TW202035676A - 細胞培養盤及其電磁刺激培養系統 - Google Patents

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Abstract

一種細胞培養盤包含一頂層、一擴散層以及一懸掛層。前述擴散層具有至少一流道。前述懸掛層具有複數懸掛單元。前述複數懸掛單元對應前述流道。流體經由前述流道流入前述懸掛單元並懸掛於前述懸掛單元下，使細胞在前述懸掛單元中的前述流體中進行培養。本發明之細胞培養盤可用於電磁刺激培養系統。電磁刺激培養系統結合細胞懸浮培養技術、微流體連續輸送技術、以及電磁場刺激細胞生成技術，形成一個可以連續提供培養液的穩定的細胞培養系統。本發明之細胞培養盤可以提高細胞培養的效率，以大量培養細胞並穩定細胞培養的品質。

Description

細胞培養盤及其電磁刺激培養系統
本發明係關於一種細胞培養盤及其電磁刺激培養系統，尤指一種懸掛式細胞培養盤及其電磁刺激培養系統。
幾十年來，細胞的生物學研究提高了人們對許多基本生物學問題的了解，也促進了人們探索許多疾病的細胞治療方法。細胞通常用於研究最佳細胞模型由於其無限增殖潛力和治療多能性而導致的人和哺乳動物細胞的生長、分化和發育。由於體內和體外細胞的增殖和分化受到各種特定信號的調節，人們可以模擬其在體內之型態，所以它在臨床應用價值上具有巨大的潛力。然而，體外進行大量細胞培養的技術難度高。 過去使用之2D培養方式，雖然可大量增生細胞，但細胞會朝向不可預期的分化，無法維持細胞之原型。因此，許多的細胞培養方式轉向3D的培養。早期3D培養加上生物反應器的方式，通常需要利用人造的立體生物支架，並使細胞貼附其表面進行培養。然而人造的生物支架並不能真正模擬細胞於生物體內的環境；並且生物支架目前多為化學合成，有誘導細胞分化之可能。 現有之生物反應器細胞培養方式是指在不斷攪動或搖動的液體培養基中培養單細胞和小細胞團的組織培養系統，其是非貼壁細胞的培養物，所形成之細胞團塊需貼附於生物培養基上培養，然而生物培養基多為化學合成物質，可能造成細胞分化之誘導，且無法有效模擬細胞於生物體內之培養環境。細胞懸浮培養是生產大量增殖細胞的方法，即在新鮮液體培養基中僅使用重力及水的具合力模擬細胞在體內之立體聲長環境，進而培養在靜止期的細胞，並在短時間內連續反覆繼代獲得大量的懸浮細胞團塊。然而，懸浮培養的技術難度高，其僅靠培養盤及水滴的摩擦力使液滴固定，容易受到晃動或震盪使液滴脫落，進而造成細胞死亡。且目前所使用之懸浮式培養盤接無法自動交換培養液，造成細胞無法長期培養。因此目前極需一種可穩定交換培養溶液之懸浮細胞培養裝置，以大量培養細胞團塊並穩定其品質。 此外，大量文獻顯示，細胞在電磁刺激下培養，能有助其增生及型態學的變化。細胞內外的環境產生的電壓梯度，與細胞行為(遷移、分化與修復)有關聯。其電流的產生大部分是由細胞外部的鈉離子與氯離子，及細胞內部的鉀離子所主導。細胞膜具有選擇性的控制離子通透，造成細胞內外間的離子流體不平衡，使細胞膜電荷產生的極化，亦產生了膜電位。人體中明顯具有內源性電磁場變化，如肌肉骨骼系統的運作。藉由流動電位引起電壓。目前研究結果顯示，藉由外部電磁場的影響，調控細胞的增值與分化功能，相似於藥物分子調控的影響結果。
因此，需要一種可自動調節培養基之電磁刺激細胞培養裝置，以提高細胞培養的效率、大量培養細胞並穩定細胞培養的品質。
有鑑於上述課題，本發明之目的為提供一種細胞培養盤，其利用懸掛式的方式將細胞培養液懸掛在懸掛單元的下方，並利用流道循環更新細胞培養液。並且，懸掛單元之懸掛孔為一上窄下寬之孔洞，其剖面呈現一上窄下寬之楔形之形狀。以此方式，使懸掛孔之形狀符合液滴懸掛時上窄下寬之形狀，使液滴可更穩定地被懸掛於懸掛單元。此外，本發明之細胞培養盤可應用於本發明之電磁刺激培養系統。本發明之電磁刺激培養系統包含本發明之細胞培養盤、流體供應裝置以及電磁場產生裝置。本發明之電磁刺激培養系統結合細胞懸浮培養技術、微流體連續輸送技術、以及電磁場刺激細胞生成技術，形成一個可以連續提供培養液的穩定的細胞培養系統。因此，本發明之細胞培養盤與電磁刺激培養系統可以提高細胞培養的效率，以大量培養細胞並穩定細胞培養的品質。
為達上述目的，本發明提供一種細胞培養盤，用於培養細胞。前述細胞培養盤包含一頂層、一擴散層以及一懸掛層。前述頂層具有至少一輸入孔與至少一輸出孔。前述輸入孔用於將一流體輸入前述細胞培養盤。前述輸出孔用於將前述流體輸出前述細胞培養盤。前述擴散層具有至少一流道。前述流道對應前述至少一輸入孔與前述至少一輸出孔，用於導流前述流體。前述懸掛層具有複數懸掛單元。前述複數懸掛單元對應前述流道。前述流體經由前述流道流入前述懸掛單元並懸掛於前述懸掛單元下，使細胞在前述懸掛單元中的前述流體中進行培養。前述懸掛單元包含一懸掛孔以及一凸出結構。前述懸掛孔貫穿於前述懸掛層，並具有一上開孔以及一下開孔。前述上開孔之孔徑小於前述下開孔之孔徑前述流體可以經由前述上開孔流入前述懸掛孔。前述凸出結構延伸設置於前述下開孔之下前述流體可以沿前述凸出結構懸掛於前述懸掛單元下。本發明之另一目的為提供一種電磁刺激培養系統，其利用懸掛式的方式將細胞培養液懸掛在懸掛單元的下方，並利用外加電磁場的方式誘導細胞生成。本發明之電磁刺激培養系統可以提高細胞培養的效率，以大量培養細胞並穩定細胞培養的品質。
為達上述目的，本發明提供一種電磁刺激培養系統，用於培養細胞。本發明之電磁刺激培養系統包含前述細胞培養盤、一承接盤、一流體供應單元以及一磁場產生單元。前述承接盤設置於前述細胞培養盤之下，具有一底座以及複數承接槽。前述複數承接槽對應於前述細胞培養盤之前述複數懸掛單元，用於承接細胞與前述流體。前述流體供應單元連接於前述細胞培養盤，用於循環供應前述流體。前述磁場產生單元用於在前述細胞培養盤之周圍產生電磁場。
承上所述，本發明提供的細胞培養盤與電磁刺激培養系統利用懸掛式的方式將細胞培養液懸掛在懸掛單元的下方，並利用流道循環更新細胞培養液，且利用外加電磁場的方式誘導細胞生成。並且，本發明之懸掛單元之懸掛孔為一上窄下寬之孔洞，其剖面呈現一上窄下寬之楔形之形狀。以此方式，使懸掛孔之形狀符合液滴懸掛時上窄下寬之形狀，使液滴可更穩定地被懸掛於懸掛單元。此外，本發明之細胞培養盤可應用於本發明之電磁刺激培養系統。本發明之電磁刺激培養系統包含本發明之細胞培養盤、流體供應裝置以及電磁場產生裝置。本發明之電磁刺激培養系統結合細胞懸浮培養技術、微流體連續輸送技術、以及電磁場刺激細胞生成技術，形成一個可以連續提供培養液的穩定的細胞培養系統。因此，本發明之細胞培養盤與電磁刺激培養系統可以提高細胞培養的效率，以大量培養細胞並穩定細胞培養的品質。
本發明之細胞培養盤以及電磁刺激培養系統結合細胞懸浮培養技術(Hanging Drop Method)、微流體連續輸送技術(Microfluidic Technology)以及電磁場(Electromagnetic field，EMF)刺激細胞生成技術，形成一個可以連續提供培養液的穩定的細胞培養系統。
細胞懸浮培養技術指將細胞培養於懸掛的培養液滴中的方法。
微流體連續輸送技術為利用技術在微小材質上進行精密切割，使生成微小孔道，將管路連接成液體輸入與輸入端。再藉由微量幫浦進行液體推送，使液體於微小孔道中輸送。
電磁場技術為電與磁所組合的電磁場效技術。以直流電(AC)與交流電(DC)的電流強度、電流單位為安培(A)強度、電位差單位為伏特(V)強度、磁通密度為高斯(G)或特斯拉(T)強度所構成，可利用法拉第感應定律與麥克斯偉方程式證明其電磁場的產生程度。帶電粒子以恆定速度移動，當帶電粒子被加速，即產生一電場(EF)與磁場(Magnetic field，MF)結合，形成一場域稱為電磁場(EMF)。電場與磁場相互影響震盪，EF被影響則產生MF，反之調正MF都能生成EF，這種相互作用震盪的頻率越高，電場與磁場的耦合就越多。
如前所述，本發明之細胞培養盤可應用於本發明之電磁刺激培養系統。本發明之電磁刺激培養系統包含本發明之細胞培養盤、流體供應裝置以及電磁場產生裝置。本發明之電磁刺激培養系統結合細胞懸浮培養技術、微流體連續輸送技術、以及電磁場刺激細胞生成技術，形成一個可以連續提供培養液的穩定的細胞培養系統。因此，本發明之細胞培養盤與電磁刺激培養系統可以提高細胞培養的效率，以大量培養細胞並穩定細胞培養的品質。以下將參照相關圖式，說明依本發明較佳實施例之一種細胞培養盤及其電磁刺激培養系統，其中相同的元件將以相同的符號加以說明。
圖1為本發明第一實施例之細胞培養盤之立體分解圖。圖3A為本發明第一實施例之細胞培養盤組合之後沿L1-L1剖面線的剖面示意圖。圖3B為本發明第一實施例之細胞培養盤組合之後沿L1-L1剖面線的立體剖面示意圖。如圖1所示，本發明之細胞培養盤100用於培養細胞，上至下包含一頂層110、一擴散層120以及一懸掛層130。前述頂層具有至少一輸入孔111與至少一輸出孔112。前述輸入孔111用於將一流體，例如細胞培養液輸入前述細胞培養盤100內。前述細胞培養液可使用例如DMEM(Dulbecco’s Modified Eagle’s Medium，Sigma-Aldrich)培養液。前述輸出孔112用於將前述流體輸出前述細胞培養盤100。如圖1所示，在第一實施例中，前述頂層110共具有四個輸入孔111以及對應的四個輸出孔112。前述擴散層120具有至少一流道121。前述流道121對應前述至少一輸入孔111與前述至少一輸出孔112，用於導流前述流體。在第一實施例中，前述頂層110之四個輸入孔111與四個輸出孔112分別對應前述擴散層120的四個流道121。換言之，前述流體由前述輸入孔111流入前述流道121，再經由前述輸出孔112流出。前述懸掛層130具有複數懸掛單元131。前述複數懸掛單元131對應前述流道121。前述流體經由前述流道121流入前述懸掛單元131並懸掛於前述懸掛單元131下，使細胞在前述懸掛單元131中的前述流體中進行培養。如圖1所示，在第一實施例中，每個流道121對應6個懸掛單元131，即每個流道121可將前述流體導流到六個懸掛單元131中。因此，在圖1所示的前述懸掛層130中，共有24個懸掛單位，可分別用於培養24組細胞。圖3A與圖3B為本發明第一實施例之細胞培養盤組合後的剖面示意圖。如圖3A與圖3B所示，前述頂層110、前述擴散層120與前述懸掛層130為一體成形之結構。前述頂層110、前述擴散層120與前述懸掛層130可採用例如壓克力或是聚二甲基矽氧烷(Polydimethylsiloxane，簡稱PDMS)材質一體成形。前述頂層110、前述擴散層120與前述懸掛層130可分別製成之後再組合成為一體。前述頂層110之厚度為1毫米至10毫米。前述擴散層120之厚度為1毫米至10毫米。前述懸掛層130之厚度為1毫米至20毫米。
圖4A為圖3A之細胞培養盤之懸掛單元之局部放大示意圖；圖4B為圖3B之細胞培養盤之懸掛單元之局部放大立體示意圖；圖4C為圖4A之懸掛單元懸掛培養液與培養細胞之示意圖。如圖4A至4B所示，前述懸掛單元131包含一懸掛孔131a以及一凸出結構131b。前述懸掛孔131a貫穿於前述懸掛層130，並具有一上開孔O1以及一下開孔O2。前述上開孔O1之孔徑小於前述下開孔O2之孔徑。因此，前述懸掛孔131a為一上窄下寬之孔洞，其剖面呈現一上窄下寬之楔形之形狀。前述流體經由前述上開孔O1流入前述懸掛孔131a。前述凸出結構131b延伸設置於前述下開孔O2之下。前述流體沿前述凸出結構131b懸掛於前述懸掛單元131下。前述上開孔O1之孔徑為1毫米至15毫米。前述下開孔O2之孔徑為1毫米至30毫米。前述凸出結構131b之高度為1毫米至20毫米。如圖4C所示，前述流體M一般為一液體，例如細胞培養液，因此可利用表面張力懸掛於前述下開孔O2之下。前述懸掛孔131a上窄下寬之結構可配合液滴的形狀，增加前述流體M與前懸掛孔131a的接觸面積，使前述流體M更穩定地懸掛在前述懸掛孔131a中，避免掉落。此外，前述凸出結構131b為一圓環狀結構延伸設置於前述下開孔O2之下。此一方式，使凸出結構131b也同樣配合液滴的形狀，增加前述流體M與前述懸掛單元131的整體接觸面積，使前述流體M更穩定地懸掛在前述下開孔131a中，避免掉落。細胞C則以懸浮的方式被培養在懸掛在懸掛單元131的流體M中(即培養液之液滴中)。如前所述，新鮮的細胞培養液可經由前述輸入孔111流入前述流道121，再流入前述懸掛單元131，並在懸掛單元131下方形成懸掛的液滴進行細胞培養，最後再經由前述流道121以及前述輸出口112流出細胞培養盤100。以此方式，本發明之生物反應100可持續提供新鮮的細胞培養液培養細胞C，並排出細胞培養過程中產生的排泄物。
圖2為本發明第二實施例之細胞培養盤之立體分解圖。圖2所示之第二實施例之細胞培養盤100與圖1所示之第一實施例之細胞培養盤100不同之處在於，圖2所示之第二實施例之細胞培養盤除了包含前述頂層110、前述擴散層120與前述懸掛層130之外，更進一步包含一隔離層140。前述隔離層140設置於前述擴散層120與前述懸掛層130之間。前述隔離層140具有複數隔離孔141對應於前述懸掛單元131。前述流體經由前述流道121流經前述隔離孔141並流入前述懸掛孔131a之前述上開孔O1。如圖2所示，在第二實施例中，前述隔離層140具有24個前述隔離孔141對應前述24個懸掛單元。前述隔離孔141之孔徑小於前述上開孔O1之孔徑。前述流道121中的流體先流入前述隔離孔141，再流入與前述隔離孔所對應的前述懸掛單元131。以此方式，避免前述流道121中的流體直接流入前述懸掛單元131，而是先流入孔徑較小的隔離孔141中，使得流體可更穩固地懸掛在懸掛單元131之下，降低因為流道中的流體擾動而使懸掛在懸掛單元131的細胞培養液之液滴掉落。第二實施例中的前述頂層110、前述擴散層120與前述懸掛層130之結構與材質與第一實施例相同。
本發明之細胞培養盤100在使用時可放置在一承接盤的上方。當細胞培養完成時，可用輕敲的方式或用震動的方式使懸掛在前述懸掛單元131下方的細胞培養液與細胞掉落在承接盤中。本發明之細胞培養盤100結合前述承接盤可用於本發明之電磁刺激培養系統中，用於培養細胞。圖5A為本發明之電磁刺激培養系統之承接盤之立體示意圖(正面朝上)。圖5B為本發明之電磁刺激培養系統之承接盤另一角度之立體示意圖(底部朝上)；圖5C為圖5A為本發明之電磁刺激培養系統之承接盤沿L2-L2剖面線之剖面示意圖。如圖5A至圖5C所示，承接盤200具有一底座210以及複數承接槽220位於前述底座210上。前述複數承接槽220對應於前述細胞培養盤100之前述複數懸掛單元131，用於承接細胞與前述流體。如圖5A與圖5B所示，前述承接盤200具有24個前述承接槽220對應於本發明第一實施例與第二實施例之24個懸掛單元131。前述承接槽220可為一圓柱狀凹槽位於前述底座210上。
本發明之細胞培養盤100在培養細胞時，可以利用外加電磁場的方式刺激細胞生長及分化。一般來說，生物內生成的電場(Electric field, EF)在生物生長過程中，有著關鍵的作用，包含胚胎生長、傷口癒合、組織修復與正常生長成熟。內源性電磁場存在於細胞質與細胞外空間。其電流強度從幾mv/mm到幾百mv/mm的強度變化。在臨床中，使用電流治療非常廣泛，特別是恢復神經肌肉的損傷後，加速其癒合速度。因此，將生物系統或細胞暴露在一定強度的電磁場(Electromagnetic field, EMF)中，產生外來電磁場可以引起生理或生化反應，促進細胞生長及分化。以下將說明將本發明之細胞培養盤100應用於電磁刺激培養系統的實施方式。
圖6A為本發明第三實施例之電磁刺激培養系統之示意圖。如圖6A所示，本發明之電磁刺激培養系統S10包含前述細胞培養盤100、前述承接盤200、一流體供應單元400以及一磁場產生單元300。前述承接盤200設置於前述細胞培養盤100之下。前述流體供應單元400連接於前述細胞培養盤100，用於循環供應前述流體。前述磁場產生單元300用於在前述細胞培養盤100之周圍產生電磁場。前述流體供應單元400包含一幫浦420以及一循環管道410。前述循環管道410連接於前述細胞培養盤100之輸入孔111與輸出孔112，用於輸入與輸出前述流體。前述幫浦420用於推動前述流體循環流動。前述流體供應單元400進一步包含一供給容器430以及一收集容器440。前述供給容器430透過前述循環管道410連接於前述細胞培養盤100之前述輸入孔111。前述收集容器440透過前述循環管道410連接於前述細胞培養盤100之前述輸出孔112。前述磁場產生單元300包含至少一線圈310以及一磁場控制器320。前述至少一線圈310用於產生前述電磁場。前述磁場控制器320連接於前述線圈310，用於控制前述電磁場之方向、頻率與強度。在本實施例中，前述線圈310為兩個互相平行的線圈。前述細胞培養盤100與前述承接盤200放置在兩個互相平行的線圈310中間，因此前述線圈310產生的磁場方向垂直於前述細胞培養盤100。如圖6A所示，本發明之電磁刺激培養系統S10進一步包含一電源供應器600，用於提供電流給前述磁場控制器320。此外，本發明之電磁刺激培養系統S10可再進一步包含一磁場偵測器500，用於偵測前述線圈產生的前述電磁場。在本實施例中，前述細胞培養盤100與前述承接盤200之結構與作用與上述實施例相同。本實施例中的前述流體供應單元400、磁場產生單元300、電源供應器600以及磁場偵測器500之結構與作用為習知技藝，在此不做贅述。
請參考圖6B，為本發明第四實施例之電磁刺激培養系統之示意圖。本實施例之電磁刺激培養系統S10與第三實施例之電磁刺激培養系統不同之處在於：在本實施例中，前述線圈310為一個螺旋線圈。如圖6B所示，前述細胞培養盤100與前述承接盤200放置在螺旋線圈內，因此螺旋線圈產生的磁場方向平形於前述細胞培養盤100。
如圖6A與圖6B所示，利用不同的磁場方向(垂直或平形)可以對細胞產生不同的誘導效果，藉此培養不同的細胞。除了磁場方向以外，磁場的強度與磁場改變的頻率，以及細胞培養液的組成都會影響細胞的生成，可藉由以上條件的改變培養不同的細胞。細胞培養方式為習知技藝，非本發明所強調之特徵，在此不做贅述。
綜上所述，本發明之細胞培養盤與電磁刺激培養系統利用懸掛式的方式將細胞培養液懸掛在懸掛單元的下方，使細胞懸浮在細胞培養液中生長，並利用流道循環更新細胞培養液，且利用外加電磁場的方式誘導細胞生成。並且，本發明之懸掛單元之懸掛孔為一上窄下寬之孔洞，其剖面呈現一上窄下寬之楔形之形狀。以此方式，使懸掛孔之形狀符合液滴懸掛時上窄下寬之形狀，使液滴可更穩定地被懸掛於懸掛單元。此外，本發明之細胞培養盤可應用於本發明之電磁刺激培養系統。本發明之電磁刺激培養系統包含本發明之細胞培養盤、流體供應裝置以及電磁場產生裝置。本發明之電磁刺激培養系統結合細胞懸浮培養技術、微流體連續輸送技術、以及電磁場刺激細胞生成技術，形成一個可以連續提供培養液的穩定的細胞培養系統。因此，本發明之細胞培養盤與電磁刺激培養系統可以提高細胞培養的效率，以大量培養細胞並穩定細胞培養的品質。
以上所述僅為舉例性，而非為限制性者。任何未脫離本發明之精神與範疇，而對其進行之等效修改或變更，均應包含於後附之申請專利範圍中。
100:細胞培養盤 110:頂層 111:輸入孔 112:輸出孔 120:擴散層 121:流道 130:懸掛層 131:懸掛單元 131a:懸掛孔 131b:凸出結構 140:隔離層 141:隔離孔 200:承接盤 210:底座 220:承接槽 300:磁場產生單元 310:線圈 320:磁場控制器 400:流體供應單元 410:循環管道 420:幫浦 430:供給容器 440:收集容器 500:磁場偵測器 600:電源供應器 C:細胞 L1-L1、L2-L2:剖面線 M:流體 O1:上開孔 O2:下開孔 S10:電磁刺激培養系統
圖1為本發明第一實施例之細胞培養盤之立體分解圖。 圖2為本發明第二實施例之細胞培養盤之立體分解圖。 圖3A為本發明第一實施例之細胞培養盤組合之後沿L1-L1剖面線的剖面示意圖；圖3B為本發明第一實施例之細胞培養盤組合之後沿L1-L1剖面線的立體剖面示意圖。 圖4A為圖3A之細胞培養盤之懸掛單元131之局部放大示意圖；圖4B為圖3B之細胞培養盤之懸掛單元之局部放大立體示意圖；圖4C為圖4A之懸掛單元懸掛培養液與培養細胞之示意圖。 圖5A為本發明之電磁刺激培養系統之承接盤之立體示意圖；圖5B為本發明之電磁刺激培養系統之承接盤另一角度之立體示意圖；圖5C為圖5A為本發明之電磁刺激培養系統之承接盤沿L2-L2剖面線之剖面示意圖。 圖6A為本發明第三實施例之電磁刺激培養系統之示意圖；圖6B為本發明第四實施例之電磁刺激培養系統之示意圖。
100:細胞培養盤
110:頂層
111:輸入孔
112:輸出孔
120:擴散層
121:流道
130:懸掛層
131:懸掛單元

Claims (11)

  1. 一種細胞培養盤，用於培養細胞，包含： 一頂層，具有至少一輸入孔與至少一輸出孔，前述輸入孔用於將一流體輸入前述細胞培養盤，前述輸出孔用於將前述流體輸出前述細胞培養盤； 一擴散層，具有至少一流道，前述流道對應前述輸入孔與前述輸出孔，用於導流前述流體； 以及 一懸掛層，具有複數懸掛單元，前述複數懸掛單元對應前述流道，前述流體經由前述流道流入前述懸掛單元並懸掛於前述懸掛單元下，使細胞在前述懸掛單元中的前述流體中進行培養，其中，前述懸掛單元具有一懸掛孔以及一凸出結構，前述懸掛孔貫穿於前述懸掛層，具有一上開孔以及一下開孔，前述上開孔之孔徑小於前述下開孔之孔徑，前述流體可以經由前述上開孔流入前述懸掛孔，前述凸出結構延伸設置於前述下開孔之下，前述流體可以沿前述凸出結構懸掛於前述懸掛單元下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的細胞培養盤，更包含一隔離層設置於前述擴散層與前述懸掛層之間，前述隔離層具有複數隔離孔對應於前述懸掛單元，前述流體經由前述流道流經前述隔離孔並流入前述懸掛孔之前述上開孔，其中前述隔離孔之孔徑小於前述上開孔之孔徑，以及前述流體為一細胞培養液。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的細胞培養盤，其中前述凸出結構之高度為1毫米至20毫米，為一圓環狀結構延伸設置於前述下開孔之下。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的細胞培養盤，其中前述頂層、前述擴散層與前述懸掛層為一體成形之結構。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的細胞培養盤，其中前述上開孔之孔徑為1毫米至15毫米，以及前述下開孔之孔徑為1毫米至30毫米。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的細胞培養盤，其中前述頂層、前述擴散層以及前述懸掛層之厚度為1毫米至10毫米。
  7. 一種電磁刺激培養系統，具有一細胞培養盤，用於培養細胞，包含： 一頂層，具有至少一輸入孔與至少一輸出孔，前述輸入孔用於將一流體輸入前述細胞培養盤，前述輸出孔用於將前述流體輸出前述細胞培養盤； 一擴散層，具有至少一流道，前述流道對應前述輸入孔與前述輸出孔，用於導流前述流體； 一懸掛層，具有複數懸掛單元，前述複數懸掛單元對應前述流道，前述流體經由前述流道流入前述懸掛單元並懸掛於前述懸掛單元下，使細胞在前述懸掛單元中的前述流體中進行培養，其中，前述懸掛單元具有一懸掛孔以及一凸出結構，前述懸掛孔貫穿於前述懸掛層，具有一上開孔以及一下開孔，前述上開孔之孔徑小於前述下開孔之孔徑前述流體可以經由前述上開孔流入前述懸掛孔，前述凸出結構，延伸設置於前述下開孔之下前述流體可以沿前述凸出結構懸掛於前述懸掛單元下； 一承接盤，設置於前述細胞培養盤之下，具有一底座以及複數承接槽，前述複數承接槽對應於前述細胞培養盤之前述複數懸掛單元，用於承接細胞與前述流體； 一流體供應單元，連接於前述細胞培養盤，用於循環供應前述流體；以及 一磁場產生單元，用於在前述細胞培養盤之周圍產生電磁場。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的電磁刺激培養系統，前述流體供應單元包含一幫浦以及一循環管道，前述循環管道連接於前述細胞培養盤之前述輸入孔與前述輸出孔，用於輸入與輸出前述流體，前述幫浦用於推動前述流體循環流動。
  9. 如申請專利範圍第7項所述的電磁刺激培養系統，前述流體供應單元包含一供給容器以及一收集容器，前述供給容器透過前述循環管道連接於前述細胞培養盤之前述輸入孔，前述收集容器透過前述循環管道連接於前述細胞培養盤之前述輸出孔。
  10. 如申請專利範圍第7項所述的電磁刺激培養系統，前述磁場產生單元包含至少一線圈以及一磁場控制器，前述至少一線圈用於產生前述電磁場，前述磁場控制器連接於前述線圈用於控制前述電磁場之方向、頻率與強度。
  11. 如申請專利範圍第7項所述的電磁刺激培養系統，更包含一電源供應器以及一磁場偵測器，前述電源供應器用於提供電流給前述磁場控制器，前述磁場偵測器用於偵測前述至線圈產生的前述電磁場。
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