TW202144041A

TW202144041A - 進出埠

Info

Publication number: TW202144041A
Application number: TW110104916A
Authority: TW
Inventors: 八木隆浩
Original assignee: 日商東麗股份有限公司
Priority date: 2020-02-17
Filing date: 2021-02-09
Publication date: 2021-12-01
Also published as: JPWO2021166642A1; WO2021166642A1

Abstract

進出埠(10)係和導管(C)連接作使用的進出埠，具備：包含液體收容部(11a)之埠本體(11)、及被保持在埠本體(11)且覆蓋液體收容部(11a)之隔膜體(60)。而且，埠本體(11)係具有內建的金屬線圏(70)。

Description

進出埠

本發明係有關一種進出埠。

使用留置在患者體內的導管之治療，因為可從目標的病變部的附近進行藥劑的投藥等，故相當盛行。導管係其一端連接於被埋設在患者的皮下的進出埠，另一端配置在目標的病變部的附近。進出埠的內腔與導管的內腔係藉連接通路連接著，當往進出埠的內腔導入藥劑時，通過連接通路及導管可將藥劑運送到目標的病變部的附近。例如在JP6057916B2揭示有和導管一起使用的進出埠。

為了往進出埠的內腔導入藥劑，係隔著皮膚往埋設於皮下之進出埠插入注射針以注入藥劑。由於進出埠被埋設於皮下，故不易掌握應插入注射針的位置。

[發明欲解決之課題]

本件發明係考慮上述點而完成者，目的在於提供一種在被埋設於皮下之狀態下能掌握其位置的進出埠。 [用以解決課題之手段]

本發明的進出埠，係和導管連接作使用的進出埠，具備：包含有液體收容部之埠本體；及被保持在上述埠本體而覆蓋上述液體收容部之隔膜體，上述埠本體係具有內建的金屬線圏。

本發明的進出埠中，亦可為：上述埠本體具有在上述液體收容部之周圍的位置彼此分離設置的至少二個金屬線圏。

本發明的進出埠中，亦可為：上述隔膜體之與上述液體收容部相反側的面係在上述二個金屬線圏之間的區域露出。

亦可為：上述埠本體更具有和上述金屬線圏電連接之發光體。

本發明的進出埠中，亦可為：上述埠本體具有：在上述液體收容部之周圍的位置彼此分離設置的至少二個金屬線圏、及和該金屬線圏分別電連接之至少二個發光體。

本發明的進出埠中，亦可為：上述發光體的發光面係露出。

本發明的進出埠中，亦可為：上述埠本體具有：形成上述液體收容部的底面之底壁部、及形成上述液體收容部的側面之側壁部，上述金屬線圏係內建於上述側壁部。

本發明的進出埠中，亦可為：上述金屬線圏的軸線係在平行於上述側壁部自上述底壁部伸展的方向之方向延伸。

本發明的進出埠中，亦可為：上述埠本體具有：形成上述液體收容部的底面及側面之基座構件、及固定在上述基座構件且在與上述基座構件之間保持上述隔膜體之蓋構件，上述基座構件具有：至少形成上述底面之底部構件、及支撐在上述底部構件且包圍上述液體收容部之環狀的環狀構件，上述金屬線圏係埋設於上述環狀構件。

本發明的醫療系統具備：上述的進出埠及產生磁場之磁場產生裝置。

抑或，本發明的醫療系統具備：上述的進出埠、向上述金屬線圏供電之電源、及偵測磁場之磁場偵測裝置。

依據本發明，可提供一種在被埋設於皮下之狀態下能掌握其位置的進出埠。

[用以實施發明的形態]

圖1～圖7係用以說明本實施形態的進出埠10之圖。其中在圖1及圖2顯示進出埠10的立體圖及平面圖。又，在圖3及圖4顯示進出埠10的分解立體圖及剖面圖。又，在圖5顯示形成進出埠10的一部分的基座構件12之分解立體圖。又，在圖6顯示進出埠10的隔膜體60及蓋構件50之立體圖。又，在圖7顯示表示使用進出埠10所構成的醫療系統90之電路圖。此外，在圖2以及在後面參照的圖9、圖11、圖12及圖14中，將沿著垂直於紙面的方向延伸的箭頭符號以在圓中設有點的記號表示。

以下，參照圖面就本發明的一實施形態作說明。

＜進出埠的整體構成＞進出埠10係在和導管C連接的狀態下被埋設於患者的皮下作使用。如圖1至圖4所示，進出埠10具備：包含液體收容部11a之埠本體11、保持在埠本體11並覆蓋液體收容部11a之隔膜體60。透過將注射針刺入隔膜體60將藥劑導入液體收容部11a內，可經由導管C將藥劑送到目標的病變部附近。

如圖4所示，埠本體11具有：形成(區劃)液體收容部11a的內面(底面11b及側面11c)之基座構件12、及被固定在基座構件12且在與基座構件12之間保持隔膜體60之蓋構件50。

如圖3及圖4所示，基座構件12具有：形成(區劃)液體收容部11a的底面11b之底壁部20、及從底壁部20延伸出而形成(區劃)液體收容部11a的側面11c之側壁部30。底壁部20係整體形成平板的板狀。側壁部30係形成筒狀，豎立設置在底壁部20的一側面的大致中央。

如圖4所示，基座構件12更包含連接於液體收容部11a使液體收容部11a連通於導管C的內部(內腔)Ca之連接通路40。圖示例中，連接通路40係在基座構件12的上述側面11c開口。更具體言之，連接通路40的內面40a係由形成於側壁部30的連接通路開口41、及連接於連接通路開口41的連接埠42所形成(區劃)。連接通路開口41係為沿著從環狀的側壁部30的內側朝向外側的方向延伸的貫通孔，在側壁部30的內面30a及外面30b開口。連接埠42係其一端從側壁部30的外面30b之側插入連接通路開口41對側壁部30固定。在連接埠42的另一端連接有導管C的一端。此外，連接通路40亦可未含有連接埠42。此時，導管C的一端亦可被插入連接通路開口41。

蓋構件50包含將基座構件12之側壁部30從外面30b之側覆蓋之環狀的蓋本體部51。蓋本體部51又在側壁部30之外側，從豎立設置有側壁部30之側覆蓋底壁部20。

蓋構件50更具有和側壁部30之與底壁部20相反側的端面(以下，亦稱為「側壁部一側端面」)30c對向配置之環狀的蓋環狀緣部52。蓋環狀緣部52係從蓋本體部51之與底壁部20相反側的端部，沿著側壁部一側端面30c朝環狀的蓋本體部51的內側延伸出。

如圖3、圖4及圖6所示，隔膜體60係整體形成平板的板狀。隔膜體60係利用矽氧橡膠等所構成。隔膜體60係在側壁部一側端面30c上以覆蓋液體收容部11a之方式配置。隔膜體60具有：與液體收容部11a相反側的面(以下，亦稱為「隔膜體一側面」)60a、及液體收容部11a之側的面(以下，亦稱為「隔膜體另一側面」)60b。

如圖4所示，隔膜體60的外緣部61係在側壁部一側端面30c與蓋環狀緣部52之間被以壓縮的狀態保持而將基座構件12與蓋構件50之間液密密封。隔膜體60的中央部62係和液體收容部11a對向配置。藉由蓋環狀緣部52形成環狀，使上述中央部62露出，可向上述中央部62插入注射針。

為了向埋設於皮下之進出埠的內腔導入藥劑等，係隔著皮膚往進出埠插入注射針以注入藥劑等。由於進出埠被埋設於皮下，故不易掌握應插入注射針的位置。

經考量此種情事，本實施形態的進出埠係進行用以在被埋設於皮下之狀態下可掌握其位置之工夫。

＜金屬線圏及發光體＞亦即，如圖4所示，埠本體11係具有被內建的金屬線圏70。金屬線圏70和發光體71電連接。圖7所示的例中，金屬線圏70係連同發光體71、電容器72及電阻器73一起構成並聯電路74。然後，當在金屬線圏70施加磁場在電路74流通電流時，則發光體71發光。

透過此種金屬線圏70及發光體71被設於進出埠10，當在進出埠10附近施加磁場而在金屬線圏70流通電流時，則發光體71發光。而且，透過發光體71所發出的光，可掌握埋設於患者的皮下之進出埠10的位置。換言之，依據此種進出埠10，如圖7所示，可連同產生磁場的磁場產生裝置80一起構築可偵測埋設於皮下之進出埠10的位置之醫療系統90。依據醫療系統90，在無需熟練的技術之情況下可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，除了醫療從業人員以外的人(例如患者的親屬等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。

此外，作為磁場產生裝置80，可採用任意的裝置。例如，磁場產生裝置80亦可為含有圖7所示那樣的金屬線圏81與電源82及開關83電性串接的電路84之裝置。依據此種磁場產生裝置80，透過關閉開關83，可在金屬線圏81產生磁場。如此一來，依據醫療系統90，在未使用大型裝置下，可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，在除了醫院的手術室以外的場所(例如醫院的病房或患者的自家等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。

此外，由於進出埠10含有金屬線圏70，故藉由使用X光攝影技術，也可掌握埋設於患者的皮下之進出埠10的位置。

如圖4所示，圖示例中，金屬線圏70及發光體71被內建於蓋構件50。藉此，發光體71發出的光變得容易到達進出埠10外面。又，圖示例中，金屬線圏70及發光體71係整體被埋入蓋構件50內，没有露出於蓋構件50的表面之部分。藉此，防止金屬線圏70及發光體71與埋設有進出埠10的患者之體液、液體收容部11a所收容之藥劑等接觸的情況。此處，圖示例中，蓋構件50具有透光性。藉此，可將蓋構件50內的發光體71發出的光送到蓋構件50(進出埠10)外面。具體言之，蓋構件50係依據透明塑膠的霧度(haze)及光透射率的標準試驗法(ASTM D1003)測定時為30%以上，更佳為具有70%以上的可見光透射率。又，發光體71的發光面71s係以盡可能接近於蓋構件50(進出埠10)的外表面作配置者較佳。發光面71s越接近上述外表面，發光體71發出的光越容易到達進出埠10外面。因此，在進出埠10被埋設於患者的皮下之狀態下，發光體71發出的光容易送到患者的皮膚表面。亦即，容易經由患者的皮膚來視覺辨識發光體71發出的光。

又，圖示例中，埠本體11具有：2個金屬線圏70a、70b、及和各金屬線圏70a、70b分別電連接的至少2個發光體71a、71b。由圖2及圖4可理解，一金屬線圏70a及和該金屬線圏70a電連接的發光體71a，與另一金屬線圏70b及和該金屬線圏70b連接的發光體71b，係在液體收容部11a的周圍之位置彼此分離設置。而且，隔膜體一側面60a係在金屬線圏70a、70b及發光體71a、71b的二組之間的區域露出。因此，即使是進出埠10被埋設於患者的皮下之狀態，若對進出埠10附近施加磁場使發光體71a、71b發光的話，則也可掌握露出之隔膜體一側面60a的位置(亦即，應插入用以使藥劑等流入液體收容部11a的注射針之區域)。

圖示例中，各金屬線圏70的軸線70x，係在平行於側壁部30自底壁部20伸展的方向D1之方向延伸。由圖4可理解，構成埠本體11之基座構件12和蓋構件50係具有側壁部30和蓋本體部51等之沿著側壁部30自底壁部20伸展的方向D1延伸的部分。因此，若使軸線70x的延伸方向沿著側壁部30自底壁部20伸展的方向D1，則可抑制因使金屬線圏70內建於埠本體11所致之埠本體11的尺寸增大。再者，圖示例中，發光體71配置在各金屬線圏70的軸線70x上。若如此配置發光體71，則可抑制因使金屬線圏70及發光體71內建於埠本體11所致之埠本體11的尺寸增大。又，在從側壁部30自底壁部20伸展的方向D1的觀察中，可將發光體71配置在隔膜體60或液體收容部11a的附近。結果為，可更正確地掌握隔膜體60或液體收容部11a的位置。

圖示例中，包含金屬線圏70及發光體71的電路74係配置在設於蓋構件50的蓋本體部51之收容室55內。電容器72和電阻器73係配置在由金屬線圏70所包圍的空間內。藉此，可將電路74緊湊地收容於收容室55內。

＜環狀保持溝及環狀保持突起部＞再者，本實施形態的進出埠10係進行用以防止隔膜體60從埠本體11脫落的工夫。具體言之，進行以下那樣的工夫。

首先，如圖3及圖4所示，在隔膜體60的隔膜體一側面60a形成有環狀的第1環狀保持溝63。第1環狀保持溝63係形成在隔膜體60的外緣部61。第1環狀保持溝63係在與側壁部30自底壁部20延伸出的方向D1平行之方向延伸並在液體收容部11a的相反側開口。又，如圖4及圖6所示，在埠本體11的蓋構件50形成有環狀的第1環狀保持突起部53。第1環狀保持突起部53係從蓋環狀緣部52往與側壁部30自底壁部20延伸出的方向D1平行之方向突出。而且，如圖4所示，第1環狀保持突起部53係伸進第1環狀保持溝63內。藉此，減低在向隔膜體60插入注射針之際和從隔膜體60抽出注射針之際等因施加於隔膜體60的力而使隔膜體60從埠本體11脫落之虞。

又，如圖4及圖6所示，在隔膜體60的隔膜體另一側面60b形成有環狀的第2環狀保持溝64。第2環狀保持溝64係形成在隔膜體60的外緣部61。第2環狀保持溝64係往與側壁部30自底壁部20延伸出的方向D1平行之方向延伸並在液體收容部11a之側開口。又，如圖3及圖4所示，在埠本體11的基座構件12形成有環狀的第2環狀保持突起部54。第2環狀保持突起部54係從側壁部一側端面30c往與側壁部30自底壁部20延伸出的方向D1平行之方向突出。而且，如圖4所示，第2環狀保持突起部54係伸進第2環狀保持溝64內。藉此亦減低在向隔膜體60插入注射針之際和從隔膜體60抽出注射針之際等因施加於隔膜體60的力而使隔膜體60從埠本體11脫落之虞。

此外，圖示例中，如圖5所示，基座構件12具有：形成底面11b與側面11c的一部分之底部構件13、被支撐在底部構件13而包圍液體收容部11a之環狀的環狀構件14。環狀構件14係形成側面11c的其他部分。而且，如圖5所示，第2環狀保持突起部54係形成在環狀構件14。如此一來，透過將第2環狀保持突起部54形成在和底部構件13分開的環狀構件14，可在對底部構件13的形狀不造成影響下任意變更第2環狀保持突起部54的形狀和尺寸。

此外，環狀構件14亦可由X光不透射材料所構成。此時，既便是進出埠10被埋設於患者的皮下之狀態，藉由使用X光攝影技術，也可掌握被環狀構件14包圍的區域(亦即，應插入用以使藥劑等流入液體收容部11a的注射針之區域)。

以上，已參照圖1～圖7就本實施形態的進出埠10及醫療系統90作了說明，但是進出埠10及醫療系統90的構成不受上述者所限定。可在圖1～圖7所示的進出埠10及醫療系統90之構成上施予各種變更。

例如，發光體71的發光面71s亦可在進出埠10的表面(與面向液體收容部11a之側的相反側之面)露出。此時，在進出埠10被埋設於患者的皮下之狀態下，容易將發光體71發出的光送到患者的皮膚表面。亦即，發光體71發出的光容易被患者周圍的人所視覺辨識。此外，在發光體71的發光面71s露出於進出埠10的表面時，要求收容含有金屬線圏70及發光體71的電路74之空間中的收容包含金屬線圏70的金屬構件之部分係被液密密封。藉此，防止上述金屬構件與埋設有進出埠10的患者之體液、液體收容部11a所收容之藥劑等接觸。

又，進出埠10及醫療系統90亦可不含有發光體71。此時，磁場產生裝置80係只要具有在藉磁場產生裝置80施加磁場之際偵測依據進出埠10的金屬線圏70所產生的上述磁場的擾動並報知的報知功能即可。如此一來，藉由磁場產生裝置80的報知功能，可掌握在磁場產生裝置80附近存在有金屬線圏70(因此，存在有進出埠10)。

又，使用了進出埠10的醫療系統90之構成未受限於圖7所示者。例如，圖8所示之醫療系統90包含：具有金屬線圏70之進出埠10、和金屬線圏70電連接並供電之電源95、及偵測磁場之磁場偵測裝置85。依據此種醫療系統90，在金屬線圏70流通來自電源95的電流，透過以磁場偵測裝置85偵測藉此而產生於金屬線圏70的磁場，可掌握進出埠10的位置。

此外，作為磁場偵測裝置85，可採用任意的裝置。例如，磁場偵測裝置85亦可為包含圖8所示那樣的金屬線圏86與電流計87電性串接的電路88之裝置。依據此種磁場偵測裝置85，當在磁場中配置有金屬線圏86時，則在電路88上流通電流，電流計87測定該電流。因此，透過一邊使磁場偵測裝置85接近進出埠10一邊觀察電流計87的測定值之變化，可偵測在金屬線圏70產生的磁場，結果為，可掌握進出埠10的位置。

如此一來，藉由使用了磁場偵測裝置85的醫療系統90，在無需熟練的技術下亦可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，除了醫療從業人員以外的人(例如患者的親屬等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。又，在未使用大型裝置下，可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，在除了醫院的手術室以外的場所(例如醫院的病房或患者的自家等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。

又，進出埠10亦可只具有1個金屬線圏70。此時，在金屬線圏70亦可電連接有2個以上的發光體71a、71b。發光體71a、71b係以包圍隔膜體60的方式配置者較佳。又，此時，如圖9及圖10所示，在從與側壁部30自底壁部20延伸出的方向D1平行之方向的觀察中，亦可以包圍液體收容部11a的方式配置金屬線圏70。

又，進出埠10亦可具有3個以上的金屬線圏70、3個以上的發光體71、或3組以上的金屬線圏70及發光體71。若在液體收容部11a的周圍之位置使3個以上的金屬線圏70、3個以上的發光體71、或3組以上的金屬線圏70及發光體71彼此分離設置的話，則可更容易地掌握液體收容部11a的位置(亦即，應插入用以將藥劑注入液體收容部11a的注射針之區域)。

此外，在進出埠10是具有3個金屬線圏70、3個發光體71、或3組金屬線圏70及發光體71之情況，如圖11所示，從與側壁部30自底壁部20延伸出的方向D1平行之方向的觀察中，3個金屬線圏70、3個發光體71、或3組的金屬線圏70及發光體71係以大致位在正三角形的各頂點之方式配置者較佳。此時，可更容易地掌握應插入注射針的區域(被上述大致正三角形包圍的區域)。

此外，在進出埠10是具有4個金屬線圏70、4個發光體71、或4組的金屬線圏70及發光體71的情況，如圖12所示，從與側壁部30自底壁部20延伸出的方向D1平行之方向的觀察中，4個金屬線圏70、4個發光體71、或4組的金屬線圏70及發光體71係以位在大致正方形的各頂點之方式配置者較佳。此時，可更容易地掌握應插入注射針的區域(被上述大致正方形包圍的區域)。

又，金屬線圏70亦可內建於埠本體11的哪個部分。例如，如圖13及圖14所示，金屬線圏70亦可內建於基座構件12。此時，金屬線圏70亦可內建於側壁部30。特別在本實施形態中，金屬線圏70亦可內建在和底部構件13分開形成的環狀構件14。此時，容易以金屬線圏70不與上述患者的體液或液體收容部11a所收容的藥劑等接觸之方式將金屬線圏70包埋於基座構件12。關於發光體71亦是相同。

又，如圖15所示，金屬線圏70亦可配置在底部構件13與環狀構件14之間。此時，透過在底部構件13及/或環狀構件14形成收容金屬線圏70之凹部，可使金屬線圏70內建於基座構件12。而且，可防止金屬線圏70暴露於液體收容部11a所收容的藥劑等。

又，如圖15所示，金屬線圏70亦可連同IC(Integrated Circuit；積體電路)晶片75一起構成RFID(Radio Frequency Identification；無線射頻識別)裝置76。換言之，亦可在金屬線圏70電連接IC晶片75，將金屬線圏70作為RFID裝置76的天線線圈利用。此時，若將埋設有進出埠10的患者的姓名和應向該患者投藥的藥劑等之資訊儲存於IC晶片75的記憶體的話，則使用無線射頻識別讀取器(RFID READER)可讀出上述資訊。藉此，可防止弄錯患者和弄錯應投藥的藥劑等。

如以上所述，依據本實施形態，進出埠10係和導管C連接作使用的進出埠，具備：含有液體收容部11a之埠本體11、被保持在埠本體11且覆蓋液體收容部11a之隔膜體60。而且，埠本體11具有被內建的金屬線圏70。

依據此種進出埠10，藉由對金屬線圏70的周圍施加磁場，可掌握埋設於患者的皮下之進出埠10的位置。抑或，藉由在金屬線圏70流通電流，或藉由使用X光攝影技術，可掌握上述進出埠10的位置。

又，本實施形態的進出埠10中，埠本體11具有在液體收容部11a的周圍之位置彼此分離設置的至少二個金屬線圏70a、70b。藉此，可更容易地掌握埋設於患者的皮下之進出埠10的液體收容部11a的位置(亦即，應插入用以將藥劑等注入液體收容部11a的注射針之區域)。

又，本實施形態的進出埠10中，隔膜體60的和液體收容部11a相反側的面60a係在二個金屬線圏70a、70b之間的區域露出。藉此，可更容易地掌握埋設於患者的皮下之進出埠10的隔膜體60之上述面60a的位置(亦即，應插入用以將藥劑等注入液體收容部11a的注射針之區域)。

又，本實施形態的進出埠10中，埠本體11更具有和金屬線圏70電連接之發光體71。藉此，當向進出埠10附近施加磁場時，在包含有金屬線圏70與發光體71之電路74流通電流，發光體71發光。而且，透過發光體71所發出的光，可掌握埋設於患者的皮下之進出埠10的位置。

又，本實施形態的進出埠10中，埠本體11具有：在液體收容部11a的周圍之位置彼此分離設置的至少二個金屬線圏70a、70b、及和金屬線圏70a、70b分別電連接之至少二個發光體71a、71b。藉此，當在進出埠10附近施加磁場時，在包含有金屬線圏70a、70b及發光體71a、71b的各電路74流通電流，發光體71a、71b發光。然後，利用至少二個發光體71a、71b發出的光，可更正確地掌握埋設於患者的皮下之進出埠10的液體收容部11a的位置(亦即，應插入用以將藥劑等注入液體收容部11a的注射針之區域)。

又，變形例的進出埠10中，發光體71的發光面71s係露出。藉此，在進出埠10被埋設患者的皮下之狀態下，容易將發光體71發出的光送到患者的皮膚表面。亦即，容易經由患者的皮膚來視覺辨識發光體71發出的光。

又，本實施形態的進出埠10中，埠本體11具有：形成液體收容部11a的底面11b之底壁部20、及形成液體收容部11a的側面11c之側壁部30。而且，金屬線圏70被內建於側壁部30。藉此，可更正確地掌握液體收容部11a的位置。

又，本實施形態的進出埠10中，金屬線圏70的軸線70x，係在平行於側壁部30自底壁部20伸展的方向D1之方向延伸。此處，構成埠本體11之基座構件12和蓋構件50具有沿著側壁部30自底壁部20伸展的方向D1延伸的部分。因此，若使軸線70x的延伸方向沿著側壁部30自底壁部20伸展的方向D1的話，則可抑制因使金屬線圏70內建於埠本體11所致之埠本體11的尺寸增大。

又，本實施形態的進出埠10中，埠本體11具有：形成液體收容部11a的底面11b及側面11c之基座構件12、以及被固定於基座構件12且在與基座構件12之間保持隔膜體60之蓋構件50。基座構件12具有：至少形成底面11b的底部構件13、及被支撐在底部構件13而包圍液體收容部11a之環狀的環狀構件14。而且，金屬線圏70埋設在環狀構件14。此時，容易以金屬線圏70不接觸於埋設有進出埠10的患者的體液和液體收容部11a所收容的藥劑等之方式將金屬線圏70包埋於基座構件12。

又，本實施形態的醫療系統90具備：上述的進出埠10、及產生磁場的磁場產生裝置80。依據此種醫療系統90，若以磁場產生裝置80在進出埠10附近施加磁場的話，則可在金屬線圏70流通電流。而且，透過偵測在金屬線圏70產生的磁場，或在金屬線圏70電連接有發光體71時透過偵測發光體71發出的光，可掌握金屬線圏70的位置(因此，掌握進出埠10的位置)。因此，依據此種醫療系統90，在無需熟練的技術之情況下可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，除了醫療從業人員以外的人(例如患者的親屬等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。又，在未使用大型裝置下，可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，在除了醫院的手術室以外的場所(例如醫院的病房或患者的自家等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。

又，本實施形態的醫療系統90亦可包含：上述的進出埠10、向金屬線圏70供電之電源95、及偵測磁場之磁場偵測裝置85。依據此種醫療系統90，透過從電源95使電流在金屬線圏70流通，以磁場偵測裝置85偵測在金屬線圏70產生的磁場，可掌握金屬線圏70的位置(因此，掌握進出埠10的位置)。因此，依據此種醫療系統90，在無需熟練的技術之情況下可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，除了醫療從業人員以外的人(例如患者的親屬等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。又，在未使用大型裝置下，可掌握埋設於皮下之進出埠10的位置。因此，在除了醫院的手術室以外的場所(例如醫院的病房或患者的自家等)，也可容易地掌握進出埠10的位置。

以上，已說明一實施形態及其變形例，惟當然也可將以不同實施形態和不同變形例作說明的複數個構成作適當組合。

10:進出埠 11:埠本體 11a:液體收容部 11b:底面 11c:側面 12:基座構件 13:底部構件 14:環狀構件 20:底壁部 30:側壁部 30a:內面 30b:外面 30c:側壁部一側端面 40:連接通路 40a:內面 41:連接通路開口 42:連接埠 50:蓋構件 51:蓋本體部 52:蓋環狀緣部 53:第1環狀保持突起部 54:第2環狀保持突起部 55:收容室 60:隔膜體 60a:隔膜體一側面 60b:隔膜體另一側面 61:外緣部 62:中央部 63:第1環狀保持溝 64:第2環狀保持溝 70:金屬線圏 70a:金屬線圏 70b:金屬線圏 70x:軸線 71:發光體 71a:發光體 71b:發光體 71s:發光面 72:電容器 73:電阻器 74:電路 75:IC晶片 76:RFID裝置 80:磁場產生裝置 81:金屬線圏 82:電源 83:開關 84:電路 85:磁場偵測裝置 86:金屬線圏 87:電流計 88:電路 90:醫療系統 95:電源 C:導管 Ca:內部 D1:方向

圖1係用以說明本發明的一實施形態之圖，為顯示進出埠之立體圖。圖2係從隔膜體之側觀察圖1所示的進出埠之平面圖。圖3係圖1所示的進出埠之分解立體圖。圖4係沿著圖2的I－I線的進出埠之剖面圖。圖5係圖3所示的基座構件之分解立體圖。圖6係從隔膜體另一側面之側觀察圖3所示的隔膜體及蓋構件之立體圖。圖7係顯示由圖1所示的進出埠及磁場產生裝置所構成的醫療系統之電路圖。圖8係顯示圖7所示的醫療系統的變形例之電路圖。圖9係對應圖2的圖，為用以說明進出埠的變形例之平面圖。圖10係沿著圖9的II－II線的進出埠之剖面圖。圖11係對應圖2的圖，為用以說明進出埠的另一變形例之平面圖。圖12係對應圖2的圖，為用以說明進出埠的又另一變形例之平面圖。圖13係對應圖4的圖，為用以說明進出埠的又另一變形例之剖面圖。圖14係從側壁部之側觀察圖13所示的進出埠的基座構件之平面圖。圖15係用以說明進出埠的又另一變形例之圖，為內建有金屬線圏的基座構件之分解立體圖。

10:進出埠

11:埠本體

11a:液體收容部

11b:底面

11c:側面

12:基座構件

14:環狀構件

20:底壁部

30:側壁部

30a:內面

30b:外面

30c:側壁部一側端面

40:連接通路

40a:內面

41:連接通路開口

42:連接埠

50:蓋構件

51:蓋本體部

52:蓋環狀緣部

53:第1環狀保持突起部

54:第2環狀保持突起部

55:收容室

60:隔膜體

60a:隔膜體一側面

60b:隔膜體另一側面

61:外緣部

62:中央部

63:第1環狀保持溝

64:第2環狀保持溝

70:金屬線圏

70a,70b:金屬線圏

70x:軸線

71:發光體

71a,71b:發光體

71s:發光面

C:導管

Ca:內部

D1:方向

Claims

一種進出埠，係和導管連接作使用的進出埠，具備：包含有液體收容部之埠本體；及被保持在前述埠本體而覆蓋前述液體收容部之隔膜體，前述埠本體係具有內建的金屬線圏。
如請求項1之進出埠，其中前述埠本體具有：在前述液體收容部的周圍之位置彼此分離設置的至少二個金屬線圏、及和該金屬線圏分別電連接之至少二個發光體。
如請求項1之進出埠，其中前述埠本體具有：形成前述液體收容部的底面之底壁部、及形成前述液體收容部的側面之側壁部，前述金屬線圏係內建於前述側壁部。
如請求項1之進出埠，其中前述埠本體具有：形成前述液體收容部的底面及側面之基座構件、及固定在該基座構件且在與該基座構件之間保持前述隔膜體之蓋構件，前述基座構件具有：形成前述底面之底部構件、及被支撐在該底部構件且包圍前述液體收容部之環狀的環狀構件，前述金屬線圏係埋設於前述環狀構件。
一種醫療系統，具備：如請求項1之進出埠；及產生磁場的磁場產生裝置。
一種醫療系統，具備：如請求項1之進出埠；對前述金屬線圏供電的電源；及偵測磁場的磁場偵測裝置。