TW202136161A - 改善玻璃熔體導管中電流流動的裝置和方法 - Google Patents

Abstract

用於處理熔融玻璃的裝置和方法包括：電加熱導管，其被配置為沿周向地圍繞熔融玻璃；以及電導體，其鄰近於電加熱導管。該方法包括使電流流過鄰近於電加熱導管的電導體，使得流過電導體的電流影響流過電加熱導管的至少一部分的電流的密度。

Description

改善玻璃熔體導管中電流流動的裝置和方法

本申請基於專利法要求2020年2月13日提交的美國臨時申請序列號62/976,092的優先權，其全部內容透過引用合併於此。

本揭露發明總體上涉及改善導管中的電流流動，該導管諸如用於玻璃熔體系統中的金屬導管。

在玻璃製品的生產中，例如用於顯示應用的玻璃板，包括電視和手持元件(例如電話和平板電腦)，熔融材料通常透過一個或多個導管（例如由貴重金屬組成的導管）輸送金屬，例如鉑。這樣的導管可以例如透過電動凸緣直接加熱，該凸緣包括圓周向地圍繞導管的金屬材料。

在這樣的系統中，電流密度可以在導管材料內不均勻地分佈，從而導致相對較熱的導管區域，有時被稱為「熱點」。隨著時間的流逝，在這種「 熱點 」鄰近的導管材料可能會降解，導致需要維修或更換導管材料以及處理停機時間。因此，希望減少維修或更換導管材料的需要，該維修或更換導管材料可能是由玻璃熔化系統中使用的導管材料中電流密度不均勻所引起的。

本文揭露的實施方式包括一種用於處理熔融玻璃的裝置。該裝置包括電加熱導管，該電加熱導管被配置為周向地圍繞熔融玻璃。該裝置還包括鄰近於電加熱導管的電導體。電導體被配置為使電流流過其中，使得電流的流動影響流過電加熱導管的一部分的電流的密度。

本文揭露的實施方式還包括用於處理熔融玻璃的方法。該方法包括用電加熱導管周向地圍繞熔融玻璃。該方法還包括使電流流過緊鄰電加熱導管的電導體，使得電流的流動影響流過電加熱導管的一部分的電流的密度。

將在下面的詳細描述中闡述本文揭露的實施例的其他特徵和優點，並且根據該描述，本領域技術人員將容易理解其部分，或者透過實踐本文描述的揭露的實施例(包括以下的詳細說明，請求項以及附圖)，這些部分將對本領域技術人員顯而易見。

應當理解，前面的一般描述和下面的詳細描述都提出了實施例，旨在提供用於理解要求保護的實施例的性質和特徵的概述或框架。包括附圖以提供進一步的理解，並且附圖被併入本說明書中並構成本說明書的一部分。附圖示出了本揭露的各種實施例，並且與說明書一起用於解釋其原理和操作。

現在將詳細參考本揭露的當前較佳的實施例，其若干示例在附圖中示出。只要有可能，在所有附圖中將使用相同的元件符號指示相同或相似的部件。然而，本揭露可以以許多不同的形式來體現，並且不應被解釋為限於這裡闡述的實施例。

範圍可以在本文中表示為從「大約」一個特定值和/或到「大約」另一特定值。當表達這樣的範圍時，另一實施例包括從一個特定值和/或至另一特定值。類似地，當例如透過使用先行詞「約」將值表示為近似值時，將理解的是，特定值形成另一實施例。還將理解的是，每個範圍的端點相對於另一個端點以及獨立於另一個端點都是有效的。

本文所使用的方向性術語，例如上、下、右、左、前、後、頂部、底部，僅參考所繪製的附圖來進行，並不旨在暗示絕對取向。

除非另有明確說明，否則絕不意圖將本文闡述的任何方法解釋為要求以特定順序執行其步驟，或者不需要以任何裝置特定的取向進行解釋。因此，在方法請求項沒有實際敘述其步驟應遵循的順序的情況下、或者在任何裝置請求項並未實際對各個組件敘述的順序或取向的情況下、或者在請求項或說明書中沒有特別聲明步驟將被限制為特定順序，或者未陳述針對裝置的組件的特定順序或定向的情況下，無論如何，絕不旨在推斷順序或定向。這適用於任何可能的非特別指出的解釋基礎，包括：有關步驟安排，操作流程，組件順序或組件方向的邏輯問題；源自語法組織或標點的簡單含義；以及說明書中描述的實施例的數量或類型。

如本文中所使用的，單數形式「一個」、“一種」和「該」包括複數指示物，除非上下文另外明確指出並非如此。因此，例如，除非上下文另外明確指出並非如此，否則對「一個」組件的提及包括具有兩個或更多個這樣的組件的態樣。

在圖1中示出示例性玻璃製造裝置10。在一些示例中，玻璃製造裝置10可以包括玻璃熔化爐12，該玻璃熔化爐12可以包括熔化容器14。除了熔化容器14之外，玻璃熔化爐12可以可選地包括一種或多種另外的部件，例如加熱原材料的加熱元件（例如，燃燒爐或電極），並將原材料轉化為熔融玻璃。在另外的示例中，玻璃熔化爐12可以包括減少從熔化容器鄰近損失的熱量的熱管理裝置（例如，隔熱部件）。在另外的示例中，玻璃熔化爐12可包括有助於將原材料熔化成玻璃熔體的電子元件和/或機電元件。更進一步，玻璃熔化爐12可包括支撐結構（例如，支撐底座，支撐構件等）或其他部件。

玻璃熔化容器14通常由耐火材料組成，例如耐火陶瓷材料，例如包括氧化鋁或氧化鋯的耐火陶瓷材料。在一些示例中，玻璃熔化容器14可以由耐火陶瓷磚構成。將在下面更詳細地描述玻璃熔化容器14的特定實施例。

在一些示例中，玻璃熔化爐可以作為玻璃製造裝置的部件被併入以製造玻璃基板，例如連續長度的玻璃帶。在一些示例中，本揭露的玻璃熔化爐可以被併入為玻璃製造裝置的部件，該玻璃製造裝置包括縫隙拉伸裝置、浮浴裝置、諸如熔融處理的下拉裝置、向上拉伸裝置、壓延裝置、拉管裝置或將受益於本文揭露的態樣的任何其他玻璃製造裝置。舉例來說，圖1示意性地示出了玻璃熔化爐12，該玻璃熔化爐是熔融下拉玻璃製造裝置10的組成部分，該熔融下拉玻璃製造裝置10用於熔融拉伸玻璃帶以便隨後處理成單個玻璃板。

玻璃製造裝置10（例如，熔融下拉裝置10）可以可選地包括上游玻璃製造裝置16，該上游玻璃製造裝置16位於相對於玻璃熔化容器14的上游。在一些示例中，上游玻璃製造裝置16的一部分或全部可以作為玻璃熔化爐12的一部分而併入。

如所示示例中所示，上游玻璃製造裝置16可以包括儲存箱18，原材料輸送元件20和連接到原材料輸送元件的馬達22。如箭頭26所示，儲存箱18可以被配置成儲存一定數量的原材料24，該原材料24可以被供給到玻璃熔化爐12的熔化容器14中。原材料24通常包含一種或多種形成玻璃的金屬氧化物和一種或多種改性劑。在一些示例中，原材料輸送元件20可以由馬達22提供動力，使得原材料輸送元件20將預定量的原材料24從儲存箱18輸送到熔化容器14。在另外的示例中，馬達22可以基於在熔化容器14下游感測到的熔融玻璃的液位來為原材料輸送元件20提供動力以藉由受控的速率引入原材料24。此後可以加熱熔化容器14中的原材料24以形成熔融玻璃28。

玻璃製造裝置10還可以可選地包括位於玻璃熔化爐12下游的下游玻璃製造裝置30。在一些示例中，下游玻璃製造裝置30的一部分可以被合併為玻璃熔化爐12的一部分。在一些情況下，下面討論的第一連接導管32或下游玻璃製造裝置30的其他部分可以被合併為玻璃熔化爐12的一部分。下游玻璃製造裝置的元件(包括第一連接導管32)可以由貴金屬形成。合適的貴金屬包括選自鉑、銥、銠、鋨、釕和鈀的金屬或它們的合金中的群組的鉑族金屬。例如，玻璃製造裝置的下游部件可以由鉑-銠合金形成，該鉑-銠合金包括按重量計約70％至約90％的鉑和按重量計約10％至約30％的銠。但是，其他合適的金屬可以包括鉬、鈀、錸、鉭、鈦、鎢及其合金。

下游玻璃製造裝置30可以包括第一調節（即處理）容器，例如澄清容器34，其位於熔化容器14的下游，並透過上述第一連接導管32耦合到熔化容器14。在一些示例中，可透過第一連接導管32將熔融玻璃28從熔化容器14重力供給至澄清容器34。例如，重力可以使熔融玻璃28透過第一連接導管32的內部路徑從熔化容器14到達澄清容器34。但是，應當理解，其他調節容器可以位於熔化容器14的下游，例如在熔化容器14和澄清容器34之間。在一些實施方案中，可在熔化容器和澄清容器之間採用調節容器，其中來自初級熔化容器的熔融玻璃被進一步加熱以繼續熔融處理或被冷卻至低於進入澄清容器之前的熔化容器中的熔融玻璃的溫度的溫度。

可以透過各種技術從澄清容器34內的熔融玻璃28中除去氣泡。例如，原材料24可以包括諸如氧化錫的多價化合物（即澄清劑），當加熱時，其發生化學還原反應並釋放出氧氣。其他合適的澄清劑包括但不限於砷、銻、鐵和鈰。將澄清容器34加熱到高於熔化容器溫度的溫度，從而加熱熔融玻璃和澄清劑。溫度引起的澄清劑化學還原產生的氧氣氣泡上升通過澄清容器內的熔融玻璃，其中在熔化爐中產生的熔融玻璃中的氣體可以擴散或聚結到澄清劑產生的氧氣氣泡中。然後，擴大的氣泡可以上升到澄清容器中的熔融玻璃的自由表面，然後從澄清容器中排出。氧氣泡可進一步引起澄清容器中熔融玻璃的機械混合。

下游玻璃製造裝置30還可包括另一個調節容器，例如用於混合熔融玻璃的混合容器36。混合容器36可位於澄清容器34的下游。混合容器36可用於提供均質的玻璃熔體組合物，從而減少化學或熱不均勻性的帘線，原本這些化學或熱不均勻性可能存在於離開澄清容器的經澄清的熔融玻璃內。如圖所示，澄清容器34可透過第二連接導管38連接至混合容器36。在一些示例中，熔融玻璃28可以透過第二連接導管38從澄清容器34重力供給到混合容器36。例如，重力可使熔融玻璃28從澄清容器34透過第二連接導管38的內部路徑到混合容器36。應當注意，雖然示出的混合容器36在澄清容器34的下游，但是混合容器36可以位於澄清容器34的上游。在一些實施例中，下游玻璃製造裝置30可包括多個混合容器，例如在澄清容器34上游的混合容器和在澄清容器34下游的混合容器。這些多個混合容器可以具有相同的設計，或者它們可以具有不同的設計。

下游玻璃製造裝置30還可包括另一個調節容器，例如可位於混合容器36下游的輸送容器40。輸送容器40可以調節熔融玻璃28以被供給到下游的成形元件中。例如，輸送容器40可以充當蓄積器和/或流量控制器，以透過出口導管44調節和/或提供恆定的熔融玻璃28流至成形體42。如圖所示，混合容器36可以透過第三連接導管46連接到輸送容器40。在一些示例中，可以透過第三連接導管46將熔融玻璃28從混合容器36重力供給到輸送容器40。例如，重力可以驅動熔融玻璃28透過第三連接導管46的內部路徑從混合容器36到輸送容器40。

下游玻璃製造裝置30還可包括成形裝置48，該成形裝置48包括上述成形體42和入口導管50。出口導管44可以定位成將熔融玻璃28從輸送容器40輸送到成形裝置48的入口導管50。例如，出口導管44可嵌套在入口導管50的內表面內並與入口導管50的內表面間隔開，從而提供位於出口導管44的外表面與入口導管50的內表面之間的熔融玻璃的自由表面。熔融下拉玻璃製造裝置中的成形體42可包括：槽52，其位於成形體的上表面中；以及會聚的成形表面54，其沿著成形體的底部邊緣56在拉伸方向上會聚。經由傳送容器40、出口導管44和入口導管50傳送至成形體槽的熔融玻璃會溢出槽的側壁，並作為單獨的熔融玻璃流沿著會聚的成形表面54下降。分開的熔融玻璃流在底部邊緣56下方並沿著底部邊緣56匯合以產生單獨的玻璃帶58，該玻璃帶58透過向玻璃帶施加張力(例如透過重力、邊緣輥 72和拉輥82)而從底部邊緣56沿拉出方向或流動方向60拉伸，以在玻璃冷卻和玻璃黏度增加時控制玻璃帶的尺寸。因此，玻璃帶58經歷黏彈性轉變並且獲得賦予玻璃帶58穩定的尺寸特性的機械效能。在一些實施例中，玻璃帶58可以透過玻璃分離裝置100在玻璃帶的彈性區域中被分離成單獨的玻璃板62。然後，機器人64可以使用夾持工具65將單個玻璃板62轉移到輸送機系統上，然後可以進一步處理單個玻璃板。

圖2示出了導管的立體圖，該導管在圖2中示出為澄清容器34，但這裡揭露的實施例可以應用於圖1所示的任何導管（例如第一連接導管32，第二連接導管38，第三連接導管46）以及在玻璃熔化系統中使用的任何導電管道。導管或澄清容器34的一部分被環形加熱部件134周向地圍繞，環形加熱部件134透過電連接器136與電源（圖11中的302所示）電連通，以便向環形加熱部件134提供功率，然後依次加熱導管或澄清容器34。在某些示例性實施例中，環形加熱部件134可包括與導管或澄清容器34相同或相似的材料。例如，當導管或澄清容器34包括鉑或其合金時，環形加熱部件134也可以包括鉑或其合金。環形加熱部件134還可以包括其他材料，例如，鎳、銅中的至少一種以及包括鎳、銅、銠、鈀和鉑中的至少一種的合金。

在操作中，經電加熱導管或澄清容器34周向地圍繞熔融玻璃。環形加熱部件134的電阻加熱使電流流過導管或澄清容器34，從而對導管或澄清容器34進行電加熱，並加熱了被導管或澄清容器34周向地圍繞的熔融玻璃。導管或澄清容器34中電流的不均勻分佈會導致電流密度相對較高的區域（例如，圖2中的區域「 A」所示）以及電流密度相對較低的區域（例如，如圖2中的區域「 B」所示）流過導管或澄清容器34。電流密度較高的區域可能會導致導管區域相對較熱，有時也稱為「熱點」。隨著時間的流逝，此類「熱點」鄰近的導管材料可能會降解，導致需要維修或更換此類材料。

通過電導體的電流分佈會受到幾種現象的影響。例如，在採用交流電（AC）的系統中，電流密度會受到內部電場和磁場的影響，內部電場和磁場迫使電流遠離導體的中心而流向外表面，例如，如圖3A所示，其中箭頭示出了電流（「I」），其被引向導體100的外表面，陰影區域表示相對較高的電流密度的區域。這種現像有時稱為「表面效應」（δ）：

其中，μ表示導體的磁導率，ρ表示導體的電阻率，f表示交流頻率。

在採用交流電的系統中，由於外部磁場和由鄰近的電導體產生的感應渦流（有時稱為「鄰近效應」）引起的電阻變化，也會影響電流密度。例如，當兩個鄰近的電導體在相同方向上承載電流時，電流被引向導體的相對側，例如，如圖3B所示，其中箭頭示出了電流（「I」），其被引向鄰近導體100和102的相對側，陰影區域表示相對高電流密度的區域。相反，當兩個鄰近的電導體在相反的方向上承載電流時，電流被引向鄰近的導體的近側，例如，如圖3C所示，其中箭頭示出了電流（「I」）被引向導體100和102的近側，其中陰影區域表示相對高電流密度的區域。

因此，可以透過一個或多個鄰近的電導體來操縱目標電導體中的電流密度，該一個或多個鄰近的電導體可以被獨立地操作以在與流過目標電導體的電流相同或不同的方向上承載電流。例如，在採用交流電的系統中，可以由一個或多個鄰近的電導體來操縱目標電導體中的電流密度，這些電導體可以被獨立地操作以與流過目標電導體的電流承載同相或180度異相的電流。

例如，圖4A示出了目標電導體110以及鄰近的電導體112和114的示意性立體圖，其中電流（「I」）以相同方向（或同相）在目標電導體110和鄰近的電導體112和114中流動。這樣的配置可以將電流密度引導朝向目標電導體110的與最鄰近的電導體112和114相反的一側，如陰影區域所示。

作為比較，圖4B示出了目標電導體110及其鄰近的電導體112和114的示意性立體圖，其中電流（「I」）與目標電導體110相比以相反的方向（或180度異相）流動至鄰近的電導體112和114。如陰影區域所表示的，這種配置可以將電流密度引向目標電導體110的與鄰近的電導體112和114相同的一側。

圖5-10示出了電加熱導管和鄰近於電加熱導管的至少一個電導體的各種構造的示意性側視圖。具體而言，圖5示出了電加熱導管（澄清容器34）和鄰近澄清容器34的電導體200的示意性側視圖，其中電導體200的一部分沿著環形加熱部件134之間的軸向距離延伸並且在澄清容器34的與電連接器136相同的一側。

圖6示出了電加熱導管（澄清容器34）和鄰近的澄清容器34的兩個電導體202和204的示意性側視圖，其中每個電導體202和204的一部分沿環形加熱部件134之間的軸向距離延伸且在澄清容器34的與電連接器136相同的一側。

圖7示出了電加熱導管（澄清容器34）和鄰近澄清容器34的三個電導體202、204和206的示意性側視圖，其中每個電導體202、204和206的一部分沿環形加熱部件134之間的且在澄清容器34的與電連接器136相同的一側。

圖8示出了電加熱導管（澄清容器34）和鄰近澄清容器34的電導體200的示意性側視圖，其中，電導體200的一部分沿著環形加熱部件134之間的軸向距離延伸並且在澄清容器34的與電連接器136相對的一側。

圖9示出了電加熱導管（澄清容器34）和鄰近澄清容器34的兩個電導體202和204的示意性側視圖，其中每個電導體202和204的一部分沿著環形加熱部件134之間的軸向距離延伸且在澄清容器34的與電連接器136相對的一側。

圖7示出了電加熱導管（澄清容器34）和鄰近澄清容器34的三個電導體202、204和206的示意性側視圖，其中每個電導體202、204和206的一部分沿環形加熱部件134之間的且在澄清容器34的與電連接器136相對的一側。

在操作中，在圖5-10所示的示例性實施例中，電流在鄰近的電導體中的流動方向可以是在沒有任何電流流過鄰近的電導體(或若干電導體)的情況下流過電加熱導管的相對較高或較低電流密度的區域的函數。

例如，本文揭露的實施例包括其中電導體位於鄰近於流經電加熱導管的電流密度相對較低的區域的那些實施例（即，沒有任何電流流過鄰近的電導體）且電導體被配置為使電流沿與流經電加熱導管的電流相反的方向（或異相180度）來流動。這具有將電流密度朝流經電加熱導管的相對較低電流密度的區域重新分佈的效果，從而使流經電加熱導管的電流密度更均勻地分佈。

類似地，本文揭露的實施例包括其中電導體位於鄰近於流經電加熱導管的電流密度相對較高的區域（即，沒有任何電流流經鄰近的電導體）的實施例，並且電導體被配置為使電流沿與流經電加熱導管的電流相同的方向（或同相）流動。這也具有將電流密度朝流經電加熱導管的相對較低電流密度的區域重新分佈的作用，從而使流經電加熱導管的電流密度更均勻地分佈。

例如，在圖5-10所示的實施例中，如果流過電加熱導管（澄清容器34）的一個或多個相對較高電流密度的區域在澄清容器34的與電連接器136相同的一側（例如，如圖2中的區域「 A」所示)和/或流經電加熱導管（澄清容器34）的一個或多個相對較低電流密度的區域位於澄清容器34的與電連接器136相對的一側（例如，如圖2中的區域「 B」所示)，則電導體200、202、204和/或206也可以位於澄清容器34的與電連接器136（如圖5-7所示）相同的一側且將電流以與流經澄清容器34的電流相同的方向（或同相）流動。

類似地，如果流過電加熱導管（澄清容器34）的一個或多個相對較高電流密度的區域與電連接器136位於澄清容器34的同一側（例如，如圖2中的區域「 A」所示）和/或流過電加熱導管（澄清容器34）的一個或多個相對較低電流密度的區域位在澄清容器34的與電連接器136相對的一側（例如，如圖2中的區域「 B」所示)，則電導體200、202、204和/或206在澄清容器34的與電連接器136相反的一側上(如圖8-10所示)且可將電流以與澄清容器34中電流相反的方向（或180度異相）流動。

在其中兩個或更多個電導體鄰近於電加熱導管的實施例中，例如，如圖6-7和9-10所示，流過至少一個電導體的電流可以不同於流過至少一個其他電導體的電流。例如，在圖6-7和9-10所示的實施例中，通過電導體202、204和/或206中的至少一者的電流可以不同於通過電導體202、204和/或206中的另一者的電流。例如，這可以回應於沿著電加熱導管（例如，澄清容器34）的軸向長度的電流密度的相對差異。

本文揭露的實施例包括其中至少一個電導體（例如，電導體200、202、204和/或206中的至少一個）被配置為使冷卻流體從其中流過的實施例。圖11示出了電導體100的示意性立體圖，該電導體100包括內部通道120，該內部通道120具有流經其中的冷卻流體122。在某些示例性實施例中，冷卻流體包括水、空氣或氮氣。

在某些示例性實施例中，電導體100、200、202、204和/或206中的至少一個可以包括選自鎳、銅、鈀或鉑的金屬或金屬合金或其合金。

圖12示出了電加熱導管（澄清容器34）、鄰近澄清容器34的電導體200，以及回應於至少一種情況而藉由條件測量元件210來控制流過電導體200的電流的反饋控制機構300的示意性視圖。反饋控制機構300可以包括控制器302，其中由條件測量元件210測量的至少一個狀態被饋送到控制器302中。條件測量元件210可以例如包括溫度、電壓、電流和/或頻率測量裝置，其將所測量的跨澄清容器34的一部分的溫度、電壓、電流和/或頻率而饋送到控制器302。回應於至少一個測量條件，控制器302可以控制電源304以控制或改變經由電連接器136通過電導體200和/或環形加熱部件134的電流。在示例性實施例中，控制器302還可以回應於至少一種測量條件來控制流過電導體100的內部通道120的冷卻流體122的流量和/或溫度。

圖12所示的反饋控制機構300可以應用於本文揭露的任何示例性實施例，包括圖5-10所示的實施例。例如，在其中兩個或更多個電導體鄰近於電加熱導管的實施例中，例如，如圖6-7和9-10所示，透過反饋控制機構300可以控制的流過至少一個電導體的電流與流過至少一個其他電導體的電流不同。例如，在圖6-7和9-10所示的實施例中，流過電導體202、204和/或206中的至少一者的電流可以被控制為不同於流過電導體202、 204和/或206中的至少另一者的電流。例如，這可以回應於例如由條件測量元件210測量的跨越澄清容器34的一部分的測量溫度或電壓的相對差異。

儘管已經參考熔融下拉處理描述了上述實施方式，但是應當理解，這樣的實施方式也可應用於其他玻璃成形處理，例如浮法、槽拉伸處理、向上拉伸處理、管材拉伸處理和壓延處理。

對於本領域技術人員將顯而易見的是，在不脫離本揭露發明的精神和範圍的情況下，可以對本揭露發明的實施例進行各種修改和變化。因此，旨在本揭露發明涵蓋這樣的修改和變形，只要它們落在所附請求項及其等同物的範圍內。

10:玻璃製造裝置 12:玻璃熔化爐 14:熔化容器 10:熔融下拉裝置 16:上游玻璃製造裝置 18:儲存箱 20:原材料輸送元件 22:馬達 26:箭頭 24:原材料 28:熔融玻璃 30:下游玻璃製造裝置 32:第一連接導管 34:澄清容器 36:混合容器 38:第二連接導管 40:輸送容器 44:出口導管 42:成形體 46:第三連接導管 50:入口導管 48:成形裝置 52:槽 54:成形表面 56:底部邊緣 58:玻璃帶 72:邊緣輥 82:拉輥 60:流動方向 100:玻璃分離裝置 62:玻璃板 64:機器人 65:夾持工具 134:環形加熱部件 136:電連接器 100:導體 102:導體 110:電導體 112:鄰近的電導體 114:鄰近的電導體 200:電導體 202:電導體 204:電導體 206:電導體 120:內部通道 122:冷卻流體 210:條件測量元件 300:反饋控制機構 302:控制器 304:電源

圖1是示例性熔融下拉玻璃製造裝置和方法的示意性視圖；

圖2是被環形加熱部件周向地圍繞的導管的示意性立體圖。

圖3A是示出電導體中的電流密度的示意性立體圖。

圖3B和圖3C是示出鄰近導體中的電流密度的示意性立體圖。

圖4A和4B是受鄰近的電導體影響的導管中的電流密度的示意性立體圖。

圖5是電加熱導管和鄰近於電加熱導管的電導體的示意性側視圖。

圖6是電加熱導管和鄰近於電加熱導管的電導體的示意性側視圖。

圖7是電加熱導管和鄰近於電加熱導管的電導體的示意性側視圖。

圖8是電加熱導管和鄰近於電加熱導管的電導體的示意性側視圖。

圖9是電加熱導管和鄰近於電加熱導管的電導體的示意性側視圖。

圖10是電加熱導管和鄰近於電加熱導管的電導體的示意性側視圖。

圖11是包括內部通道的電導體的示意性立體圖，該內部通道具有流經其中的冷卻流體；和

圖12是電加熱導管、鄰近於電加熱導管的電導體，以及回應於由條件測量元件所測量的至少一個條件來控制通過電導體的電流的反饋控制機構的示意性視圖。

國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

34:澄清容器

134:環形加熱部件

136:電連接器

Claims (23)

1. 一種用於處理熔融玻璃的裝置，包括： 一電加熱導管，其被配置為沿周向地圍繞該熔融玻璃；和 鄰近該電加熱導管的一電導體； 該電導體被配置為使一電流流過其中，從而該電流的流動會影響流過該電加熱導管的一部分的一電流密度。
2. 根據請求項1所述的裝置，其中，該裝置包括一環形加熱部件，該環形加熱部件周向地圍繞該電加熱導管的一部分。
3. 根據請求項1所述的裝置，其中，該電導體位於鄰近於流經該電加熱導管的電流密度相對較低的一區域，並且被配置為沿與流過該電加熱導管的電流一相反的方向來流動電流。
4. 根據請求項1所述的裝置，其中，該電導體位於鄰近於流經該電加熱導管的電流密度相對較高的一區域，並且被配置為沿與流過該電加熱導管的電流一相同的方向流動電流。
5. 根據請求項1所述的裝置，其中，該電導體被配置為使一冷卻流體從中流過。
6. 根據請求項5所述的裝置，其中，該冷卻流體包括水、空氣或氮氣。
7. 根據請求項1所述的裝置，其中，該電加熱導管包括鉑或其合金。
8. 根據請求項1所述的裝置，其中，該電導體包括選自鎳、銅、鈀或鉑的金屬或金屬合金或其合金。
9. 根據請求項1所述的裝置，其中，該裝置包括至少一個條件測量元件。
10. 根據請求項9所述的裝置，其中，該條件測量元件包括一溫度測量元件、一電壓測量元件、一電流測量元件和/或一頻率測量元件。
11. 根據請求項9所述的裝置，其中，該裝置包括一反饋控制機構，該反饋控制機構回應於由該條件測量元件測量的至少一個條件來控制流過該電導體的電流。
12. 一種處理熔融玻璃的方法，包括： 用一電加熱導管將該熔融玻璃周向地環繞；和 使一電流流過鄰近該電加熱導管的一電導體，從而該電流的流動會影響流過該電加熱導管的一部分的一電流密度。
13. 根據請求項12所述的方法，其中，該方法包括利用一環形加熱部件周向地圍繞該電加熱導管的一部分。
14. 根據請求項12所述的方法，其中，該電導體位在鄰近於流經該電加熱導管的電流密度相對較低的一區域，並且該方法包括使電流沿與流過該電加熱導管的電流的一相反的方向來流動。
15. 根據請求項12所述的方法，其中，該電導體位在鄰近於流過該電加熱導管的相對較高的電流密度的一區域，並且該方法包括使電流沿與流過該電加熱導管的電流的一相同的方向流動。
16. 根據請求項15所述的方法，其中，流過至少一個電導體的電流與流過至少一個其他電導體的電流不同。
17. 根據請求項12所述的方法，其中，該方法包括使一冷卻流體流過該電導體。
18. 根據請求項17所述的方法，其中，該冷卻流體包括水、空氣或氮氣。
19. 根據請求項12所述的方法，其中，該電加熱導管包括鉑或其合金。
20. 根據請求項12所述的方法，其中，該電導體包括選自鎳、銅、鈀或鉑的金屬或金屬合金或其合金。
21. 根據請求項12所述的方法，其中，該方法包括利用一條件測量元件來測量該電加熱導管的至少一種條件。
22. 根據請求項21所述的方法，其中，該條件測量元件包括一溫度測量元件、一電壓測量元件、一電流測量元件和/或一頻率測量元件。
23. 根據請求項21所述的方法，其中，該方法包括回應於由該條件測量元件測量的至少一個條件來控制流過該電導體的電流。

Images