹽（I-471）、羧酸鹽（I-487）～羧酸鹽（I-498）、羧酸鹽（I-514）～羧酸鹽（I-525）、羧酸鹽（I-541）～羧酸鹽（I-552）、羧酸鹽（I-568）～羧酸鹽（I-579）、羧酸鹽（I-595）～羧酸鹽（I-606）、羧酸鹽（I-622）～羧酸鹽（I-633）、羧酸鹽（I-649）～羧酸鹽（I-660）、羧酸鹽（I-676）～羧酸鹽（I-687）、羧酸鹽（I-703）～羧酸鹽（I-714）、羧酸鹽（I-730）～羧酸鹽（I-741）、羧酸鹽（I-757）～羧酸鹽（I-768）、羧酸鹽（I-784）～羧酸鹽（I-795）、羧酸鹽（I-811）～羧酸鹽（I-822）、羧酸鹽（I-838）～羧酸鹽（I-849）、羧酸鹽（I-865）～羧酸鹽（I-876）、羧酸鹽（I-892）～羧酸鹽（I-903）、羧酸鹽（I-919）～羧酸鹽（I-930）、羧酸鹽（I-946）～羧酸鹽（I-957）、羧酸鹽（I-973）～羧酸鹽（I-984）、羧酸鹽（I-1000）～羧酸鹽（I-1011）、羧酸鹽（I-1027）～羧酸鹽（I-1038）、羧酸鹽（I-1054）～羧酸鹽（I-1065）、羧酸鹽（I-1081）～羧酸鹽（I-1092）、羧酸鹽（I-1108）～羧酸鹽（I-1119）、羧酸鹽（I-1135）～羧酸鹽（I-1146）、羧酸鹽（I-1162）～羧酸鹽（I-1173）、羧酸鹽（I-1189）～羧酸鹽（I-1200）、羧酸鹽（I-1216）～羧酸鹽（I-1227）、羧酸鹽（I-1243）～羧酸鹽（I-1254）、羧酸鹽（I-1270）～羧酸鹽（I-1281）、羧酸鹽（I-1297）～羧酸鹽（I-1308）、羧酸鹽（I-1324）～羧酸鹽（I-1335）、羧酸鹽（I-1351）～羧酸鹽（I-1362）、羧酸鹽（I-1378）～羧酸鹽（I-1389）、羧酸鹽（I-1405）～羧酸鹽（I-1416）、羧酸鹽（I-1432）～羧酸鹽（I-1443）、羧酸鹽（I-1459）～羧酸鹽（I-1470）、羧酸鹽（I-1486）～羧酸鹽（I-1497）、羧酸鹽（I-1513）～羧酸鹽（I-1524）、羧酸鹽（I-1540）～羧酸鹽（I-1551）、羧酸鹽（I-1567）～羧酸鹽（I-1578）、羧酸鹽（I-1594）～羧酸鹽（I-1605）、羧酸鹽（I-1621）～羧酸鹽（I-1632）、羧酸鹽（I-1648）～羧酸鹽（I-1659）、羧酸鹽（I-1675）～羧酸鹽（I-1686）、羧酸鹽（I-1702）～羧酸鹽（I-1713）、羧酸鹽（I-1729）～羧酸鹽（I-1740）、羧酸鹽（I-1756）～羧酸鹽（I-1767）、羧酸鹽（I-1783）～羧酸鹽（I-1794）、羧酸鹽（I-1810）～羧酸鹽（I-1821）、羧酸鹽（I-1837）～羧酸鹽（I-1848）、羧酸鹽（I-1864）～羧酸鹽（I-1875）、羧酸鹽（I-1891）～羧酸鹽（I-1902）、羧酸鹽（I-1918）～羧酸鹽（I-1929）、羧酸鹽（I-1945）～羧酸鹽（I-1956）、羧酸鹽（I-1972）～羧酸鹽（I-1983）、羧酸鹽（I-1999）～羧酸鹽（I-2010）、羧酸鹽（I-2026）～羧酸鹽（I-2037）、羧酸鹽（I-2053）～羧酸鹽（I-2064）、羧酸鹽（I-2080）～羧酸鹽（I-2091）、羧酸鹽（I-2107）～羧酸鹽（I-2118）、羧酸鹽（I-2134）～羧酸鹽（I-2145）、羧酸鹽（I-2161）～羧酸鹽（I-2172）、羧酸鹽（I-2188）～羧酸鹽（I-2199）、羧酸鹽（I-2215）～羧酸鹽（I-2226）、羧酸鹽（I-2242）～羧酸鹽（I-2253）、羧酸鹽（I-2269）～羧酸鹽（I-2280）、羧酸鹽（I-2296）～羧酸鹽（I-2307）、羧酸鹽（I-2323）～羧酸鹽（I-2334）、羧酸鹽（I-2350）～羧酸鹽（I-2361）、羧酸鹽（I-2377）～羧酸鹽（I-2388）、羧酸鹽（I-2404）～羧酸鹽（I-2415）、羧酸鹽（I-2431）～羧酸鹽（I-2442）、羧酸鹽（I-2458）～羧酸鹽（I-2469）、羧酸鹽（I-2485）～羧酸鹽（I-2496）、羧酸鹽（I-2512）～羧酸鹽（I-2523）、羧酸鹽（I-2539）～羧酸鹽（I-2550）、羧酸鹽（I-2566）～羧酸鹽（I-2577）、羧酸鹽（I-2593）～羧酸鹽（I-2604）、羧酸鹽（I-2620）～羧酸鹽（I-2631）、羧酸鹽（I-2647）～羧酸鹽（I-2658）、羧酸鹽（I-2674）～羧酸鹽（I-2685）、羧酸鹽（I-2701）～羧酸鹽（I-2712）、羧酸鹽（I-2728）～羧酸鹽（I-2739）、羧酸鹽（I-2755）～羧酸鹽（I-2766）、羧酸鹽（I-2782）～羧酸鹽（I-2793）、羧酸鹽（I-2809）～羧酸鹽（I-2820）、羧酸鹽（I-2836）～羧酸鹽（I-2847）、羧酸鹽（I-2863）～羧酸鹽（I-2874）、羧酸鹽（I-2890）～羧酸鹽（I-2901）、羧酸鹽（I-2917）～羧酸鹽（I-2928）、羧酸鹽（I-2944）～羧酸鹽（I-2955）、羧酸鹽（I-2971）～羧酸鹽（I-2982）、羧酸鹽（I-2998）～羧酸鹽（I-3009）、羧酸鹽（I-3025）～羧酸鹽（I-3036）、羧酸鹽（I-3052）～羧酸鹽（I-3063）、羧酸鹽（I-3079）～羧酸鹽（I-3090）、羧酸鹽（I-3106）～羧酸鹽（I-3117）、羧酸鹽（I-3133）～羧酸鹽（I-3144）、羧酸鹽（I-3160）～羧酸鹽（I-3171）、羧酸鹽（I-3187）～羧酸鹽（I-3198）、羧酸鹽（I-3214）～羧酸鹽（I-3225）、羧酸鹽（I-3241）～羧酸鹽（I-3252）、羧酸鹽（I-3268）～羧酸鹽（I-3279）、羧酸鹽（I-3295）～羧酸鹽（I-3306）、羧酸鹽（I-3322）～羧酸鹽（I-3333）、羧酸鹽（I-3349）～羧酸鹽（I-3360）、羧酸鹽（I-3376）～羧酸鹽（I-3387）、羧酸鹽（I-3403）～羧酸鹽（I-3414）、羧酸鹽（I-3430）～羧酸鹽（I-3441）、羧酸鹽（I-3457）～羧酸鹽（I-3468）、羧酸鹽（I-3484）～羧酸鹽（I-3495）、羧酸鹽（I-3511）～羧酸鹽（I-3522）、羧酸鹽（I-3538）～羧酸鹽（I-3549）、羧酸鹽（I-3565）～羧酸鹽（I-3576）、羧酸鹽（I-3592）～羧酸鹽（I-3603）、羧酸鹽（I-3619）～羧酸鹽（I-3630）、羧酸鹽（I-3646）～羧酸鹽（I-3657）、羧酸鹽（I-3673）～羧酸鹽（I-3684）、羧酸鹽（I-3700）～羧酸鹽（I-3711）、羧酸鹽（I-3727）～羧酸鹽（I-3738）、羧酸鹽（I-3754）～羧酸鹽（I-3765）、羧酸鹽（I-3781）～羧酸鹽（I-3792）、羧酸鹽（I-3808）～羧酸鹽（I-3819）、羧酸鹽（I-3835）～羧酸鹽（I-3846）、羧酸鹽（I-3862）～羧酸鹽（I-3873）、羧酸鹽（I-3889）～羧酸鹽（I-3900）、羧酸鹽（I-3916）～羧酸鹽（I-3927）、羧酸鹽（I-3943）～羧酸鹽（I-3954）、羧酸鹽（I-3970）～羧酸鹽（I-3981）、羧酸鹽（I-3997）～羧酸鹽（I-4008）、羧酸鹽（I-4024）～羧酸鹽（I-4035）、羧酸鹽（I-4051）～羧酸鹽（I-4062）、羧酸鹽（I-4078）～羧酸鹽（I-4089）、羧酸鹽（I-4105）～羧酸鹽（I-4116）、羧酸鹽（I-4132）～羧酸鹽（I-4143）、羧酸鹽（I-4159）～羧酸鹽（I-4170）、羧酸鹽（I-4186）～羧酸鹽（I-4197）、羧酸鹽（I-4213）～羧酸鹽（I-4224）、羧酸鹽（I-4240）～羧酸鹽（I-4251）、羧酸鹽（I-4267）～羧酸鹽（I-4278）、羧酸鹽（I-4294）～羧酸鹽（I-4305）。
＜羧酸鹽（I）的製造方法＞
羧酸鹽（I）可藉由使式（I-a）所表示的鹽與式（I-b）所表示的鹽於溶劑中反應而製造。
[式中，R
1、R
2、R
4、R
5、R
7、R
8、R
bb1、m1、m2、m4、m5、m7、m8、A
1、A
2、X
0、X
10、L
10的符號分別表示與所述相同的含義]
作為該反應中的溶媒，可列舉：氯仿、乙腈、離子交換水等。
反應溫度通常為15℃～80℃，反應時間通常為0.5小時～24小時。
作為式（I-a）所表示的鹽，可列舉下述式所表示的鹽等。該些鹽可藉由與日本專利特開2020-15713號公報中記載的方法相同的方法、或公知的製法而容易地製造。
式（I-b）所表示的鹽可藉由使式（I-c）所表示的化合物與氧化銀於溶劑中反應而製造。
[式中，全部符號分別表示與所述相同的含義]
作為該反應中的溶媒，可列舉氯仿、乙腈等。
反應溫度通常為15℃～80℃，反應時間通常為0.5小時～24小時。
作為式（I-c）所表示的化合物，可列舉下述式所表示的化合物等。該些化合物可自市場容易地獲取，或者可藉由公知的製法而容易地製造。
〔源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元〕
源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元為式（IP）所表示的結構單元（以下有時稱為「結構單元（IP）」）。
此種結構單元（IP）與羧酸鹽（I）同樣地亦作為羧酸產生劑發揮功能，並且亦作為構成化合物或樹脂的結構單元發揮功能。
〔包含源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元（IP）的樹脂〕
本發明的樹脂是包含源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元（IP）的樹脂（以下有時稱為「樹脂（Ap）」）。
[式（IP）中，R
1、R
2、R
4、R
5、R
7、R
8、R
bb1、m1、m2、m4、m5、m7、m8、A
1、A
2、X
0、X
10、L
10的符號分別表示與所述相同的含義]
結構單元（IP）表示羧酸鹽（I）中包含的CH
2=C-R
bb1的雙鍵開裂的狀態。
樹脂（Ap）可為包含一種結構單元（IP）的均聚物，亦可為包含兩種以上結構單元（IP）的共聚物。
另外，樹脂（Ap）亦可包含結構單元（IP）以外的結構單元。作為結構單元（IP）以外的結構單元，如後述般，可列舉具有酸不穩定基的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a1）」）、不具有酸不穩定基的結構單元（以下有時稱為「結構單元（s）」）、其他結構單元（以下有時稱為「結構單元（t）」）及該領域中公知的結構單元等。此處，「酸不穩定基」是指具有脫離基，且藉由與酸的接觸而脫離基脫離，構成單元變換為具有親水性基（例如，羥基或羧基）的構成單元的基。
相對於樹脂（Ap）的所有結構單元，結構單元（IP）的含有率可列舉0.1莫耳%以上，較佳為0.5莫耳%以上，更佳為0.8莫耳%以上，進而佳為1莫耳%以上。另外，可列舉100莫耳%以下，較佳為50莫耳%以下，更佳為30莫耳%以下，進而佳為10莫耳%以下。具體而言，可列舉0.1莫耳%～100莫耳%，較佳為0.5莫耳%～50莫耳%，更佳為0.8莫耳%～30莫耳%，進而佳為1莫耳%～10莫耳%。
特別是樹脂（Ap）如後述般，於用於抗蝕劑組成物的情況下，除包含結構單元（IP）以外，亦可更包含結構單元（a1）。
另外，樹脂（Ap）如後述般，於用於抗蝕劑組成物的情況下，無論是否包含結構單元（a1），均可與包含結構單元（a1）的樹脂（以下有時稱為「樹脂（A）」）及/或樹脂（A）以外的樹脂等併用。以下，有時將樹脂（Ap）及/或樹脂（A）稱為「樹脂（A）等」。
樹脂（Ap）及樹脂（A）較佳為分別更包含結構單元（a1）以外的結構單元。
作為結構單元（a1）以外的結構單元，可列舉不具有酸不穩定基的結構單元（以下有時稱為「結構單元（s）」）、其他結構單元（以下有時稱為「結構單元（t）」）及該領域中公知的結構單元等。
〈結構單元（a1）〉
結構單元（a1）是自具有酸不穩定基的單體（以下有時稱為「單體（a1）」）導出。
樹脂（A）等中包含的酸不穩定基較佳為式（1）所表示的基（以下，亦記為基（1））及/或式（2）所表示的基（以下，亦記為基（2））。
[式（1）中，R
a1、R
a2及R
a3分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數2～8的烯基、碳數3～20的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基，或者R
a1及R
a2相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子一同形成碳數3～20的非芳香族烴環。
ma及na分別獨立地表示0或1，ma及na的至少一者表示1。
*表示鍵結部位]
[式（2）中，R
a1'及R
a2'分別獨立地表示氫原子或碳數1～12的烴基，R
a3'表示碳數1～20的烴基，或者R
a2'及R
a3'相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子及X一同形成碳數3～20的雜環，該烴基及該雜環中包含的-CH
2-可被-O-或-S-取代。
X表示氧原子或硫原子。
na'表示0或1。
*表示鍵結部位]
作為R
a1、R
a2及R
a3中的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基等。
作為R
a1、R
a2及R
a3中的烯基，可列舉：乙烯基、丙烯基、異丙烯基、丁烯基、異丁烯基、第三丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、異辛烯基、壬烯基。
R
a1、R
a2及R
a3中的脂環式烴基可為單環式及多環式的任一種。作為單環式的脂環式烴基，可列舉：環戊基、環己基、環庚基、環辛基等環烷基。作為多環式的脂環式烴基，可列舉：十氫萘基、金剛烷基、降冰片基及下述基（*表示鍵結部位）等。R
a1、R
a2及R
a3中的脂環式烴基的碳數較佳為3～16。
作為R
a1、R
a2及R
a3中的芳香族烴基，可列舉：苯基、萘基、蒽基、聯苯基、菲基等芳基。
作為組合而成的基，可列舉：將所述烷基與脂環式烴基組合而成的基（例如，甲基環己基、二甲基環己基、甲基降冰片基、環己基甲基、金剛烷基甲基、金剛烷基二甲基、降冰片基乙基等烷基環烷基或環烷基烷基）、苄基等芳烷基、具有烷基的芳香族烴基（對甲基苯基、對第三丁基苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等）、具有脂環式烴基的芳香族烴基（對環己基苯基、對金剛烷基苯基等）、苯基環己基等芳基-環烷基等。
較佳為ma為0，na為1。
作為R
a1及R
a2相互鍵結而形成非芳香族烴環時的-C(R
a1)(R
a2)(R
a3)，可列舉下述環。非芳香族烴環較佳為碳數3～12。*表示與-O-的鍵結部位。
作為R
a1'、R
a2'及R
a3'中的烴基，可列舉：烷基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該些組合而形成的基等。
烷基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該些組合而形成的基可列舉與R
a1、R
a2及R
a3中列舉的基相同者。
於R
a2'及R
a3'相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子及X一同形成雜環的情況下，作為-C(R
a1')(R
a2')-X-R
a3'，可列舉下述環。*表示鍵結部位。
R
a1'及R
a2'中，較佳為至少一個為氫原子。
na'較佳為0。
作為基（1），可列舉以下的基。
式（1）中R
a1、R
a2及R
a3為烷基、ma=0、na=1的基。作為該基，較佳為第三丁氧基羰基。
式（1）中，R
a1、R
a2與該些所鍵結的碳原子一起形成金剛烷基、R
a3為烷基、ma=0、na=1的基。
式（1）中，R
a1及R
a2分別獨立地為烷基、R
a3為金剛烷基、ma=0、na=1的基。
作為基（1），具體而言可列舉以下的基。*表示鍵結部位。
作為基（2）的具體例，可列舉以下的基。*表示鍵結部位。
單體（a1）較佳為具有酸不穩定基與乙烯性不飽和鍵的單體，更佳為具有酸不穩定基的(甲基)丙烯酸系單體。
具有酸不穩定基的(甲基)丙烯酸系單體中，較佳為可列舉具有碳數5～20的脂環式烴基者。若將具有如下結構單元的樹脂（A）等用於抗蝕劑組成物，則可提高抗蝕劑圖案的解析度，所述結構單元源自具有如脂環式烴基般的大體積結構的單體（a1）。
作為源自具有基（1）的(甲基)丙烯酸系單體的結構單元，可列舉式（a1-0）所表示的結構單元（以下，有時稱為「結構單元（a1-0）」）、式（a1-1）所表示的結構單元（以下，有時稱為「結構單元（a1-1）」）或式（a1-2）所表示的結構單元（以下，有時稱為「結構單元（a1-2）」）。較佳為選自由結構單元（a1-0）、結構單元（a1-1）及結構單元（a1-2）所組成的群組中的至少一種結構單元，更佳為選自由結構單元（a1-1）及結構單元（a1-2）所組成的群組中的至少一種結構單元。該些可單獨使用，亦可併用兩種以上。
[式（a1-0）、式（a1-1）及式（a1-2）中，
L
a01、L
a1及L
a2分別獨立地表示-O-或*-O-(CH
2)
k1-CO-O-，k1表示1～7的任一整數，*表示與-CO-的鍵結部位。
R
a01、R
a4及R
a5分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
R
a02、R
a03及R
a04分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基。
R
a6及R
a7分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數2～8的烯基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或藉由將該些組合而形成的基。
m1'表示0～14的任一整數。
n1表示0～10的任一整數。
n1'表示0～3的任一整數]
R
a01、R
a4及R
a5較佳為氫原子或甲基，更佳為甲基。
L
a01、L
a1及L
a2較佳為氧原子或*-O-(CH
2)
k01-CO-O-（其中，k01較佳為1～4的任一整數，更佳為1），更佳為氧原子。
作為R
a02、R
a03及R
a04中的烷基、脂環式烴基、芳香族烴基及將該些組合而成的基，可列舉與基（1）的R
a1、R
a2及R
a3中列舉的基相同的基。
作為R
a6及R
a7中的烷基、烯基、脂環式烴基、芳香族烴基及將該些組合而成的基，可列舉與式（1）的R
a1、R
a2及R
a3中列舉的基相同的基。
R
a02、R
a03、及R
a04中的烷基較佳為碳數1～6的烷基，更佳為甲基或乙基，進而佳為甲基。
R
a6及R
a7中的烷基較佳為碳數1～6的烷基，更佳為甲基、乙基、異丙基或第三丁基，進而佳為乙基、異丙基或第三丁基。
R
a6及R
a7中的烯基較佳為碳數2～6的烯基，更佳為乙烯基、丙烯基、異丙烯基或丁烯基。
R
a02、R
a03、R
a04、R
a6及R
a7中的脂環式烴基的碳數較佳為5～12，更佳為5～10。
R
a02、R
a03、R
a04、R
a6及R
a7中的芳香族烴基的碳數較佳為6～12，更佳為6～10。
關於將烷基與脂環式烴基組合而成的基，組合該些烷基與脂環式烴基的合計碳數較佳為18以下。
關於將烷基與芳香族烴基組合而成的基，組合該些烷基與芳香族烴基的合計碳數較佳為18以下。
R
a02及R
a03較佳為碳數1～6的烷基或碳數6～12的芳香族烴基，更佳為甲基、乙基、苯基或萘基。
R
a04較佳為碳數1～6的烷基或碳數5～12的脂環式烴基，更佳為甲基、乙基、環己基或金剛烷基。
R
a6及R
a7分別獨立地較佳為碳數1～6的烷基、碳數2～6的烯基或碳數6～12的芳香族烴基，更佳為甲基、乙基、異丙基、第三丁基、乙烯基、苯基或萘基，進而佳為乙基、異丙基、第三丁基、乙烯基或苯基。
m1'較佳為0～3的任一整數，更佳為0或1。
n1較佳為0～3的任一整數，更佳為0或1。
n1'較佳為0或1。
作為結構單元（a1-0），例如可列舉式（a1-0-1）～式（a1-0-18）的任一者所表示的結構單元及將相當於結構單元（a1-0）中的R
a01的甲基取代為氫原子、鹵素原子、鹵代烷基或其他烷基的結構單元，較佳為式（a1-0-1）～式（a1-0-10）、式（a1-0-13）、式（a1-0-14）的任一者所表示的結構單元。
作為結構單元（a1-1），例如可列舉源自日本專利特開2010-204646號公報中所記載的單體的結構單元。其中，較佳為式（a1-1-1）～式（a1-1-7）的任一者所表示的結構單元及將相當於結構單元（a1-1）中的R
a4的甲基取代為氫原子、鹵素原子、鹵代烷基或其他烷基的結構單元，更佳為式（a1-1-1）～式（a1-1-4）的任一者所表示的結構單元。
作為結構單元（a1-2），可列舉式（a1-2-1）～式（a1-2-14）的任一者所表示的結構單元及將相當於結構單元（a1-2）中的R
a5的甲基取代為氫原子、鹵素原子、鹵代烷基或其他烷基的結構單元，較佳為式（a1-2-2）、式（a1-2-5）、式（a1-2-6）及式（a1-2-10）～式（a1-2-14）的任一者所表示的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a1-0）及/或結構單元（a1-1）及/或結構單元（a1-2）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，該些的合計含有率可列舉10莫耳%以上，較佳為15莫耳%以上，更佳為20莫耳%以上，進而佳為25莫耳%以上，進而更佳為30莫耳%以上。另外，可列舉95莫耳%以下，較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，進而佳為70莫耳%以下。具體而言，可列舉10莫耳%～95莫耳%，較佳為15莫耳%～90莫耳%，更佳為20莫耳%～85莫耳%，進而佳為25莫耳%～70莫耳%，進而更佳為30莫耳%～70莫耳%。
於樹脂（A）等包含結構單元（a1-0）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率可列舉5莫耳%以上，較佳為10莫耳%以上。另外，可列舉80莫耳%以下，較佳為75莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下。具體而言，可列舉5莫耳%～80莫耳%，較佳為5莫耳%～75莫耳%，更佳為10莫耳%～70莫耳%。
於樹脂（A）等包含結構單元（a1-1）及/或結構單元（a1-2）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，該些的合計含有率可列舉10莫耳%以上，較佳為15莫耳%以上，更佳為20莫耳%以上，進而佳為25莫耳%以上，進而更佳為30莫耳%以上。另外，可列舉95莫耳%以下，較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，進而佳為80莫耳%以下，進一步更佳為75莫耳%以下，進一步進而佳為70莫耳%以下。具體而言，可列舉10莫耳%～90莫耳%，較佳為15莫耳%～85莫耳%，更佳為15莫耳%～80莫耳%，進而佳為20莫耳%～80莫耳%，進而更佳為20莫耳%～75莫耳%，進一步進而佳為20莫耳%～70莫耳%。
作為結構單元（a1）中具有基（2）的結構單元，可列舉式（a1-4）所表示的結構單元（以下，有時稱為「結構單元（a1-4）」）。
[式（a1-4）中，
R
a32表示氫原子、鹵素原子、或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
R
a33表示鹵素原子、羥基、碳數1～6的烷基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～12的烷氧基烷基、碳數2～12的烷氧基烷氧基、碳數2～4的烷基羰基、碳數2～4的烷基羰氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基。
A
a30表示單鍵或*-X
a31-(A
a32-X
a32)
nc-，*表示與-R
a32所鍵結的碳原子的鍵結部位。
A
a32表示碳數1～8的烷二基。
X
a31及X
a32分別獨立地表示-O-、-CO-O-或-O-CO-。
nc表示0或1。
la表示0～4的任一整數。於la為2以上的任一整數的情況下，多個R
a33相互可相同亦可不同。
R
a34及R
a35分別獨立地表示氫原子或碳數1～12的烴基，R
a36表示碳數1～20的烴基，或者R
a35及R
a36相互鍵結並與該些所鍵結的-C-O-一同形成碳數2～20的二價烴基，該烴基及該二價烴基中包含的-CH
2-可被-O-或-S-取代]
作為R
a32及R
a33中的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子及溴原子等。
作為R
a32中的可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基，可列舉：三氟甲基、二氟甲基、甲基、全氟乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、乙基、全氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、丙基、全氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、丁基、全氟戊基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-九氟戊基、戊基、己基及全氟己基。
R
a32較佳為氫原子或碳數1～4的烷基，更佳為氫原子、甲基或乙基，進而佳為氫原子或甲基。
作為R
a33中的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基。烷基較佳為碳數1～4的烷基，更佳為甲基或乙基，進而佳為甲基。
作為R
a33中的烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、戊基氧基、己基氧基。烷氧基較佳為碳數1～4的烷氧基，更佳為甲氧基或乙氧基，進而佳為甲氧基。
作為R
a33中的烷氧基烷基，可列舉：甲氧基甲基、乙氧基乙基、丙氧基甲基、異丙氧基甲基、丁氧基甲基、第二丁氧基甲基、第三丁氧基甲基。烷氧基烷基較佳為碳數2～8的烷氧基烷基，更佳為甲氧基甲基或乙氧基乙基，進而佳為甲氧基甲基。
作為R
a33中的烷氧基烷氧基，可列舉：甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基、乙氧基甲氧基、乙氧基乙氧基、丙氧基甲氧基、異丙氧基甲氧基、丁氧基甲氧基、第二丁氧基甲氧基、第三丁氧基甲氧基。烷氧基烷氧基較佳為碳數2～8的烷氧基烷氧基，更佳為甲氧基乙氧基或乙氧基乙氧基。
作為R
a33中的烷基羰基，可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。烷基羰基較佳為碳數2～3的烷基羰基，更佳為乙醯基。
作為R
a33中的烷基羰氧基，可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基及丁醯基氧基。烷基羰氧基較佳為碳數2～3的烷基羰氧基，更佳為乙醯基氧基。
R
a33較佳為鹵素原子、羥基、碳數1～4的烷基、碳數1～4的烷氧基或碳數2～8的烷氧基烷氧基，更佳為氟原子、碘原子、羥基、甲基、甲氧基、乙氧基、乙氧基乙氧基或乙氧基甲氧基，進而佳為氟原子、碘原子、羥基、甲基、甲氧基或乙氧基乙氧基。
作為*-X
a31-(A
a32-X
a32)
nc-，可列舉：*-O-、*-CO-O-、*-O-CO-、*-CO-O-A
a32-CO-O-、*-O-CO-A
a32-O-、*-O-A
a32-CO-O-、*-CO-O-A
a32-O-CO-、*-O-CO-A
a32-O-CO-。其中，較佳為*-CO-O-、*-CO-O-A
a32-CO-O-或*-O-A
a32-CO-O-。
作為烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基及2-甲基丁烷-1,4-二基等。
A
a32較佳為亞甲基或伸乙基。
A
a30較佳為單鍵、*-CO-O-或*-CO-O-A
a32-CO-O-，更佳為單鍵、*-CO-O-或*-CO-O-CH
2-CO-O-，進而佳為單鍵或*-CO-O-。
la較佳為0、1或2，更佳為0或1，進而佳為0。
作為R
a34、R
a35及R
a36中的烴基，可列舉：烷基、脂環式烴基、芳香族烴基、及將該些組合而成的基。
作為烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基等。
脂環式烴基可為單環式及多環式的任一種。作為單環式的脂環式烴基，可列舉：環戊基、環己基、環庚基、環辛基等環烷基。作為多環式的脂環式烴基，可列舉：十氫萘基、金剛烷基、降冰片基及下述基（*表示鍵結部位）等。
作為芳香族烴基，可列舉：苯基、萘基、蒽基、聯苯基、菲基等芳基。
作為組合而成的基，可列舉：將所述烷基與脂環式烴基組合而成的基（例如，甲基環己基、二甲基環己基、甲基降冰片基、環己基甲基、金剛烷基甲基、金剛烷基二甲基、降冰片基乙基等烷基環烷基或環烷基烷基）、苄基等芳烷基、具有烷基的芳香族烴基（對甲基苯基、對第三丁基苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等）、具有脂環式烴基的芳香族烴基（對環己基苯基、對金剛烷基苯基等）、苯基環己基等芳基-環烷基等。特別是作為R
a36，可列舉：碳數1～18的烷基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或藉由將該些組合而形成的基。
R
a34較佳為氫原子。
R
a35較佳為氫原子、碳數1～12的烷基或碳數3～12的脂環式烴基，更佳為甲基或乙基。
R
a36中的烴基較佳為碳數1～18的烷基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或藉由將該些組合而形成的基，更佳為碳數1～18的烷基、碳數3～18的脂環式烴基或碳數7～18的芳烷基。R
a36中的烷基及脂環式烴基較佳為未被取代。R
a36中的芳香族烴基較佳為具有碳數6～10的芳氧基的芳香環。
結構單元（a1-4）中的-OC(R
a34)(R
a35)-O-R
a36與酸（例如對甲苯磺酸）接觸而脫離，形成羥基。
-OC(R
a34)(R
a35)-O-R
a36較佳為鍵結於苯環的間-位或對-位，更佳為鍵結於對-位。
作為結構單元（a1-4），例如可列舉源自日本專利特開2010-204646號公報中所記載的單體的結構單元。較佳為可列舉式（a1-4-1）～式（a1-4-24）分別所表示的結構單元及將相當於結構單元（a1-4）中的R
a32的氫原子取代為鹵素原子、鹵代烷基或烷基的結構單元，更佳為可列舉式（a1-4-1）～式（a1-4-5）、式（a1-4-10）、式（a1-4-13）、式（a1-4-14）、式（a1-4-19）、式（a1-4-20）分別所表示的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a1-4）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元的合計，其含有率較佳為3莫耳%～80莫耳%，更佳為5莫耳%～75莫耳%，進而佳為7莫耳%～70莫耳%，進一步更佳為7莫耳%～65莫耳%，進一步進而佳為10莫耳%～60莫耳%。
作為源自具有基（2）的(甲基)丙烯酸系單體的結構單元，亦可列舉式（a1-5）所表示的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a1-5）」）。
[式（a1-5）中，
R
a8表示可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基、氫原子或鹵素原子。
Z
a1表示單鍵或*-(CH
2)
h3-CO-L
54-，h3表示1～4的任一整數，*表示與L
51的鍵結部位。
L
51、L
52、L
53及L
54分別獨立地表示-O-或-S-。
s1表示1～3的任一整數。
s1'表示0～3的任一整數]
作為鹵素原子，可列舉氟原子及氯原子，較佳為氟原子。
作為可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、氟甲基及三氟甲基。
式（a1-5）中，R
a8較佳為氫原子、甲基或三氟甲基。
L
51較佳為氧原子。
L
52及L
53中，較佳為一者為-O-，另一者為-S-。
s1較佳為1。
s1'較佳為0～2的任一整數。
Z
a1較佳為單鍵或*-CH
2-CO-O-。
作為結構單元（a1-5），例如可列舉源自日本專利特開2010-61117號公報中所記載的單體的結構單元。其中，較佳為式（a1-5-1）～式（a1-5-4）分別所表示的結構單元，更佳為式（a1-5-1）或式（a1-5-2）所表示的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a1-5）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率較佳為1莫耳%～50莫耳%，更佳為3莫耳%～45莫耳%，進而佳為5莫耳%～40莫耳%，進而更佳為5莫耳%～30莫耳%。
另外，作為結構單元（a1），亦可列舉以下的結構單元。
於樹脂（A）等包含（a1-3-1）～（a1-3-7）般的結構單元的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率較佳為10莫耳%～95莫耳%，更佳為15莫耳%～90莫耳%，進而佳為20莫耳%～85莫耳%，進而更佳為20莫耳%～70莫耳%，特佳為20莫耳%～60莫耳%。
另外，作為結構單元（a1），亦可列舉以下的結構單元。
於樹脂（A）等包含（a1-6-1）～（a1-6-3）般的結構單元的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率較佳為10莫耳%～60莫耳%，更佳為15莫耳%～55莫耳%，進而佳為20莫耳%～50莫耳%，進而更佳為20莫耳%～45莫耳%，特佳為20莫耳%～40莫耳%。
〈結構單元（s）〉
結構單元（s）是自不具有酸不穩定基的單體（以下有時稱為「單體（s）」）導出。導出結構單元（s）的單體可使用抗蝕劑領域中公知的不具有酸不穩定基的單體。
作為結構單元（s），較佳為具有羥基或內酯環。若將包含具有羥基且不具有酸不穩定基的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a2）」）及/或具有內酯環且不具有酸不穩定基的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a3）」）的樹脂用於本發明的抗蝕劑組成物，則可提高抗蝕劑圖案的解析度及與基板的密接性。
〈結構單元（a2）〉
結構單元（a2）為式（a2）所表示的結構單元，具有醇性羥基或酚性羥基。
[式（a2）中，
R
a50表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
A
a50表示單鍵或*-X
a51-(A
a52-X
a52)
nb-，*表示與-R
a50所鍵結的碳原子的鍵結部位。
A
a52表示碳數1～8的烷二基。
X
a51及X
a52分別獨立地表示-O-、-CO-O-或-O-CO-。
nb表示0或1。
W
a50表示可具有取代基的碳數5～12的環狀烴基。
L
a50表示單鍵或可具有氟原子的碳數1～12的鏈狀烴基。
ma50表示1～5的任一整數]
作為R
a50中的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子及溴原子等。
作為R
a50中的可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基，可列舉：三氟甲基、二氟甲基、甲基、全氟乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、乙基、全氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、丙基、全氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、丁基、全氟戊基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-九氟戊基、戊基、己基及全氟己基。烷基的碳數較佳為1～4，更佳為1～3，進而佳為1或2。
R
a50較佳為氫原子或碳數1～4的烷基，更佳為氫原子、甲基或乙基，進而佳為氫原子或甲基。
作為A
a50中的A
a52中的烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基及2-甲基丁烷-1,4-二基等。烷二基的碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而佳為1～3，進而更佳為1或2。
A
a52較佳為亞甲基或伸乙基。
作為*-X
a51-(A
a52-X
a52)
nb-，可列舉：*-O-、*-CO-O-、*-O-CO-、*-CO-O-A
a52-CO-O-、*-O-CO-A
a52-O-、*-O-A
a52-CO-O-、*-CO-O-A
a52-O-CO-、*-O-CO-A
a52-O-CO-。其中，較佳為*-CO-O-、*-CO-O-A
a52-CO-O-或*-O-A
a52-CO-O-。
A
a50較佳為單鍵、*-CO-O-或*-CO-O-A
a52-CO-O-，更佳為單鍵、*-CO-O-或*-CO-O-CH
2-CO-O-，進而佳為單鍵或*-CO-O-。
W
a50中的環狀烴基例如可列舉二價脂環式烴基及二價芳香族烴基。
作為W
a50中的單環式的二價脂環式烴基，可列舉：環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等單環式環烷二基。作為多環式的二價脂環式烴基，可列舉：降冰片烷-1,4-二基、降冰片烷-2,5-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式環烷二基。
脂環式烴基的碳數較佳為6～12，更佳為6～10。
作為W
a50中的二價芳香族烴基，可列舉伸苯基、萘基。
芳香族烴基的碳數較佳為6～12，更佳為6～10。
作為W
a50中的碳數5～12的環狀烴基可具有的取代基，可列舉：鹵素原子、羥基、碳數1～12的烷基、碳數1～12的鹵代烷基、碳數1～12的烷氧基、碳數2～12的烷氧基烷基、碳數2～12的烷氧基烷氧基、碳數2～4的烷基羰基、碳數2～4的烷基羰氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基等。W
a50所具有的取代基的個數可為一個，亦可為兩個以上。
作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子及溴原子等。
作為烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基。烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而佳為1～3。烷基較佳為碳數1～4的烷基，更佳為甲基或乙基，進而佳為甲基。
作為鹵代烷基，可列舉：三氟甲基、二氟甲基、全氟乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、全氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、全氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、全氟戊基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-九氟戊基、全氟己基、氯甲基、溴甲基、碘甲基等。鹵代烷基的碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而佳為1～3。
作為烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基。烷氧基的碳數較佳為1～6，更佳為1～4，進而佳為1～3。烷氧基較佳為碳數1～4的烷氧基，更佳為甲氧基或乙氧基，進而佳為甲氧基。
作為烷氧基烷基，可列舉：甲氧基甲基、乙氧基乙基、丙氧基甲基、異丙氧基甲基、丁氧基甲基、第二丁氧基甲基、第三丁氧基甲基。烷氧基烷基較佳為碳數2～8的烷氧基烷基，更佳為甲氧基甲基或乙氧基乙基，進而佳為甲氧基甲基。
作為烷氧基烷氧基，可列舉：甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基、乙氧基甲氧基、乙氧基乙氧基、丙氧基甲氧基、異丙氧基甲氧基、丁氧基甲氧基、第二丁氧基甲氧基、第三丁氧基甲氧基。烷氧基烷氧基較佳為碳數2～8的烷氧基烷氧基，更佳為甲氧基乙氧基或乙氧基乙氧基。
作為烷基羰基，可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。烷基羰基較佳為碳數2～3的烷基羰基，更佳為乙醯基。
作為烷基羰氧基，可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基及丁醯基氧基。烷基羰氧基較佳為碳數2～3的烷基羰氧基，更佳為乙醯基氧基。
作為W
a50中的環狀烴基的取代基，較佳為鹵素原子、羥基、碳數1～4的烷基、碳數1～4的烷氧基或碳數2～8的烷氧基烷氧基，更佳為氟原子、碘原子、羥基、甲基、甲氧基、乙氧基、乙氧基乙氧基或乙氧基甲氧基，進而佳為氟原子、碘原子、羥基、甲基、甲氧基或乙氧基乙氧基。
作為L
a50中的碳數1～12的鏈狀烴基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基等直鏈狀烷二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、1-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、1-二甲基丙烷-1,3-二基、戊烷-2,4-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基。
鏈式烴基的碳數較佳為1～10，更佳為1～8，進而佳為1～6，進一步更佳為1～4。
L
a50所具有的氟原子可為一個，亦可為兩個以上。
ma50較佳為1～4的任一整數，更佳為1～3的任一整數。
於由本發明的抗蝕劑組成物製造抗蝕劑圖案時，於使用KrF準分子雷射（248 nm）、電子束或EUV（超紫外光）等高能量射線作為曝光光源的情況下，作為結構單元（a2），較佳為具有酚性羥基的結構單元（a2），更佳為使用後述的結構單元（a2-A）。另外，於使用ArF準分子雷射（193 nm）等的情況下，作為結構單元（a2），較佳為具有醇性羥基的結構單元（a2），更佳為使用後述的結構單元（a2-1）。作為結構單元（a2），可單獨包含一種，亦可包含兩種以上。
作為結構單元（a2）中具有酚性羥基的結構單元，可列舉式（a2-A）所表示的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a2-A）」）。
[式（a2-A）中，
R
a50表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
R
a51表示鹵素原子、羥基、碳數1～6的烷基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～12的烷氧基烷基、碳數2～12的烷氧基烷氧基、碳數2～4的烷基羰基、碳數2～4的烷基羰氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基。
A
a50表示單鍵或*-X
a51-(A
a52-X
a52)
nb-，*表示與-R
a50所鍵結的碳原子的鍵結部位。
A
a52表示碳數1～8的烷二基。
X
a51及X
a52分別獨立地表示-O-、-CO-O-或-O-CO-。
nb表示0或1。
mb表示0～4的任一整數。於mb為2以上的任一整數的情況下，多個R
a51相互可相同亦可不同]
R
a50及A
a50可分別列舉與式（a2）中例示者相同的基。
作為R
a51中的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子及溴原子等。
作為R
a51中的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基。烷基較佳為碳數1～4的烷基，更佳為甲基或乙基，進而佳為甲基。
作為R
a51中的烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基。烷氧基較佳為碳數1～4的烷氧基，更佳為甲氧基或乙氧基，進而佳為甲氧基。
作為R
a51中的烷氧基烷基，可列舉：甲氧基甲基、乙氧基乙基、丙氧基甲基、異丙氧基甲基、丁氧基甲基、第二丁氧基甲基、第三丁氧基甲基。烷氧基烷基較佳為碳數2～8的烷氧基烷基，更佳為甲氧基甲基或乙氧基乙基，進而佳為甲氧基甲基。
作為R
a51中的烷氧基烷氧基，可列舉：甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基、乙氧基甲氧基、乙氧基乙氧基、丙氧基甲氧基、異丙氧基甲氧基、丁氧基甲氧基、第二丁氧基甲氧基、第三丁氧基甲氧基。烷氧基烷氧基較佳為碳數2～8的烷氧基烷氧基，更佳為甲氧基乙氧基或乙氧基乙氧基。
作為R
a51中的烷基羰基，可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。烷基羰基較佳為碳數2～3的烷基羰基，更佳為乙醯基。
作為R
a51中的烷基羰氧基，可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基及丁醯基氧基。烷基羰氧基較佳為碳數2～3的烷基羰氧基，更佳為乙醯基氧基。
R
a51較佳為鹵素原子、羥基、碳數1～4的烷基、碳數1～4的烷氧基或碳數2～8的烷氧基烷氧基，更佳為氟原子、碘原子、羥基、甲基、甲氧基、乙氧基、乙氧基乙氧基或乙氧基甲氧基，進而佳為氟原子、碘原子、羥基、甲基、甲氧基或乙氧基乙氧基。
mb較佳為0、1或2，更佳為0或1。
羥基較佳為至少一個鍵結於苯環的間-位或對-位。於包含兩個以上的羥基的情況下，較佳為兩個羥基分別鍵結於間-位與對-位。
作為結構單元（a2-A），可列舉源自日本專利特開2010-204634號公報、日本專利特開2012-12577號公報中所記載的單體的結構單元。
作為結構單元（a2-A），可列舉式（a2-2-1）～式（a2-2-24）所表示的結構單元及式（a2-2-1）～式（a2-2-24）所表示的結構單元中將相當於結構單元（a2-A）中的R
a50的甲基取代為氫原子、鹵素原子、鹵代烷基或其他烷基的結構單元。結構單元（a2-A）較佳為式（a2-2-1）～式（a2-2-4）所表示的結構單元、式（a2-2-6）所表示的結構單元、式（a2-2-8）所表示的結構單元、式（a2-2-12）～式（a2-2-18）所表示的結構單元及式（a2-2-1）～式（a2-2-4）所表示的結構單元、式（a2-2-6）所表示的結構單元、式（a2-2-8）所表示的結構單元、式（a2-2-12）～式（a2-2-18）所表示的結構單元中將相當於結構單元（a2-A）中的R
a50的甲基取代為氫原子的結構單元，更佳為式（a2-2-3）所表示的結構單元、式（a2-2-4）所表示的結構單元、式（a2-2-8）所表示的結構單元、式（a2-2-12）～式（a2-2-14）所表示的結構單元、式（a2-2-18）所表示的結構單元及式（a2-2-3）所表示的結構單元、式（a2-2-4）所表示的結構單元、式（a2-2-8）所表示的結構單元、式（a2-2-12）～式（a2-2-14）所表示的結構單元、式（a2-2-18）所表示的結構單元中將相當於結構單元（a2-A）中的R
a50的甲基取代為氫原子的結構單元，進而佳為式（a2-2-3）所表示的結構單元、式（a2-2-4）所表示的結構單元、式（a2-2-8）所表示的結構單元及式（a2-2-3）所表示的結構單元、式（a2-2-4）所表示的結構單元、式（a2-2-8）所表示的結構單元中將相當於結構單元（a2-A）中的R
a50的甲基取代為氫原子的結構單元。
相對於所有結構單元，樹脂（A）等中包含結構單元（a2-A）時的結構單元（a2-A）的含有率較佳為5莫耳%以上，更佳為10莫耳%以上，進而佳為15莫耳%以上，進一步更佳為20莫耳%以上。另外，較佳為80莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而佳為65莫耳%以下。具體而言，較佳為5莫耳%～80莫耳%，更佳為10莫耳%～70莫耳%，進而佳為15莫耳%～65莫耳%，進而更佳為20莫耳%～65莫耳%。
結構單元（a2-A）例如可藉由於使用結構單元（a1-4）進行聚合後，利用對甲苯磺酸等酸進行處理而包含於樹脂（A）等中。另外，可藉由於使用乙醯氧基苯乙烯等進行聚合後，利用四甲基氫氧化銨等鹼進行處理，而使結構單元（a2-A）包含於樹脂（A）等中。
作為結構單元（a2-A），亦可列舉以下的式（a2-A1）所表示的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a2-A1）」）及式（a2-A2）所表示的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a2-A2）」）。
[式（a2-A1）及式（a2-A2）中，
R
a50及A
a50分別表示與式（a2）相同的含義。
mb1表示0～4的任一整數。
R
a52表示鹵素原子。
R
a53表示碳數1～6的烷基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～12的烷氧基烷基、碳數2～12的烷氧基烷氧基、碳數2～4的烷基羰基、碳數2～4的烷基羰氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基。
mb2及mb3分別獨立地表示0～4的任一整數，於mb2為2以上的情況下，多個R
a52相互可相同亦可不同，於mb3為2以上的情況下，多個R
a53相互可相同亦可不同，滿足1≦mb2+mb3≦4]
R
a52中的鹵素原子可列舉與W
a50中的環狀烴基的取代基及R
a51中的鹵素原子相同者。作為R
a52中的鹵素原子，較佳為氟原子或碘原子。
作為R
a53中的碳數1～6的烷基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～12的烷氧基烷基、碳數2～12的烷氧基烷氧基、碳數2～4的烷基羰基、碳數2～4的烷基羰氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基，可分別列舉與W
a50中的環狀烴基的取代基及R
a51中的烷基、烷氧基、烷氧基烷基、烷氧基烷氧基、烷基羰基、烷基羰氧基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基相同者，更佳為甲基、甲氧基、乙氧基、乙氧基乙氧基或乙氧基甲氧基，進而佳為甲氧基或乙氧基乙氧基。
mb1較佳為0～3的任一整數，更佳為0～2的任一整數，進而佳為0或1。
mb2較佳為0～3的任一整數，更佳為1～3的任一整數，進而佳為1或2。
mb3較佳為0～3的任一整數，更佳為0～2的任一整數，進而佳為0或1。
作為結構單元（a2）中具有醇性羥基的結構單元，可列舉式（a2-1）所表示的結構單元（以下有時稱為「結構單元（a2-1）」）。
[式（a2-1）中，
L
a3表示-O-或*-O-(CH
2)
k2-CO-O-，
k2表示1～7的任一整數。*表示與-CO-的鍵結部位。
R
a14表示氫原子或甲基。
R
a15及R
a16分別獨立地表示氫原子、甲基或羥基。
o1表示0～10的任一整數]
式（a2-1）中，L
a3較佳為-O-、-O-(CH
2)
f1-CO-O-（所述f1表示1～4的任一整數），更佳為-O-。
R
a14較佳為甲基。
R
a15較佳為氫原子。
R
a16較佳為氫原子或羥基。
o1較佳為0～3的任一整數，更佳為0或1。
作為結構單元（a2-1），例如可列舉源自日本專利特開2010-204646號公報中所記載的單體的結構單元。較佳為式（a2-1-1）～式（a2-1-6）的任一者所表示的結構單元，更佳為式（a2-1-1）～式（a2-1-4）的任一者所表示的結構單元，進而佳為式（a2-1-1）或式（a2-1-3）所表示的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a2-1）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率可列舉1莫耳%以上，較佳為2莫耳%以上。另外，可列舉45莫耳%以下，較佳為40莫耳%以下，更佳為35莫耳%以下，進而佳為20莫耳%以下，進一步更佳為10莫耳%以下。具體而言，可列舉1莫耳%～45莫耳%，較佳為1莫耳%～40莫耳%，更佳為1莫耳%～35莫耳%，進而佳為1莫耳%～20莫耳%，進而更佳為1莫耳%～10莫耳%。
作為結構單元（a2）中具有醇性羥基的結構單元，可列舉式（a2-B）所表示的結構單元（以下，有時稱為「結構單元（a2-B）」）。
[式（a2-B）中，
R
a50及A
a50分別表示與式（a2）相同的含義。
R
a54及R
a55分別獨立地表示碳數1～4的氟化烷基。
L
a51表示單鍵或碳數1～3的烷二基，該烷二基中亦可取代有氟原子。
R
a56表示鹵素原子、羥基、碳數1～4的鹵代烷基或碳數1～12的烷基，該烷基中包含的-CH
2-亦可被-O-或-CO-取代。
mb4表示1～3的任一整數，於mb4為2以上時，多個R
a54、R
a55及L
a51可分別相互相同亦可不同。
mb5表示0～4的任一整數，於mb5為2以上時，多個R
a56相互可相同亦可不同。其中，1≦mb4+mb5≦5]
作為R
a54及R
a55中的碳數1～4的氟化烷基，可分別獨立地列舉：三氟甲基、2,2,2-三氟乙基、3,3,3-三氟丙基、4,4,4-三氟丁基等。作為R
a54及R
a55，較佳為三氟甲基。
作為L
a51中的碳數1～3的烷二基，可列舉：亞甲基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-2,2-二基等。作為L
a51，較佳為單鍵或亞甲基。
作為R
a56中的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
所謂R
a56中的碳數1～4的鹵代烷基表示具有鹵素原子的碳數1～4的烷基，可列舉：氯甲基、溴甲基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、全氟丁基等。
作為R
a56中的碳數1～12的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基、壬基等烷基。烷基的碳數較佳為1～9，更佳為1～6，進而佳為1～4。
於R
a56所表示的烷基中包含的-CH
2-被取代為-O-或-CO-的情況下，將取代之前的碳數設為該烷基的總碳數。另外，R
a56亦可具有羥基（甲基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、羧基（乙基中包含的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、碳數1～11的烷氧基（碳數2～12的烷基中包含的-CH
2-被取代為-O-的基）、碳數2～11的烷氧基羰基（碳數3～12的烷基中包含的-CH
2-CH
2-被取代為-O-CO-的基）、碳數2～12的烷基羰基（碳數2～12的烷基中包含的-CH
2-被取代為-CO-的基）、碳數2～11的烷基羰氧基（碳數3～12的烷基中包含的-CH
2-CH
2-被取代為-CO-O-的基）。
其中，作為R
a56，較佳為鹵素原子、碳數1～4的鹵代烷基或碳數1～12的烷基（該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代）。
mb4較佳為1或2，更佳為1。進而佳為mb4為1、且括弧內的基鍵結於對位。
mb5較佳為0～2的任一整數，更佳為0或1，進而佳為0。
作為結構單元（a2-B），更佳為以下的式（a2-B1）所表示的結構單元（以下，有時稱為「結構單元（a2-B1）」）。
[式（a2-B1）中，
R
a57表示氫原子或甲基。
A
a53表示單鍵或*-CO-O-，*表示與-R
a57所鍵結的碳原子的鍵結部位。
R
a56、mb4及mb5分別表示與式（a2-B）相同的含義]
於式（a2-B1）中，R
a57較佳為氫原子。
A
a53較佳為單鍵。
作為結構單元（a2-B），可列舉以下記載的結構單元。
式（a2-B-1）～式（a2-B-8）所表示的結構單元中將相當於R
a57的氫原子取代為甲基的結構單元、式（a2-B-9）～式（a2-B-16）所表示的結構單元中將相當於R
a57的甲基取代為氫原子的結構單元亦可作為結構單元（a2-B）的具體例來列舉。其中，較佳為式（a2-B-1）～式（a2-B-8）所表示的結構單元，更佳為式（a2-B-1）～式（a2-B-4）所表示的結構單元，進而佳為式（a2-B-1）所表示的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a2-B）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而佳為10莫耳%以上。另外，較佳為80莫耳%以下，更佳為75莫耳%以下，進而佳為70莫耳%以下，進一步更佳為65莫耳%以下。具體而言，較佳為3莫耳%～80莫耳%，更佳為5莫耳%～75莫耳%，進而佳為10莫耳%～70莫耳%，進一步更佳為10莫耳%～65莫耳%。
〈結構單元（a3）〉
結構單元（a3）具有的內酯環可為β-丙內酯環、γ-丁內酯環、δ-戊內酯環般的單環，亦可為單環式的內酯環與其他環的稠環。較佳為可列舉γ-丁內酯環、金剛烷內酯環、或包含γ-丁內酯環結構的橋聯環（例如下式（a3-2）所表示的結構單元）。
結構單元（a3）較佳為式（a3-1）、式（a3-2）、式（a3-3）或式（a3-4）所表示的結構單元。可單獨含有該些的一種，亦可含有兩種以上。
[式（a3-1）、式（a3-2）、式（a3-3）及式（a3-4）中，
L
a4、L
a5及L
a6分別獨立地表示-O-或*-O-(CH
2)
k3-CO-O-（k3表示1～7的任一整數）所表示的基。
L
a7表示-O-、*-O-L
a8-O-、*-O-L
a8-CO-O-、*-O-L
a8-CO-O-L
a9-CO-O-或*-O-L
a8-O-CO-L
a9-O-。
L
a8及L
a9分別獨立地表示碳數1～6的烷二基。
*表示與羰基的鍵結部位。
R
a18、R
a19、R
a20及R
a24分別獨立地表示可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基、氫原子或鹵素原子。
X
a3表示-CH
2-或氧原子。
R
a21表示碳數1～4的脂肪族烴基。
R
a22、R
a23及R
a25分別獨立地表示羧基、氰基或碳數1～4的脂肪族烴基。
p1表示0～5的任一整數。
q1表示0～3的任一整數。
r1表示0～3的任一整數。
w1表示0～8的任一整數。
於p1、q1、r1及/或w1為2以上時，多個R
a21、R
a22、R
a23及/或R
a25相互可相同亦可不同]
作為R
a21、R
a22、R
a23及R
a25中的脂肪族烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基及第三丁基等烷基。
作為R
a18、R
a19、R
a20及R
a24中的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
作為R
a18、R
a19、R
a20及R
a24中的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基及己基等，較佳為可列舉碳數1～4的烷基，更佳為可列舉甲基或乙基。
作為R
a18、R
a19、R
a20及R
a24中的具有鹵素原子的烷基，可列舉：三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基、全氟己基、三氯甲基、三溴甲基、三碘甲基等。
作為L
a8及L
a9中的烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基及2-甲基丁烷-1,4-二基等。
式（a3-1）～式（a3-3）中，L
a4～L
a6分別獨立地較佳為-O-或*-O-(CH
2)
k3-CO-O-中k3為1～4的任一整數的基，更佳為-O-及*-O-CH
2-CO-O-，進而佳為氧原子。
R
a18～R
a21較佳為甲基。
R
a22及R
a23分別獨立地較佳為羧基、氰基或甲基。
p1、q1及r1分別獨立地較佳為0～2的任一整數，更佳為0或1。
式（a3-4）中，R
a24較佳為氫原子或碳數1～4的烷基，更佳為氫原子、甲基或乙基，進而佳為氫原子或甲基。
R
a25較佳為羧基、氰基或甲基。
L
a7較佳為-O-或*-O-L
a8-CO-O-，更佳為-O-、-O-CH
2-CO-O-或-O-C
2H
4-CO-O-。
w1較佳為0～2的任一整數，更佳為0或1。
特別是式（a3-4）較佳為式（a3-4）'。
（式中，R
a24、L
a7表示與所述相同的含義）
作為結構單元（a3），可列舉源自日本專利特開2010-204646號公報中所記載的單體、日本專利特開2000-122294號公報中所記載的單體、日本專利特開2012-41274號公報中所記載的單體的結構單元。作為結構單元（a3），較佳為式（a3-1-1）、式（a3-1-2）、式（a3-2-1）、式（a3-2-2）、式（a3-3-1）、式（a3-3-2）及式（a3-4-1）～式（a3-4-12）的任一者所表示的結構單元、及所述結構單元中將相當於式（a3-1）～式（a3-4）中的R
a18、R
a19、R
a20及R
a24的甲基取代為氫原子的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a3）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其合計含有率可列舉1莫耳%以上，較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而佳為10莫耳%以上。另外，可列舉70莫耳%以下，較佳為65莫耳%以下，更佳為60莫耳%以下。具體而言，可列舉1莫耳%～70莫耳%，較佳為3莫耳%～65莫耳%，更佳為5莫耳%～60莫耳%。
另外，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，結構單元（a3-1）、結構單元（a3-2）、結構單元（a3-3）或結構單元（a3-4）的含有率分別較佳為1莫耳%以上，更佳為3莫耳%以上，進而佳為5莫耳%以上。另外，較佳為60莫耳%以下，更佳為55莫耳%以下，進而佳為50莫耳%以下。具體而言，較佳為1莫耳%～60莫耳%，更佳為3莫耳%～55莫耳%，進而佳為5莫耳%～50莫耳%。
〈結構單元（a4）〉
作為結構單元（a4），可列舉以下的結構單元。
[式（a4）中，
R
41表示氫原子或甲基。
R
42表示碳數1～24的具有鹵素原子的飽和烴基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-]
R
42所表示的飽和烴基可列舉鏈式飽和烴基及單環或多環的脂環式飽和烴基、以及藉由將該些組合而形成的基等。
作為鏈式飽和烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基、十二烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基及十八烷基。
作為單環或多環的脂環式飽和烴基，可列舉：環戊基、環己基、環庚基、環辛基等環烷基；十氫萘基、金剛烷基、降冰片基及下述基（*表示鍵結部位）等多環式的脂環式飽和烴基。
作為藉由組合而形成的基，可列舉藉由將一個以上的烷基或一個以上的烷二基、與一個以上的脂環式飽和烴基組合而形成的基，可列舉：-烷二基-脂環式飽和烴基、-脂環式飽和烴基-烷基、-烷二基-脂環式飽和烴基-烷基等。
作為結構單元（a4），可列舉式（a4-0）所表示的結構單元、式（a4-1）所表示的結構單元、及式（a4-4）所表示的結構單元。
[式（a4-0）中，
R
54表示氫原子或甲基。
L
4a表示單鍵或碳數1～4的烷二基。
L
3a表示碳數1～8的全氟烷二基或碳數3～12的全氟環烷二基。
R
64表示氫原子或氟原子]
作為L
4a中的烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基等直鏈狀烷二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基及2-甲基丙烷-1,2-二基等分支狀烷二基。
作為L
3a中的全氟烷二基，可列舉：二氟亞甲基、全氟伸乙基、全氟乙基氟亞甲基、全氟丙烷-1,3-二基、全氟丙烷-1,2-二基、全氟丙烷-2,2-二基、全氟丁烷-1,4-二基、全氟丁烷-2,2-二基、全氟丁烷-1,2-二基、全氟戊烷-1,5-二基、全氟戊烷-2,2-二基、全氟戊烷-3,3-二基、全氟己烷-1,6-二基、全氟己烷-2,2-二基、全氟己烷-3,3-二基、全氟庚烷-1,7-二基、全氟庚烷-2,2-二基、全氟庚烷-3,4-二基、全氟庚烷-4,4-二基、全氟辛烷-1,8-二基、全氟辛烷-2,2-二基、全氟辛烷-3,3-二基、全氟辛烷-4,4-二基等。
作為L
3a中的全氟環烷二基，可列舉：全氟環己二基、全氟環戊二基、全氟環庚二基、全氟金剛烷二基等。
L
4a較佳為單鍵、亞甲基或伸乙基，更佳為單鍵、亞甲基。
L
3a較佳為碳數1～6的全氟烷二基，更佳為碳數1～3的全氟烷二基。
作為結構單元（a4-0），可列舉以下所示的結構單元及下述結構單元中的將相當於結構單元（a4-0）中的R
54的甲基取代為氫原子的結構單元。
[式（a4-1）中，
R
a41表示氫原子或甲基。
R
a42表示可具有取代基的碳數1～20的飽和烴基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
A
a41表示可具有取代基的碳數1～6的烷二基或式（a-g1）所表示的基。其中，A
a41及R
a42中至少一者具有鹵素原子（較佳為氟原子）作為取代基。
〔式（a-g1）中，
s表示0或1。
A
a42及A
a44分別獨立地表示可具有取代基的碳數1～5的二價飽和烴基。
A
a43表示單鍵或可具有取代基的碳數1～5的二價飽和烴基。
X
a41及X
a42分別獨立地表示-O-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-。
其中，A
a42、A
a43、A
a44、X
a41及X
a42的碳數的合計為7以下〕
*為鍵結部位，右側的*為與-O-CO-R
a42的鍵結部位]
作為R
a42中的飽和烴基，可列舉鏈式飽和烴基及單環或多環的脂環式飽和烴基、以及藉由將該些組合而形成的基等。
作為鏈式飽和烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基、十二烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基及十八烷基等。
作為單環或多環的脂環式飽和烴基，可列舉：環戊基、環己基、環庚基、環辛基等環烷基；十氫萘基、金剛烷基、降冰片基及下述基（*表示鍵結部位）等多環式的脂環式飽和烴基。
作為藉由組合而形成的基，可列舉藉由將一個以上的烷基或一個以上的烷二基、與一個以上的脂環式飽和烴基組合而形成的基，可列舉：-烷二基-脂環式飽和烴基、-脂環式飽和烴基-烷基、-烷二基-脂環式飽和烴基-烷基等。
作為R
a42具有的取代基，可列舉選自由鹵素原子及式（a-g3）所表示的基所組成的群組中的至少一種。作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子，較佳為氟原子。
[式（a-g3）中，
X
a43表示氧原子、羰基、*-O-CO-或*-CO-O-。
A
a45表示可具有鹵素原子的碳數1～17的飽和烴基。
*表示與R
a42的鍵結部位]
其中，於R
a42-X
a43-A
a45中R
a42不具有鹵素原子的情況下，A
a45表示具有至少一個鹵素原子的碳數1～17的飽和烴基。
作為A
a45中的飽和烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、癸基、十二烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基及十八烷基等烷基；
環戊基、環己基、環庚基、環辛基等單環式的脂環式烴基；以及十氫萘基、金剛烷基、降冰片基及下述基（*表示鍵結部位）等多環式的脂環式烴基。
作為藉由組合而形成的基，可列舉藉由將一個以上的烷基或一個以上的烷二基、與一個以上的脂環式烴基組合而形成的基，可列舉：-烷二基-脂環式烴基、-脂環式烴基-烷基、-烷二基-脂環式烴基-烷基等。
R
a42較佳為可具有鹵素原子的飽和烴基，更佳為具有鹵素原子的烷基及/或具有式（a-g3）所表示的基的飽和烴基。
於R
a42為具有鹵素原子的飽和烴基的情況下，較佳為具有氟原子的飽和烴基，更佳為全氟烷基或全氟環烷基，進而佳為碳數為1～6的全氟烷基，特佳為碳數1～3的全氟烷基。作為全氟烷基，可列舉：全氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟丁基、全氟戊基、全氟己基、全氟庚基及全氟辛基等。作為全氟環烷基，可列舉全氟環己基等。
於R
a42為具有式（a-g3）所表示的基的飽和烴基的情況下，包括式（a-g3）所表示的基中包含的碳數在內，R
a42的總碳數較佳為15以下，更佳為12以下。於具有式（a-g3）所表示的基作為取代基的情況下，其個數較佳為一個。
於R
a42為具有式（a-g3）所表示的基的飽和烴基的情況下，R
a42進而佳為式（a-g2）所表示的基。
[式（a-g2）中，
A
a46表示可具有鹵素原子的碳數1～17的二價飽和烴基。
X
a44表示**-O-CO-或**-CO-O-（**表示與A
a46的鍵結部位）。
A
a47表示可具有鹵素原子的碳數1～17的飽和烴基。
其中，A
a46、A
a47及X
a44的碳數的合計為18以下，A
a46及A
a47中，至少一者具有至少一個鹵素原子。
*表示與羰基的鍵結部位]
A
a46中的飽和烴基的碳數較佳為1～6，更佳為1～3。
A
a47中的飽和烴基的碳數較佳為4～15，更佳為5～12，A
a47進而佳為環己基或金剛烷基。
式（a-g2）所表示的基的較佳的結構為以下的結構（*為與羰基的鍵結部位）。
作為A
a41中的烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基等直鏈狀烷二基；丙烷-1,2-二基、丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、1-甲基丁烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基。
作為A
a41表示的烷二基中的取代基，可列舉羥基及碳數1～6的烷氧基等。
A
a41較佳為碳數1～4的烷二基，更佳為碳數2～4的烷二基，進而佳為伸乙基。
作為式（a-g1）所表示的基中的A
a42、A
a43及A
a44表示的二價飽和烴基，可列舉直鏈或分支的烷二基及單環或多環的二價脂環式飽和烴基、以及藉由將烷二基及二價脂環式飽和烴基組合而形成的二價飽和烴基等。具體而言，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、1-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基等。
作為A
a42、A
a43及A
a44表示的二價飽和烴基的取代基，可列舉羥基及碳數1～6的烷氧基等。
s較佳為0。
式（a-g1）所表示的基中，作為X
a42為-O-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-的基，可列舉以下的基等。以下的示例中，*及**分別表示鍵結部位，**為與-O-CO-R
a42的鍵結部位。
作為式（a4-1）所表示的結構單元，可列舉以下所示的結構單元及下述結構單元中的將相當於式（a4-1）所表示的結構單元中的R
a41的甲基取代為氫原子的結構單元。
作為式（a4-1）所表示的結構單元，可列舉式（a4-2）所表示的結構單元及式（a4-3）所表示的結構單元。
[式（a4-2）中，
R
f5表示氫原子或甲基。
L
44表示碳數1～6的烷二基，該烷二基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
R
f6表示碳數1～20的具有氟原子的飽和烴基。
其中，L
44及R
f6的合計碳數的上限為21]
L
44中的碳數1～6的烷二基可列舉與A
a41中例示者相同的基。
R
f6中的飽和烴基可列舉與R
42中例示者相同的基。
作為L
44中的烷二基，較佳為碳數2～4的烷二基，更佳為伸乙基。
作為式（a4-2）所表示的結構單元，例如可列舉式（a4-1-1）～式（a4-1-11）分別所表示的結構單元。將相當於結構單元（a4-2）中的R
f5的甲基取代為氫原子的結構單元亦可列舉為式（a4-2）所表示的結構單元。
[式（a4-3）中，
R
f7表示氫原子或甲基。
L
5表示碳數1～6的烷二基。
A
f13表示可具有氟原子的碳數1～18的二價飽和烴基。
X
f12表示*-O-CO-或*-CO-O-（*表示與A
f13的鍵結部位）。
A
f14表示可具有氟原子的碳數1～17的飽和烴基。
其中，A
f13及A
f14的至少一者具有氟原子，L
5、A
f13及A
f14的合計碳數的上限為20]
作為L
5中的烷二基，可列舉與A
a41的烷二基中例示者相同的基。
作為A
f13中的可具有氟原子的二價飽和烴基，較佳為可具有氟原子的二價鏈式飽和烴基及可具有氟原子的二價脂環式飽和烴基，更佳為全氟烷二基。
作為可具有氟原子的二價鏈式飽和烴基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙二基、丁二基及戊二基等烷二基；二氟亞甲基、全氟伸乙基、全氟丙二基、全氟丁二基及全氟戊二基等全氟烷二基等。
可具有氟原子的二價脂環式飽和烴基可為單環式及多環式的任一種。作為單環式的基，可列舉環己二基及全氟環己二基等。作為多環式的基，可列舉：金剛烷二基、降冰片烷二基、全氟金剛烷二基等。
A
f14中的飽和烴基及可具有氟原子的飽和烴基可列舉與R
a42中例示者相同的基。其中，較佳為：三氟甲基、二氟甲基、甲基、全氟乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1,2,2-四氟乙基、乙基、全氟丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、丙基、全氟丁基、1,1,2,2,3,3,4,4-八氟丁基、丁基、全氟戊基、2,2,3,3,4,4,5,5,5-九氟戊基、戊基、己基、全氟己基、庚基、全氟庚基、辛基及全氟辛基等氟化烷基、環丙基甲基、環丙基、環丁基甲基、環戊基、環己基、全氟環己基、金剛烷基、金剛烷基甲基、金剛烷基二甲基、降冰片基、降冰片基甲基、全氟金剛烷基、全氟金剛烷基甲基等。
式（a4-3）中，L
5較佳為伸乙基。
A
f13中的二價飽和烴基較佳為包含碳數1～6的二價鏈式飽和烴基及碳數3～12的二價脂環式飽和烴基的基，進而佳為碳數2～3的二價鏈式飽和烴基。
A
f14中的飽和烴基較佳為包含碳數3～12的鏈式飽和烴基及碳數3～12的脂環式飽和烴基的基，進而佳為包含碳數3～10的鏈式飽和烴基及碳數3～10的脂環式飽和烴基的基。其中，A
f14較佳為包含碳數3～12的脂環式飽和烴基的基，更佳為環丙基甲基、環戊基、環己基、降冰片基及金剛烷基。
作為式（a4-3）所表示的結構單元，例如可列舉式（a4-1'-1）～式（a4-1'-11）分別所表示的結構單元。將相當於結構單元（a4-3）中的R
f7的甲基取代為氫原子的結構單元亦可列舉為式（a4-3）所表示的結構單元。
作為結構單元（a4），亦可列舉式（a4-4）所表示的結構單元。
[式（a4-4）中，
R
f21表示氫原子或甲基。
A
f21表示-(CH
2)
j1-、-(CH
2)
j2-O-(CH
2)
j3-或-(CH
2)
j4-CO-O-(CH
2)
j5-。
j1～j5分別獨立地表示1～6的任一整數。
R
f22表示具有氟原子的碳數1～10的飽和烴基]
R
f22中的飽和烴基可列舉與R
a42所表示的飽和烴基相同者。R
f22較佳為具有氟原子的碳數1～10的烷基或具有氟原子的碳數1～10的脂環式飽和烴基，更佳為具有氟原子的碳數1～10的烷基，進而佳為具有氟原子的碳數1～6的烷基。
式（a4-4）中，作為A
f21，較佳為-(CH
2)
j1-，更佳為伸乙基或亞甲基，進而佳為亞甲基。
作為式（a4-4）所表示的結構單元，例如可列舉以下的結構單元及由以下式子所表示的結構單元中，將相當於結構單元（a4-4）中的R
f21的甲基取代為氫原子的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a4）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率較佳為1莫耳%～20莫耳%，更佳為2莫耳%～15莫耳%，進而佳為3莫耳%～10莫耳%。
〈結構單元（a5）〉
作為結構單元（a5）具有的非脫離烴基，可列舉具有直鏈、分支或環狀的烴基的基。其中，結構單元（a5）較佳為具有脂環式烴基的基。
作為結構單元（a5），例如可列舉式（a5-1）所表示的結構單元。
[式（a5-1）中，
R
51表示氫原子或甲基。
R
52表示碳數3～18的脂環式烴基，該脂環式烴基中包含的氫原子可被碳數1～8的脂肪族烴基取代。
L
55表示單鍵或碳數1～18的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-]
作為R
52中的脂環式烴基，可為單環式及多環式的任一種。作為單環式的脂環式烴基，例如可列舉：環丙基、環丁基、環戊基及環己基。作為多環式的脂環式烴基，例如可列舉金剛烷基及降冰片基等。
碳數1～8的脂肪族烴基例如可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基及2-乙基己基等烷基。
作為具有取代基的脂環式烴基，可列舉3-甲基金剛烷基等。
R
52較佳為未被取代的碳數3～18的脂環式烴基，更佳為金剛烷基、降冰片基或環己基。
作為L
55中的二價飽和烴基，可列舉二價鏈式飽和烴基及二價脂環式飽和烴基，較佳為二價鏈式飽和烴基。
作為二價鏈式飽和烴基，例如可列舉：亞甲基、伸乙基、丙二基、丁二基及戊二基等烷二基。
二價脂環式飽和烴基可為單環式及多環式的任一種。作為單環式的脂環式飽和烴基，可列舉環戊二基及環己二基等環烷二基。作為多環式的二價脂環式飽和烴基，可列舉金剛烷二基及降冰片烷二基等。
作為L
55表示的二價飽和烴基中包含的-CH
2-被-O-或-CO-取代的基，例如可列舉式（L1-1）～式（L1-4）所表示的基。下述式中，*及**各自表示鍵結部位，*表示與氧原子的鍵結部位。
[式（L1-1）中，
X
x1表示*-O-CO-或*-CO-O-（*表示與L
x1的鍵結部位）。
L
x1表示碳數1～16的二價脂肪族飽和烴基。
L
x2表示單鍵或碳數1～15的二價脂肪族飽和烴基。
其中，L
x1及L
x2的合計碳數為16以下。
式（L1-2）中，
L
x3表示碳數1～17的二價脂肪族飽和烴基。
L
x4表示單鍵或碳數1～16的二價脂肪族飽和烴基。
其中，L
x3及L
x4的合計碳數為17以下。
式（L1-3）中，
L
x5表示碳數1～15的二價脂肪族飽和烴基。
L
x6及L
x7分別獨立地表示單鍵或碳數1～14的二價脂肪族飽和烴基。
其中，L
x5、L
x6及L
x7的合計碳數為15以下。
式（L1-4）中，
L
x8及L
x9表示單鍵或碳數1～12的二價脂肪族飽和烴基。
W
x1表示碳數3～15的二價脂環式飽和烴基。
其中，L
x8、L
x9及W
x1的合計碳數為15以下]
L
x1較佳為碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基，更佳為亞甲基或伸乙基。
L
x2較佳為單鍵或碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基，更佳為單鍵。
L
x3較佳為碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基。
L
x4較佳為單鍵或碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基。
L
x5較佳為碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基，更佳為亞甲基或伸乙基。
L
x6較佳為單鍵或碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基，更佳為亞甲基或伸乙基。
L
x7較佳為單鍵或碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基。
L
x8較佳為單鍵或碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基，更佳為單鍵或亞甲基。
L
x9較佳為單鍵或碳數1～8的二價脂肪族飽和烴基，更佳為單鍵或亞甲基。
W
x1較佳為碳數3～10的二價脂環式飽和烴基，更佳為環己二基或金剛烷二基。
作為式（L1-1）所表示的基，例如可列舉以下所示的二價基。
作為式（L1-2）所表示的基，例如可列舉以下所示的二價基。
作為式（L1-3）所表示的基，例如可列舉以下所示的二價基。
作為式（L1-4）所表示的基，例如可列舉以下所示的二價基。
L
55較佳為單鍵或式（L1-1）所表示的基。
作為結構單元（a5-1），可列舉以下所示的結構單元及下述結構單元中的將相當於結構單元（a5-1）中的R
51的甲基取代為氫原子的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a5）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率較佳為1莫耳%～30莫耳%，更佳為2莫耳%～20莫耳%，進而佳為3莫耳%～15莫耳%。
〈結構單元（a6）〉
結構單元（a6）為具有-SO
2-基的結構單元，較佳為於側鏈具有-SO
2-基。
具有-SO
2-基的結構單元可含有具有-SO
2-基的直鏈狀結構，亦可含有具有-SO
2-基的分支狀結構，抑或可含有具有-SO
2-基的環狀結構（單環及多環結構）。較佳為含有具有-SO
2-基的環狀結構的結構單元，更佳為具有包含-SO
2-O-的環狀結構（磺內酯環）的結構單元。
作為磺內酯環，可列舉：下述式（T
1-1）、式（T
1-2）、式（T
1-3）及式（T
1-4）所表示的環。鍵結部位可設為任意的位置。磺內酯環可為單環式，但較佳為多環式。多環式的磺內酯環是指包含-SO
2-O-作為構成環的原子團的橋聯環，可列舉式（T
1-1）及式（T
1-2）所表示的環。磺內酯環如式（T
1-2）所表示的環般，作為構成環的原子團，除包含-SO
2-O-以外亦可更包含雜原子。作為雜原子，可列舉：氧原子、硫原子或氮原子，較佳為氧原子。
磺內酯環可具有取代基，作為取代基，可列舉：可具有鹵素原子或羥基的碳數1～12的烷基、鹵素原子、羥基、氰基、碳數1～12的烷氧基、碳數6～12的芳基、碳數7～12的芳烷基、縮水甘油氧基、碳數2～12的烷氧基羰基及碳數2～4的烷基羰基等。
作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
作為烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、辛基及癸基，較佳為碳數1～6的烷基，更佳為甲基。
作為具有鹵素原子的烷基，可列舉：三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基、全氟己基、三氯甲基、三溴甲基及三碘甲基，較佳為可列舉三氟甲基。
作為具有羥基的烷基，可列舉羥基甲基及2-羥基乙基的羥基烷基。
作為烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊基氧基、己基氧基、庚基氧基、辛基氧基、癸基氧基及十二烷基氧基。
作為芳基，可列舉：苯基、萘基、蒽基、對甲基苯基、對第三丁基苯基、對金剛烷基苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、聯苯基、菲基、2,6-二乙基苯基及2-甲基-6-乙基苯基。
作為芳烷基，可列舉：苄基、苯乙基、苯基丙基、萘基甲基及萘基乙基。
作為烷氧基羰基，可列舉甲氧基羰基、乙氧基羰基等將烷氧基與羰基鍵結而成的基，較佳為可列舉碳數6以下的烷氧基羰基，更佳為可列舉甲氧基羰基。
作為烷基羰基，可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基。
就容易製造導出結構單元（a6）的單體的觀點而言，較佳為不具有取代基的磺內酯環。
作為磺內酯環，較佳為以下的式（T1'）所表示的環。
[式（T1'）中，
X
11表示氧原子、硫原子或亞甲基。
R
41表示可具有鹵素原子或羥基的碳數1～12的烷基、鹵素原子、羥基、氰基、碳數1～12的烷氧基、碳數6～12的芳基、碳數7～12的芳烷基、縮水甘油氧基、碳數2～12的烷氧基羰基或碳數2～4的烷基羰基。
ma表示0～9的任一整數。於ma為2以上時，多個R
41可相同亦可不同。
鍵結部位為任意的位置]
X
11較佳為氧原子或亞甲基，更佳為亞甲基。
作為R
41，可列舉與磺內酯環的取代基相同者，較佳為可具有鹵素原子或羥基的碳數1～12的烷基。
ma較佳為0或1，更佳為0。
作為式（T1'）所表示的環，可列舉以下的環。鍵結部位為任意的位置。其中，鍵結部位較佳為1位或3位。
具有-SO
2-基的結構單元較佳為更具有源自聚合性基的基。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、丙烯醯基胺基、甲基丙烯醯基胺基、丙烯醯基硫基、甲基丙烯醯基硫基等。
其中，導出結構單元（a6）的單體較佳為具有乙烯性不飽和鍵的單體，更佳為(甲基)丙烯酸系單體。
結構單元（a6）較佳為式（a6-0）所表示的結構單元。
[式（a6-0）中，
R
x表示可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基、氫原子或鹵素原子。
A
xx表示氧原子、-N(R
c)-或硫原子。
A
x表示單鍵或碳數1～18的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-CO-或-N(R
d)-。
X
11、R
41及ma表示與所述相同的含義。
R
c及R
d相互獨立地表示氫原子或碳數1～6的烷基]
作為R
x中的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。
作為R
x中的烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基及正己基等，較佳為碳數1～4的烷基，更佳為甲基或乙基。
作為R
x中的具有鹵素原子的烷基，例如可列舉：三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基、全氟己基、三氯甲基、三溴甲基及三碘甲基等。
R
x較佳為氫原子或碳數1～4的烷基，更佳為氫原子、甲基或乙基，進而佳為氫原子或甲基。
作為A
x中的二價飽和烴基，可列舉：直鏈狀烷二基、分支狀烷二基、單環式或多環式的二價脂環式飽和烴基，亦可為將該些基中的兩種以上組合而成者。
具體而言，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基、十三烷-1,13-二基、十四烷-1,14-二基、十五烷-1,15-二基、十六烷-1,16-二基、十七烷-1,17-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基及丙烷-2,2-二基等直鏈狀烷二基；
丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基；
環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等環烷二基即單環式的二價脂環式飽和烴基；
降冰片烷-1,4-二基、降冰片烷-2,5-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式的二價脂環式飽和烴基等。
A
x於磺內酯環上的鍵結位置可設為任意的位置，較佳為1位。
作為結構單元（a6-0），可列舉以下的結構單元。
其中，較佳為式（a6-1）、式（a6-2）、式（a6-6）、式（a6-7）、式（a6-8）及式（a6-12）所表示的結構單元，更佳為式（a6-1）、式（a6-2）、式（a6-7）及式（a6-8）所表示的結構單元。
於樹脂（A）等包含結構單元（a6）的情況下，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，其含有率較佳為1莫耳%～50莫耳%，更佳為2莫耳%～40莫耳%，進而佳為3莫耳%～30莫耳%。
＜結構單元（II）＞
樹脂（A）等可更含有藉由曝光而分解並產生酸的結構單元（以下，有時稱為「結構單元（II）」）。作為結構單元（II），具體而言可列舉日本專利特開2016-79235號公報中記載的結構單元，較佳為側鏈具有磺酸酯基或羧酸酯基與有機陽離子的結構單元或者側鏈具有鋶基與有機陰離子的結構單元。
側鏈具有磺酸酯基或羧酸酯基與有機陽離子的結構單元較佳為式（II-2-A'）所表示的結構單元。
[式（II-2-A'）中，
X
III3表示碳數1～18的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-或-CO-，該飽和烴基中包含的氫原子可被鹵素原子、可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基或羥基取代。
A
x1表示碳數1～8的烷二基，該烷二基中包含的氫原子可被氟原子或碳數1～6的全氟烷基取代。
RA
-表示磺酸酯基或羧酸酯基。
R
III3表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
ZA
+表示有機陽離子]
作為R
III3所表示的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
作為R
III3所表示的可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基，可列舉與R
a8所表示的可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基相同者。
作為A
x1所表示的碳數1～8的烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等。
作為於A
x1中可被取代的碳數1～6的全氟烷基，可列舉：三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基、全氟己基等。
作為X
III3所表示的碳數1～18的二價飽和烴基，可列舉直鏈或分支狀烷二基、單環式或多環式的二價脂環飽和烴基，亦可為該些的組合。
具體而言，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丙烷-1,2-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基等直鏈狀烷二基；丁烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基；環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等環烷二基；降冰片烷-1,4-二基、降冰片烷-2,5-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等二價的多環式脂環式飽和烴基等。
作為飽和烴基中包含的-CH
2-被-O-、-S-或-CO-取代者，例如可列舉式（X1）～式（X53）所表示的二價基。其中，飽和烴基中包含的-CH
2-被-O-、-S-或-CO-取代之前的碳數分別為17以下。下述式中，*及**表示鍵結部位，*表示與A
x1的鍵結部位。
X
3表示二價的碳數1～16的飽和烴基。
X
4表示二價的碳數1～15的飽和烴基。
X
5表示二價的碳數1～13的飽和烴基。
X
6表示二價的碳數1～14的飽和烴基。
X
7表示三價的碳數1～14的飽和烴基。
X
8表示二價的碳數1～13的飽和烴基。
式（II-2-A'）中的ZA
+可列舉與式（B1）所表示的鹽中的陽離子Z
+相同者。
式（II-2-A'）所表示的結構單元較佳為式（II-2-A）所表示的結構單元。
[式（II-2-A）中，
R
III3、X
III3及ZA
+表示與所述相同的含義。
z2A表示0～6的任一整數。
R
III2及R
III4分別獨立地表示氫原子、氟原子或碳數1～6的全氟烷基，於z2A為2以上時，多個R
III2及R
III4相互可相同，亦可不同。
Q
a及Q
b分別獨立地表示氟原子或碳數1～6的全氟烷基]
作為R
III2、R
III4、Q
a及Q
b所表示的碳數1～6的全氟烷基，可列舉與所述的Q
b1所表示的碳數1～6的全氟烷基相同者。
式（II-2-A）所表示的結構單元較佳為式（II-2-A-1）所表示的結構單元。
[式（II-2-A-1）中，
R
III2、R
III3、R
III4、Q
a、Q
b及ZA
+表示與所述相同的含義。
R
III5表示碳數1～12的飽和烴基。
z2A1表示0～6的任一整數。
X
I2表示碳數1～11的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-或-CO-，該飽和烴基中包含的氫原子可被鹵素原子或羥基取代]
作為R
III5所表示的碳數1～12的飽和烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基及十二烷基等直鏈或分支的烷基。
作為X
I2所表示的二價飽和烴基，可列舉與X
III3所表示的二價飽和烴基相同者。
作為式（II-2-A-1）所表示的結構單元，進而佳為式（II-2-A-2）所表示的結構單元。
[式（II-2-A-2）中，
R
III3、R
III5及ZA
+表示與所述相同的含義。
m及nA相互獨立地表示1或2]
作為式（II-2-A'）所表示的結構單元，例如可列舉以下的結構單元、將相當於R
III3的甲基的基取代為氫原子、鹵素原子（例如，氟原子）或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基（例如，三氟甲基等）的結構單元及國際公開第2012/050015號記載的結構單元。ZA
+表示有機陽離子。
側鏈具有鋶基與有機陰離子的結構單元較佳為式（II-1-1）所表示的結構單元。
[式（II-1-1）中，
A
II1表示單鍵或二價連結基。
R
II1表示碳數6～18的二價芳香族烴基。
R
II2及R
II3分別獨立地表示碳數1～18的烴基，R
II2及R
II3可相互鍵結並與該些所鍵結的硫原子一同形成環。
R
II4表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基。
A
-表示有機陰離子]
作為R
II1所表示的碳數6～18的二價芳香族烴基，可列舉伸苯基及伸萘基等。
作為R
II2及R
II3所表示的烴基，可列舉：烷基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該些組合而形成的基等。
烷基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該些組合而形成的基等可列舉與所述相同的基。
作為R
II4所表示的鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
作為R
II4所表示的可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基，可列舉與R
a8所表示的可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基相同者。
作為A
II1所表示的二價連結基，例如可列舉碳數1～18的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的-CH
2-可被-O-、-S-或-CO-取代。具體而言，可列舉與X
III3所表示的碳數1～18的二價飽和烴基相同者。
作為式（II-1-1）中的包含陽離子的結構單元，可列舉以下所表示的結構單元及將相當於R
II4的甲基的基取代為氫原子、氟原子、三氟甲基等的結構單元等。
作為A
-所表示的有機陰離子，可列舉：磺酸根陰離子、磺醯基醯亞胺陰離子、磺醯基甲基化物陰離子及羧酸根陰離子等。A
-所表示的有機陰離子較佳為磺酸根陰離子，作為磺酸根陰離子，更佳為後述的式（B1）所表示的鹽中包含的陰離子。
作為磺醯基醯亞胺陰離子，可列舉以下者。
作為磺醯基甲基化物陰離子，可列舉以下者。
作為羧酸根陰離子，可列舉以下者。
作為式（II-1-1）所表示的結構單元，可列舉以下所表示的結構單元等。
樹脂（A）等中，相對於樹脂（A）等的所有結構單元，含有結構單元（II）時的結構單元（II）的含有率較佳為1莫耳%～20莫耳%，更佳為2莫耳%～15莫耳%，進而佳為3莫耳%～10莫耳%。
樹脂（A）等較佳為包含結構單元（a1）的樹脂。特別是，樹脂（Ap）更佳為包含結構單元（IP）、結構單元（a1）以及結構單元（s）的樹脂，即鹽（I）、單體（a1）以及單體（s）的共聚物。不包含結構單元（IP）的樹脂（A）較佳為包含結構單元（a1）與結構單元（s）的樹脂，即單體（a1）與單體（s）的共聚物。
結構單元（a1）較佳為選自由結構單元（a1-0）、結構單元（a1-1）及結構單元（a1-2）（較佳為具有環己基、或環戊基的該結構單元）所組成的群組中的至少一種，更佳為至少兩種，進而佳為選自由結構單元（a1-1）及結構單元（a1-2）所組成的群組中的至少兩種。
結構單元（s）較佳為選自由結構單元（a2）及結構單元（a3）所組成的群組中的至少一種。結構單元（a2）較佳為結構單元（a2-1）或結構單元（a2-A）。結構單元（a3）較佳為選自由式（a3-1）所表示的結構單元、式（a3-2）所表示的結構單元及式（a3-4）所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種。
構成樹脂（A）等的各結構單元可僅使用一種或將兩種以上組合而使用，可使用導出該些結構單元的單體，藉由公知的聚合法（例如自由基聚合法）進行製造。樹脂（A）等具有的各結構單元的含有率可藉由聚合中使用的單體的使用量來調整。
樹脂（Ap）及樹脂（A）的重量平均分子量較佳為2,000以上（更佳為2,500以上，進而佳為3,000以上）且50,000以下（更佳為30,000以下，進而佳為15,000以下）。於本說明書中，重量平均分子量為利用凝膠滲透層析法並利用實施例中記載的條件求出的值。再者，結構單元（IP）亦可構成二聚體、三聚體、重量平均分子量未滿2,000的化合物。
〔羧酸產生劑〕
本發明的羧酸產生劑是含有羧酸鹽（I）或結構單元（IP）的羧酸產生劑。結構單元（IP）可作為多個聚合而成的化合物或樹脂來含有。本發明的羧酸鹽（I）或結構單元（IP）可於抗蝕劑組成物中作為羧酸產生劑發揮作用。於將羧酸鹽（I）用作抗蝕劑組成物中的羧酸產生劑的情況下，羧酸產生劑可含有僅一種或兩種以上的羧酸鹽（I）。另外，於將結構單元（IP）用作抗蝕劑組成物中的羧酸產生劑的情況下，可將包含結構單元（IP）的化合物或樹脂單獨使用，亦可組合兩種以上。本發明的羧酸產生劑可含有羧酸鹽（I）及結構單元（IP）此兩者。
本發明的羧酸產生劑如後述般，亦可更含有羧酸鹽（I）以外的抗蝕劑領域中公知的酸產生劑（以下有時稱為「酸產生劑（B）」）及/或羧酸鹽（I）以外的抗蝕劑領域中公知的羧酸產生劑。酸產生劑（B）可單獨使用，亦可將兩種以上組合而使用。
於本發明的羧酸產生劑含有酸產生劑（B）等的情況下，羧酸鹽（I）與酸產生劑（B）等的含量之比（質量比；羧酸鹽（I）：酸產生劑（B）等）通常為1：99～100：0，較佳為1：99～99：1，更佳為2：98～98：2，進而佳為5：95～95：5，進一步更佳為10：90～90：10，進一步進而佳為15：85～85：15，特佳為40：60～60：40。
以抗蝕劑組成物的固體成分量為基準，本發明的羧酸鹽（I）的含有率較佳為0.001質量%～15質量%左右，更佳為0.001質量%～10質量%左右，進而佳為0.001質量%～8質量%左右，進而更佳為0.005質量%～7質量%左右。
相對於抗蝕劑組成物的固體成分，本發明的樹脂（Ap）的含有率較佳為80質量%以上且99質量%以下，更佳為90質量%以上且99質量%以下。
〔抗蝕劑組成物〕
本發明的抗蝕劑組成物含有本發明的羧酸產生劑。此處的羧酸產生劑亦可為包含結構單元（IP）的樹脂（Ap）。本發明的抗蝕劑組成物可包含不包含本發明的羧酸產生劑的酸產生劑（B），亦可包含不包含結構單元（IP）的樹脂。此處不包含結構單元（IP）的樹脂可為包含具有酸不穩定基的結構單元（a1）的樹脂，亦可為不包含結構單元（a1）的樹脂。其中，本發明的抗蝕劑組成物為包含羧酸鹽（I）及結構單元（IP）的至少一者的組成物，亦可為包含兩者的組成物。即，本發明的抗蝕劑組成物只要包含含有本發明的結構單元（IP）或本發明的羧酸鹽（I）的羧酸產生劑即可。結構單元（IP）可為化合物或樹脂等的任一形態。換言之，本發明的抗蝕劑組成物可含有樹脂（Ap）及/或樹脂（A）與羧酸鹽（I）作為羧酸產生劑。本發明的抗蝕劑組成物較佳為包含含有具有酸不穩定基的結構單元（a1）的樹脂。即，較佳為至少：
（a）包含羧酸鹽（I）、與含有具有酸不穩定基的結構單元（a1）的樹脂（A），
（b）包含含有結構單元（IP）及具有酸不穩定基的結構單元（a1）的樹脂（Ap），
（c）包含含有結構單元（IP）的樹脂（Ap）與含有具有酸不穩定基的結構單元（a1）的樹脂（A）。
其中，較佳為包含含有結構單元（IP）及具有酸不穩定基的結構單元（a1）的樹脂（Ap）的抗蝕劑組成物。亦可包含兩種以上的樹脂（A）及/或樹脂（Ap）。
本發明的抗蝕劑組成物較佳為更含有於抗蝕劑領域中公知的酸產生劑（以下有時稱為「酸產生劑（B）」）、淬滅劑（以下有時稱為「淬滅劑（C）」）及/或溶劑（以下有時稱為「溶劑（E）」）。另外，本發明的抗蝕劑組成物亦可更包含所述的樹脂（A）等以外的樹脂。
＜樹脂（A）等以外的樹脂＞
本發明的抗蝕劑組成物亦可併用樹脂（Ap）及樹脂（A）以外的樹脂。
作為樹脂（Ap）及樹脂（A）以外的樹脂，可列舉：於所述樹脂（A）中除了不包含結構單元（a1）以外具有與樹脂（A）相同的結構單元的樹脂（AX）、包含結構單元（a4）及/或結構單元（a5）的樹脂（其中，不包含結構單元（IP）及結構單元（a1）。以下有時稱為「樹脂（X）」）等。
作為樹脂（AX），可列舉包含結構單元（a2）的樹脂，較佳為包含結構單元（a2-A）的樹脂。
樹脂（AX）中，相對於樹脂（AX）的所有結構單元的合計，結構單元（a2-A）的含有率較佳為5莫耳%以上，更佳為10莫耳%以上，進而佳為15莫耳%以上。另外，較佳為80莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下。
作為樹脂（X）可更具有的結構單元，可列舉結構單元（a2）、結構單元（a3）及源自其他公知的單體的結構單元。其中，樹脂（X）較佳為僅包含結構單元（a4）及/或結構單元（a5）的樹脂，更佳為僅包含結構單元（a4）的樹脂。
於樹脂（X）包含結構單元（a4）的情況下，相對於樹脂（X）的所有結構單元的合計，樹脂（X）中結構單元（a4）的含有率可列舉20莫耳%以上，較佳為30莫耳%以上，更佳為40莫耳%以上，進而佳為45莫耳%以上。另外，可列舉100莫耳%以下，較佳為80莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而佳為60莫耳%以下，進一步更佳為55莫耳%以下。具體而言，可列舉20莫耳%～100莫耳%，較佳為20莫耳%～80莫耳%，更佳為30莫耳%～70莫耳%，進而佳為40莫耳%～60莫耳%，進一步更佳為45莫耳%～55莫耳%。於樹脂（X）包含結構單元（a5）的情況下，相對於樹脂（X）的所有結構單元的合計，結構單元（a5）的含有率可列舉20莫耳%以上，較佳為30莫耳%以上，更佳為40莫耳%以上，進而佳為45莫耳%以上。另外，可列舉100莫耳%以下，較佳為80莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而佳為60莫耳%以下，進一步更佳為55莫耳%以下。具體而言，可列舉20莫耳%～100莫耳%，較佳為20莫耳%～80莫耳%，更佳為30莫耳%～70莫耳%，進而佳為40莫耳%～60莫耳%，進一步更佳為45莫耳%～55莫耳%。另外，於樹脂（X）包含結構單元（a4）及結構單元（a5）的情況下，相對於樹脂（X）的所有結構單元的合計，結構單元（a4）及結構單元（a5）的合計含有率可列舉40莫耳%以上，較佳為60莫耳%以上，更佳為70莫耳%以上，進而佳為80莫耳%以上。進而，可列舉100莫耳%以下。具體而言，可列舉40莫耳%～100莫耳%，較佳為60莫耳%～100莫耳%，更佳為70莫耳%～100莫耳%，進而佳為80莫耳%～100莫耳%。
構成樹脂（AX）及樹脂（X）的各結構單元可僅使用一種或將兩種以上組合而使用，可使用衍生出該些結構單元的單體，藉由公知的聚合法（例如自由基聚合法）進行製造。樹脂（AX）及樹脂（X）具有的各結構單元的含有率可藉由聚合中使用的單體的使用量來調整。
樹脂（AX）及樹脂（X）的重量平均分子量較佳為6,000以上（更佳為7,000以上）且80,000以下（更佳為60,000以下），但亦可包含重量平均分子量未滿6,000的寡聚物等。樹脂（AX）及樹脂（X）的重量平均分子量的測定手段與樹脂（A）等的情況相同。
於本發明的抗蝕劑組成物包含樹脂（X）的情況下，相對於樹脂（A）等的合計100質量份，其含量較佳為1質量份～60質量份，更佳為1質量份～50質量份，進而佳為1質量份～40質量份，進一步更佳為1質量份～30質量份，進一步進而佳為1質量份～8質量份。
相對於抗蝕劑組成物的固體成分，抗蝕劑組成物中的樹脂（A）等的含有率較佳為80質量%以上且99質量%以下，更佳為90質量%以上且99質量%以下。相對於抗蝕劑組成物的固體成分，樹脂（Ap）的含有率較佳為80質量%以上且99質量%以下，更佳為90質量%以上且99質量%以下。另外，於包含樹脂（A）等以外的樹脂的情況下，相對於抗蝕劑組成物的固體成分，樹脂（A）等與樹脂（A）等以外的樹脂的合計含有率較佳為80質量%以上且99質量%以下，更佳為90質量%以上且99質量%以下。本說明書中，所謂「抗蝕劑組成物的固體成分」是指自抗蝕劑組成物的總量中去除後述的溶劑（E）後的成分的合計。抗蝕劑組成物的固體成分及樹脂相對於其的含有率可藉由液相層析法或氣相層析法等公知的分析手段進行測定。
＜酸產生劑（B）＞
酸產生劑（B）可使用非離子系或離子系的任一種。作為非離子系酸產生劑，可列舉：磺酸酯酯類（例如2-硝基苄基酯、芳香族磺酸酯、肟磺酸酯、N-磺醯氧基醯亞胺、磺醯氧基酮、重氮萘醌4-磺酸酯）、碸類（例如二碸、酮碸、磺醯基重氮甲烷）等。作為離子系酸產生劑，代表性者為包含鎓陽離子的鎓鹽（例如重氮鎓鹽、鏻鹽、鋶鹽、錪鹽）。作為鎓鹽的陰離子，可列舉：磺酸根陰離子、磺醯基醯亞胺陰離子、磺醯基甲基化物陰離子等。
作為酸產生劑（B），可使用日本專利特開昭63-26653號、日本專利特開昭55-164824號、日本專利特開昭62-69263號、日本專利特開昭63-146038號、日本專利特開昭63-163452號、日本專利特開昭62-153853號、日本專利特開昭63-146029號、美國專利第3,779,778號、美國專利第3,849,137號、德國專利第3914407號、歐洲專利第126,712號等中記載的藉由放射線而產生酸的化合物。另外，亦可使用藉由公知的方法而製造的化合物。酸產生劑（B）可將兩種以上組合而使用。
酸產生劑（B）較佳為式（B1）所表示的鹽（以下有時稱為「酸產生劑（B1）」）。
[式（B1）中，
Q
b1及Q
b2分別獨立地表示氫原子、氟原子、碳數1～6的全氟烷基或碳數1～6的烷基。
L
b1表示碳數1～24的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該二價飽和烴基中包含的氫原子可被氟原子或羥基取代。
Y表示可具有取代基的甲基或可具有取代基的碳數3～24的脂環式烴基，該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-。
Z
+表示有機陽離子]
作為Q
b1及Q
b2表示的全氟烷基，可列舉：三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基及全氟己基等。
作為Q
b1及Q
b2表示的烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基等。
酸產生劑（B）較佳為含氟酸產生劑，較佳為Q
b1及Q
b2的至少一者包含氟原子或全氟烷基，更佳為分別獨立地為氟原子或全氟烷基，進而佳為氟原子或三氟甲基，進而更佳為均為氟原子。
作為L
b1中的二價飽和烴基，可列舉：直鏈狀烷二基、分支狀烷二基、單環式或多環式的二價脂環式飽和烴基，亦可為藉由將該些基中的兩種以上組合而形成的基。
具體而言，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基、十二烷-1,12-二基、十三烷-1,13-二基、十四烷-1,14-二基、十五烷-1,15-二基、十六烷-1,16-二基及十七烷-1,17-二基等直鏈狀烷二基；
乙烷-1,1-二基、丙烷-1,1-二基、丙烷-1,2-二基、丙烷-2,2-二基、戊烷-2,4-二基、2-甲基丙烷-1,3-二基、2-甲基丙烷-1,2-二基、戊烷-1,4-二基、2-甲基丁烷-1,4-二基等分支狀烷二基；
環丁烷-1,3-二基、環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等環烷二基即單環式的二價脂環式飽和烴基；
降冰片烷-1,4-二基、降冰片烷-2,5-二基、金剛烷-1,5-二基、金剛烷-2,6-二基等多環式的二價脂環式飽和烴基等。
作為L
b1所表示的二價飽和烴基中包含的-CH
2-被-O-或-CO-取代的基，例如可列舉式（b1-1）～式（b1-3）的任一者所表示的基。再者，式（b1-1）～式（b1-3）所表示的基及作為該些的具體例的式（b1-4）～式（b1-11）所表示的基中，*及**表示鍵結部位，*表示與-Y的鍵結部位。
[式（b1-1）中，
L
b2表示單鍵或碳數1～22的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子。
L
b3表示單鍵或碳數1～22的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
其中，L
b2與L
b3的碳數合計為22以下。
式（b1-2）中，
L
b4表示單鍵或碳數1～22的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子。
L
b5表示單鍵或碳數1～22的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
其中，L
b4與L
b5的碳數合計為22以下。
式（b1-3）中，
L
b6表示單鍵或碳數1～23的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基。
L
b7表示單鍵或碳數1～23的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基，該飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
其中，L
b6與L
b7的碳數合計為23以下]
關於式（b1-1）～式（b1-3）所表示的基，於飽和烴基中包含的-CH
2-被取代為-O-或-CO-的情況下，將取代之前的碳數設為該飽和烴基的碳數。
作為二價飽和烴基，可列舉與L
b1的二價飽和烴基相同者。
L
b2較佳為單鍵、亞甲基、-CH(CF
3)-、-C(CF
3)
2-。
L
b3較佳為碳數1～4的二價飽和烴基。
L
b4較佳為碳數1～8的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子，更佳為亞甲基、-CH(CF
3)-、-C(CF
3)
2-。
L
b5較佳為單鍵或碳數1～8的二價飽和烴基。
L
b6較佳為單鍵或碳數1～4的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子。
L
b7較佳為單鍵或碳數1～18的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基，該二價飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
作為L
b1所表示的二價飽和烴基中包含的-CH
2-被-O-或-CO-取代的基，較佳為式（b1-1）或式（b1-3）所表示的基。
作為式（b1-1）所表示的基，可列舉式（b1-4）～式（b1-8）分別所表示的基。
[式（b1-4）中，
L
b8表示單鍵或碳數1～22的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基。
式（b1-5）中，
L
b9表示碳數1～20的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
L
b10表示單鍵或碳數1～19的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基。
其中，L
b9及L
b10的合計碳數為20以下。
式（b1-6）中，
L
b11表示碳數1～21的二價飽和烴基。
L
b12表示單鍵或碳數1～20的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基。
其中，L
b11及L
b12的合計碳數為21以下。
式（b1-7）中，
L
b13表示碳數1～19的二價飽和烴基。
L
b14表示單鍵或碳數1～18的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
L
b15表示單鍵或碳數1～18的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基。
其中，L
b13～L
b15的合計碳數為19以下。
式（b1-8）中，
L
b16表示碳數1～18的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-。
L
b17表示碳數1～18的二價飽和烴基。
L
b18表示單鍵或碳數1～17的二價飽和烴基，該二價飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子或羥基。
其中，L
b16～L
b18的合計碳數為19以下]
L
b8較佳為碳數1～4的二價飽和烴基。
L
b9較佳為碳數1～8的二價飽和烴基。
L
b10較佳為單鍵或碳數1～19的二價飽和烴基，更佳為單鍵或碳數1～8的二價飽和烴基。
L
b11較佳為碳數1～8的二價飽和烴基。
L
b12較佳為單鍵或碳數1～8的二價飽和烴基。
L
b13較佳為碳數1～12的二價飽和烴基。
L
b14較佳為單鍵或碳數1～6的二價飽和烴基。
L
b15較佳為單鍵或碳數1～18的二價飽和烴基，更佳為單鍵或碳數1～8的二價飽和烴基。
L
b16較佳為碳數1～12的二價飽和烴基。
L
b17較佳為碳數1～6的二價飽和烴基。
L
b18較佳為單鍵或碳數1～17的二價飽和烴基，更佳為單鍵或碳數1～4的二價飽和烴基。
作為式（b1-3）所表示的基，可列舉式（b1-9）～式（b1-11）分別所表示的基。
[式（b1-9）中，
L
b19表示單鍵或碳數1～23的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子。
L
b20表示單鍵或碳數1～23的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子、羥基或烷基羰氧基。該烷基羰氧基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該烷基羰氧基中包含的氫原子可被取代為羥基。
其中，L
b19及L
b20的合計碳數為23以下。
式（b1-10）中，
L
b21表示單鍵或碳數1～21的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子。
L
b22表示單鍵或碳數1～21的二價飽和烴基。
L
b23表示單鍵或碳數1～21的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子、羥基或烷基羰氧基。該烷基羰氧基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該烷基羰氧基中包含的氫原子可被取代為羥基。
其中，L
b21、L
b22及L
b23的合計碳數為21以下。
式（b1-11）中，
L
b24表示單鍵或碳數1～20的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子。
L
b25表示碳數1～21的二價飽和烴基。
L
b26表示單鍵或碳數1～20的二價飽和烴基，該飽和烴基中包含的氫原子可被取代為氟原子、羥基或烷基羰氧基。該烷基羰氧基中包含的-CH
2-可被取代為-O-或-CO-，該烷基羰氧基中包含的氫原子可被取代為羥基。
其中，L
b24、L
b25及L
b26的合計碳數為21以下]
再者，關於式（b1-9）所表示的基至式（b1-11）所表示的基，於飽和烴基中包含的氫原子被取代為烷基羰氧基的情況下，將取代之前的碳數設為該飽和烴基的碳數。
作為烷基羰氧基，可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基、環己基羰氧基、金剛烷基羰氧基等。
作為式（b1-4）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-5）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-6）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-7）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-8）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-2）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-9）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-10）所表示的基，可列舉以下者。
作為式（b1-11）所表示的基，可列舉以下者。
作為Y所表示的脂環式烴基中包含的-CH
2-未被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-的脂環式烴基，可列舉式（Y1）～式（Y11）、式（Y36）～式（Y38）所表示的基。
於Y所表示的脂環式烴基中包含的-CH
2-被-O-、-S-、-SO
2-或-CO-取代的情況下，其個數可為一個，亦可為兩個以上。作為此種基，可列舉式（Y12）～式（Y35）、式（Y39）～式（Y43）所表示的基。式（Y12）～式（Y35）、式（Y39）～式（Y43）所表示的基的-O-或-CO-可被取代為-S-或-SO
2-。*表示與L
b1的鍵結部位。
作為Y所表示的脂環式烴基，較佳為式（Y1）～式（Y20）、式（Y26）、式（Y27）、式（Y30）、式（Y31）、式（Y39）～式（Y43）的任一者所表示的基，更佳為式（Y11）、式（Y15）、式（Y16）、式（Y20）、式（Y26）、式（Y27）、式（Y30）、式（Y31）、式（Y39）、式（Y40）、式（Y42）或式（Y43）所表示的基，進而佳為式（Y11）、式（Y15）、式（Y20）、式（Y26）、式（Y27）、式（Y30）、式（Y31）、式（Y39）、式（Y40）、式（Y42）或式（Y43）所表示的基。
於Y所表示的脂環式烴基為式（Y28）～式（Y35）、式（Y39）、式（Y40）、式（Y42）、式（Y43）等具有氧原子的螺環的情況下，兩個氧原子間的烷二基較佳為具有一個以上的氟原子。另外，縮酮結構中包含的烷二基中與氧原子鄰接的亞甲基中，較佳為未取代有氟原子。
作為Y所表示的甲基的取代基，可列舉：鹵素原子、羥基、碳數3～16的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基、縮水甘油氧基、-(CH
2)
ja-CO-O-R
b1基或-(CH
2)
ja-O-CO-R
b1基（式中，R
b1表示碳數1～16的烷基、碳數3～16的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基，該烷基及該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-SO
2-或-CO-，該烷基、該脂環式烴基及該芳香族烴基中包含的氫原子可被取代為羥基或氟原子。ja表示0～4的任一整數）等。
作為Y所表示的脂環式烴基的取代基，可列舉：鹵素原子、羥基、可被羥基取代的碳數1～16的烷基（該烷基中包含的-CH
2-可被-O-或-CO-取代）、碳數3～16的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基、碳數7～21的芳烷基、縮水甘油氧基、-(CH
2)
ja-CO-O-R
b1基或-(CH
2)
ja-O-CO-R
b1基（式中，R
b1表示碳數1～16的烷基、碳數3～16的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基，該烷基及該脂環式烴基中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-SO
2-或-CO-，該烷基、該脂環式烴基及該芳香族烴基中包含的氫原子可被取代為羥基或氟原子。ja表示0～4的任一整數）等。
作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
作為脂環式烴基，例如可列舉：環戊基、環己基、甲基環己基、二甲基環己基、環庚基、環辛基、降冰片基、金剛烷基等。脂環式烴基可具有鏈式烴基，可列舉甲基環己基、二甲基環己基等。脂環式烴基的碳數較佳為3～12，更佳為3～10。
作為芳香族烴基，例如可列舉：苯基、萘基、蒽基、聯苯基、菲基等芳基等。芳香族烴基可具有鏈式烴基或脂環式烴基，較佳為具有碳數1～18的鏈式烴基的芳香族烴基（甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、對甲基苯基、對乙基苯基、對第三丁基苯基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等）、及具有碳數3～18的脂環式烴基的芳香族烴基（對金剛烷基苯基、對環己基苯基等）。芳香族烴基的碳數較佳為6～14，更佳為6～10。
作為烷基，例如可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基等。烷基的碳數較佳為1～12，更佳為1～6，進而佳為1～4。
作為被羥基取代的烷基，可列舉羥基甲基、羥基乙基等羥基烷基。
作為芳烷基，可列舉：苄基、苯乙基、苯基丙基、萘基甲基及萘基乙基等。
作為烷基中包含的-CH
2-被-O-、-SO
2-或-CO-等取代的基，可列舉：烷氧基、烷基磺醯基、烷氧基羰基、烷基羰基、烷基羰氧基或將該些組合而成的基等。
作為烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊基氧基、己基氧基、庚基氧基、辛基氧基、癸基氧基及十二烷基氧基等。烷氧基的碳數較佳為1～12，更佳為1～6，進而佳為1～4。
作為烷基磺醯基，可列舉：甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基等。烷基磺醯基的碳數較佳為1～12，更佳為1～6，進而佳為1～4。
作為烷氧基羰基，例如可列舉：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丁氧基羰基等。烷氧基羰基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4。
作為烷基羰基，例如可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。烷基羰基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4。
作為烷基羰氧基，例如可列舉：乙醯基氧基、丙醯基氧基、丁醯基氧基等。烷基羰氧基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4。
作為組合而成的基，例如可列舉：將烷氧基與烷基組合而成的基、將烷氧基與烷氧基組合而成的基、將烷氧基與烷基羰基組合而成的基、將烷氧基與烷基羰氧基組合而成的基等。
作為將烷氧基與烷基組合而成的基，例如可列舉：甲氧基甲基、甲氧基乙基、乙氧基乙基、乙氧基甲基等烷氧基烷基等。烷氧基烷基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4。
作為將烷氧基與烷氧基組合而成的基，可列舉：甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基、乙氧基甲氧基、乙氧基乙氧基等烷氧基烷氧基等。烷氧基烷氧基的碳數較佳為2～12，更佳為2～6，進而佳為2～4。
作為將烷氧基與烷基羰基組合而成的基，可列舉：甲氧基乙醯基、甲氧基丙醯基、乙氧基乙醯基、乙氧基丙醯基等烷氧基烷基羰基等。烷氧基烷基羰基的碳數較佳為3～13，更佳為3～7，進而佳為3～5。
作為將烷氧基與烷基羰氧基組合而成的基，可列舉：甲氧基乙醯基氧基、甲氧基丙醯基氧基、乙氧基乙醯基氧基、乙氧基丙醯基氧基等烷氧基烷基羰氧基等。烷氧基烷基羰氧基的碳數較佳為3～13，更佳為3～7，進而佳為3～5。
作為脂環式烴基中包含的-CH
2-被-O-、-SO
2-或-CO-等取代的基，可列舉式（Y12）～式（Y35）、式（Y39）～式（Y43）所表示的基等。
Y較佳為可具有取代基的碳數3～24的脂環式烴基，更佳為可具有取代基的碳數3～20的脂環式烴基，進而佳為可具有取代基的碳數3～18的脂環式烴基，進一步更佳為可具有取代基的金剛烷基或可具有取代基的降冰片基，構成該脂環式烴基、金剛烷基或降冰片基的-CH
2-亦可被取代為-O-、-S-、-SO
2-或-CO-。具體而言可列舉以下者。
其中，Y較佳為金剛烷基、羥基金剛烷基、氧代金剛烷基、降冰片烷內酯基或式（Y42）、式（Y100）～式（Y114）、式（Y134）～式（Y139）所表示的基，特佳為羥基金剛烷基、氧代金剛烷基、包含該些的基或式（Y42）、式（Y100）～式（Y114）、式（Y134）～式（Y139）所表示的基。
作為式（B1）所表示的鹽中的陰離子，較佳為式（B1-A-1）～式（B1-A-65）所表示的陰離子〔以下，有時對應於式編號而稱為「陰離子（B1-A-1）」等〕，更佳為式（B1-A-1）～式（B1-A-4）、式（B1-A-9）、式（B1-A-10）、式（B1-A-24）～式（B1-A-33）、式（B1-A-36）～式（B1-A-40）、式（B1-A-47）～式（B1-A-65）的任一者所表示的陰離子。
此處R
i2～R
i7相互獨立地例如為碳數1～4的烷基，較佳為甲基或乙基。R
i8例如為碳數1～12的鏈式烴基，較佳為碳數1～4的烷基、碳數5～12的脂環式烴基或藉由將該些組合而形成的基，更佳為甲基、乙基、環己基或金剛烷基。L
A41為單鍵或碳數1～4的烷二基。Q
b1及Q
b2表示與所述相同的含義。
作為式（B1）所表示的鹽中的陰離子，具體而言可列舉日本專利特開2010-204646號公報中所記載的陰離子。
作為式（B1）所表示的鹽中的陰離子，較佳為可列舉式（B1a-1）～式（B1a-43）分別所表示的陰離子。
其中，較佳為式（B1a-1）～式（B1a-4）、式（B1a-7）～式（B1a-11）、式（B1a-14）～式（B1a-30）及式（B1a-35）～式（B1a-43）的任一者所表示的陰離子。
作為磺醯基醯亞胺陰離子、磺醯基甲基化物陰離子，可列舉所述者。
作為Z
+的有機陽離子，可列舉：有機鎓陽離子、有機鋶陽離子、有機錪陽離子、有機銨陽離子、苯並噻唑鎓陽離子及有機鏻陽離子等。該些中，較佳為有機鋶陽離子及有機錪陽離子，更佳為芳基鋶陽離子。具體而言，可列舉式（b2-1）～式（b2-4）的任一者所表示的陽離子（以下，有時對應於式編號而稱為「陽離子（b2-1）」等）。
式（b2-1）～式（b2-4）中，
R
b4～R
b6分別獨立地表示碳數1～30的鏈式烴基、碳數3～36的脂環式烴基或碳數6～36的芳香族烴基，該鏈式烴基中包含的氫原子可被羥基、碳數1～12的烷氧基、碳數3～12的脂環式烴基或碳數6～18的芳香族烴基取代，該脂環式烴基中包含的氫原子可被鹵素原子、碳數1～18的脂肪族烴基、碳數2～4的烷基羰基或縮水甘油氧基取代，該芳香族烴基中包含的氫原子可被鹵素原子、羥基、碳數1～18的脂肪族烴基、碳數1～12的氟化烷基或碳數1～12的烷氧基取代。
R
b4與R
b5可相互鍵結並與該些所鍵結的硫原子一起形成環，該環中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-或-CO-。
R
b7及R
b8分別獨立地表示鹵素原子、羥基、碳數1～12的脂肪族烴基、碳數1～12的氟化烷基或碳數1～12的烷氧基。
m2及n2分別獨立地表示0～5的任一整數。
於m2為2以上時，多個R
b7可相同亦可不同，於n2為2以上時，多個R
b8可相同亦可不同。
R
b9及R
b10分別獨立地表示碳數1～36的鏈式烴基或碳數3～36的脂環式烴基。
R
b9與R
b10可相互鍵結並與該些所鍵結的硫原子一起形成環，該環中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-或-CO-。
R
b11表示氫原子、碳數1～36的鏈式烴基、碳數3～36的脂環式烴基或碳數6～18的芳香族烴基。
R
b12表示碳數1～12的鏈式烴基、碳數3～18的脂環式烴基或碳數6～18的芳香族烴基，該鏈式烴基中包含的氫原子可被碳數6～18的芳香族烴基取代，該芳香族烴基中包含的氫原子可被碳數1～12的烷氧基或碳數1～12的烷基羰氧基取代。
R
b11與R
b12可相互鍵結並包含該些所鍵結的-CH-CO-而形成環，該環中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-或-CO-。
R
b13～R
b18分別獨立地表示鹵素原子、羥基、碳數1～12的脂肪族烴基、碳數1～12的氟化烷基或碳數1～12的烷氧基。
R
b13與R
b14可相互鍵結並與該些所鍵結的苯環一起形成包含硫原子的環，該環中包含的-CH
2-可被取代為-O-、-S-或-CO-。
L
b31表示硫原子或氧原子。
o2、p2、s2、及t2分別獨立地表示0～5的任一整數。
q2及r2分別獨立地表示0～4的任一整數。
u2表示0或1。
於o2為2以上時，多個R
b13相同或不同，於p2為2以上時，多個R
b14相同或不同，於q2為2以上時，多個R
b15相同或不同，於r2為2以上時，多個R
b16相同或不同，於s2為2以上時，多個R
b17相同或不同，於t2為2以上時，多個R
b18相同或不同。
於u2為0時，較佳為o2、p2、q2及r2中的任一個為1以上，R
b13～R
b16中的至少一個為鹵素原子，於u2為1時，較佳為o2、p2、s2、t2、q2及r2中的任一個為1以上，R
b13～R
b18中的至少一個為鹵素原子。
進而，於u2為0時，r2較佳為1以上，進而佳為1。另外，於u2為0、且r2為1以上時，R
b16較佳為鹵素原子。
所謂脂肪族烴基，表示鏈式烴基及脂環式烴基。
作為鏈式烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基、辛基及2-乙基己基的烷基。
特別是R
b9～R
b12的鏈式烴基較佳為碳數1～12。
作為脂環式烴基，可為單環式或多環式的任一種，作為單環式的脂環式烴基，可列舉：環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環癸基等環烷基。作為多環式的脂環式烴基，可列舉：十氫萘基、金剛烷基、降冰片基及下述基等。
特別是R
b9～R
b12的脂環式烴基較佳為碳數3～18，更佳為碳數4～12。
作為氫原子被脂肪族烴基取代的脂環式烴基，可列舉：甲基環己基、二甲基環己基、2-甲基金剛烷-2-基、2-乙基金剛烷-2-基、2-異丙基金剛烷-2-基、甲基降冰片基、異冰片基等。關於氫原子被脂肪族烴基取代的脂環式烴基，脂環式烴基與脂肪族烴基的合計碳數較佳為20以下。
所謂氟化烷基，表示具有氟原子的碳數1～12的烷基，可列舉：氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、全氟丁基等。氟化烷基的碳數較佳為1～9，更佳為1～6，進而佳為1～4。
作為芳香族烴基，可列舉：苯基、聯苯基、萘基、菲基等芳基。芳香族烴基可具有鏈式烴基或脂環式烴基，可列舉具有碳數1～18的鏈式烴基的芳香族烴基（甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、對乙基苯基、對第三丁基苯基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等）及具有碳數3～18的脂環式烴基的芳香族烴基（對環己基苯基、對金剛烷基苯基等）等。再者，於芳香族烴基具有鏈式烴基或脂環式烴基的情況下，較佳為碳數1～18的鏈式烴基及碳數3～18的脂環式烴基。
作為氫原子被烷氧基取代的芳香族烴基，可列舉對甲氧基苯基等。
作為氫原子被芳香族烴基取代的鏈式烴基，可列舉：苄基、苯乙基、苯基丙基、三苯甲基（trityl）、萘基甲基、萘基乙基等芳烷基。
作為烷氧基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊基氧基、己基氧基、庚基氧基、辛基氧基、癸基氧基及十二烷基氧基等。
作為烷基羰基，可列舉：乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
作為烷基羰氧基，可列舉：甲基羰氧基、乙基羰氧基、丙基羰氧基、異丙基羰氧基、丁基羰氧基、第二丁基羰氧基、第三丁基羰氧基、戊基羰氧基、己基羰氧基、辛基羰氧基及2-乙基己基羰氧基等。
R
b4與R
b5相互鍵結並與該些所鍵結的硫原子一起形成的環可為單環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及不飽和的任一種環。該環可列舉碳數3～18的環，較佳為碳數4～18的環。另外，包含硫原子的環可列舉3員環～12員環，較佳為3員環～7員環，例如可列舉下述環。*表示鍵結部位。
R
b9與R
b10一起形成的環可為單環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及不飽和的任一種環。該環可列舉3員環～12員環，較佳為3員環～7員環。例如可列舉：硫雜環戊烷-1-環（四氫噻吩環）、硫雜環己烷-1-環、1,4-氧代硫雜環己烷-4-環等。
R
b11與R
b12一起形成的環可為單環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及不飽和的任一種環。該環可列舉3員環～12員環，較佳為3員環～7員環。可列舉：氧代環庚烷環、氧代環己烷環、氧代降冰片烷環、氧代金剛烷環等。
陽離子（b2-1）～陽離子（b2-4）中，較佳為陽離子（b2-1）。
作為陽離子（b2-1），可列舉以下的陽離子。
作為陽離子（b2-2），可列舉以下的陽離子。
作為陽離子（b2-3），可列舉以下的陽離子。
作為陽離子（b2-4），可列舉以下的陽離子。
酸產生劑（B）為所述陰離子及所述有機陽離子的組合，該些可任意地組合。作為酸產生劑（B），較佳為可列舉式（B1a-1）～式（B1a-4）、式（B1a-7）～式（B1a-11）、式（B1a-14）～式（B1a-30）及式（B1a-35）～式（B1a-43）的任一者所表示的陰離子與陽離子（b2-1）、陽離子（b2-2）、陽離子（b2-3）或陽離子（b2-4）的組合。
作為酸產生劑（B），較佳為可列舉式（B1-1）～式（B1-60）分別所表示者。其中較佳為包含芳基鋶陽離子者，尤佳為式（B1-1）～式（B1-3）、式（B1-5）～式（B1-7）、式（B1-11）～式（B1-14）、式（B1-20）～式（B1-26）、式（B1-29）、式（B1-31）～式（B1-60）所表示者。
於本發明的抗蝕劑組成物中，相對於抗蝕劑組成物的固體成分，酸產生劑的含有率較佳為0.1質量%以上且99.9質量%以下，更佳為1質量%以上且45質量%以下，進而佳為1質量%以上且40質量%以下，進一步更佳為3質量%以上且40質量%以下。於包含樹脂（A）等的情況下，相對於樹脂（A）等100質量份，酸產生劑的含有率較佳為1質量份以上且45質量份以下，更佳為1質量份以上且40質量份以下，進而佳為3質量份以上且35質量份以下。
＜溶劑（E）＞
於抗蝕劑組成物中，溶劑（E）的含有率通常為90質量%以上且99.9質量%以下，較佳為92質量%以上且99質量%以下，更佳為94質量%以上且99質量%以下。溶劑（E）的含有率例如可藉由液相層析法或氣相層析法等公知的分析手段進行測定。
作為溶劑（E），可列舉：乙基賽璐蘇乙酸酯、甲基賽璐蘇乙酸酯及丙二醇單甲醚乙酸酯等二醇醚酯類；丙二醇單甲醚等二醇醚類；乳酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯及丙酮酸乙酯等酯類；丙酮、甲基異丁基酮、2-庚酮及環己酮等酮類；γ-丁內酯等環狀酯類等。可單獨使用溶劑（E）的一種，亦可使用兩種以上。
＜淬滅劑（C）＞
作為淬滅劑（C），可列舉產生較自酸產生劑（酸產生劑（B1））所產生的酸而言酸性度更弱的酸的鹽、及鹼性的含氮有機化合物。以抗蝕劑組成物的固體成分量為基準，淬滅劑（C）的含量較佳為0.01質量%～15質量%左右，更佳為0.01質量%～10質量%左右，進而佳為0.1質量%～8質量%左右，進而更佳為0.1質量%～7質量%左右。
＜產生較自酸產生劑所產生的酸而言酸性度更弱的酸的鹽＞
產生較自酸產生劑所產生的酸而言酸性度更弱的酸的鹽中的酸性度以酸解離常數（pKa）來表示。產生較自酸產生劑所產生的酸而言酸性度更弱的酸的鹽為自該鹽所產生的酸的酸解離常數通常為-3＜pKa的鹽，較佳為-1＜pKa＜7的鹽，更佳為0＜pKa＜5的鹽。
作為產生較自酸產生劑所產生的酸而言酸性度更弱的酸的鹽，可列舉：下述式所表示的鹽、日本專利特開2015-147926號公報記載的式（D）所表示的鹽（以下，有時稱為「弱酸分子內鹽（D）」）、以及日本專利特開2012-229206號公報、日本專利特開2012-6908號公報、日本專利特開2012-72109號公報、日本專利特開2011-39502號公報及日本專利特開2011-191745號公報記載的鹽。作為產生較自酸產生劑所產生的酸而言酸性度更弱的酸的鹽，較佳為產生較自酸產生劑所產生的酸而言酸性度更弱的羧酸的鹽（具有羧酸根陰離子的鹽），更佳為弱酸分子內鹽（D），進而佳為弱酸分子內鹽（D）中包含取代有羧酸根陰離子的苯基的二苯基錪鹽。
作為弱酸分子內鹽（D），較佳為具有鍵結有兩個苯基的錪陽離子、和於與錪陽離子鍵結的兩個苯基中的至少一個苯基進行取代的羧酸根陰離子的二苯基錪鹽，可列舉以下的式子所表示的鹽。
[式（D）中，
R
D1及R
D2分別獨立地表示碳數1～12的烴基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～7的醯基、碳數2～7的醯基氧基、碳數2～7的烷氧基羰基、硝基或鹵素原子。
m'及n'分別獨立地表示0～4的任一整數，於m'為2以上的情況下，多個R
D1可相同亦可不同，於n'為2以上的情況下，多個R
D2可相同亦可不同]
作為R
D1及R
D2中的烴基，可列舉：鏈式烴基、脂環式烴基、芳香族烴基及藉由將該些組合而形成的基等。
作為鏈式烴基，可列舉：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、壬基等烷基。
作為脂環式烴基，可為單環式及多環式的任一種，亦可為飽和及不飽和的任一種。可列舉：環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環壬基、環十二烷基等環烷基、降冰片基、金剛烷基等。
作為芳香族烴基，可列舉：苯基、1-萘基、2-萘基、2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-乙基苯基、4-丙基苯基、4-異丙基苯基、4-丁基苯基、4-第三丁基苯基、4-己基苯基、4-環己基苯基、蒽基、對金剛烷基苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、均三甲苯基、聯苯基、菲基、2,6-二乙基苯基、2-甲基-6-乙基苯基等芳基等。
作為藉由將該些組合而形成的基，可列舉：烷基-環烷基、環烷基-烷基、芳烷基（例如，苯基甲基、1-苯基乙基、2-苯基乙基、1-苯基-1-丙基、1-苯基-2-丙基、2-苯基-2-丙基、3-苯基-1-丙基、4-苯基-1-丁基、5-苯基-1-戊基、6-苯基-1-己基等）等。
作為烷氧基，可列舉甲氧基、乙氧基等。
作為醯基，可列舉：乙醯基、丙醯基、苯甲醯基、環己烷羰基等。
作為醯基氧基，可列舉於所述醯基鍵結有氧基（-O-）的基等。
作為烷氧基羰基，可列舉於所述烷氧基鍵結有羰基（-CO-）的基等。
作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子等。
R
D1及R
D2較佳為分別獨立地為碳數1～8的烷基、碳數3～10的環烷基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～4的醯基、碳數2～4的醯基氧基、碳數2～4的烷氧基羰基、硝基或鹵素原子。
m'及n'較佳為分別獨立地為0～2的任一整數，更佳為0。於m'為2以上的情況下，多個R
D1可相同亦可不同，於n'為2以上的情況下，多個R
D2可相同亦可不同。
更具體而言，可列舉以下的鹽。
作為鹼性的含氮有機化合物，可列舉胺及銨鹽。作為胺，可列舉脂肪族胺及芳香族胺。作為脂肪族胺，可列舉一級胺、二級胺及三級胺。
作為胺，可列舉：1-萘基胺、2-萘基胺、苯胺、二異丙基苯胺、2-甲基苯胺、3-甲基苯胺或4-甲基苯胺、4-硝基苯胺、N-甲基苯胺、N,N-二甲基苯胺、二苯基胺、己胺、庚胺、辛胺、壬胺、癸胺、二丁胺、二戊胺、二己胺、二庚胺、二辛胺、二壬胺、二癸胺、三乙胺、三甲胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、三壬胺、三癸胺、甲基二丁胺、甲基二戊胺、甲基二己胺、甲基二環己胺、甲基二庚胺、甲基二辛胺、甲基二壬胺、甲基二癸胺、乙基二丁胺、乙基二戊胺、乙基二己胺、乙基二庚胺、乙基二辛胺、乙基二壬胺、乙基二癸胺、二環己基甲胺、三〔2-(2-甲氧基乙氧基)乙基〕胺、三異丙醇胺、乙二胺、四亞甲基二胺、六亞甲基二胺、4,4'-二胺基-1,2-二苯基乙烷、4,4'-二胺基-3,3'-二甲基二苯基甲烷、4,4'-二胺基-3,3'-二乙基二苯基甲烷、2,2'-亞甲基雙苯胺、咪唑、4-甲基咪唑、吡啶、4-甲基吡啶、1,2-二(2-吡啶基)乙烷、1,2-二(4-吡啶基)乙烷、1,2-二(2-吡啶基)乙烯、1,2-二(4-吡啶基)乙烯、1,3-二(4-吡啶基)丙烷、1,2-二(4-吡啶基氧基)乙烷、二(2-吡啶基)酮、4,4'-二吡啶基硫醚、4,4'-二吡啶基二硫醚、2,2'-二吡啶基胺、2,2'-二甲基吡啶胺、聯吡啶等，較佳為可列舉二異丙基苯胺等芳香族胺，更佳為可列舉2,6-二異丙基苯胺。
作為銨鹽，可列舉：四甲基氫氧化銨、四異丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、四己基氫氧化銨、四辛基氫氧化銨、苯基三甲基氫氧化銨、3-(三氟甲基)苯基三甲基氫氧化銨、四-正丁基水楊酸銨及膽鹼等。
〈其他成分〉
本發明的抗蝕劑組成物視需要亦可含有所述成分以外的成分（以下有時稱為「其他成分（F）」）。其他成分（F）並無特別限定，可利用抗蝕劑領域中公知的添加劑，例如增感劑、溶解抑制劑、界面活性劑、穩定劑、染料等。
〈抗蝕劑組成物的製備〉
本發明的抗蝕劑組成物可藉由混合包含式（I）所表示的羧酸鹽或式（IP）所表示的結構單元的化合物或樹脂、任意的樹脂（A）等、酸產生劑（B）、樹脂（A）等以外的樹脂、溶劑（E）、淬滅劑（C）及其他成分（F）等而製備。混合順序為任意，並無特別限定。混合時的溫度可自10℃～40℃，根據樹脂等的種類或樹脂等對溶劑（E）的溶解度等而選擇適當的溫度。混合時間可根據混合溫度，自0.5小時～24小時中選擇適當的時間。再者，混合手段亦無特別限制，可使用攪拌混合等。
於將各成分混合後，較佳為使用孔徑0.003 μm～0.2 μm左右的過濾器進行過濾。
〈抗蝕劑圖案的製造方法〉
本發明的抗蝕劑圖案的製造方法包括：
（1）將本發明的抗蝕劑組成物塗佈於基板上的步驟；
（2）使塗佈後的組成物乾燥而形成組成物層的步驟；
（3）對組成物層進行曝光的步驟；
（4）將曝光後的組成物層加熱的步驟；以及
（5）將加熱後的組成物層顯影的步驟。
將抗蝕劑組成物塗佈於基板上時，可藉由旋塗機等通常所使用的裝置來進行。作為基板，可列舉矽晶圓等無機基板、於表面形成有抗蝕劑膜等的有機基板。於塗佈抗蝕劑組成物之前，可清洗基板，亦可於基板上形成抗反射膜等。
藉由將塗佈後的組成物乾燥而去除溶劑，形成組成物層。乾燥例如藉由使用加熱板等加熱裝置使溶劑蒸發（所謂的預烘烤）來進行，或者使用減壓裝置來進行。加熱溫度較佳為50℃～200℃，加熱時間較佳為10秒鐘～180秒鐘。另外，進行減壓乾燥時的壓力較佳為1 Pa～1.0×10
5Pa左右。
對於所獲得的組成物層，通常使用曝光機進行曝光。曝光機可為液浸曝光機。作為曝光光源，可使用KrF準分子雷射（波長248 nm）、ArF準分子雷射（波長193 nm）、F
2準分子雷射（波長157 nm）般的放射紫外區域的雷射光者；對來自固體雷射光源（YAG或半導體雷射等）的雷射光進行波長變換而放射遠紫外區域或真空紫外區域的高次諧波雷射光者；照射電子束、或超紫外光（EUV）者等各種曝光光源。再者，本說明書中，有時將照射該些放射線的情況總稱為「曝光」。曝光時，通常介隔相當於所要求的圖案的遮罩來進行曝光。於曝光光源為電子束的情況下，亦可不使用遮罩而藉由直接描繪來進行曝光。
為了促進酸不穩定基的脫保護反應，對曝光後的組成物層進行加熱處理（所謂的曝光後烘烤（post exposure bake））。加熱溫度通常為50℃～200℃左右，較佳為70℃～150℃左右。亦可進行調整加熱後的組成物的表面側存在的樹脂的親水性或疏水性的化學處理（矽烷基化）。另外，於進行顯影之前，亦可於曝光後的組成物層上反覆進行抗蝕劑組成物的塗佈、乾燥、曝光、加熱的步驟。
通常使用顯影裝置，並利用顯影液來對加熱後的組成物層進行顯影。作為顯影方法，可列舉：浸漬法、覆液法、噴霧法、動態分配（dynamic dispense）法等。顯影溫度例如較佳為5℃～60℃，顯影時間例如較佳為5秒鐘～300秒鐘。藉由如以下般選擇顯影液的種類，可製造正型抗蝕劑圖案或負型抗蝕劑圖案。
於由本發明的抗蝕劑組成物製造正型抗蝕劑圖案的情況下，作為顯影液，使用鹼性顯影液。鹼性顯影液只要為該領域中所使用的各種鹼性水溶液即可。例如，可列舉四甲基氫氧化銨或(2-羥基乙基)三甲基氫氧化銨（通稱膽鹼）的水溶液等。鹼性顯影液中亦可包含界面活性劑。
較佳為利用超純水對顯影後的抗蝕劑圖案進行清洗，繼而，將基板及圖案上所殘存的水去除。
於由本發明的抗蝕劑組成物製造負型抗蝕劑圖案的情況下，作為顯影液，使用包含有機溶劑的顯影液（以下有時稱為「有機系顯影液」）。
作為有機系顯影液中包含的有機溶劑，可列舉：2-己酮、2-庚酮等酮溶劑；丙二醇單甲醚乙酸酯等二醇醚酯溶劑；乙酸丁酯等酯溶劑；丙二醇單甲醚等二醇醚溶劑；N,N-二甲基乙醯胺等醯胺溶劑；苯甲醚等芳香族烴溶劑等。
有機系顯影液中，有機溶劑的含有率較佳為90質量%以上且100質量%以下，更佳為95質量%以上且100質量%以下，進而佳為實質上僅為有機溶劑。
其中，作為有機系顯影液，較佳為包含乙酸丁酯及/或2-庚酮的顯影液。有機系顯影液中，乙酸丁酯及2-庚酮的合計含有率較佳為50質量%以上且100質量%以下，更佳為90質量%以上且100質量%以下，進而佳為實質上僅為乙酸丁酯及/或2-庚酮。
有機系顯影液中亦可包含界面活性劑。另外，有機系顯影液中亦可包含微量的水分。
於顯影時，亦可藉由置換為種類與有機系顯影液不同的溶劑而停止顯影。
較佳為利用淋洗液對顯影後的抗蝕劑圖案進行清洗。作為淋洗液，只要為不溶解抗蝕劑圖案者則並無特別限制，可使用包含一般的有機溶劑的溶液，較佳為醇溶劑或酯溶劑。
於清洗後，較佳為將基板及圖案上所殘存的淋洗液去除。
〈用途〉
本發明的抗蝕劑組成物適合作為KrF準分子雷射曝光用的抗蝕劑組成物、ArF準分子雷射曝光用的抗蝕劑組成物、電子束（electron beam，EB）曝光用的抗蝕劑組成物或EUV曝光用的抗蝕劑組成物、特別是電子束（EB）曝光用的抗蝕劑組成物或EUV曝光用的抗蝕劑組成物，於半導體的微細加工中有用。
[實施例]
列舉實施例來對本發明進行更具體的說明。例中，表示含量或使用量的「%」及「份」只要無特別記載，則為質量基準。
重量平均分子量為藉由凝膠滲透層析法求出的值。再者，凝膠滲透層析法的分析條件如下述般。
管柱：TSK凝膠多孔（TSKgel Multipore）H
XL-M × 3+保護管柱（guardcolumn）（東曹公司製造）
溶離液：四氫呋喃
流量：1.0 mL/min
檢測器：RI檢測器
管柱溫度：40℃
注入量：100 μl
分子量標準：標準聚苯乙烯（東曹公司製造）
化合物的結構是藉由使用質量分析（LC為安捷倫（Agilent）製造的1100型、MASS為安捷倫（Agilent）製造的LC/MSD型），測定分子離子峰值而確認。以下的實施例中，以「MASS」來表示該分子離子峰值的值。
實施例1：式（I-1081）所表示的鹽的合成
將式（I-1-a）所表示的化合物5.28份、乙腈30份及氧化銀2.32份混合，於23℃下攪拌4小時並進行過濾。於所獲得的濾物中添加第三丁基甲醚20份，於23℃下攪拌30分鐘並進行過濾，藉此獲得式（I-1-b）所表示的鹽5.86份。
將式（I-1081-c）所表示的鹽8.19份、式（I-1-b）所表示的鹽3.71份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-1081）所表示的鹽9.09份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+782.9
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-263.1
實施例2：式（I-3187）所表示的鹽的合成
將式（I-3187-c）所表示的鹽8.19份、式（I-1-b）所表示的鹽3.71份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-3187）所表示的鹽9.23份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+782.9
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-263.1
實施例3：式（I-3208）所表示的鹽的合成
將式（I-22-a）所表示的化合物1.72份、乙腈30份及氧化銀2.32份混合，於23℃下攪拌4小時並進行過濾。於所獲得的濾物中添加第三丁基甲醚20份，於23℃下攪拌30分鐘並進行過濾，藉此獲得式（I-22-b）所表示的鹽3.22份。
將式（I-3187-c）所表示的鹽8.19份、式（I-22-b）所表示的鹽1.93份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-3208）所表示的鹽7.22份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+782.9
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-85.0
實施例4：式（I-3214）所表示的鹽的合成
將式（I-3214-c）所表示的鹽7.61份、式（I-1-b）所表示的鹽3.71份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-3214）所表示的鹽8.66份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+724.9
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-263.1
實施例5：式（I-3349）所表示的鹽的合成
將式（I-3349-c）所表示的鹽11.81份、式（I-1-b）所表示的鹽3.71份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-3349）所表示的鹽11.44份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+1144.7
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-263.1
實施例6：式（I-4159）所表示的鹽的合成
將式（I-4159-c）所表示的鹽8.19份、式（I-1-b）所表示的鹽3.71份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-4159）所表示的鹽10.01份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+782.9
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-263.1
實施例7：式（I-4267）所表示的鹽的合成
將式（I-4267-c）所表示的鹽9.67份、式（I-1-b）所表示的鹽3.71份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-4267）所表示的鹽10.83份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+931.0
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-263.1
實施例8：式（I-3781）所表示的鹽的合成
將式（I-3781-c）所表示的鹽11.81份、式（I-1-b）所表示的鹽3.71份、甲醇20份及離子交換水10份混合，於23℃下攪拌30分鐘。於所獲得的混合物中添加碳酸鉀0.44份，於23℃下攪拌5小時。於所獲得的反應產物中添加氯仿60份及離子交換水10份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。於所獲得的有機層中添加離子交換水30份，於23℃下攪拌30分鐘後進行分液而提取有機層。將該水洗操作反覆進行七次。將所獲得的有機層濃縮，藉此於濃縮殘渣中加入第三丁基甲醚30份，於23℃下攪拌30分鐘後，將上清液去除並進行濃縮，藉此獲得式（I-3781）所表示的鹽11.89份。
MASS（ESI（+）Spectrum）：M
+1144.7
MASS（ESI（-）Spectrum）：M
-263.1
樹脂的合成
下述示出樹脂（A）的合成中使用的化合物（單體）。以下，將該些化合物對應於其式編號而稱為「單體（a1-1-3）」等。
實施例9〔樹脂A1的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-1081），以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-1081）〕成為20：35：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率65%獲得重量平均分子量為約5.4×10
3的樹脂A1。該樹脂A1為具有以下結構單元者。
實施例10〔樹脂A2的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3187），以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3187）〕成為20：35：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率69%獲得重量平均分子量為約5.3×10
3的樹脂A2。該樹脂A2為具有以下結構單元者。
實施例11〔樹脂A3的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3208），以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3208）〕成為20：35：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率69%獲得重量平均分子量為約5.4×10
3的樹脂A3。該樹脂A3為具有以下結構單元者。
實施例12〔樹脂A4的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3214），以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3214）〕成為20：35：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率66%獲得重量平均分子量為約5.4×10
3的樹脂A4。該樹脂A4為具有以下結構單元者。
實施例13〔樹脂A5的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3349），以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3349）〕成為20：35：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率62%獲得重量平均分子量為約5.3×10
3的樹脂A5。該樹脂A5為具有以下結構單元者。
實施例14〔樹脂A6的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、3,4-二乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3187），以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：3,4-二乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3187）〕成為20：35：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率66%獲得重量平均分子量為約5.3×10
3的樹脂A6。該樹脂A6為具有以下結構單元者。
實施例15〔樹脂A7的合成〕
作為單體，使用單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3187），以其莫耳比〔單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3187）〕成為55：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率87%獲得重量平均分子量為約5.4×10
3的樹脂A7。該樹脂A7為具有以下結構單元者。
實施例16〔樹脂A8的合成〕
作為單體，使用單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、3,4-二乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3187），以其莫耳比〔單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：3,4-二乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3187）〕成為55：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率80%獲得重量平均分子量為約5.4×10
3的樹脂A8。該樹脂A8為具有以下結構單元者。
實施例17〔樹脂A9的合成〕
作為單體，使用單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、3-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3187），以其莫耳比〔單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：3-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3187）〕成為55：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率76%獲得重量平均分子量為約5.4×10
3的樹脂A9。該樹脂A9為具有以下結構單元者。
實施例18〔樹脂A10的合成〕
作為單體，使用單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-4159），以其莫耳比〔單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-4159）〕成為55：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率89%獲得重量平均分子量為約5.5×10
3的樹脂A10。該樹脂A10為具有以下結構單元者。
實施例19〔樹脂A11的合成〕
作為單體，使用單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-4267），以其莫耳比〔單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-4267）〕成為55：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率83%獲得重量平均分子量為約5.6×10
3的樹脂A11。該樹脂A11為具有以下結構單元者。
實施例20〔樹脂A12的合成〕
作為單體，使用單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-3781），以其莫耳比〔單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-3781）〕成為55：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率79%獲得重量平均分子量為約5.6×10
3的樹脂A12。該樹脂A12為具有以下結構單元者。
實施例21〔樹脂A13的合成〕
作為單體，使用單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（I-4159），以其莫耳比〔單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（I-4159）〕成為50：3：10：25：12的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率77%獲得重量平均分子量為約5.5×10
3的樹脂A13。該樹脂A13為具有以下結構單元者。
合成例1〔樹脂AX1的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）、4-乙醯氧基苯乙烯及單體（IX-1），以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯：單體（IX-1）〕成為20：35：3：12：25：5的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率68%獲得重量平均分子量為約5.5×10
3的樹脂AX1。該樹脂AX1為具有以下結構單元者。
合成例2〔樹脂AA1的合成〕
作為單體，使用單體（a1-1-3）、單體（a1-2-6）、單體（a2-1-3）、單體（a3-4-2）及4-乙醯氧基苯乙烯，以其莫耳比〔單體（a1-1-3）：單體（a1-2-6）：單體（a2-1-3）：單體（a3-4-2）：4-乙醯氧基苯乙烯〕成為20：35：3：15：27的比例的方式混合，進而於該單體混合物中混合相對於所有單體的合計質量而為1.5質量倍的甲基異丁基酮。於所獲得的混合物中，相對於所有單體量而各自添加1.2 mol%及3.6 mol%的作為起始劑的偶氮雙異丁腈及偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)，於73℃下將該些加熱約5小時。之後，於聚合反應液中加入25%四甲基氫氧化銨水溶液，攪拌12小時後進行分液。將經回收的有機層注入至大量的正庚烷中使樹脂析出，進行過濾、回收，藉此以產率68%獲得重量平均分子量為約5.5×10
3的樹脂AA1。該樹脂AA1為具有以下結構單元者。
＜抗蝕劑組成物的製備＞
如表2所示，將以下各成分混合，利用孔徑0.2 μm的氟樹脂製過濾器對所獲得的混合物進行過濾，藉此製備抗蝕劑組成物。
[表2]
| 抗蝕劑組成物 | 樹脂 | 酸產生劑（B） | 羧酸鹽（I） | 淬滅劑（C） | PB/PEB |
| 組成物1 | AA1=10份 | B1-25=2.5份 | I-1081=0.4份 | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物2 | AA1=10份 | B1-25=2.5份 | I-3187=0.4份 | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物3 | AA1=10份 | B1-25=2.5份 | I-3208=0.4份 | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物4 | AA1=10份 | B1-25=2.5份 | I-3214=0.4份 | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物5 | AA1=10份 | B1-25=2.5份 | I-3349=0.4份 | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物6 | A2=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物7 | A5=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物8 | A2=10份 | B1-25=2.5份 | I-3187=0.1份 | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物9 | A5=10份 | B1-25=2.5份 | I-3349=0.1份 | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物10 | A2=10份 | B1-25=2.5份 | --- | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物11 | A5=10份 | B1-25=2.5份 | --- | --- | 100℃/130℃ |
| 組成物12 | A1=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物13 | A3=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物14 | A4=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物15 | A6=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物16 | A7=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物17 | A8=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物18 | A9=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物19 | A10=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物20 | A11=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物21 | A12=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物22 | A13=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 組成物23 | A13=10份 | B1-25=2.5份 | --- | --- | 100℃/130℃ |
| 比較組成物1 | AA1=10份 | B1-25=2.5份 | --- | IX-1=0.4份 | 100℃/130℃ |
| 比較組成物2 | AX1=10份 | B1-25=2.5份 | --- | C1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 比較組成物3 | AX1=10份 | B1-25=2.5份 | --- | IX-1=0.1份 | 100℃/130℃ |
| 比較組成物4 | AX1=10份 | B1-25=2.5份 | --- | --- | 100℃/130℃ |
＜樹脂＞
A1～A13、AA1、AX1：樹脂A1～樹脂A13、樹脂AA1、樹脂AX1
＜酸產生劑（B）＞
B1-25：式（B1-25）所表示的鹽；利用日本專利特開2011-126869號公報中記載的方法來合成
＜羧酸鹽（I）＞
I-1081：式（I-1081）所表示的鹽
I-3187：式（I-3187）所表示的鹽
I-3208：式（I-3208）所表示的鹽
I-3214：式（I-3214）所表示的鹽
I-3349：式（I-3349）所表示的鹽
＜淬滅劑（C）＞
C1：利用日本專利特開2011-39502號公報中記載的方法來合成
IX-1：利用日本專利特開2011-037834號公報中記載的方法來合成
＜溶劑＞
組成物1～組成物20、比較組成物1～比較組成物4
丙二醇單甲醚乙酸酯 400份
丙二醇單甲醚 100份
γ-丁內酯 5份
組成物21～組成物23
2-羥基異丁酸甲酯 400份
丙二醇單甲醚 100份
γ-丁內酯 5份
（抗蝕劑組成物的電子束曝光評價）
對6吋的矽晶圓，於直接加熱板上，使用六甲基二矽氮烷於90℃下進行60秒處理。以組成物層的膜厚成為0.04 μm的方式將抗蝕劑組成物旋塗於該矽晶圓。之後，於直接加熱板上，於表2的「PB」一欄所示的溫度下預烘烤60秒鐘而形成組成物層。對晶圓上所形成的組成物層，使用電子束描繪機〔艾力奧尼庫斯（Elionix）（股）製造的「ELS-F125 125 keV」〕，使曝光量階段地發生變化，於顯影後以成為線與空間圖案（間距60 nm/線寬30 nm）的方式直接描繪。
於曝光後，於加熱板上在表2的「PEB」一欄所示的溫度下進行60秒鐘曝光後烘烤。繼而，使用作為顯影液的乙酸丁酯（東京化成工業（股）製造）並藉由動態分配法於23℃下對該矽晶圓上的組成物層進行20秒鐘的顯影，藉此獲得抗蝕劑圖案。
利用掃描式電子顯微鏡對所獲得的抗蝕劑圖案（線與空間圖案）進行觀察，將間距60 nm的線與空間圖案的線寬與空間寬成為1：1的曝光量設為實效感度。
＜圖案倒塌評價（PCM）評價＞
曝光量越少，線圖案的線寬越細，越容易發生圖案消失。數字表示於以實效感度以下的曝光量形成的線圖案上未觀察到由倒塌或剝離引起的圖案消失的抗蝕劑圖案的最小線寬（nm）。將其結果示於表3。
[表3]
與比較組成物1～比較組成物4進行比較，組成物1～組成物23中未觀察到圖案消失的抗蝕劑圖案的最小線寬小，圖案倒塌評價良好。
由所述的結果可知，根據本發明的羧酸鹽、包含該羧酸鹽的抗蝕劑組成物，耐圖案倒塌性（PCM）良好。
[產業上之可利用性]
| 抗蝕劑組成物 | PCM | |
| 實施例22 | 組成物1 | 18 |
| 實施例23 | 組成物2 | 17 |
| 實施例24 | 組成物3 | 20 |
| 實施例25 | 組成物4 | 18 |
| 實施例26 | 組成物5 | 18 |
| 實施例27 | 組成物6 | 14 |
| 實施例28 | 組成物7 | 15 |
| 實施例29 | 組成物8 | 14 |
| 實施例30 | 組成物9 | 16 |
| 實施例31 | 組成物10 | 15 |
| 實施例32 | 組成物11 | 17 |
| 實施例33 | 組成物12 | 15 |
| 實施例34 | 組成物13 | 18 |
| 實施例35 | 組成物14 | 17 |
| 實施例36 | 組成物15 | 12 |
| 實施例37 | 組成物16 | 15 |
| 實施例38 | 組成物17 | 13 |
| 實施例39 | 組成物18 | 14 |
| 實施例40 | 組成物19 | 12 |
| 實施例41 | 組成物20 | 11 |
| 實施例42 | 組成物21 | 12 |
| 實施例43 | 組成物22 | 11 |
| 實施例44 | 組成物23 | 12 |
| 比較例1 | 比較組成物1 | 26 |
| 比較例2 | 比較組成物2 | 22 |
| 比較例3 | 比較組成物3 | 26 |
| 比較例4 | 比較組成物4 | 28 |
含有本發明的羧酸鹽的抗蝕劑組成物可獲得具有良好的耐圖案倒塌性（PCM）的抗蝕劑圖案，因此適合於半導體的微細加工，於產業上極其有用。
Claims (22)
- 一種羧酸鹽，由式（I）所表示， 式（I）中， R 1及R 2分別獨立地表示羥基、-O-R 10、-O-CO-O-R 10或-O-L 1-CO-O-R 10； L 1表示碳數1～6的烷二基； R 4、R 5、R 7及R 8分別獨立地表示鹵素原子、碳數1～12的鹵代烷基或碳數1～18的烴基，所述烴基可具有取代基，所述鹵代烷基及所述烴基中包含的-CH 2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO 2-取代； R 10表示酸不穩定基； A 1及A 2分別獨立地表示碳數1～20的烴基，所述烴基可具有取代基，所述烴基中包含的-CH 2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO 2-取代； m1表示1～5的任一整數，於m1為2以上時，多個括弧內的基相互可相同亦可不同； m2表示0～5的任一整數，於m2為2以上時，多個括弧內的基相互可相同亦可不同； m4表示0～4的任一整數，於m4為2以上時，多個R 4相互可相同亦可不同； m5表示0～4的任一整數，於m5為2以上時，多個R 5相互可相同亦可不同； m7表示0～4的任一整數，於m7為2以上時，多個R 7相互可相同亦可不同； m8表示0～5的任一整數，於m8為2以上時，多個R 8相互可相同亦可不同； 其中，1≦m1+m7≦5，0≦m2+m8≦5； X 0表示單鍵或可具有取代基的碳數1～72的烴基，所述烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO 2-； R bb1表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基； X 10表示單鍵、*-O-**、*-CO-O-**、*-O-CO-O-**或*-Ax-Ph-Ay-**； Ph表示可具有取代基的伸苯基； Ax表示選自由單鍵、醚鍵、硫醚鍵、酯鍵及碳酸酯鍵所組成的群組中的一種鍵結種； Ay表示選自由單鍵、醚鍵、硫醚鍵、酯鍵及碳酸酯鍵所組成的群組中的一種鍵結種； *及**表示鍵結部位，*表示與R bb1所鍵結的碳原子的鍵結部位； L 1 0表示單鍵或可具有取代基的碳數1～36的烴基，所述烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-、-S-、-SO 2-或-CO-。
- 如請求項1所述的羧酸鹽，其中A 1為***-X 01-L 01-或***-L 01-X 01-， A 2為***-X 02-L 02-或***-L 02-X 02-， X 01及X 02分別獨立地表示-O-、-CO-、-S-或-SO 2-， L 01及L 02分別獨立地表示單鍵或碳數1～18的烴基，所述烴基可具有取代基，所述烴基中包含的-CH 2-可被-O-、-CO-、-S-或-SO 2-取代， ***表示與R 1或R 2所鍵結的苯環的鍵結部位。
- 如請求項2所述的羧酸鹽，其中X 01及X 02分別獨立地為-O-或-S-。
- 如請求項2所述的羧酸鹽，其中L 01及L 02分別獨立地為單鍵或碳數1～6的烷二基，所述烷二基中包含的-CH 2-可被-O-或-CO-取代。
- 如請求項1所述的羧酸鹽，其中R 1及R 2分別獨立地為羥基、-O-R 10或-O-L 1-CO-O-R 10。
- 如請求項1所述的羧酸鹽，其中R 10的酸不穩定基為式（1a）所表示的基或式（2a）所表示的基， 式（1a）中，R aa1、R aa2及R aa3分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數2～8的烯基、碳數3～20的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基，或者R aa1及R aa2相互鍵結並與該些所鍵結的碳原子一同形成碳數3～20的脂環式烴基； *表示鍵結部位， 式（2a）中，R aa1'及R aa2'分別獨立地表示氫原子或碳數1～12的烴基，R aa3'表示碳數1～20的烴基，或者R aa2'及R aa3'相互鍵結並與該些所鍵結的-C-X a-一同形成碳數3～20的雜環基，所述烴基及所述雜環基中包含的-CH 2-可被-O-或-S-取代； X a表示氧原子或硫原子； *表示鍵結部位。
- 如請求項1所述的羧酸鹽，其中X 0為單鍵，或者包含可具有取代基的碳數1～72的脂肪族烴基或可具有取代基的碳數6～36的芳香族烴基，所述脂肪族烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO 2-。
- 如請求項7所述的羧酸鹽，其中X 0為單鍵，或者包含可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數1～18的鏈式烴基（所述鏈式烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-或-CO-）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數3～36的脂環式烴基（所述脂環式烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO 2-）、碳數3～36的脂環式烴基與碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（所述脂環式烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-、-S-、-CO-或-SO 2-，所述鏈式烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-或-CO-，所述脂環式烴基及所述鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基）、可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基的碳數6～36的芳香族烴基、或者碳數6～36的芳香族烴基與碳數1～18的鏈式烴基組合而成的基（所述鏈式烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-或-CO-，所述芳香族烴基及所述鏈式烴基可具有氟原子、碳數1～4的全氟烷基或羥基）。
- 如請求項7所述的羧酸鹽，其中X 0包含脂環式烴基，所述脂環式烴基包含碳數5或6的環烷二基、金剛烷二基、降冰片烷二基、金剛烷內酯二基、降冰片烷內酯二基、或者金剛烷二基和以螺而與所述金剛烷二基鍵結的碳數5或6的環烷二基，所述金剛烷二基、降冰片烷二基及環烷二基中包含的-CH 2-可被取代為-O-或-CO-。
- 如請求項1所述的羧酸鹽，其中X 10為單鍵或式（X 10-1）～式（X 10-10）的任一者所表示的基， 式（X 10-1）～式（X 10-10）中， *、**為鍵結部位，*表示與R bb1所鍵結的碳原子的鍵結部位； Rx表示鹵素原子、羥基、碳數1～6的氟化烷基、碳數1～18的烷基或碳數1～6的烷氧基； mx表示0～4的任一整數。
- 如請求項10所述的羧酸鹽，其中X 10為單鍵或式（X 10-1）、式（X 10-5'）及式（X 10-6'）的任一者所表示的基， 式（X 10-1）、式（X 10-5'）及式（X 10-6'）中， *、**為鍵結部位，*表示與R bb1所鍵結的碳原子的鍵結部位。
- 如請求項1所述的羧酸鹽，其中L 1 0為單鍵、碳數1～6的烷二基、碳數3～18的環狀烴基或碳數1～6的烷二基與碳數3～18的環狀烴基組合而成的基，所述烷二基中包含的-CH 2-可被取代為-O-或-CO-，所述環狀烴基可具有取代基，所述環狀烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-、-S-、-SO 2-或-CO-。
- 一種羧酸產生劑，含有如請求項1所述的羧酸鹽或源自如請求項1所述的羧酸鹽的結構單元。
- 一種樹脂，包含源自如請求項1所述的羧酸鹽的結構單元。
- 一種抗蝕劑組成物，含有如請求項13所述的羧酸產生劑。
- 如請求項15所述的抗蝕劑組成物，含有式（I）所表示的羧酸鹽、與 包含具有酸不穩定基的結構單元的樹脂。
- 如請求項15所述的抗蝕劑組成物，含有包含源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元的樹脂， 包含源自式（I）所表示的羧酸鹽的結構單元的樹脂更包含具有酸不穩定基的結構單元。
- 如請求項17所述的抗蝕劑組成物，更含有式（I）所表示的羧酸鹽。
- 如請求項16所述的抗蝕劑組成物，其中具有酸不穩定基的結構單元包含選自由式（a1-0）所表示的結構單元、式（a1-1）所表示的結構單元及式（a1-2）所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種， 式（a1-0）、式（a1-1）及式（a1-2）中， L a01、L a1及L a2分別獨立地表示-O-或*-O-(CH 2) k1-CO-O-，k1表示1～7的任一整數，*表示與-CO-的鍵結部位； R a01、R a4及R a5分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基； R a02、R a03及R a04分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或將該些組合而成的基； R a6及R a7分別獨立地表示碳數1～8的烷基、碳數2～8的烯基、碳數3～18的脂環式烴基、碳數6～18的芳香族烴基或藉由將該些組合而形成的基； m1'表示0～14的任一整數； n1表示0～10的任一整數； n1'表示0～3的任一整數。
- 如請求項16所述的抗蝕劑組成物，其中包含具有酸不穩定基的結構單元的樹脂更包含式（a2-A）所表示的結構單元， 式（a2-A）中， R a50表示氫原子、鹵素原子或可具有鹵素原子的碳數1～6的烷基； R a51表示鹵素原子、羥基、碳數1～6的烷基、碳數1～6的烷氧基、碳數2～12的烷氧基烷基、碳數2～12的烷氧基烷氧基、碳數2～4的烷基羰基、碳數2～4的烷基羰氧基、丙烯醯氧基或甲基丙烯醯氧基； A a50表示單鍵或*-X a51-(A a52-X a52) nb-，*表示與-R a50所鍵結的碳原子的鍵結部位； A a52表示碳數1～8的烷二基； X a51及X a52分別獨立地表示-O-、-CO-O-或-O-CO-； nb表示0或1； mb表示0～4的任一整數；於mb為2以上的任一整數的情況下，多個R a51相互可相同亦可不同。
- 如請求項15所述的抗蝕劑組成物，更含有式（B1）所表示的鹽， 式（B1）中， Q b1及Q b2分別獨立地表示氫原子、氟原子、碳數1～6的全氟烷基或碳數1～6的烷基； L b1表示碳數1～24的二價飽和烴基，所述二價飽和烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-或-CO-，所述二價飽和烴基中包含的氫原子可被氟原子或羥基取代； Y表示可具有取代基的甲基或可具有取代基的碳數3～24的脂環式烴基，所述脂環式烴基中包含的-CH 2-可被取代為-O-、-S-、-SO 2-或-CO-； Z +表示有機陽離子。
- 一種抗蝕劑圖案的製造方法，包括： （1）將如請求項15所述的抗蝕劑組成物塗佈於基板上的步驟； （2）使塗佈後的組成物乾燥而形成組成物層的步驟； （3）對組成物層進行曝光的步驟； （4）將曝光後的組成物層加熱的步驟；以及 （5）將加熱後的組成物層顯影的步驟。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022054624 | 2022-03-29 | ||
| JP2022-054624 | 2022-03-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202337880A true TW202337880A (zh) | 2023-10-01 |
Family
ID=88194106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW112111216A TW202337880A (zh) | 2022-03-29 | 2023-03-24 | 羧酸鹽、羧酸產生劑、樹脂、抗蝕劑組成物以及抗蝕劑圖案的製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230314938A1 (zh) |
| JP (1) | JP2023147265A (zh) |
| KR (1) | KR20230140429A (zh) |
| TW (1) | TW202337880A (zh) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011081107A (ja) | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Suruga Production Platform Co Ltd | 光ファイバと光デバイスとの光軸調整方法 |
-
2023
- 2023-03-24 TW TW112111216A patent/TW202337880A/zh unknown
- 2023-03-27 US US18/190,286 patent/US20230314938A1/en active Pending
- 2023-03-27 JP JP2023050450A patent/JP2023147265A/ja active Pending
- 2023-03-28 KR KR1020230040629A patent/KR20230140429A/ko unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20230140429A (ko) | 2023-10-06 |
| JP2023147265A (ja) | 2023-10-12 |
| US20230314938A1 (en) | 2023-10-05 |
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